DE1958331A1

DE1958331A1 - Reinigungsverfahren

Info

Publication number: DE1958331A1
Application number: DE19691958331
Authority: DE
Inventors: Mccormick Arline G
Original assignee: Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1968-11-20
Filing date: 1969-11-20
Publication date: 1970-06-04
Also published as: FR2023742A1; DE1958331C3; DE1958331B2; US3544365A; GB1245160A

Description

PATENTANWÄLTE

DR.I. MAAS

DR. W. PFEIFFER

DR. F. VOITHENLEITNER

8 MÜNCHEN 23
UNGERERSTR. 25*- TEL 39 02 3β

Case 18

Kenvert International· Corporation, Rockville, Connecticut,

V.St.A.

Reinigungsverfahren

Zusammenfassung

Es wird ein "Verfahren zur Entfernung von Nahrungsmitteln von zu ihrer Zubereitung verwendeten Metallgeräten "beschrieben, "bei dem eine Reinigungslösung auf die Oberfläche des Geräts aufgebracht und die Lösung mit der Oberfläche während einer Zeit und bei einer Temperatur in Berührung gehalten wird, die zur Ablösung des Rückstands von der Oberfläche ausreichen. Me verwendete Reinigungslösung enthält ein chloriertes organisches Lösungsmittel und einen Aktivator dafür. Vorzugsweise ist darin ein öllösliches oberflächenaktives Mittel enthalten und eine Wasserschicht darüber vorhanden, die als Sperre gegen Verdampfung des Lösungsmittels wirkt.

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Bekanntlich werden Töpfe, Pfannen, Backbleche und ähnliche Kochgeräte normalerweise- durch harte, zähe Überzüge verkrustet, die nach Entnahme des Nahrungsmittelprodukts zurückbleiben. Dieses Verhalten zeigt sich noch ausgeprägter, wenn die Oberfläche des Geräts Löcher oder Kratzer bekommt, so daß Kerben entstehen, in denen sich das Nahrungsmittel mechanisch verankern kann, wodurch die Haftung erhöht wird. Solche Überzüge sind unerwünscht und müssen vor erneuter Verwendung des Geräts entfernt werden. Die Reinigung ist ein zeitraubender Vorgang und stellt im gewerblichen Betrieb infolge der vielen Geräte, die dabei gewöhnlich anfallen, und der Häufigkeit, mit der sie gereinigt werden müssen, ein besonders ernsthaftes Problem dar. Ferner kommt es darauf.an, daß das Reinigungsverfahren sowohl in der Durchführung als auch in der Hinsicht sicher ist, daß schädliche Rückstände oder Nebenprodukte vermieden werden, die nach beendeter Reinigung zurückbleiben können.

Verhältnismäßig häufig wird die Oberfläche solcher Geräte, die mit dem Nahrungsmittel in Berührung kommt, mit Harzschichten oder -überzügen (zum Beispiel aus Siloxanpolymeren) versehen, um die Ablösung des zubereiteten Produkts von der Oberfläche zu erleichtern. Die für solche Überzüge zur Verfügung stehenden Werkstoffe sind zwar in vielen Pällen für eine wiederholte Verwendung genügend dauerhaft, bei diesen Überzügen besteht jedoch die Gefahr, daß sie Kratzer oder Löcher bekommen oder abgescheuert werden, und dadurch das Problem eines mechanischen und chemischen Verklebens mit dem Nahrungsmittel auftritt. Es kommt also ferner darauf an, daß ein Reinigungsverfahren die selektive Entfernung der Nahrungsmittelrückstände ermöglicht, Harze wie die Siloxane jedoch praktisch intakt läßt.

Die Erfindung bezweckt daher ein Verfahren zur einfachen und wirksamen Entfernung der Rückstände von Nahrungsmitteln, die auf Metallgeräten, die zu ihrer Zubereitung' verwendet

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werden, "bei höheren Temperaturen entstehen.

Ferner bezweckt die Erfindung ein Lösungsinittelverfahren, mit dem solche Rückstände selektiv von Geräten mit einem Harzüberzug auf ihrer Oberfläche ohne merkliche Schädigung dee Überzugsmaterials entfernt werden können.

Ein solches Verfahren soll außerdem in der Durchführung verhältnismäßig sicher sein und nach seiner Durchführung keine schädlichen Rückstände oder Nebenprodukte auf der Oberfläche des Geräts hinterlassen.

Überraschenderweise wurde nun ein Verfahren gefunden, mit dem diese Aufgaben leicht gelöst v/erden können. Erfindungsgemäß wird eine Reinigungslösung zubereitet, die etwa 0,1 bis 40,0 Gewichts-^ einer organischen Säure oder eines Amins als Aktivator in 99,9 bis 60,0 Gewichts-^ eines chlorierten organischen Lösungsmittels enthält. Die Lösung wird auf die Oberfläche von Metallgeräten aufgebracht, auf der eich Nahrungsmittelrückstände befinden, und während einer Zeit und bei einer Temperatur mit der Oberfläche in Berührung gehalten, die zur Ablösung wenigstens eines Teils des Rückstands ausreichen.

Vorzugsweise wird zwischen der Lösung und der Oberfläche mit dem darauf befindlichen Rückstand wenigstens während eines Teils der Berührungsdauer relative Bewegung erzeugt, und das Verfahren umfaßt vorzugsweise ferner eine Spülstufe unter Anwendung eines gegen die Oberfläche gerichteten Wasserstroms. Nach der vorteilhaftesten Ausführungsform wird die Reinigungslösung mit Wasser in solcher Menge versetzt, daß ein Zweiphasensystem entsteht, in dem das Wasser eine eigene Schutzschicht über der organischen Phase bildet.

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Die Reinigungslösung enthält etwa 60,0 bis 99,9 Gewichts-^, vorzugsweise etwa 70,0 "bis 99,5 Gewichts-^ und insbesondere etwa 85,0 bis 96,5 Gewichts-^ einea chlorierten organischen Lösungsmittels. Beispiele für die verschiedenen Lösungsmittel, die für diesen Zweck geeignet sind, sind Methylenchlorid, Chloroform, Monochlorbenzol und Ortho da eh. T-or benzol. Zwar können die vorstehend genannten Lösungsmittel in Mischung miteinander und andere chlorierte Lösungsmittel an ihrer Stelle oder in Verbindung damit verwendet werden, vorzugsweise wird Jedoch Methylenchlorid als einziges chloriertes organisches Lösungsmittel oder wenigstens als überwiegender Anteil einer Mischung solcher Lösungsmittel eingesetzt. Beispielsweise wurde gefunden, daß durch Methylenchlorid die ™ Flammpunkte leichter entflammbarer Lösungsmittel, die in Verbindung damit verwendet werden können, sehr wirksam erhöht v/erden können. Im allgemeinen ist die Reinigungswirkung der organischen Lösungsmittel £ir die erfindungsgemäßen Zwecke dem Chlorsubstitutionsgrad und der Kettenlänge umgekehrt proportional. Aus verständlichen Gründen soll das organische Lösungsmittel keinen toxischen Rückstand auf der Oberfläche des zu reinigenden Geräte hinterlassen und soll nicht brennbar sein oder wenigstens einen genügend hohen Flammpunkt haben, so daß die Wahrscheinlichkeit von Explosionen auf ein Minimum eingeschränkt wird. Methylenohlorid hat in dieser Hinsicht vorteilhafte Eigenschaften.

Der zweite wesentliche Bestandteil der für die erfindungsgemäßen Zwecke verwendeten Lösungen ist eine organische Säure oder ein Amin als Aktivator für das chlorierte Lösungsmittel. Der Aktivator wird in einer Menge von etwa 0,1 bis 40,0 $, vorzugsweise etwa 0,4 bis 7,0 # und insbesondere etwa 1,0 bis 2,5 $, bezogen auf das Gesamtgewicht der Lösung, verwendet. Es wird angenommen, daß solche

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Aktivatoren das Vordringen des Lösungsmittels durch den unerwünschten Rückstand erleichtern und dadurch seine Wirkung Verstärken. Die wirksamsten Aktivatoren sind die organischen Säuren, von denen Ameisensäure bevorzugt wird. Beispiele für Säuren, die außer Ameisensäure verwendet werden können, sind Essigsäure, Trichloressigsäure, Adipinsäure, Benzoesäure, Zitronensäure, Apfelsäure, Salicylsäure, Gerbsäure, Weinsäure, Fumarsäure, Gluconsäure, Propionsäure, Buttersäure, Zimtsäure-und Gemische daraus. Beispiele für die am besten geeigneten Amine sind Methylamin, Monoäthanolamin, Cyclohexylamin, Propylendiamin und Ä'thylendiamin. Brauchbare, aber weniger befriedigende Amine sind beispielsweise Isopropanolamin, Triäthanolamin, Diphenylamin, Pyridin und Diäthanolamin. Ein Nachteil, der bei Verwendung · der Amine auftreten kann, ist ihre Neigung zur Umsetzung mit Formaldehyd, der durch Hydrolyse ναι Methylenchlorid entstehen kann.· Es ist zu beachten, daß die organische Säure oder das Amin keinen toxischen Rückstand hinterlassen und in lösung beständig sein sollen. Von den verschiedenen Aktivatoren wird Ameisensäure bevorzugt.

Außer den vorstehend genannten Bestandteilen sind in den bevorzugten Lösungen verhältnismäßig kleine Mengen eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels enthalten. Seine Menge beträgt etwa 0,1 bis 5,0 und vorzugsweise etwa 0,5 bis 1,5 Gewichts-^, bezogen auf das Gewicht der gesamten Lösung. Beispiele dafür sind die langkettigen polaren Verbindungen wie Octylphenoxypolyäthoxyäthanol, die Alkalimetallsalze von Alkylarylpolyäthersulfaten und Triäthanolaminlaurylsulfat, Fluorkohlenstoffverbindungen wie 9-Hydroperfluornonansäure, Silicone wie Siliconfette und -öle und verschiedene andere bekannte im Handel erhältliche oberflächenaktive Mittel.

Zusätzlich zu dem chlorierten Lösungsmittel können bia

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zu 10,0 io und vorzugsweise etwa 1 ,0 bis 5»0 $ eines polaren organischen Lösungsmittels, bezogen auf das Gewicht der Lösung, verwendet werden. Geeignet 3ind Stoffe wie Methanol, Äthanol, Dimethylsulfoxid und dergleichen, die als "Cosolventien" für die chlorierten organischen Lösungsmittel bekannt sind, es wird jedoch darauf hingewiesen, daß diese Verbindungen, wenn sie in den bevorzugten Mengen vorhanden sind, offenbar mehr als Aktivatoren als als Cosolventien wirken.

In der Lösung gelöstes Wasser hat einen günstigen Einfluß auf deren Reinigungswirkung, und es ist deshalb vorteilhaft, fc Wasser in einer Menge bis zur Löslichkeitsgrenze zuzusetzen. Beispielsweise können etwa 1,0 bis 6,0 $ Wasser in Methylenchlorid bei Raumtemperatur gelöst werden, während bei anderen Temperaturen oder anderen Lösungs-' mitteln bis zu etwa 10,0 tfo Wasser mit Vorteil für'die Reinigung swirkung eingesetzt werden können.

Schließlich wird darauf hingewiesen, daß auch weitere Zusätze, zum Beispiel Verdickungsmittel, dampfdrucksenkende Mittel, Wachse, wasserlösliche oberflächenaktive Mittel und dergleichen zur Abänderung der Eigenschaften oder der Wirkungsweise der Reinigungslösungen zugesetzt werden können.

In vielen Fällen, beispielsweise wenn Methylenchlorid als chloriertes organisches Lösungsmittel verwendet wird, haben die Lösungen einen hohen Dampfdruck und zeigen daher bei den Betriebstemperaturen eine starke Neigung zum Verdampfen. Daraus ergeben sich häufig ernsthafte Schwierigkeiten, besonders bei einem Lösungsmittel wie Methylenchlorid, das schädliche Dämpfe bildet und zweckmäßig bei

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einer Temperatur angewandt wird, die in der Nähe seines Siedepunkts liegt. Zwar können durch Verdampfung bedingte Schwierigkeiten durch Zusatz von dampfdrucksenkenden Mitteln in den Lösungen gemindert werden,ein solches Vorgeben ist jedoch aus wirtschaftlichen und technischen Gründen häufig unerwünscht. Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es deshalb am zweckmäßigsten, in Kombination mit der organischen Lösung Wasser in einer Menge zu verwenden, die größer als die in der Lösung lösliche Menge ist, worauf bereits hingewiesen wurde.

Gemäß der vorteilhaftesten Arbeitsweise wird der organischen Lösung Wasser in einer Menge zugesetzt, die zur Bildung eines Zweiphasenbades mit einer Wassersobiobt über der Lösung, welche im Ideälfall eine Dicke von wenigstens 13 mm (i/2") hat, ausreicht. Reinigungsbäder dieser Art sind nicht nur im Hinblick darauf günstig, daß das erzeugte Volumen an schädlichen Dämpfen 3tark vermindert wird, sondern auch wegen des vorteilhaften Einflusses des gelösten Wassers auf die Reinigungswirkung. Da in 100 g Methylenchlorid bei Raumtemperatur etwa 6 g Wasser löslich sind, sollen die wässrigen Zusammensetzungen mehr als etwa 10,0 Gewichts-?« Wasser enthalten, damit sich die gewünschte eigene wässrige Phase bildet. Es ist zu beachten, daß zwar mit großen Kengen Wasser ein besserer Schutz gegen Verdampfung erzielt wird, daß es aber ungünstig ist, wenn sich zuviel Aktivator in der wässrigen Phase löst. Aus diesem Grund und -um ein allzu großes Flüssigkeitsvolumen zu vermeiden, soll die Wassermenge verhältnismäßig klein gehalten werden. Deshalb bilden etwa 50 $> und vorzugsweise etwa 30 i° eine praktische obere Grenze für das Wasser zur Erzeugung des 3ads, wobei in allen

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Fällen die Wassermenge auf das Gewicht der nichtwässrigen Bestandteile der Lösungsmittellösung "bezogen sind.

Wie "bereits angegeben wurde, wird zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zunächst eine Lösung der oben genannten Bestandteile hergestellt und dann auf die Oberfläche der Geräte &ufgebracht, auf denen sich der unerwünschte Rückstand befindet. Der Auftrag der Reinigungszubereitung kann nach jeder geeigneten Methode erfolgen, beispielsweise durch Sprühen, Bürsten, Tauchen und dergleichen, am zweckmäßigsten wird jedoch der zu reinigende Gegenstand in ein Zweiphacenbad eingetaucht, das aus der Lösung und einer darauf befindlichen Wasserschiebt be- ψ steht.

Die chlorierte organische Lösung wird zwar hierin als ^llLösungsmittel"-Lösung bezeichnet, dieser Begriff ist jedoch nicht so zu verstehen, daß die Lösung vollkommen ala Lösungsmittel für den liahrungsmittelrückstand wirkt. Es wird angenommen, daß der Rückstand gewöhnlich nicht vollständig gelöst wird, sondern lediglich durch Auflösung nur eines Teils des Rückstands von der Oberfläche des Geräts abgelöst wird. Es ist deshalb am zweckmäßigsten, das Verfahren mit einer Spülstufe abzuschließen. Am zweckmäßigsten wird das Spülen so durchgeführt, daß ein Strom aus heißem oder warmem Wasser gegen die bebandelte Ober-" fläche gerichtet wird, um jedes noch vorhandene Material abzuwaschen. Dann wird daa Gerät von selbst trocknen gelassen oder zwangsgetrocknet, wodurch eine saubere Oberf]äche erhalten wird, auf der sich keine unerwünschten Rückstände oder Nebenprodukte befinden.

Ein maximaler \ϊirkungsgrad wird erzielt, wenn zwischen, dem zu reinigenden Gerät und der Reinigungslösung eine . relative Bewegung erzeugt wird. Eine solche Bewegung kann in jeder geeigneten V/eise hervorgerufen werden, beispiels-

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BAD OBtGINAL

weise durch Bewegung des Gegenstands oder durch Rühren der Flüssigkeit, wenn aber eine eigene Wasserphase vorliegt, ist es am beaten, so vorzugehen, daß die Phasengrenzfläche nicht übermäßig gestört wird. Besonders vorteilhaft ist eine Betriebsweise, bei der die relative Bewegung durch Ultraschall erzeugt wird, da dadurch die Reinigungswirkung bei minimaler Verteilung und Unterbrechung der Wasserschicht stark verbessert wird.

Die erforderliche Kontaktdauer hängt weitgehend von der Temperatur ab, bei der die Lösung benutzt wird. Im allgemeinen ist ein. Betrieb bei jeder Temperatur zwischen Umgebungstemperaturen und einer etwas unter dem Siedepunkt der Lösung liegenden Temperatur geeignet, und die Kontaktdauer liegt unter solchen Bedingungen gewöhnlich in einem Bereich von etwa 1-15 Minuten. Wenn die Ablagerung besonders zäh ist, kann eine Kontaktdauer von etwas mehr als 15 Minuten erforderlich sein, während für geringe Ablagerungen oder wenn die Lösung verhältnismäßig heiß ist, Zeiten von weniger als 1 Minute genügen können. Im optimalen Fall sind die Betriebsbedingungen so gewählt, daß ein. Gleichgewicht zwischen der für eine angemessene Reinigung erforderlichen Zeit und den Temperaturen, bei denen der Betrieb am einfachsten und sichersten ist, erzielt wird.

Es ist ein. besonders überraschender Vorteil der Erfindung, daß durch ihre Anwendung Geräte, die mit Harztrennschichten versehen sind, gründlich gereinigt werden können, ohne daß das Überzugsmaterial entfernt oder ernsthaft beschädigt wird. Dadurch kann von den. Vorteilen der Trennüberzüge ohne die Schwierigkeiten und den Aufwand Gebrauch gemacht werden, die mit wiederholtem Auftrag von frischem Harz verbunden sind. Da der Überzug nicht gelöst wird,

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wird ferner die Gebrauchsdauer der Reinigungsmischung verringert, da sie nicht durch das Überzug3harz verunreinigt wird. Die gebräuchlichsten Harze, die als Trennüberzug oder -schicht auf Kochgeräte aufgebracht werden, sind die Siliconpolymeren oder genauer die gehärteten Siloxanharze, aber auch andere Polymere, zum Beispiel Tetrafluoräthylenharze werden für diesen Zweck verwendet. Ein beispielhaftes tiberzugsmaterial ist das Siliconharz, das von der Dow Corning Corporation unter dem Warenzeichen PAN GLAZE auf den Markt gebracht wird.

S3 wird darauf hingewiesen, daß der Begriff "Gerät" oder "Kochgerät", wie er hierin verwendet wird, Töpfe, Pfannen, Backbleche, Roste und dergleichen umfaßt. Ferner gehören dazu Produkte mit Schichtaufbau, zum Beispiel Kombinationen aus einer Metallfolie und einem (unlöslichen) Kunststoff und Geräte mit Keramiküberzügen.

Durch die folgenden Beispiele wird die Erfindung näher erläutert. Angaben über Teile und Prozentsätze beziehen sich auf da3 Gewicht, wenn nichts anderes angegeben ist.

Beispiel 1

Eine Reihe von Zubereitungen wird unter Verwendung von etwa 180 Teilen Methylenchlorid, etwa 2,0 Teilen anionischem öllöslichem oberflächenaktivem Triäthanolaminlaurylsulfat (von der Onyx Chemical Co. unter dem Warenzeichen MAPROi¹IX TLS im Handel erhältlich) und verschiedenen Mengen einer 85 $-igen wässrigen Ameisensäurelösung hergestellt. Da Ameisensäure sowohl in Wasser als auch in Methylenchlorid löslich ist, wird nur ein Teil der zugesetzten Gesamtmenge

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in der organischen Phase gelöst. In der folgenden Tabelle sind die zugesetzten Mengen an 85 $-iger Ameisensäure und die ungefähren Gewichtsmengen und Prozentsätze an Ameisensäure, die in der organischen Phase gefunden werden_f angegeben.

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T a b e ] 1 e

zugesetzte Gewichts« Ameisensäure Prozentmenge menge an 85 $-iger Gewichtsmenge j η in der oi'gani· Lösung (Teile) der organ. Phase sehen Phase

1,18 2,18 3,18 -5,0

6,5 7,0 8,0

10,0 20,0

0,73 1,35 1,97 3,1 4,0 4,33 4,94 6,18 12,4

0,4

0,75

1,08

1,09

2,17

2,35

2,7

3,3

6,4 5

Die wässrige und organische Phase v/erden voneinander getrennt, und die organische Phase wird hei Raumtemperatur als Reinigungsbad verwendet. Backformen, die mit einem handelsüblichen Si]oxanüberzug beschichtet sind und auf ihrer Innenseite einen Rückstand aufweisen, der von darin gebackenem Brot stammt, werden in ,jede der

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BAD ORIGINAL

verschiedenen Zubereitungen eingetaucht und etwa 5 15 Minuten lang darin bewegt, bis offenbar äquivalente Reinigungsgrade erreicht sind. Dann werden sie aus den Bädern herausgenommen und mit einem Strom heißen Wassers unter Druck gespült. In jedem Pail wird der Rückstand vollständig entfernt und der Siloxanübersug bleibt unversehrt. Nach dem Trocknen läßt sich kein Uebenproduktfilm oder anderer Rückstand nachweisen. Der Reinigungsgrad steigt merklich an, wenn die Ameisensäuremenge in dem Bad auf etwa .4,33 Teile, d. h. etwa 2,35 %, zunimmt. Bei höheren Konzentrationen wird keine wesentliche Zunahme mehr beobachtet.

Beispiel 2

Die Arbeitsweise von Beispiel 1 wird unter Verwendung des mit 7,0 Teilen Ameisensäure hergestellten Bades wiederholt, es wird jedoch V/asser in einer Menge zugesetzt, die zur Bildung einer wässrigen Schicht mit einer Dicke von etwa 13 mm (1/2") über der organischen" Phase nach Einstellung des Phasengleichgewichts ausreicht. Eine verkrustete Backpfanne wird darin etwa 5 Minuten lang gelinde bewegt und dann mit V/asser gespült und getrocknet. Die erzielten Ergebnisse and denen von Beispiel 1 vergleichbar, über dem Bad werden jedoch erheblich weniger Dämpfe nachgewiesen und die unmittelbare Umgebung ist für das Betriebspersonal wesentlich angenehmer.

Beispiel

Die Arbeitsweise von Beispiel 2 wird mehrfach wiederholt, das Rühren wird" jedoch dabei durch Ultraschall bewirkt, Die

-U-

Aufenthaltszeit in dem Bad, die zur Erzielung einer sauberen Pfanne erforderlich ist, wird beträchtlich vermindert.

Weitere Beispiele

Außer den vorstehend beschriebenen Bädern werden zahlreiche weitere Bäder unter Verwendung anderer chlorierter organischer Lösungsmittel, anderer Aktivatoren und anderer fc oberflächenaktiver Mittel bereitet, die weitere Additive, besonders etwa 0,5 $ eines Ozokeritwachses zur Verzögerung der Verdampfung und etwa 2,6 9^ Methylalkohol als Cosolvens oder Aktivator enthalten.

Die chlorierten Lösungsmittel, mit denen die besten Ergebnisse erzielt werden, sind Chloroform, Monochlorbenzol und Orthochlorbenzol. Saure Äktivatoren, die anstelle von Ameisensäure mit vergleichbaren oder zumindest guten Ergebnissen verwendet werden können, sind Eisessig, Trichloressigsäure, Adipinsäure, Benzoesäure, Zitronensäure, Äpfelsäure, Salicylsäure, Gerbsäure, Weinsäure, Fumarsäure und Gluconsäure. Geeignete Amine, die stattdessen verwendet ψ werden können, sind Methylamin, Monoäthanolamin, Gyclohexylamin, Propylendiamin und Äthylendiamin.

Die wirksamsten oberflächenaktiven Mittel, die anstelle des in den vorstehenden Beispielen angegebenen Sulfatderivats verwendet werden können, sind Octylphenoxypolyäthoxyäthanol, Natriumsalze von Alkylarylpolyäthersulfaten (TRITON X-100 bzw. TRITON X-301, - Rohm & Haas Go.) und ?luorchemikalien, die von der 3M Company unter den Handelsbezeichnungen FC-95, FC-98, FCD-1874 (9-Hydroperfluorononansäure und C9-P (ein Fluoralkohol)) in den Handel gebracht werden.

Daraus ist zu ersehen, daß durch die Erfindung ein Verfahren zur einfachen und wirksamen Entfernung der Rückstände geschaffen wird, die auf Geräten, die Kur Zubereitung von Nahrungsmitteln bei erhöhten Temperaturen verwendet werden, entstehen. Das erfindungsgemüße Verfahren ermöglicht die selektive Entfernung solcher Rückstände voii Geräten irii t einem Bi J oxanhariäibersug auf ihrer Oberfläche, ohne daß das Uherzugsmaterial merklich geschädigt wird, und ist sicher, da es keine toxischen Rückstände oder Nebenprodukte hinterläßt.

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BAD ORIGINAl,

Claims

Patentansprüche

Verfahren zur Entfernung von Rückständen von Nahrungsmitteln von Metallgeräten, die zu deren Zubereitung bei erhöhter Temperatur verwendet werden, dadurch gekennzeichnet, daß man

A. eine Reinigungslösung bereitet, die etwa 0,1 bis 40,0 Gewichts-^ einer organischen Säure oder eines Amins als Reinigungsaktivator in 99»9 bis 60,0 Gewichts-$ eines chlorierten organischen Lösungsmittels enthält;

B. die Lösung auf die Oberfläche von Metallgeräten aufbringt, auf denen sich ein Rückstand befindet, der von der Zubereitung von Nahrungsmitteln bei erhöhten Temperaturen stammt, und

C. die Lösung mit der Oberfläche während einer Zeit und bei einer Temperatur in Berührung hält, die zur Ablösung wenigstens eines Teils des Rückstands von der Oberfläche ausreichen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die außerdem etwa 0,1 bis 5,0 Gewichts-^ eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man der Lösung Wasser in einer Menge zusetzt, die zur Bildung einer Zweiphasenmischung mit einer die Verdampfung des Lösungsmittels einschränkenden Wasserschicht über

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der Lösung ausreicht.
4. Verfahren, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man zwischen der Lösung und der Oberfläche wenigstens während eines !Teils der Zeitdauer, während der die Oberfläche und die Lösung miteinander in Berührung stehen, eine relative Bewegung erzeugt.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man die relative Bewegung durch Ultraschall erzeugt.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man an Stufe C eine Spülstufe anschließt, bei der ein Wasserstrom gegen die Oberfläche gerichtet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Kontaktdauer von etwa 1 bis 15 Minuten und eine Temperatur im Bereich von etwa Umgebungstemperatur bis zu einer etwas unter dem Siedepunkt der Lösung liegenden Temperatur anwendet.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als chloriertes organisches Lösungsmittel Chloroform, Monochlorbenzol oder Orthodichlorbenzol und als Aktivator Eisessig, Trichloressigsäure, Adipinsäure, Benzoesäure, Zitronensäure, Apfelsäure,

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Salicylsäure, Gerbsäure, Weinsäure, Fumarsäure oder Gluconsäure verwendet und "bis zu etwa 10,0 Gewichte-^ eines alkoholischen Cosolvens in der Lösung anwendet.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als organisches Lösungsmittel Methylenchlorid und als sauren Aktivator Ameisensäure verwendet.
10.■Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man es auf metallische Backpfannen oder ähnliche Geräte mit einem Siloxanharzüberzug, der nach Durchführung sämtlicher Stufen praktisch unversehrt ist, anwendet.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß man

A. eine Reinigungslösung bereitet, die etwa 0,4 bis 7,0 Gewichts-^ einer organischen Säure oder eines Amins als Reinigungsaktivator, etwa 0,1 bis 5,0 Gewichts-% eines öllöslichen oberflächenaktiven Mittels und etwa 99,5 bis 70,0 Gewichts-% Methylenchlorid,

fc Chloroform, Monochlorbenzol oder Ortbodichlorbenzol

enthält;

B. die Lösung auf die Oberfläche von Metallgeräten aufbringt, auf denen sich ein Rückstand befindet, der von der Zubereitung von Nahrungsmitteln bei erhöhter Temperatur stammt;

C. die Lösung mit der Oberfläche während einer Zeitdauer und bei einer Temperatur in Berührung hält, die zur

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Ablösung wenigstens eines Teils des Rückstands von der Oberfläche ausreichen;

D. wenigstens während eines Teils der Berührungsdauer zwischen der Lösung und der Oberfläche eine relative Bewegung erzeugt und

E. die Oberfläche anschließend zur Entfernung der Lösung und des Rückstands von der Oberfläche mit Wasser spült.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß man der Lösung Wasser in. einer Menge zusetzt, die zur Bildung einer Zweiphasenmischung mit einer wenigstens etwa 13 mm(i/2") dicken Wasserschicht auf der Lösung ausreicht, und eine Berührungsdauer von etwa 1 bis 15 Minuten und eine Temperatur im Bereich von etwa Umgebungstemperatur bis zu einer etwas unter dem Siedepunkt der.Lösung liegen-an Temperatur anwendet.
13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß man als Aktivator Ameisensäure und als chloriertes organisches Lösungsmittel Methylenchlorid verwendet und eine Backpfanne oder ein ähnliches Gerät reinigt, dessen Oberfläche mit einem Harzüberzug versehen ist, der nach der Spülstufe praktisch unversehrt ist.

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