DE3612733C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein interferometrisches Gerät gemäß Oberbegriff
des Patentanspruchs 1.
Aus der DE 29 10 945 A1 ist ein derartiges Gerät entnehmbar, dessen interferometrische
Einrichtung auch ein Filter für UV-Bestrahlung enthält.
Aus der DE 26 04 471 A1 ist es bekannt, zwei Wollaston-Prismen
einzusetzen, jedoch nur als Strahlenteiler. Der Polarisator und
der Analysator sind dabei von den Prismen getrennte Elemente.
Aus der US-PS 44 80 916 ist ein Interferometer zur Vermessung
optischer Oberflächen mit höchster Genauigkeit mittels polarisiertem,
monochromatischem Licht bekannt. Dabei wird zur Oberflächenvermessung
ein photoelektrischer Modulator eingesetzt.
Schließlich sind aus der DE 25 13 358 B1 und aus dem US-Buch:
Strobel, Howard A.: Chemical Instrumentation, 2. Aufl., Addison-Wesley
Publ. Comp. 1973, S. 339-343 verschiedene Anordnungen von
Gittern in Verbindung mit Ein- und Austrittsspalten bekannt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Gerät zur Bestimmung oder
analytischen Untersuchung von Gasen zu schaffen,
das hochempfindlich ist und das
außerdem ohne Schwierigkeiten mehrere Gase analysieren kann.
Zur Lösung dieser Aufgabe dienen die kennzeichnenden Merkmale
des Patentanspruchs 1 in Verbindung mit dessen Oberbegriff.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den
Unteransprüchen.
Durch einen geringen, etwa 100 nm betragenden Krümmungsradius des Gitters wird
es ermöglicht, eine hohe Durchlässigkeit von etwa 40% zu erzielen, wobei
die Grenz- oder Trennfrequenzen, sowie das Paßband dieses Systems
scharf festgelegt sind, so daß es sich durchaus zur Verwendung als
Filter eignet.
Ferner können sowohl die Trennfrequenzen, wie auch das Paßband
durch Veränderung der Breite der Spalte eingestellt werden, und dieses
Gerät gestattet es, sich auf mehrere Spektralbereiche auszurichten,
indem man entweder die Spalte unveränderlich beibehält und das Gitter
dreht, oder mehrere den gewünschten Spektralbereichen entsprechende
Spalte vorsieht und dieselben durch wahlweise Abdeckung der
verschiedenen Bereiche einsetzt.
Wie nachstehend dargelegt, kann auch ein ebenes Gitter verwendet
werden, oder allgemein gesagt, jegliche mit einem Gitter versehene
Multiplexeranordnung.
Nachstehend werden einige Ausführungsformen der Erfindung unter
Bezugnahme auf die beigefügten Figuren des Näheren beschrieben.
Fig. 1 stellt schematisch ein interferometrisches
Gerät zum Nachweisen bzw. Analysieren
von Gasen dar;
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung eines Teils des
Geräts nach Fig. 1;
Fig. 3 zeigt schematisch einen Teil einer Ausführungsform
des Geräts mit zwei Doppelbrechungsplatten zur
gleichzeitigen Untersuchung mehrerer Gase;
Fig. 4 zeigt schematisch den Ausgang
einer Ausführungsform des interferometrischen
Geräts mit einem ebenen Gitter.
Die in Fig. 1 schematisch dargestellte Ausführungsform des
interferometrischen Geräts umfaßt eine Lichtquelle S
(beispielsweise eine Jod-Quarzlampe für Wellenlängen von mehr als
280 nm, oder eine Deuteriumlampe für Wellenlängen von weniger als
280 nm), einen Lichtquellenschlitz F₀, zwei Objektive O₁ und O₂ (beispielsweise
mit einer jeweiligen Brennweite von 100 mm), deren optische
Achsen zusammenfallen und auf den Schlitz F₀ ausgerichtet sind, sowie,
zwischen diesen Objektiven angeordnet, von O₁ ausgehend in nachstehender
Reihenfolge, einen Gasbehälter C und eine interferometrische Einrichtung
I, die nachstehend des Näheren beschrieben wird, und an deren
Ausgang ein Schlitz F₁ angeordnet ist, in welchem das Bild des
Schlitzes F₀ durch das Objektiv O₁, den Behälter C, die interferometrische
Einrichtung I und das Objektiv O₂ hindurch erzeugt wird. Der
Schlitz F₁ bildet den Eingangsschlitz für ein konkaves holographisches
Gitter H mit kleinem Krümmungsradius und wirkt mit einem Ausgangsschlitz
F₂ zusammen, der vor dem empfindlichen Element eines Meßwertaufnehmers PM
angeordnet ist und unter dem Einfluß von auf ihn einfallendem Licht ein
Signal A abgibt.
Die Interferometrie-Einrichtung I umfaßt zwei gleichartige
Doppelbild-Polarisationsprismen W₁ und W₂, zwischen denen eine Doppelbrechungsplatte
L und ein photoelastischer Modulator M angeordnet sind.
Die beiden unter sich gleichartigen Doppelbild-Polarisationsprismen W₁
und W₂ können beispielsweise zwei Wollastonprismen oder zwei Rochonprismen
od. dgl. sein. Sie können z. B. aus Magnesiumfluorid bestehen,
und ihre Bauteile sind haftfähig (aber nicht geklebt). Im Ausführungsbeispiel
gemäß der Figur sind die Prismen W₁ und W₂ durch Wollastonprismen
gebildet.
Zwecks Einstellung der gewünschten Übertragungsdifferenz
(Phasenunterschied) ist die Doppelbrechungsplatte L einer Temperaturregelung
unterworfen.
Der photoelastische Modulator M besteht aus einer durch piezoelektrische
Keramik erregte SiO₂ oder CaF₂-Platte und bildet
folglich eine durch Druck regulierbare Doppelbrechungsplatte. Die
optische Achse des Modulators M ist zu derjenigen der Platte L parallel.
Fig. 2 illustriert die Arbeitsweise der die beiden Wollastonprismen
W₁ und W₂ umfassenden Interferometrie-Einrichtung I.
Das Prisma W₁ erzeugt, von einer ebenen, natürlichen Lichtwelle
ausgehend, zwei unabhängige und in zwei zueinander senkrechten Richtungen
P₁ und P₂ polarisierte Wellen. Die Achsen des photoelastischen
Modulators M und der Doppelbrechungsplatte L sind parallel zueinander
und bilden Winkel von 45° mit P₁ und P₂, so daß sie zwei zueinander
parallele Polarisationswellenpaare (V₁, V′₁) und (V₂, V′₂) erzeugen. Die Wellen
eines jeden Wellenpaares sind kohärent, um Φ phasenverschoben und
zueinander senkrecht polarisiert (unter 45° in bezug auf P₁ oder P₂).
Das Prisma W₂ erzeugt für jedes vorangehende Wellenpaar zwei neue
Wellenpaare (A₁, A′₁), (A₂, A′₂) mit zwei parallelen und parallel polarisierten Wellen.
Somit treten am Ausgang die Paare 1, 2, 3 und 4 auf. Zwischen den
beiden Wellen liegt Interferenz vor und sie werden durch das Objektiv O₂
im Punkt 1 mit einer zu (1+cos Φ) proportionellen Lichtstärke gesammelt.
Die beiden Wellen 4 werden desgleichen mit einer zu (1+cos Φ) proportionellen
Lichtstärke im Punkt 4 gesammelt. Die Wellenpaare 2 und 3 sind
parallel und werden mit einer zu 2 (1-cos Φ) proportionellen Lichtstärke
im Brennpunkt von O₂ gesammelt.
Zwecks Auswertung muß einer der Sammelpunkte isoliert werden;
vorzugsweise wird hierbei der Brennpunkt des Objektivs O₂ gewählt, da
dort das Bild eine Lichtstärke besitzt, die doppelt so groß ist wie
diejenige der beiden anderen Bilder. Dies wird durch eine geeignete
Anordnung des Schlitzes F₁ erzielt (s. Fig. 1).
Wie ersichtlich, ist das oben beschriebene Gerät für die gleichzeitige
Untersuchung mehrerer Gase verwendbar.
Hierbei müssen die verschiedenen nachzuweisenden Gase jedoch
notwendigerweise ein Absorptionsband besitzen, das in einem und demselben
Spektralbereich liegt, zum Beispiel im
Bereich von 180 bis 1000 nm, damit man ein und
dieselbe Strahlungsquelle, ein und denselben Meßwertaufnehmer und ein und dasselbe
holographische Gitter verwenden kann.
Theoretisch entspricht jeder Gas-Feinstruktur eine optimale Dicke
der Doppelbrechungsplatte; jedoch ist die zulässige Maßabweichung hier
nicht besonders eng. In der Tat erfolgt das Anwachsen der Interferenzstreifen
einer Feinstruktur mit einer Periode δσ (wobei σ die 1/λ
entsprechende Wellenzahl darstellt) bei einem Phasenunterschied von
wobei jedoch einige Dutzend Interferenzstreifen mit ausgeprägtem Kontrast
wiedererscheinen.
Bei SO₂-Gas liegen folgende Verhältnisse vor:
Δ=eΔn=100λ±10λ;
wobei e die Dicke und Δn die Doppelbrechung darstellt.
Für e beträgt die zulässige Abweichung (Toleranz) Δe=10λ/Δn;
für Δn=10-2,
λ=300 nm (ultraviolett), oder Δe=0,3 nm,
somit kann die Dicke zwischen 2,7 und 3,3 mm liegen.
für Δn=10-2,
λ=300 nm (ultraviolett), oder Δe=0,3 nm,
somit kann die Dicke zwischen 2,7 und 3,3 mm liegen.
Die Toleranz ist um so größer, je weniger das Spektrum periodisch
ist. Die Erfahrung hat gelehrt, daß man vermittels ein und derselben
Platte gleichzeitig SO₂, NO₂, NO und O₃ untersuchen kann, was bei
Umgebungsmessungen und Abgabemessungen äußerst vorteilhaft ist.
Wenn eine einzige Platte für die gleichzeitige Untersuchung
mehrerer Gase nicht hinreichend ist, können mehrere Platten geeigneter
Stärke gebündelt verwendet werden.
Beispielsweise können, wie in Fig. 3 dargestellt, zwei Platten
kombiniert werden. Die beiden Doppelbrechungsplatten L1,2 (Dicke e1,2) haben
parallele Achsen, die unter 45° zu denjenigen des photoelastischen
Modulators M geneigt sind.
Diese Anordnung ermöglicht es, gleichzeitig über eine Plattendicke
von e₁+e₂ und eine Plattendicke von e₁-e₂ zu verfügen.
Fig. 4 zeigt teilweise eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen interferometrischen
Geräts, bei dem das konkave holographische Gitter H durch
ein ebenes holographisches oder graviertes Gitter H′ ersetzt ist, welches
unmittelbar hinter dem zweiten Wollastonprisma W₂ angeordnet ist,
derart, daß die Linien dieses Gitters H′ horizontal, d. h. parallel zur
Ebene der Fig. 4 liegen. Das
Sammelobjektiv O₂ gemäß Fig. 1 und 2, das zwischen dem Prisma W₂ und
dem Schlitz F₁ angeordnet ist, wurde hier durch ein Objektiv O′₂ ersetzt,
welches dem Gitter H′ nachgeordnet ist und auf dem empfindlichen
Element des Meßwertaufnehmers PM, der ein Signal A abgibt, ein Bild F′ des Lichtquellenschlitzes F₀ erzeugt.
Wie vorstehend beschrieben, wird ein mittleres Bild mit einer
Lichtstärke erzeugt, die der doppelten Lichtstärke der beiden seitlichen
Bilder entspricht, und vorteilhafterweise wird dieses mittlere Bild
benutzt.
Claims (6)
1. Interferometrisches Gerät zur Bestimmung oder analytischen
Untersuchung von Gasen, mit einem optischen System, das ein
Bild einer Lichtquelle (S) auf dem empfindlichen Element
eines Meßwertaufnehmers durch einen das zu analysierende
Gasgemisch enthaltenden Behälter (C) hindurch erzeugt, wobei
hinter dem Behälter (C) eine interferometrische Einrichtung
(I) angeordnet ist, die eine zwischen einem Analysator
und einem Polarisator angeordnete Doppelbrechungsplatte (L)
umfaßt und mit Modulationsmitteln zusammenwirkt, dadurch
gekennzeichnet,
daß der Analysator und der Polarisator aus zwei Polarisationsprismen (W₁, W₂) bestehen, deren optische Achsen zu derjenigen des Geräts senkrecht liegen und die je zwei photometrisch gleiche, aber senkrecht zueinander polarisierte Bilder erzeugen;
daß die Modulationsmittel einen zwischen dem Analysator und dem Polarisator angeordneten photoelastischen Modulator (M) in Form einer mit piezoelektrischen Keramikmitteln schwingungserregten Platte aus SiO₂ oder CaF₂, deren Achse zu derjenigen der Doppelbrechungsplatte (L) parallel ist, aufweist, wobei das Doppelbrechungsvermögen der schwingungserregten Platte durch Druckeinwirkung veränderlich ist; und
daß eine Gitter-Multiplexereinrichtung (H, H′) vorgesehen ist, die der interferometrischen Einrichtung (I) in Durchleuchtungsrichtung nachgeordnet und dem Meßwertaufnehmer vorgeschaltet ist.
daß der Analysator und der Polarisator aus zwei Polarisationsprismen (W₁, W₂) bestehen, deren optische Achsen zu derjenigen des Geräts senkrecht liegen und die je zwei photometrisch gleiche, aber senkrecht zueinander polarisierte Bilder erzeugen;
daß die Modulationsmittel einen zwischen dem Analysator und dem Polarisator angeordneten photoelastischen Modulator (M) in Form einer mit piezoelektrischen Keramikmitteln schwingungserregten Platte aus SiO₂ oder CaF₂, deren Achse zu derjenigen der Doppelbrechungsplatte (L) parallel ist, aufweist, wobei das Doppelbrechungsvermögen der schwingungserregten Platte durch Druckeinwirkung veränderlich ist; und
daß eine Gitter-Multiplexereinrichtung (H, H′) vorgesehen ist, die der interferometrischen Einrichtung (I) in Durchleuchtungsrichtung nachgeordnet und dem Meßwertaufnehmer vorgeschaltet ist.
2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Gitter-Multiplexereinrichtung ein konkaves holographisches
Gitter (H) und einen Eingangsspalt (F₁) umfaßt, in welchem
das Bild eines der Lichtquelle (S) zugeordneten Lichtquellenspaltes
(F₀) erzeugt wird, sowie einen dem Eingangsspalt
(F1) zugeordneten Ausgangsspalt (F₂), der dem Meßwertaufnehmer
gegenüberliegt.
3. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Eingangsspalt (F₁) und der Ausgangsspalt (F₂) ortsfest angeordnet
sind, während das Gitter (H) nach Maßgabe des
gewählten Spektralbereichs drehbar ist.
4. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß dem
Eingangsspalt (F₁) mehrere Ausgangsspalte (F₂) zugeordnet
sind, die nach Maßgabe der gewünschten Spektralbereiche
wählbar sowie wahlweise abdeckbar sind.
5. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Gitter-Multiplexereinrichtung durch ein geritztes oder
holographisches, ebenes Gitter (H′) gebildet ist, welches
unmittelbar hinter dem zweiten Polarisationsprisma (W₂)
angeordnet ist und dem ein Objektiv (O′₂) zur Sammlung der
von einem der Lichtquelle (S) zugeordneten Lichtquellenspalt
(F₀) ausgehenden Strahlen auf einem dem Meßwertaufnehmer
gegenüberliegenden Ausgangsspalt (F′) nachgeordnet ist.
6. Gerät nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß neben der schwingungserregten Platte wenigstens zwei
Doppelbrechungsplatten (L₁, L₂) vorgesehen sind.
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