DE100206T1 - Vorrichtung zum behandeln eines gegenstandes in einer vakuumkammer. - Google Patents
Vorrichtung zum behandeln eines gegenstandes in einer vakuumkammer.Info
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- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0431—Apparatus for thermal treatment
- H10P72/0434—Apparatus for thermal treatment mainly by convection
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- H—ELECTRICITY
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Claims (10)
1. Vorrichtung zur Behandlung eines Werkstücks in einer Vakuumkammer, bestehend aus einer Halterung mit einer
Werkstückspannfläche sowie aus mechanischen Spannmitteln zum lösbaren Spannen des zu behandelnden Werkstücks auf der
Werkstückspannfläche, weiter aus einer Einrichtung zum Umwälzen einer ersten Kühlflüssigkeit zwischen der Werkstückspannfläche und
einem darauf gespannten Werkstück, sowie einer Einrichtung zum Umwälzen einer zweiten Kühlflüssigkeit durch Teile der Halterung
hindurch, damit die Wärme aus der Halterung abgeführt wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, worin die Halterung die erste Elektrode ist.
3· Vorrichtung nach Anspruch 2, worin die erste Elektrode eine Längsachse hat und die Werkstückspannfläche quer dazu verläuft.
4· Vorrichtung nach Anspruch 3, weiterhin bestehend aus einer im Abstand von der Werkstückspannnfläche angeordneten und auf sie
zu weisenden zweiten Elektrode, sowie aus einer Stellvorrichtung zur Änderung der Winkellage der ersten Elektrode gegenüber der
zweiten Elektrode.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, bestehend aus einer Vakuumkammer, in welche die Elektroden hinein ragen, wobei diese
Vakuumkammer eine Öffnung aufweist und die erste Elektrode eine durch die Öffnung hindurch aus der Vakuumkammer hinaus reichende
Einrichtung aufweist, und wobei weiter die Stellvorrichtung zur Änderung der Winkellage der ersten Elektrode aus außerhalb der
Vakuumkammer gelegenen Teilen besteht·
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, worin die Einrichtung zur Änderung der Winkellage der ersten Elektrode aus einer an dieser
befestigten Richtplatte besteht, an welcher eine Batätigungsvorrichtung angebracht ist und welche zwecks Änderung
der Richtplattenstellung relativ zur Vakuumkammer mit dieser Kammer verbunden ist.
S 100 Pa 84/2 EPA-DE - Übersetzung 010 0206 "2^"
7^ Vorrichtung nach Anspruch 2, worin die erste Elektrode aus aneinander angebrachten ersten, zweiten und dritten Platten
besteht, wobei die Werkstückspannfläche eine erste Fläche der ersten Platte ist und die Einrichtung zum Umwälzen von
Kühlflüssigkeit zwischen der Werkstückspannfläche und einem Werkstück in dieser ersten Fläche eine Nut aufweist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, worin die Einrichtung zum Umwälzen einer zweiten Kühlflüssigkeit einen Strömungskanal
aufweist, der zwischen der zweiten und dritten Platte durch diese Platten gebildet ist.
9» Vorrichtung nach Anspruch 8, worin die erste Elektrode aus einem Rohr besteht, welches rechtwinklig zur Werkstückspannfläche
verläuft, und wobei zum Umwälzen von Kühlflüssigkeiten durch die Nut und den Strömungskanal hindurch in dem Rohr Leitungen
enthalten sind,
10. Werkstück, behandelt in einer Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9·
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US40094982A | 1982-07-22 | 1982-07-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE100206T1 true DE100206T1 (de) | 1985-02-14 |
Family
ID=23585666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE198383304226T Pending DE100206T1 (de) | 1982-07-22 | 1983-07-21 | Vorrichtung zum behandeln eines gegenstandes in einer vakuumkammer. |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0100206A1 (de) |
| JP (1) | JPS5976429A (de) |
| DE (1) | DE100206T1 (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS6372877A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-04-02 | Tokuda Seisakusho Ltd | 真空処理装置 |
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| US4311427A (en) * | 1979-12-21 | 1982-01-19 | Varian Associates, Inc. | Wafer transfer system |
-
1983
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- 1983-07-22 JP JP58134250A patent/JPS5976429A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5976429A (ja) | 1984-05-01 |
| EP0100206A1 (de) | 1984-02-08 |
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