DD220618A1 - Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen - Google Patents
Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen Download PDFInfo
- Publication number
- DD220618A1 DD220618A1 DD25928584A DD25928584A DD220618A1 DD 220618 A1 DD220618 A1 DD 220618A1 DD 25928584 A DD25928584 A DD 25928584A DD 25928584 A DD25928584 A DD 25928584A DD 220618 A1 DD220618 A1 DD 220618A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- input
- output
- circuit arrangement
- circuit
- plasmatron
- Prior art date
Links
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000004148 unit process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur Targetverbrauchsbestimmung in Sputteranlagen, die zum Aufbringen von Schichten bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente, elektrotechnischer und optischer Erzeugnisse eingesetzt werden. Die erfindungsgemaesse Schaltungsanordnung ermoeglicht die oekonomisch effektive Verbrauchsbestimmung und einen rentablen Targetwechsel, wobei die Aufgabe geloest wurde, eine Bestimmung ohne Oeffnung des Arbeitsraumes zu ermoeglichen. Erfindungsgemaess wird das durch eine Schaltungsanordnung geloest, die im wesentlichen aus einer Zusammenschaltung eines Impedanzwandlers, eines Analog-Digital-Wandlers, eines Frequenzteilers, einer digitalen Anzeigeeinheit, einer Auswertschaltung und einer Ansteuereinheit besteht.
Description
Schaltungsanordnung zur Targetverschleißbestimmung in Sputteranlagen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur Targetverbrauchsbestimmung in Sputteranlagen, die zum Aufbringen von Schichten bei derHerstellung mikrpelektronischer Bauelemente, elektrotechnischer und optischer Erzeugnisse eingesetzt werden.
Charakteristik der bekannten technischen Lösungen
Ss ist bekannt, den "Verschieißgrad von Targets in Sputteranlagen durch mechanische Mittel, insbesondere durch Lehren zu bestimmen. . ·.. Dabei ist es notwendig, die Arbeitskammer zu öffnen, um den Verschleiß zu bestimmen und den Targetwechsel vorzunehmen. Wird die Arbeitskammer geöffnet bevor ein effektiver Abtrag (80 - 90 % der maximalen Brosionstiefe) des Targets erreicht ist, muß entweder das Target in der Anlage verbleiben, wodurch hohe Pumpzeiten in Folge kondensierter Luftfeuchtigkeit und Desorption der Inneneinbauten, sowie Zeitverluste für die Konditionierung (Einsputtern) der in der Anlage befindlichen Targets,\ d.h. Freisputtern von den gebildeten Oxid auf den Targets entstehen, oder durch
Ι.+Λ
den uneffektiven Targetwechsel kommt es zu hohen ökonomischen Verlusten.
Wird die Arbeitskammer zum Messen des Verbrauchs und Wechsel des Targets erst nach dessen Durchsputterung, wobei das Untergrundmaterial beispielsweise Kupfer oder Kühlschlangen und Befestigungsschrauben mit angesputtert werden, geöffnet,kommt es zu ungewollten Legierungen (beispielsweise Al-Gu - Legierungen) auf dem zu bearbeitenden Substrat, wodurch dessen weitere Bearbeitung negativ beeinflußt wird. Außerdem kommt es durch Schaden an der Sputteranlage zu Produkt ionsausfällen. -. .' ; . : : ' ' .· ;
Ein weiterer Nachteil der bekannten Verbrauchsbestimmungen von Targets in Sputter anlage η besteht darin, daß · es durch die unterschiedliche Fahrwei3e (Leistung) der Plasmatrons nicht möglich ist, von dem Verbrauch eines Targets auf den mehrerer Targets zu schließen.
Ziel der Erfindung .'..: .'
Es ist Ziel der Erfindung, eine Schaltungsanordnung zur Targetverschleißbestiimung in Sputteranlagen anzugeben, die eine ökonomisch effektive Verbrauchsbestimmung und damit einen rentablen Targetwechsel ermöglicht. .
Darlegung des Wesens der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch eine Schaltungsanordnung die Bestimmung des Verbrauchs von Targets in Sputteranlagen ohne Öffnung des Arbeitsraumes zu ermöglichen. ,; Erfindungsgemäß-wird'die Aufgabe dadurch gelöst, daß der Eingang eines Impedanzwandlers mit einem in der Sputteranlage befindlichen,; die Leistung des Plasmatrons
messenden Anzeigeelements und der Ausgang mit dem Eingang eines Analog-Digital-Wandlers,verbunden ist, daß ein Frequenzteiler mit seinem Eingang am Ausgang des Analog-Digital-Wandlers und mit seinem Ausgangyan dem Eingang einer digitalen Anzeigeeinheit, die aus einer Zusammenschaltung eines Zählers, eines Programmier— schalters, eines Decoders und eines digitalen Anzeigeelement es besteht, angeschlossen ist, daß ein Eingang einer Auswertschaltung mit dem Ausgang der digitalen Anzeigeeinheit und ein anderer Eingang mit einem Impulsgeber des Plasmatrons verbunden ist, und daß dieAuswertschaltung mit einer aus Schaltverstärker und Relais bestehenden, das Plasmatron ein- und ausschaltenden Ansteuereinheit verbunden ist.
Soll bei mehreren Piasmatronen der Verbrauch der Targets gleichzeitig bestimmt werden, ist an den Ausgang des Frequenzteilers, der mit dem leistungsmessendeh Anzeige element , dem Imp edanzwahdler und dem Analog-Digit al-Wandler in Folge zusammengeschaltet ist, ein Eingang einer Torschaltung angeschlossen. Die weiteren Eingänge der Torschaltung sind mit den Impulsgebern der einzelnen Plasmatroneund die Ausgänge der Torschaltung sind mit den Eingängen der den einzelnen Piasmatronen zugeordneten digitalen Anzeigeeinheiten verbunden. Am Ausgang jeder digitalen Anzeigeeinheit ist ein Eingang / einer Auswertsefialtung, die mit einer Ansteuereinheit verbunden ist, angeschlossen. Der zweite Eingang jeder Auswertschaltung ist mit dem Impulsgeber des jeweiligen Plasmatrons verbunden. .
Bei der Bestimmung des Targetverschleißes in einer Sputteranlage wird eine Gleichspannungsmeßgröße Up von dem in der Sputteranlage befindlichen, die Leistung des Plasmatrons messenden Anzeigeelementes dem Impedanzwandler, der,, um eine verlustarme und genaue'Messung zu ermöglichen, mit einem hochohmigen Eingangs-
widerstand %ΐυ ausgestattet ist, zugeführt* Die vom Impedanzwandler abgegebene Spannung Up wird einem Ana-, log-Digital-Wandler zugeführt,dessen abgegebene Frequenz sich von null an linear der Eingangsspannung ändert. Anschließend wird die Frequenz in einem Frequenzteiler derart geteilt, daß das Teilerverhältnis der Organisation der folgenden Anzeigeeinheit (mm,%) entspricht. Soll von mehreren Piasmatronen der Verbrauch bestimmt werden, wird nun die Teilerfrequenz f/n einer Torschaltung zugeführt. Durch die Torschaltung wird die Teilerfrequenz der jedem Plasmatron zugeordneten Anzeigeeinheit zugeführt. Dabei wird sobald ein Plasmatron in Betrieb genommen wird, ein Impuls, der der Ansteuerschaltung des Plasmatrons entnommen wird, der Torschaltung zugeleitet·
In der jeweiligen Anzeigeeinheit ist mittels des Programmierschalters ein dem maximalen Verbrauch des Targets entsprechender Wert eingestellt worden, wodurch ein Impuls bei Erreichen dieses Wertes vom Programmierschal-. ter der Auswertschaltung zugeführt wird. Die mit der Torschaltung verknüpfte Auswertschaltung gibt nun einen Schaltimpuls an die Ansteuereinheit des jeweiligen Piasmatrons, wenn ein Impuls vom Programmierschalt er kommt und gleichzeitig der Impuls des Plasmatrons umschaltet oder ein Impuls vom Programmierschalter kommt und nach
Beendigung des Sputterzykluses der Impuls vom Plasmatron umschaltet· ^
Die angeschlossene Ansteuereinheit verarbeitet den ihr gegebenen Impuls über einen Schaltverstärker und schaltet mittels eines Relais das Plasmatron ab.
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung soll nachstehend an zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. In der dazugehörigen Zeichnung zeigen
Pig. 1 Schaltungsanordnung für die -Verbrauchs--'..
bestimmung bei mehreren Piasmatronen Fig. 2 Schaltungsanordnung für die Terbrauchsbestimmung bei einem Plasmatron \
Bei der Verbrauehsbestiimnung des Targets von den Plasmatronen A, B und C wird eine Spannung Up vom Anzeigeelement in der'Sputteranlage, die ein Mai3 der leistung und damit der Abtragsrate, die einer liniaren Punktion von der.Leistung entspricht, darstellt, einem Impedanzwandler 1 mit hohem Eingangswiderstand R zugeführt. Die vom Impedanzwandler 1 mit einer Verstärkung V^!=s.1 als tJ'p abgegebene Spannung wird einen Analog-Digital-Wandler 2 zugeführt, der die Spannung in eine digitalisierte Prequenz; f umsetzt. Der sich anschließende Frequenzteiler 3 erzeugt eine Teilerfrequenz f/n.
Durch eine Torschaltung 4 wird die Teilerfrequenz der entsprechenden digitalen Anzeigβeinheit 5 des zur Zeit arbeitenden Plasmatrons zugeführt. Pur die jeweilige Umschaltung zur entsprechenden Anzeigeeinheit 5 wird der Torschaltung 4 ein Impuls A oder B oder C von der jeweiligen Piasmatronsteuerung zugeleitet. In der digitalen Anzeigeeinheit 5 wird die Teilerfrequenz f/n über einen Zähler 5a und einen Decoder5c in eine digitale Anzeige 5d gewandelt, wobei sich deren Dimensionierung nach der Art der Anzeigegröße richtet (Millimeter, Stunden, Prozent usw.). Der zwischen Zähler 5a und Decoder 5c angeordnete .Programmierschalter 5b gibt bei Erreichen eines eingestellten Wertes einen Impuls an die sich anschließende Auswertschaltung 6.
' /. , ':: ' - . .- β.-. . .. : .
Von der Auswertschaltung 6 wird ein Impuls an die Ansteuereinheit 7 des jeweiligen Plasmatrons gegeben, die über einen Schaltverstärker mit Relais das Plasmatron abschaltet.
Wie Pig. 2 zeigt, vereinfacht sich die Schaltungsanordnung, wenn der Verbrauch nur eines Targets gemessen werden soll. Die Schaltungsanordnung besteht nun aus einem Impedanzwandler i, der mit einem Analog-Digital-Wandler 2 verbunden ist. An den daran angeschlossenen Frequenzteiler 3 schließt sich eine aus einer Zusammenschaltung eines Zählers 5a, eines Programmierschalt era 5b, eines Decoders 5c und eines Anzeigeelements 5d bestehende digitale Anzeigeleinheit; 5 an, an deren Ausgang eine mit dem Plasmatron verbundene Auswertschaltung 6 angeschlossen ist, der sich eine,aus Schaltverstärker und Relais bestehende Ahsteuereinheit 7 anschließt. < „
Claims (2)
- ErfindungsanspruchΛ . Schaltungsanordnung zur Targetverschleißbestim— mung in Sputteranlagen gekennzeichnet dadurch» daß der Eingang eines Impedanzwandlers mit einem in der Sputterajalage befindlichen, die Leistung des Plasmatrons messenden Anzeigeelements und der Ausgang mit dem Eingang eines Analog-Digital-Wandlers verbunden ist, daß ein Frequenzteiler mit seinem Eingang am Ausgang des Analog-Digit al-'.Yandlers und sein Ausgang an dem Eingang einer digitalen Anzeigeeinheit, die aus einer Zusammenschaltung eines Wählers, eines Programmierschalters, eines Decoders und eines Anzeigeelements besteht, angeschlossen ist, daß ein Eingang einer Auswertschaltung mit dem Ausgang der digitalen Anzeigeeinheit und ein anderer Eingang mit einem Impulsgeber des. Plasmatrons verbunden ist, und daß der Ausgang der Auswertschaltung miteiner, aus Schaltverstärker und Relais bestehenden, das Plasmatron aus- und einschaltende Ansteuereinheit verbunden ist. .
- 2. Schaltungsanordnung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß ein Eingang 'einer Torschaltung mit dem Ausgang des Frequenzteilers und die weiteren Ein- . gänge der Torschaltung mit den einzelnen Impulsgebern verschiedener Plasmatrons und die Auagänge der Torschaltung mit den einzelnen Piasmatronen zugeordneten digitalen Anzeigeeinheiten verbunden sind.- Hierzu 2 Blatt Zeichnungen -
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD25928584A DD220618A1 (de) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD25928584A DD220618A1 (de) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD220618A1 true DD220618A1 (de) | 1985-04-03 |
Family
ID=5554076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD25928584A DD220618A1 (de) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD220618A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3630737C1 (de) * | 1986-09-10 | 1987-11-05 | Philips & Du Pont Optical | Kathodenzerstaeubungseinrichtung mit einer Vorrichtung zur Messung eines kritischen Target-Abtrages |
| EP0508429A1 (de) * | 1991-04-10 | 1992-10-14 | KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO also known as Kobe Steel Ltd. | Vorrichtung zum Vakuumbeschichten mittels Bogenentladung |
-
1984
- 1984-01-09 DD DD25928584A patent/DD220618A1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3630737C1 (de) * | 1986-09-10 | 1987-11-05 | Philips & Du Pont Optical | Kathodenzerstaeubungseinrichtung mit einer Vorrichtung zur Messung eines kritischen Target-Abtrages |
| EP0259934A1 (de) * | 1986-09-10 | 1988-03-16 | Philips and Du Pont Optical Deutschland GmbH | Kathodenzerstäubungseinrichtung mit einer Vorrichtung zur Messung eines kritischen Target-Abtrages |
| EP0508429A1 (de) * | 1991-04-10 | 1992-10-14 | KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO also known as Kobe Steel Ltd. | Vorrichtung zum Vakuumbeschichten mittels Bogenentladung |
| US5221349A (en) * | 1991-04-10 | 1993-06-22 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vaccum arc vapor deposition device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2825882C2 (de) | Schaltungsanordnung zur Reduzierung niederfrequenter Störspannung und Offsetspannung bei einer Verstärkerschaltung | |
| WO2003036733A2 (de) | Vertikaler hall-sensor | |
| EP0411359A2 (de) | Anordnung zur Dickenmessung von Dünnschichten | |
| DE19526435B4 (de) | Schaltungsanordnung zur Fehlerstromerkennung | |
| CH681491A5 (de) | ||
| EP0485831A1 (de) | Automatisches Analysengerät | |
| EP0363363B1 (de) | Elektronischer kompass | |
| DE2840034C2 (de) | ||
| DD220618A1 (de) | Schaltungsanordnung zur targetverschleissbestimmung in sputteranlagen | |
| DE2612764C2 (de) | Spannungs-Frequenz-Wandler | |
| CH619041A5 (de) | ||
| DE3323961C2 (de) | ||
| DE1548653B1 (de) | Elektrischer Messumformer mit automatischer Eicheinrichtung | |
| EP0119545A2 (de) | Ablesevorrichtung für den Zählerstand eines Rollenzählwerks | |
| DE10023503B9 (de) | Positionsschalter | |
| DE3710350A1 (de) | Vorrichtung zur verstaerkung von getakteten elektrischen messsignalen | |
| DE1439754C (de) | Kondensator und Verfahren zu seiner Herstellung. Ausscheidung aus: 1196295 | |
| DE102008059694A1 (de) | Anordnung aus Stromschieneneinrichtung und Leiterplatine | |
| EP0472919A2 (de) | Elektronisches, vorzugsweise berührungslos arbeitendes Schaltgerät | |
| DE1958906A1 (de) | Elektrisches Messgeraet,insbesondere Elektromanometer fuer direkte Blutdruckmessungen | |
| DE19926684C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur logarithmischen Umwandlung eines Eingangssignals | |
| AT345381B (de) | Schaltung zur austastung stark verformter bereiche von rechtecksignalen | |
| DE3439974C2 (de) | Schaltung zur wahlweisen Ansteuerung von zwei Stellgliedern | |
| DD297733B5 (de) | Schaltungsanordnung zur bestimmung des betriebszustandes von stufenschaltwerken von transformatoren | |
| DE102021211092A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Ermittlung von Abtastpunkten eines Signalpulses |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |