DE1109143B - Verfahren zum Herstellen geformter kristalliner Koerper - Google Patents
Verfahren zum Herstellen geformter kristalliner KoerperInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 23
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 17
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 12
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 8
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- -1 alkalis Substances 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- FWZMWMSAGOVWEZ-UHFFFAOYSA-N potassium;hydrofluoride Chemical compound F.[K] FWZMWMSAGOVWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J6/00—Heat treatments such as Calcining; Fusing ; Pyrolysis
- B01J6/005—Fusing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/04—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
- C30B11/08—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt every component of the crystal composition being added during the crystallisation
- C30B11/10—Solid or liquid components, e.g. Verneuil method
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- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
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- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
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- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
W 25150 IVc/12 c
ANMELDETAG: 4. MÄRZ 1959
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UNDAUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 22. JUNI 1961
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UNDAUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 22. JUNI 1961
Das Herstellen geformter kristalliner Körper durch Ziehen aus einer nach unten hängenden, durch Zusatz
von Rohmaterial gespeisten Schmelze ist bekannt.
Es wurde nun ein Verfahren zum Herstellen geformier polykristalliner oder einkristalliner Körper
durch Ziehen aus einer nach unten hängenden Schmelze, die durch Zusatz von Rohmaterial gespeist
wird, gefunden, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß die nach unten hängende Schmelzzone von einer
Flüssigkeit bzw. Schmelze andersartigen Materials ganz oder teilweise umgeben wird.
Als flüssiges Medium eignen sich homogen oder heterogen aufgebaute Ein- und Mehrstoffsysteme aus
anorganischen und/oder organischen Stoffen. Beispielsweise können flüssige Systeme aus ein oder
mehreren anorganischen und/oder organischen Flüssigkeiten bzw. Lösungen und Schmelzen aus ein oder
mehreren anorganischen und/oder organischen geschmolzenen Stoffen verwendet werden. Das flüssige
Medium kann außerdem gasförmig gelöste Stoffe und Kolloide enthalten. Der dispergierte Stoff kann fest
oder flüssig sein und Teilchengrößen bis zu mehreren Millimetern besitzen.
Als reine Flüssigkeiten eignen sich z. B. Wasser, Laugen, Säuren, Quecksilber, flüssige Halogenide,
Alkohole, Chlorkohlenwasserstoffe, Öle u. a.
Als flüssiges Medium können auch Schmelzen z. B. aus Salzen, wie Halogeniden, Sulfiden, Oxyden
oder Nitraten, eingesetzt werden. Es eignen sich aber auch andere ionogengebaute Stoffe, wie Oxyde und
Sulfide. Dies bedeutet jedoch nicht, daß andere anorganische oder organische Stoffe mit unterschiedlichem
Aufbau nicht ebenfalls geeignet wären. Aus dem Bereich der organischen Stoffe seien schließ-Hch
noch beispielsweise genannt: Paraffin, Wachse, hochmolekulare Stoffe wie Anthrazen, Perylen,
Fluoren, Xanthen u. a.
Das Verfahren ist mannigfacher Variationen und Anpassungen zugänglich. So kann das flüssige
Medium die nach unten frei hängende Schmelzzone allein oder auch Teile des festen Körpers umhüllen.
Das flüssige Medium kann als schmelzflüssige Haut auf der flüssigen Zone und gegebenenfalls auf dem
festen Körper aufrechterhalten werden. In diesem Fall berührt das flüssige Medium keine Gefäßwände.
Das ist für die Herstellung von Reinststoffen von großer Bedeutung.
Aber auch die einfachere Anordnung ist möglich, bei der die nach unten hängende Schmelzzone in das
flüssige Medium eintaucht, das innerhalb eines Gefäßes ruht.
Verfahren zum Herstellen
geformter kristalliner Körper
geformter kristalliner Körper
Anmelder:
Wacker-Chemie G.m.b.H.,
München 22, Prinzregentenstr. 20
München 22, Prinzregentenstr. 20
Dr. Eduard Enk und Dr. Julius Nicki,
Burghausen (Obb.),
sind als Erfinder genannt worden
sind als Erfinder genannt worden
Diese Arbeitsweise gestattet, daß gleichzeitig mit dem Schmelzen und Formen eine Reinigung des zu
formenden Materials erzielt werden kann. In diesem Fall nimmt das flüssige Medium Verunreinigungen
der Schmelzzone eventuell aus dem festen Körper auf. Die Verunreinigungen können dabei in flüssigem
Medium chemisch gebunden oder gelöst bleiben bzw. das flüssige Medium sublimierend oder gasförmig
verlassen.
In den meisten Fällen arbeitet man so, daß die Konzentration der Verunreinigungen im flüssigen
Medium nicht allzu sehr ansteigt. Das erreicht man beispielsweise dadurch, daß das flüssige Medium
kontinuierlich oder diskontinuierlich erneuert wird.
Das flüssige Medium kann ferner verhindern, daß die Schmelzzone und der geformte Körper verunreinigt
werden.
Es ist ferner möglich, daß das flüssige Medium hinweg als vermittelnde Phase oder unmittelbar aus
dem flüssigen Medium gewünschte Stoffe an die frei hängende Schmelzzone und/oder an den geformten
Körper abzugeben. Dieses gezielte Zusetzen kann z. B. bei der Herstellung von dotiertem Halbleitermaterial
angewendet werden. Diese, dem flüssigen Medium entnommenen Stoffe können in der Schmelze
in homogener oder heterogener Form vorliegen, darin unmittelbar durch eine chemische Reaktion
erzeugt oder zugesetzt werden.
Diese Arbeitsweise bietet ferner den Vorteil, daß das Formen des Körpers mittels des flüssigen
Mediums beeinflußt werden kann. So kann bereits der Dichteunterschied zwischen flüssigem Medium und
frei nach unten hängender Schmelzzone für die Formgebung ausgenutzt werden. Ist die Dichte des
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umhüllenden flüssigen Mediums größer als die Dichte der Schmelzzone, so wird die Schmelzzone nach
oben gedrückt und folglich von unten her abgeflacht. Das ist aber bereits in abgeschwächtem Maße der
Fall, wenn die Dichte des umgebenden flüssigen Mediums geringer ist als die Dichte der schmelzflüssigen
Zone. So ist es möglich, allein durch Einstellen der Dichte des flüssigen Mediums die Form
der schmelzflüssigen Zone zu verändern und so letztlich die Form des erstarrten Körpers zu beeinflussen.
Gleichzeitig hat sich gezeigt, daß auch die chemische Natur des flüssigen Mediums auf die
Oberflächenform des hergestellten Körpers einen Einfluß hat. So ist es möglich, hochglänzende, poröse
oder matte Oberflächen herzustellen, wenn die chemische Natur des flüssigen Mediums entsprechend gewählt
wird.
Da es sehr viele Stoffe gibt, die sich nach diesem Verfahren verarbeiten lassen und eine große Zahl
von flüssigen Systemen zur Verfügung steht, ist es notwendig, für die besonderen Zwecke stets das geeignete
Flüssigkeitssystem auszusuchen. Es ist bei der Wahl des flüssigen Mediums aus der Reihe der
zu beachtenden Bedingungen vor allem zu berücksichtigen, ob das flüssige Medium in seinen thermischen,
chemischen und physikalischen Eigenschaften ausreichend geeignet ist.
Beispielsweise kann das zu schmelzende Material einen höheren Schmelzpunkt als das flüssige Medium
besitzen, und der Siedepunkt des letzteren liegt höher als der Schmelzpunkt des zu formenden Materials.
So läßt sich Silicium in einer Salzschmelze aus Alkalihalogeniden mit einem Schmelzpunkt von etwa
300 bis etwa 1200° C schmelzen und formen, obwohl der Schmelzpunkt des Siliciums bei 1420° C liegt.
In diesem Fall ist es vorteilhaft, das Silicium induktiv mittels elektrischer Hochfrequenz zu erhitzen,
um eine frei hängende Schmelzzone aufrechtzuerhalten.
Der Schmelzpunkt des flüssigen Mediums kann höher liegen als der Schmelzpunkt des zu formenden
Materials. Auch in diesem Fall ist es möglich, das Verfahren durchzuführen. Man wählt dann vorteilhafterweise
ein Medium, dessen Dichte etwa der Dichte der Schmelzzone entspricht. Werden dann
diesem umgebenden flüssigen Medium Körner bzw. körniges Material zugeführt, so entstehen in der umgebenden
Flüssigkeit schwimmende und schwebende Tropfen, die von der nach unten hängenden Schmelzzone
aufgenommen werden. In dem Maße, wie die Schmelzzone wächst, wird sie nach oben weggezogen
und erstarrt zum geformten Körper. Diese Arbeitsweise hat den Vorteil, daß die umgebende Flüssigkeit
gleichzeitig als Erhitzungsvorrichtung dient.
Der Siedepunkt des flüssigen Mediums liegt tiefer als der Schmelzpunkt des zu formenden Materials. In
diesem Fall ist es notwendig, durch geeignete Vorkehrungen das Abdampfen der umgebenden Flüssigkeit
zu verhindern, bzw. das verdampfte Material muß stets neu ersetzt werden.
Als Heizvorrichtungen eignen sich elektrische Hochfrequenz, energiereiche elektromagnetische Strahlungsquellen,
Elektronen- oder Ionenbombardement bzw. ein heißer Gasstrom, elektrischer Lichtbogen
oder atomare Rekombinationsenergie.
Die Stabilität der nach unten frei hängenden schmelzflüssigen Zone kann verstärkt oder geschwächt
werden durch Anlegen von elektromagnetischen Wechselfeldern. So kann das Abreißen und Abfallen
des Schmelztropfens dadurch verhindert werden, daß elektrische Hochfrequenz, Mittel- oder Niederfrequenz
als Stützfelder für die nach unten hängende Schmelzzone benutzt werden.
Nachfolgend soll die Herstellung eines 10 mm starken Siliciumstabes aus gekörntem Silicium beschrieben
werden.
In einem etwa 30 mm weiten, unten geschlossenen Quarzrohr ruht eine etwa 4 cm hohe Schmelze aus
Natriumchlorid und Kaliumchlorid mit einem Zusatz von etwa 0,1 Gewichtsprozent Kaliumfluorid.
Der Schmelzpunkt des Salzgemisches liegt bei etwa 7000C. Außerhalb des Quarzrohres wird mittels
einer Hochfrequenzspule das Salzgemisch induktiv erhitzt. In die etwa 1000° C heiße Schmelze wird ein
etwa 5 mm starker Siliciumstab etwa 1 cm tief von oben her eingetaucht, die elektrische Hochfrequenzleistung
erhöht und innerhalb der Schmelze ein SiIiciumtropfen aufgeschmolzen, der an dem restlichen,
festen, 5 mm starken Siliciumstab hängt. Die SaIzschmelze umhüllt in diesem Fall den Siliciumtropfen
und etwa 2 bis 3 mm hoch den festen Siliciumstab. Das oberste Ende des Stabes hängt an einer Verstellvorrichtung,
mittels der Stab und Tropfen senkrecht verstellt werden können. Oberhalb der Salzschmelze
wird sauerstofffreies Argon in leichtem Strom zugeführt. Über eine Einfüllvorrichtung wird nun der
Salzschmelze gekörntes Silicium (1 bis 4 mm) langsam zugeführt. Durch die Konvektionsströmungen
der Schmelze gelangen immer wieder einzelne Körner, vor allem die, an denen Gasbläschen hängen, und die
so ein scheinbar kleines spezifisches Gewicht haben, an den Siliciumtropfen, werden aufgenommen und
vergrößern so den Tropfen, dessen Form so groß gewählt wird, daß ein etwa 10 mm starker Stab kontinuierlich
nach oben gezogen werden kann. Körner, die zu schwer sind und auf den Boden des Quarzrohres
sinken, werden durch kurzes Berühren mit dem Siliciumtropfen heraufgeholt und aufgeschmolzen.
Auf diese Weise kann man schließlich einen etwa 400 mm langen Siliciumstab herstellen, der ein grobkristallines,
porenfreies Gefüge zeigt. Die dünn anhaftende Salzschmelze kann man mit warmem Wasser
ablösen. Bei dieser Arbeitsweise wird beobachtet, daß die Salzschmelze auf das verarbeitete Silicium reinigend
wirkt. So sinkt der SiO2-Gehalt von etwa 0,02
auf 0,001 Gewichtsprozent. Die Reinigung nimmt mit steigendem Fluoridgehalt zu. Der Grad der Reinigung
steigt ferner, wenn man der Salzschmelze während des Schmelzens des Siliciums Siliciumtetrachlorid
oder Chlorwasserstoff zuführt. Das ist nicht nur beim Durchleiten dieser beiden Stoffe durch die Salzschmelze
zu beobachten. Es genügt bereits, eine entsprechende Dampfhülle über der Salzschmelze aufrechtzuerhalten,
wobei mit steigendem Druck der Dampfhülle die Reinigung zunimmt. Bei dieser Arbeitsweise
kann man auch Spuren von Verunreinigungen aus bereits hochreinem Silicium entfernen, z. B.
Phosphor und Bor in Konzentrationen unterhalb 10 3 Gewichtsprozent, was vor allem bei der Verarbeitung
von Halbleitersilicium interessant ist.
Beim Verarbeiten von technisch reinem Silicium, das meist mehr als 1 Gewichtsprozent Verunreinigungen
enthält, wird gleichzeitig mit dem gekörnten SiIi-
cium frisches, festes Salzgemisch zugegeben, um die Konzentration der herausgelösten Verunreinigungen
in der Salzschmelze nicht allzu groß ansteigen zu lassen.
Wie die Reinheit zunimmt, zeigen die folgenden Analysewerte. Dabei wird mit einer Salzschmelze aus
Lithium-, Kaliumchlorid mit einem Zusatz von etwa 0,5 Gewichtsprozent Natriumfluorid und 0,01 Gewichtsprozent
Kaliumhydrofluorid gearbeitet. Die Schmelze wird außerdem von einem Gemisch aus Chlorwasserstoff und Siliciumtetrachlorid durchperlt.
Schlacke
Titan ...
Titan ...
Kalcium ..
Eisen ....
Aluminium
Eisen ....
Aluminium
Rohsilicium Gewichtsprozent
0,47 0,04
0,47 2,22 2,42
Geschmolzenes
Silicium Gewichtsprozent
0,001 nicht mehr bestimmbar
0,001
0,1
0,1
40
Will man dickere Siliciumstäbe als 10 bis 15 mm herstellen, so ist die Dichte der Salzschmelze zu erhöhen.
Beispielsweise durch Zusatz von Rubidium oder Cäsiumhalogenid. Es gelingt so, zu einer größeren
Schmelzzone und somit zu stärkeren Stäben bzw. bei Rohren zu größeren Wandstärken zu gelangen.
Dies kann man noch durch Anlegen von elektromagnetischen Stützfeldern verbessern.
Hochreines Germanium mit weniger als 10 ~5 Gewichtsprozent
Verunreinigungen wird in gekörnter Form zu einem etwa 30 mm dicken Stab verarbeitet,
wobei das umhüllende, flüssige Medium die Gefäßwände nicht berührt.
In diesem Fall werden die etwa 1 bis 2 mm großen Germaniumkörper durch Tauchen in eine Salzschmelze
aus Alkalichloriden, die sehr geringe Mengen Phosphor chemisch gebunden enthalten (Phosphortrichlorid),
mit einer dünnen Salzschicht umhüllt. Diese Körner führt man dann einem frei nach unten
hängenden Germaniumtropfen zu, läßt die Körner aufschmelzen und vergrößert so zuerst den Tropfen
und dann den Stab. Um ein Abtropfen zu vermeiden, wird die flüssige Germaniumzone mit einem elektromagnetischen
Stützfeld stabilisiert. Die mit den Körnern herangebrachten Salze umhüllen teilweise den
Germaniumtropfen und erstarren schließlich auf dem festen Germaniumstab. Der in der Salzschmelze enthaltene
Phosphor wird teilweise an das Germanium abgegeben. Es gelingt so, einen polykristallinen n-leitenden
Germaniumstab herzustellen.
In gleicher Weise gelingt es, einkristalline Stäbe oder Rohre zu fertigen. Es ist jedoch darauf zu
achten, daß oberhalb der Grenze festflüssig das umhüllende Medium noch etwa 3 bis 5 mm flüssig ist.
Ist das nicht der Fall, so wird das Einkristallwachstum gestört.
Wie differenziert das Verfahren eingesetzt werden kann, zeigt die Herstellung eines Paraffinstabes, bei
dem als Heizquelle unmittelbar das warme, flüssige Medium dient. In einem unten geschlossenen, 40 mm
weiten Glasrohr befindet sich etwa 10 cm hoch ein Gemisch aus Äthylalkohol und Wasser mit einer
Dichte von etwa 0,83 und einer Temperatur von etwa 55° C. Von oben her wird ein kurzes Paraffinstückchen,
das an einem Glasstab befestigt ist, etwa 1 cm in dies flüssige Medium getaucht und zu einem
Tropfen aufgeschmolzen. Durch Einstreuen von zerkleinertem Paraffin, das im flüssigen Medium suspendiert
schwimmt, wird der Tropfen und schließlich durch langsames und kontinuierliches Herausziehen
der Paraffinstab verlängert.
Enthält das flüssige Medium Farbstoffe bzw. das Paraffin Stoffe, die im flüssigen Medium löslich sind,
so rindet während des Wachsens des Paraffinstabes ein reger Stoffaustausch statt, und es gelingt so, geringe
Mengen von Farbstoffen im Paraffin einzulagern oder salzartige Bestandteile aus dem Paraffin herauszulösen.
Die Stabilität der nach unten hängenden schmelzflüssigen Zone kann verstärkt oder geschwächt werden
durch Anlegen von elektromagnetischen Wechselfeldern. So kann das Abreißen und Abfallen des
Schmelztropfens dadurch verhindert werden, daß elektrische Hochfrequenz, Mittel- oder Niederfrequenz
als Stützfelder für die nach unten hängende
Schmelzzone benutzt werden.
Das Verfahren ist auch durchführbar bei erniedrigtem Druck und vor allem dann, wenn aus der umgebenden
und/oder schmelzflüssigen Zone Verbindungen dampfförmig austreten sollen. Diese Arbeitsweise
eignet sich vor allem, wenn das zu formende Material gereinigt werden soll.
Claims (3)
1. Verfahren zum Herstellen geformter polykristalliner oder einkristalliner Körper durch
Ziehen aus einer nach unten hängenden Schmelze, die durch Zusatz von Rohmaterial gespeist wird,
dadurch gekennzeichnet, daß die nach unten hängende Schmelzzone von einer Flüssigkeit bzw.
Schmelze andersartigen Materials ganz oder teilweise umgeben wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das andersartige Material derart
ausgewählt wird, daß es auf die hängende Schmelzzone reinigend bzw. verunreinigend wirkt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß durch oder über die Flüssigkeit
bzw. Schmelze andersartigen Materials Gase geleitet werden.
In Betracht gezogene Druckschriften: Britische Patentschrift Nr. 779 957.
© 109 618Ί98 6.61
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL237618D NL237618A (de) | 1958-04-03 | ||
| DEW23099A DE1088923B (de) | 1958-04-03 | 1958-04-03 | Verfahren zum Herstellen von kristallinen Koerpern |
| DEW25150A DE1109143B (de) | 1958-04-03 | 1959-03-04 | Verfahren zum Herstellen geformter kristalliner Koerper |
| FR790967A FR1219626A (fr) | 1958-04-03 | 1959-04-01 | Procédé et appareil pour la fusion sans creuset et l'obtention d'objets façonnés |
| CH7148059A CH395025A (de) | 1958-04-03 | 1959-04-02 | Verfahren und Vorrichtung zum Bilden geformter Körper in polykristalliner oder einkristalliner Form |
| GB1148759A GB913822A (en) | 1958-04-03 | 1959-04-03 | Process and apparatus for the manufacture of shaped structures |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEW23099A DE1088923B (de) | 1958-04-03 | 1958-04-03 | Verfahren zum Herstellen von kristallinen Koerpern |
| DEW25150A DE1109143B (de) | 1958-04-03 | 1959-03-04 | Verfahren zum Herstellen geformter kristalliner Koerper |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1109143B true DE1109143B (de) | 1961-06-22 |
Family
ID=26002249
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEW23099A Pending DE1088923B (de) | 1958-04-03 | 1958-04-03 | Verfahren zum Herstellen von kristallinen Koerpern |
| DEW25150A Pending DE1109143B (de) | 1958-04-03 | 1959-03-04 | Verfahren zum Herstellen geformter kristalliner Koerper |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEW23099A Pending DE1088923B (de) | 1958-04-03 | 1958-04-03 | Verfahren zum Herstellen von kristallinen Koerpern |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH395025A (de) |
| DE (2) | DE1088923B (de) |
| FR (1) | FR1219626A (de) |
| GB (1) | GB913822A (de) |
| NL (1) | NL237618A (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1181669B (de) | 1958-06-03 | 1964-11-19 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Herstellen von festen Verbindungen oder Legierungen |
| DE1216257B (de) * | 1960-08-18 | 1966-05-12 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Einkristallen |
| US4968380A (en) * | 1989-05-24 | 1990-11-06 | Mobil Solar Energy Corporation | System for continuously replenishing melt |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB779957A (en) * | 1954-02-24 | 1957-07-24 | Siemens Ag | Improvements in or relating to the preparation of rod-shaped bodies of crystalline material |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH286404A (fr) * | 1943-09-21 | 1952-10-31 | Linde Air Prod Co | Procédé de fabrication d'un corps de gemme synthétique cristallisant dans le système isométrique et corps obtenu par ce procédé. |
| NL89230C (de) * | 1952-12-17 | 1900-01-01 | ||
| AT194444B (de) * | 1953-02-26 | 1958-01-10 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zur Behandlung einer längserstreckten Halbleiterkristallanordnung |
-
0
- NL NL237618D patent/NL237618A/xx unknown
-
1958
- 1958-04-03 DE DEW23099A patent/DE1088923B/de active Pending
-
1959
- 1959-03-04 DE DEW25150A patent/DE1109143B/de active Pending
- 1959-04-01 FR FR790967A patent/FR1219626A/fr not_active Expired
- 1959-04-02 CH CH7148059A patent/CH395025A/de unknown
- 1959-04-03 GB GB1148759A patent/GB913822A/en not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB779957A (en) * | 1954-02-24 | 1957-07-24 | Siemens Ag | Improvements in or relating to the preparation of rod-shaped bodies of crystalline material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB913822A (en) | 1962-12-28 |
| CH395025A (de) | 1965-07-15 |
| DE1088923B (de) | 1960-09-15 |
| NL237618A (de) | |
| FR1219626A (fr) | 1960-05-18 |
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