DD153394A1 - Verfahren und einrichtung zum bedampfen von bandstahl - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und die zugehoerige Einrichtung zum Bedampfen von Bandstahl mit Aluminium. Das Ziel ist die Erhoehung des Winkungsgrades und die Einsparung von Energie. Die Aufgabe besteht darin, grosse Bandbreiten mit hoher Leistungsdichte so zu beschichten, dass keine Schichtdikkenschwankungen auftreten. Erfindunggemaess wird der Elektronenstrahl (5 bis 10k W je cm Bandbreite) durch ein statisches Magnetfeld mit kleinem Kruemmungsgradius auf den Verdampertiegel so gelenkt, dass sich quer zur Bandlaufrichtung eine rinnenfoermige Dampfdruckmulde ueber die Bandbreite bildet. Der Elektrostrahl wird im mittleren Drittel mit der 1,5fachen Geschwindigkeit wie auf den aeusseren Dritteln bewegt und hat auf der Talsohle eine Leistungsdichte von 1,5 bis 2,5kW quadrahtzentimeter. Die Zeit fuer einen Durchlauf betraegt kleiner gleich 20 ms.

Description

Verfahren und Einrichtung zum Bedampfen von Bandstahl

Anwendungsgebiet der Erfindung

Das Verfahren und die zugehörige Einrichtung dienen zum Beschichten von bandförmigen metallischen Substraten großer Breite (2:800 mm), vorzugsweise von Bandstahl mit Aluminium im Vakuum. Die Beschichtung hat den Zweck des Korrosionsschutzes des metallischen Bandmaterials«

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen

Die bisher bekannten Bedampfungsanlagen und die mit ihnen ausgeübten Verfahren arbeiten mit Bandgeschwindigkeiten bis 3 m s bei Substratbreiten bis 400 mm.

Die Beheizung des Verdampfertiegels erfolgt durch Elektronenstrahlen mit Leistungen bis zu 250 kW. Die zeitlich gemittelte Leistungsdichte des vom Elektronenstrahl beaufschlagten Teils

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des Verdampfertiegels beträgt 0,3 kW cm bis 1,25 kV/ cm · Die untere Grenze der Leistungsdichte wird durch den energetischen Wirkungsgrad der Verdampfung bestimmt. Bei einer Leistungsdichte von-^ 0,3 kV/ cm*" nimmt der Anteil der Wärmestrahlung des Verdampfungsgutes im Verhältnis zur genutzten Verdampfungsenthalpie unökonomi3che Werte an. Die obere Grenze der Leistungsdichte wird durch die Spritzergrenze bestimmt. Bei einer Leistungsdichte von >· 0,6 kV/ cm zeigt sich am Auftreffort des Elektronenstrahles eine Vertiefung im Verdampfungsgut, deren Tiefe mit der Erhöhung der Leistungsdichte zunimmt.

Es tritt eine heftige Wellenbewegung auf dem Verdampfungsgut

—2 ein. Bei Leistungsdichten über 1,25 kV/ cm beginnt dadurch flüssiges Verdampfungsgut zu verspritzen. Dabei treten Diffe-* renzen der Badspiegelhöhe zwischen dem Auftreffort des Elektronenstrahles und dem nicht beaufschlagten Teil des Verdampfungsgutes von ca. 20 mm auf. Bei Leistungsdichten in dem genannten Bereich bildet sich über dem Verdampfungsgut eine Dampfwolke mit Dampfdrücken im 100 Pa-Bereich aus. Der Bedampf ungsa bat and (Abstand Tiegel - Substrat) beträgt ca. 450 mm. Bei einer für diese Geometrie der Bedampfungseinrichtung optimierten Leistungsverteilung des Elektronenstrahls auf dem Verdampfungsgut ergeben sich noch relativ geringe Schichtdickenschwankungen quer zur Substratführung und ein für Bedampfungsverfahren relativ hoher Ausnutzungsgrad des Dampfstromes von ca. 50 %.

Es ist bekannt, daß der Ausnutzungsgrad des Dampfstromes um so größer wird, Je größer das Verhältnis von Substratbreite zu Bedampfungsabstand ist. Zum Erreichen der ökonomischen Zielstellung wird deshalb bei vorgegebener Substratbreite der minimal mögliche Bedampfungsabstand angestrebt. Daher ist es bekannt, zur Anpassung des Bedampfungsabstandes an die jeweilige Betriebssituation den Verdampfertiegel auf einer Bühne anzuordnen, die in geeigneter Weise in.ihrer Höhe verstellbar ist (DD-PS 113 247).

Weiterhin ist es bekannt, die magnetische Umlenkung des Elektronenstrahls mittels eines inhomogenen statischen Magnetfeldes vorzunehmen und den Einschußwinkel in das inhomogene Umlenkfeld zur Elektronenbahnkorrektur mit Hilfe einer dynamischen Ablenkung und/oder eines zwischen der für den Elektronenstrahl dienenden Einschußöffnung und dem Umlenkfeld befindlichen entgegengepolten Magnetfeldes entsprechender Inhomogenität anzupassen (DD-PS 120 729). Dadurch läßt sich der Krümmungsradius des über dem Verdampfungsgut von der horizontalen in die vertikale Richtung umzulenkenden Elektronenstrahles klein halten im Verhältnis zur Breite des Substrates. Dabei

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könnte der Bedarapfungsabstand weiter verkleinert werden, wenn die damit erforderlichen Korrekturen der Verzeichnung durch die Inhomogenitäten des Magnetfeldes in Grenzen bleiben, d. h., wenn die Differenz des Einschußwinkels zwischen Mittenstrahl und Randstrahl nicht zu groß ist.

Durch die Kombination der beiden letztgenannten lösungen ist ein Bedampfungsabstand von 0,6 der Substratbreite und ein Ausnutzungsgrad des Dampfstromes von ca. 75 % möglich.

Weiterhin ist es bekannt, zur Verkleinerung des Bedampfungsabstandes den Elektronenstrahl unter einen großen V/inkel zwischen der Richtung des Elektronenstrahleinschusses und der Verdampfertiegelnormalen auf das Verdampfungsgut zu schießen (DD-PS 121 802). Durch diesen relativ schrägen Elektronenstrahle ins chuß auf das Verdampfungsgut läßt sich der Anteil der am Bedampfungsgut rückgestreuten und in der Dampfwolke absorbierten Elektronenstrahlleistung klein halten. In Anwendung dieser Lehre mit den vorgenannten Lösungen läßt aich der Bedampfungsabstand auf 0,4 der Substratbreite reduzieren.

Es ist jedoch durch die Praxis erv/iesen, daß ein minimaler Bedampfungsabstand von ca* 400 mm in dem genannten Bereich des Dampfdruckes in der Dampfwolke nicht unterschritten werden kann. Bei Unterschreitung dieses Bedampfungsabstandes nehmen trotz optimaler Leistungsverteilung des Elektronen-Strahles auf dem Verdampfungsgut die Schichtdickenschwankungen sowohl quer als auch längs zur Substratführungsrichtung zu. Diese Schichtdickenschwankungen können nicht im Zusammenhang gebracht werden zu den Prequenzen der dynamischen Ablenkung des Elektronenstrahles. Sie sind nicht periodisch. Schichtdikkenmaximum und -minimum folgen in Zeiten zwischen 0,1 s und 0,5 s. Die Ursache dafür ist die Wellenbewegung auf dem Verdampfungsgut, die beim Überschreiten einer bestimmten Leistungsdichte des Elektronenstrahles auf dem Verdampfungsgut einsetzt.

Es ergibt sich somit der Nachteil, daß es doch nicht möglich ist, durch die Kombination der bekannten Lösungen alle ihre Vorteile zu nutzen bzw. diese für beliebige Bandbreiten und -geschwindigkeiten anzuwenden« Eine gleichzeitige nutzung hätte zur Folge, daß sich entweder bei einem kleinen Bedampfungsabstand zwar ein hoher Ausnutzungsgrad des Dampfstromes ergibt, aber große Schichtdickenschwankungen auftreten oder daß sich bei einem großen Bedampfungsabstand geringe Schichtdickenschwankungen ergeben, aber ein niedriger Ausnutzungsgrad des DampfStromes eintritt· Es liegt nun nahe, die Leistungsdichte auf dem Verdampfungsgut zu verringern, so daß keine Wellenbewegung indiziert wird· Diese Reduzierung der Leistungsdichte hätte jedoch zur Folge, daß entweder die Länge des Verdampfertiegels solche Werte annimmt, daß zwei Elektronenkanonen für dessen Beheizung oder sogar zwei' separate Bedampfungseinrichtungen erforderlich wären. Andererseits wäre es auch möglich, die Bandgeschwindigkeit zu reduzieren, womit aber die Produktivität der Bedampfungsanlage sinkt.

In jedem Fall sinkt mit der Reduzierung der Leistungsdichte auf dem Verdampfungsgut der energetische Wirkungsgrad der Verdampfung. Die Leistungsverluste infolge Wärmestrahlung des Verdampfungsgutes, die Wärmeleitung durch den Verdampfertiegel und, wie schon erwähnt, der Anteil der rückgestreuten Elektronen werden um so kleiner, je größer die Leistungsdichte auf dem Verdampfungsgut wird. Eine Verringerung der Leistungsdichte ist dadurch stets mit einer Verringerung der Produktivität der Anlage verbunden.

Ziel der Erfindung

Die Mängel am Stand der Technik sollen weitestgehend beseitigt werden, mit dem Ziel, einen hohen Y/irkungsgrad der Energieübertragung zu erreichen. Die Einrichtung soll apparativ einfach und wartungsarm sein und hohe Produktivität gewährleisten.

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Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und die zugehörige Einrichtung zum Bedampfen von Bandmaterial mit Aluminium zu schaffen, welches mit hoher Leistungsdichte arbeitet und auch bei großen Bandbreiten, ^ 800 mm, quer und längs zur Substratführung keine wesentlichen Schichtdickenschwankungen auftreten läßt· Der Dampfstrom soll in hohem Maße ausgenutzt werden.

Es wurde gefunden, daß es, entgegen allen bisherigen Versuchen, zur Lösung der Aufgabe möglich ist, einen Elektronenstrahl bestimmter Leistung und Leistungsdichte in ein durch ein spezielles Umlenksystem erzeugtes magnetisches Feld einzuschießen und auf das Verdampfungsgut zu lenken und dabei die magnetische Gasfokussierung gegen das Auftreten von zu hohen Streuverlusten in der Dampfwolke hoher Dichte gezielt auszunutzen, und daß mittels dynamischer Steuerung der Sinwirkzeit des Elektronenstrahls auf dem Verdampfung3gut die Gefahr zum Entstehen von Spritzern durch die anisotrope Verzerrung des Elektronenstrahlfleckes vermindert wird.

Dazu wird der in bekannter Weise schräg eingeschossene Elektronenstrahl mit einer Leistung von 5 kW bis 10 kW je cm Bandbreite durch ein entsprechend angepaßtes statisches Magnetfeld mit einem Krümmungsradius von ca. 250 mm auf das Verdam—pfungsgut über die Bandbreite so gelenkt, daß sich dabei eine rinnenfb'rmige Dampfdruckmulde quer zur Bandlaufrichtung bildet. Die Dosierung des Elektronenstrahles erfolgt derart, daß die Dampfdruckinulde in ihrer Länge der Bandbreite entspricht, einen Neigungswinkel von ca. 45° besitzt und in ihrer Tiefe annähernd konstant ist. Die Geschwindigkeit der Ablenkung des Elektronenstrahles entlang der Dampfdruckmulde wird so gewählt, daß sie im mittleren Drittel den 1,5fachen Wert gegenüber den Randdritteln beträgt. Die mittlere Leistungsdichte des Elektronen-Strahles auf der Talsohle liegt zwischen 1,5 W cm und

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2,5 kW cm · Die Zeit für einen Durchlauf dee Elektronenstrahles bis zurück zum Ausgangspunkt wird auf 2 20 ms programmiert, wobei die Einwirkzeit auf jeden Punkt~ 2 ms sein muß. Damit ist die Leistungsdichte auf dem Verdampfungsgut erhöht, ohne daß genannte Wellenbewegungen auf dem dampfabgebenden Teil des Verdampfungsgutes auftreten, die bisher die Anwendung kleiner Bedampfungsabstände verbieten. Die bisher bei einer mittle-

—2 ren Leistungsdichte von 1,25 kW cm bestimmte Spritzergrenze ist nach höheren Werten hin verschoben, da die örtliche Verteilung der Leistungsdichte in solcher V/eise erfolgt, daß sich diese bestimmte Form der rinnenförmigen Dampfdruckinulde einstellt.

Die Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens, die aus einer Vakuumkammer, einem ungekühlten keramischen Verdampfertiegel mit Tiegelhebebühne, einer Elektronenkanone, einem Ablenk- und einem Umlenksystem sowie einer Schwenkblende und schrägen Bandführung besteht, ist erfindungsgemäß so ausgebildet, daß am Einschußort des Elektronenstrahles ein magnetischer Kurzschluß angeordnet ist, der ihn allseitig in einer Länge von 100 mm bis 120 mm umgibt. Die Spulen des magnetischen Umlenksystems sind eisengefüllt und haben keinen Eisenrückschluß· Der Abstand voneinander beträgt das 2,1- bis 2,6fache der Bandbreite, und die Spulen sind hinter einer unmagnetischen Wand außerhalb des Vakuums angeordnet« Der Verdampfertiegelhafen hat eine Breite von-—dem 1,2fachen und eine Länge von — dem 0,4fachen der Bandbreite· Die Badtiefe beträgt 60 mm bis 100 mm. Der Bandstahl wird im Winkel von 10° bis 14° und im Abstand vom 0,3- bis 0,4fachen der Bandbreite über den Verdampfer geführt. Es ist vorteilhaft, zum Zwecke der besseren Wartung der Einrichtung, die Tiegelhebebühne mit Verdampfertiegel, Schwenkblende und die Hälfte des Umlenksystems an einer verfahrbaren Tür, die eine Wand der Vakuumkammer ist, zu montieren.

Die sich bei der Anwendung der bekannten Verfahrensschritte und Einrichtungen zum Bedampfen von Bandstahl großer Breiten ergebenden teilweise physikalisch widersprechenden Forderungen an

das magnetische Umlenksystem, daß die rinnenförmige Dampfdruckmulde, die mit dem Einwirkort des Elektronenstrahles identisch ist, eine kleine Ausdehnung in Bandlaufrichtung und eine große Ausdehnung senkrecht dazu besitzen muß, aber gleichzeitig ein kleiner Krümmungsradius der Elektronen für die Realisierung kleiner Bedampfungsabstände verlangt wird, werden durch die erfindungsgemäße Einrichtung erfüllt. Die auf Grund des erfindungsgemäß großen Verhältnisses Polschuhabstand zu Strahlweg relativ hohe magnetische Feldstärke im Bereich des Strahleinschußortes in die Bedampfungskammer" wird durch den magnetischen Kurzschluß, der den Elektronenstrahl allseitig umschließt, in diesem Gebiet reduziert bzw. abgebaut. Mit dieser Anordnung sind relativ zum Polschuhabstand kleine Krümmungsradien des umzulenkenden Elektronenstrahles möglich. Dieses durch das Umlenksystem geformte magnetische Feld besitzt starke Inhomogenitäten im vom Elektronenstrahl durchdrungenen Bereich. Die Folge davon sind sogenannte Abbildungsfehler in Form einer Verzeichnung und einer Verzerrung des Elektron—enstrahlbildes auf dem Verdampfungsgut· Die Verzeichnung wird in bekannter V/eise durch die Anwendung einer dynamischen Korrektur kompensiert. Es entsteht somit eine lineare rinnenförmige Dampfdruckmulde. Auf Grund der Verzerrung des Elektronenstrahlfleckes und der Streuverluste in der Dampfwolke kann in weiten Bereichen der rinnenförmigen Dampfdruckmulde die minimal erforderliche Lei-

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stungsdichte von 1,5 kW cm unterschritten werden. Diese Unterschreitung wird dadurch verhindert, daß bereits innerhalb der Elektronenkanone der Elektronenstrahl auf an sich bekannte Weise in einen magnetisch gasfokussierten Zustand versetzt wird. Damit wird ein Elektronenstrahl mit bereits erhöhter

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Leistungsdichte von ca. 20 kW cm in das magnetische Umlenkfeld eingeschossen, und infolge der magnetischen Gasfokussierung werden nahezu alle durch Stoß divergierenden Strahlelektronen zur Strahlerachse wieder zurückgeholt, was die Durchdringungsfähigkeit des Elektronenstrahles durch die dichte Dampfwolke vergrößert. Auf Grund der anisotropen Verzerrung des Elektronenstrahlfleckes, die am Rand der rinnenförmigen

Dampfdruckmulde wesentlich größer ist als im Mittenbereich, besteht die Gefahr, daß in diesem Mittenbereich die maximale

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anwendbare mittlere Leistungsdichte von 2,5 kW cm überschritten wird und dadurch Spritzer erzeugt v/erden. Durch die erfindungsgemäße Steuerung der Einwirkzeit des Elektronenstrahles, unterschiedlich entlang der rinnenförmigen Dampfdruckmulde, wird die Leistungsdichte im Mittenbereich relativ zum Randbereich reduziert, so daß sich eine annähernd konstan-te Leistungsdichte auf der Talsohle und damit eine annähernd konstante Tiefe der rinnenförmigen Dampfdruckmulde ergibt. Die Dampfdruckmulde ändert unter diesen Bedingungen ihre Form nur unbedeutend, so daß das sonst übliche Schließen derselben, wodurch die Spritzer entstehen, vermieden wird. Infolge der sich einstellenden hohen Unterschiede der spezifischen Verdampfungsrate im beaufschlagten und nicht beaufschlagten Teil wird der Hauptanteil der Verdampfung aus der relativ ruhenden Dampfdruckmulde geliefert· In der so entstehenden Dampfwolke geringer Längenausdehnung und hoher Dichte ergibt sich bereits bei kleinen Abständen vom Verdampfungsgut eine Dampfstromdichteverteilung relativ hoher zeitlicher Konstanz· An diese erfindungsgemäß gestaltete Dampfquelle läßt sich das Substrat somit mit dem minimal möglichen Bedampfungsabstand anordnen, ohne daß kritische Schichtdickenschwankungen in Längs- und Querrichtung auftreten·

Ausführungsb^is^el.

Die zugehörigen Zeichnungen zeigen:

Fig. 1: eine Bedampfungseinrichtung im Schnitt entlang dem Bandlauf,

Fig. 2: einen Verdampfertiegel mit einer Dampfdruckmulde nach dem erfindungsgemäßen Verfahren in Draufsicht und Seitenansicht im Schnitt,

Fig· 3: einen Teil der Bedampfungseinrichtung, der mit der verfahrbaren Wand verbünden ist

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In einer Vakuumkammer 1 (Fig. 1) ist auf einer Tiegelhebebühne 2 der Verdampfertiegel 3 für Aluminium angeordnet. Durch die Vakuumkammer 1 wird der zu bedampfende Bandstahl 4 von ca. 800 mm Breite unter einen Winkel α von 12° in einem Abstand h„ über dem Verdampfertiegel 3 von 250 mm geführt. Durch einen Elektronenstrahl 5 der leistung 600 kW und der Leistungsdichte

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18 kV/ cm" wird das Verdampfungsgut 6 (Aluminium) zum Verdampfen gebracht. Dabei wird die Leistung mit Hilfe des dynamischen Ablenksystems 7 mit einer Frequenz von 35 Hz quer zur Bandlaufrichtung so verteilt, daß pro cm Bandbreite eine Leistung von 5 kW bis 10 kW einwirkt. Die Leistungsverteilung längs zur Bandlaufrichtung erfolgt durch die Anwendung des nachfolgend beschriebenen Umlenksystems 8 und die Einwirkung des Elektronen-Strahles 5 im gasfokussierten Zustand· Letzteres wird durch ein automatisches Regelventil 9 gewährleistet, das einen Druck im Zwischenstück der Elektronenkanone 10 von ca. 0,07 Pa aufrecht hält« Die im dynamischen Ablenksystem 7 erfolgte Programmierung der Leistungsverteilung über die Verdampfertiegelbreite wird mit Hilfe des magnetischen Umlenksystems 8 auf das Verdampfungsgut 6 transformiert« Das Magnetsystem des Umlenksystems 8 besitzt einen Polschuhabstand von 2000 mm. Beide eisengefüllten Spulen sind ohne Rückschluß und hinter einer unmagnetischen Wand außerhalb des Vakuums angeordnet. Der Durchmesser des Eisenkerns beträgt 190 mm, die Länge 580 mm. Die Entfernung vom Einsehußort dea Elektronenstrahls 5 bis zum Einwirkort auf dem Verdampfungsgut 6 beträgt ca. V3 des Polschuhabstandes. Am Einsehußort des Elektronenstrahles 5 befindet sich ein magnetischer Kurzschluß 11 mit einer Länge von 120 mm· Mit dieser Geometrie sind nur kleine dynamische Korrekturen von Mittenstrahl 5 a zu Randstrahl 5 b erforderlich, die nur unwesentlich den notwendigen Bedampfungsabstand vergrößern. Unter einem Winkel von ca. 30° trifft der Elektronenstrahl 5 in der von ihm erzeugten rinnenförmigen Dampfdruckmulde 12 auf. Die durch die beschriebenen Mittel resultierende Leistungsdichteverteilung in Längsrichtung der Bandführung hat im Zentrum der Elektronenstrahleinwirkung ihren Maximalwert von ca.

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2 kV/ cm und fällt zum Rand hin zu Null ab. Dieser Abfall erfolgt so, daß sich die Dampfdruckmulde 12 mit einem Neigungswinkel (j = 30° bis 40° selbsttätig einstellt (Pig. 2). Zum Einbringen einer Schwenkblende 13 für die Bedampfungsunterbrechung wird der Abstand zum Bandstahl 4 durch die Tiegelhebebühne 2 verändert. Verdampfertiegel 3, Tiegelhebebühne 2, Schwenkblende 13 und eine Spule des Magnetsystems des Umlenksystems 8 befinden sich an einer verfahrbaren Wand 14 der Vakuumkammer 1 (Fig. 3)· Die verfahrbare Wand 14 ist mit einem Fahrgestell 15 verbunden.

Claims (3)

291 n Erfindungaanspruch

1,5 kW cm bis 2,5 kW cm gelenkt wird, und daß die Zeit für einen Durchlauf des Elektronenstrahles durch die Dampfdruckmulde und zurück zum Ausgangspunkt ^ 20 ms gewählt wird, wobei die Einwirkzeit des Elektronenstrahles auf jedem Punkt der Verdampferfläche — 2 ms sein darf.

1. Verfahren zum Bedampfen von Bandstahl mit Aluminium mittels, eines gasfokussierten Elektronenstrahles, der auf das in einem Verdampfertiegel befindliche Verdampfungsgut schräg eingeschossen wird und die Oberfläche programmiert beaufschlagt, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl mit einer Leistung von 5 kW bis 10 kW je cm Bandbreite durch ein angepaßtes statisches Magnetfeld mit einem Krümmungsradius der Elektronen von ca. 250 mm auf das Verdampfungsgut über eine Breite, die annähernd der Bandbreite entspricht, so einwirkt, daß sich dabei eine rinnenförmige Dampfdruckmulde quer zur Bandlaufrichtung bildet, die in ihrer Länge der Bandbreite entspricht, einen Neigungswinkel von ca. 45° besitzt und konstante Tiefe aufweist, daß der Elektronenstrahl auf dem mittleren Drittel der Verdampferbreite mit der 1,5fachen Geschwindigkeit wie auf den äußeren Dritteln auf der Talsohle der Dampfdruckmulde mit einer mittleren Leistungsdichte von

2. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Punkt 1, bestehend aus einer Vakuumkammer, einem ungekühlten keramischen Verdampfertiegel auf einer Tiegelhebebühne, einer Elektronenkanone, einem Umlenksystem, einem magnetischen Ablenksystem zur dynamischen Ablenkung des Elektronenstrahles und der dynamischen Korrektur der Verzeichnung des magnetischen Umlenksystems, einer Schwenkblende und einer schrägen Bandführungseinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß am Einschußort der Elektronenstrahl (5) von einem magnetischen Kurzschluß (11) von der Länge 100 bis 120 mm allseitig umgeben ist, daß die Spulen des magnetischen Umlenksystems (8) eisengefüllt und ohne Eisenrückschluß sind und im Abstand vom 2,1- bis 2,6fachen der Bandbreite voneinander außerhalb

des Vakuums hinter einer unmagnetischen Wand (14) angeordnet sind, daß der Verdampfertiegelhafen eine Breite von
— dem 1,2fachen und eine Länge von— dem 0,4fachen den Bandbreite und eine Badtiefe von 60 bis 100 mm besitzt, und daß der Bandstahl (4) im Winkel von 10° bis 14° und im Abstand vom 0,3- bis 0,4fachen der Bandbreite über dem Verdampfertiegel (3) angeordnet ist·

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3· Einrichtung nach Pu-nkt 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiegelhebebühne (2) mit dem Yerdampfertiegel (3), die Schwenkblende (13) und eine Hälfte des Umlenksystems (8) an einer als Tür verfahrbaren Wand (14) der Vakuumkammer (1) angeordnet ist·

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen