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Die vorliegende Erfindung betrifft eine verbesserte durchlässige
Polymermembran vom Fluortyp, die sich für die Trocknung von Gasen, die bei
der Herstellung von Halbleiterkomponenten, wie Silicium-Wafern, verwendet
werden, Gasen, die bei der Herstellung von Halbleitervorrichtungen
verwendet werden, Gasen, die für die Herstellung von neuen Gegenständen, wie
Feinkeramiken, Solarzellen und optischen Fasern verwendet werden, sowie
für die Trocknung von Quellgasen, Trägergasen und Umgebungsgasen, die bei
Verfahren des chemischen Aufdampfens (CVD) und des physikalischen
Aufdampfens (PVD) verwendet werden, die für die Bildung von dünnen
keramischen oder metallischen Filmen auf der Oberfläche von Substraten, wie
optischen Komponenten, Komponenten von Präzisionsmaschinen, allgemeinen
Maschinenkomponenten und Wärmestrahlen reflektierenden Glasteilen angewandt
werden, geeignet.
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Es sind Halbleitervorrichtungen, die hochintegrierte Schaltkreise
(nachstehend als LSI bezeichnet) und sehr hoch integrierte Schaltkreise
(nachstehend als VLSI bezeichnet) genannt werden, die das bemerkenswerte
Wachstum anführen, das nun auf dem Gebiet der Elektronik stattfindet. Bei
dem Verfahren zur Herstellung der entsprechenden Materialien und der
Herstellung dieser Vorrichtungen werden Edelgase, wie Argon und Helium,
korrosive Gase, wie Chlorwasserstoff und Chlor, sowie Spezialgase, wie
Silan, Arsin und Boran zusätzlich zu Allzweckgasen, wie Stickstoff,
verwendet. Ferner schreitet bei den Verfahren zur Herstellung von
Halbleitervorrichtungen die hohe Integration (Superminiaturisierung) rasch fort.
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Die Linien, die Miniaturmuster bilden, haben immer mehr an Breite
verloren, und als Folge davon zeigen sehr feine Staubpartikel, die bisher
zu keinen nennenswerten Problemen geführt haben, einen zunehmend
auffälligeren Einfluß auf die Ausbeute an Produkten im Verhältnis zum
wachsenden Grad der Integration der LSI vom gegenwärtig vorherrschenden Niveau
von 256 Kilobit bis 1 Megabit und weiter bis 4 Megabit.
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Für die Gase, die bei der Herstellung der vorstehend genannten
Halbleitervorrichtungen verwendet werden und insbesondere die Gase, die für
Siliciumwafer als Substrate für LSI und für die Schritte des epitaxialen
Wachstums, der Dotierung, des Ätzens und der Reinigung in den Verfahren
zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen verwendet werden, ist nun der
Punkt erreicht, an dem es erforderlich ist, daß die Gase eine Reinheit in
der Größenordnung von 99,99 % bis 99,999 % oder darüber aufweisen, und
außerdem ist es erforderlich, daß sie eine Trockenheit von nicht mehr als
1 ppm Wassergehalt besitzen und vollkommen frei von schwebenden
Staubpartikeln sind.
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Das Wasser, das in derartigen Gasen vorhanden ist, führt zu
verschiedenen Schwierigkeiten, wie sie nachstehend angegeben sind. Der
Wassergehalt muß daher genau gesteuert werden.
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(1) Das Wasser verursacht eine Korrosion von metallischen
Komponenten, wie Röhren, Ventilen und Durchflußmetern, die bei dem
Herstellungsverfahren von Halbleitern verwendet werden, und infolgedessen die Bildung
von feinen Metallverunreinigungen und feinen Partikeln (z. B. korrosive
Gase, wie HCl-Gas).
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(2) In der Heizung für die Herstellung von Halbleitern wird das
Wasser in H&sub2; und O&sub2; zersetzt, und insbesondere dieses O&sub2; führt zu
unerwarteten Oxidverunreinigungen.
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(3) Das Gas selbst und das eingefangene Wasser reagieren chemisch
unter Bildung von als Nebenprodukten gebildeten Verunreinigungen.
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(4) Die Oberfläche des Sekundärzylinders, der in der Heizung
verwendet wird, wird unter Freilegen von Graphit beschädigt.
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Die hochgradige Trocknung der vorstehend genannten Gase ist wichtig,
wenn metallische oder keramische Überzüge auf der Oberfläche von
Substraten, wie Komponenten in optischen Vorrichtungen und Komponenten von
Präzisionsmaschinen, gebildet werden. Die Reinheit von Gasen, die bei einem
CVD- oder PVD-Verfahren verwendet werden, hat einen großen Einfluß auf
den Aufbau und die physikalischen Eigenschaften der zu bildenden
Beschichtung. Die Eigenschaften, die die gebildete Beschichtung aufweist,
werden im Verhältnis besser, wenn die Reinheit des Gases erhöht wird.
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Gegenwärtig wird zum Teil das Verfahren der Adsorption unter
Verwendung eines Molekularsiebs für die Trocknung von Gasen, die bei dem
Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen eingesetzt werden,
angewandt. Das Molekularsieb ist ein Trocknungsmittel, das hinsichtlich
seiner Adsorptionsfähigkeit im Vergleich mit Phosphorpentoxid an zweiter
Stelle steht und ohne weiteres ein übliches Gas auf einen Wassergehalt
von unter 1 ppm trocknet.
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Dieses besondere Trocknungsmittel findet weite Verwendung, da es den
Vorteil hat, daß es als ein physikalisches Trocknungsmittel nicht zu
Problemen, wie Zerfließen und Quellen, führt. Es weist jedoch den Nachteil
auf, daß seine thermische Regenerierung eine erhöhte Temperatur von 200
bis 400ºC erfordert und seine wiederholte Verwendung nach der thermischen
Regenerierung mit dem Auftreten von schwebenden Staubpartikeln verbunden
ist.
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Ferner wird das Molekularsieb, wenn es einem sauren Gas, wie
Chlorwasserstoffgas, ausgesetzt wird, beeinträchtigt.
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Das Molekularsieb ist zwar in einer säurefesten Qualität verfügbar,
die Bildung von schwebenden Staubpartikeln muß jedoch verhindert werden.
Das Molekularsieb macht also unweigerlich die Anbringung eines
Staubfilters erforderlich. In diesem Fall ist das Molekularsieb nicht mehr
regenerierbar.
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Als Mittel zur Trocknung von Gasen werden Verfahren, die auf
Polymermembranen beruhen, beispielsweise im US-Patent 3 735 558 und in der
Beschreibung der japanischen Offenlegungsschrift 60 5563/1978 offenbart.
Im Gegensatz zu Adsorptionsverfahren unter Verwendung des Molekularsiebs
weisen diese Permeationsverfahren durch Membranen den Vorteil auf, daß
die Membranen für eine lange Zeit kontinuierlich verwendet werden können,
ohne irgendeine Regenerierung zu erfordern.
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Das erstgenannte Verfahren nutzt ein Polymeres, das speziell eine
Fluortyp-Sulfonatgruppe besitzt und daher selbst bei einem korrosiven Gas
eingesetzt werden kann.
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Die UK-Patentanmeldung 2 051 831 betrifft eine fluorierte
Kationenaustauschermembran, die Carbonsäuregruppen und Sulfonsäuregruppen, beide
in der Form einer speziellen hängenden Struktur, enthält, wobei die
Carbonsäuregruppen sich zu mindestens 20 % auf einer Oberfläche der Membran
befinden und allmählich hin zur Innenseite der Membran abnehmen. Die in
dieser Druckschrift offenbarte Membran wird als geeignet für die
Elektrolyse einer wäßrigen Alkalimetallhalogenidlösung beschrieben. Als
spezielle Merkmale der in dieser Druckschrift offenbarten Membran werden
hervorragende Gebrauchseigenschaften bei der Elektrolyse mit hoher
Stromausbeute und niedriger Elektrolysespannung und eine hervorragende
Stabilität unter drastischeren Bedingungen als denjenigen, die üblicherweise
angewandt werden, genannt, wobei angegeben wird, daß die hervorragenden
Gebrauchseigenschaften bei der Elektrolyse für eine lange Zeit erhalten
bleiben.
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Keines der Verfahren ist jedoch geeignet, ein Gas mit einem
Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm zu bilden, das für ein Verfahren zur
Herstellung von Halbleitern geeignet ist.
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Das Adsorptionsverfahren unter Verwendung eines Molekularsiebs in
einer einmal verwendbaren Qualität ist aufgrund der hohen laufenden
Kosten nicht praktisch. Unter diesen Umständen besteht eine hohe Erwartung
des Marktes an der Entwicklung eines Verfahrens, das geeignet ist, in
einfacher Weise ein hochgradig auf nicht mehr als 1 ppm Wassergehalt
getrocknetes Gas bei niedrigen laufenden Kosten ohne Erzeugung von
schwebenden Staubpartikeln zu bilden.
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Die vorliegende Erfindung stellt eine durchlässige Polymermembran
bereit, die aus einem Copolymer vom Fluortyp gebildet wird, das eine
durch die allgemeine Formel (I) dargestellte wiederkehrende Einheit
enthält:
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(worin m 0 oder 1 ist und n eine ganze Zahl mit einem Wert von 2 bis 5
ist), wobei die durch die folgende Formel dargestellte Beziehung zwischen
dem Wasserabsorptionsverhältnis W und der Ionenaustauschkapazität Q
erfüllt wird:
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1,20Q - 1,964 < log W < 1,20Q - 1,742
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(worin W (W&sub2;-W&sub1;)/W&sub1; ist, W&sub1; das Trockengewicht ist, W&sub2; das
Gleichgewichtsgewicht beim Eintauchen in reines Wasser bei 25ºC ist und Q die
Ionenaustauschkapazität in meq/g des trockenen Harzes in der H-Form ist).
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Fig. 1 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen der Temperatur der
thermischen Behandlung für die Trocknung und der
Gleichgewichtswasserabsorption zeigt, wobei der Graph für eine durchlässige Polymermembran
erhalten wurde, die in Beispiel 1 hergestellt wurde. Fig. 2 ist ein Graph,
der die Beziehung zwischen der Wasserabsorption (W) und der
Ionenaustauschkapazität (Q) zeigt, wobei der Graph für eine durchlässige
Polymermembran mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,8 bis 1,1 erhalten wurde,
die durch eine thermische Behandlung zur Trocknung bei einer Temperatur
von nicht weniger als 70ºC in Beispiel 1 hergestellt wurde. Fig. 3 ist
ein schematisches erläuterndes Diagramm einer Wasserabtrennvorrichtung,
in die Hohlfasern eingebaut sind, die aus einer erfindungsgemäßen
durchlässigen Polymermembranen gebildet werden. In Fig. 3 steht 1 für eine
Hohlfasermembran, 2 für einen Rohmaterial-Gaseinlaß, 3 für einen
Rohmaterial-Gasauslaß, 4 für einen Spülgas-Einlaß (für die Anlegung eines
Vakuums
zu schließen), 5 für einen Spülgas-Auslaß (der als eine
Evakuierungsöffnung für die Anlegung eines Vakuums dient), 6 für eine Zelle und 7 für
eine Trennwand. Fig. 4 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen der
Änderung der Faserlänge und der Temperatur zeigt, und Fig. 5 ist ein Graph,
der die Beziehung zwischen der höchsten Temperatur, die keine thermische
Schrumpfung beinhaltet, und der Temperatur der thermischen Behandlung
zeigt.
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Die erfindungsgemäße durchlässige Polymermembran für die hochgradige
Gastrocknung wird aus einem Copolymer von Fluortyp gebildet, das eine
wiederkehrende Einheit enthält, die durch die allgemeine Formel (I)
dargestellt wird:
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(worin m 0 oder 1 ist und n eine ganze Zahl mit einem Wert von 2 bis 5
ist), wobei die durch die folgende Formel dargestellte Beziehung zwischen
dem Wasserabsorptionsverhältnis W und der Ionenaustauschkapazität Q
erfullt wird:
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1,20Q - 1,964 < log W < 1,20Q - 1,742
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(worin W (W&sub2;-W&sub1;)/W&sub1; ist, W&sub1; das Trockengewicht ist, W&sub2; das
Gleichgewichtsgewicht beim Eintauchen in reines Wasser bei 25ºC ist und Q die
Ionenaustauschkapazität in meq/g des trockenen Harzes in der H-Form ist).
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Das vorstehend genannte Copolymer vom Fluortyp wird
zweckmäßigerweise durch Copolymerisation eines fluorierten Olefins, wie
Tetrafluorethylen, Trifluorethylen, Perfluorvinylether, Vinylidenfluorid oder
Vinylfluorid, mit einem Perfluorvinylether-Monomer, das durch die Formel:
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dargestellt wird (worin m 0 oder 1 ist und n eine ganze Zahl mit einem
Wert von 2 bis 5 ist), gebildet.
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Konkrete Beispiele für ein Copolymer, das diese Anforderungen
erfüllt, sind in US-Patent 4 329 434, US-Patent 4 329 435, US-Patent
3 909 378 und GB-A-2 051 831 angegeben.
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Die Erfinder haben festgestellt, daß von den Membranen, die von den
Copolymeren vom Fluortyp gebildet werden, die eine wiederkehrende Einheit
enthalten, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt wird,
durchlässige Polymermembranen, die die Beziehung zwischen dem
Wasserabsorptionsverhältnis W und der Ionenaustauschkapazität Q, die durch die folgende
Formel dargestellt wird:
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1,20Q - 1,964 < log W < 1,20Q - 1,742
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(worin W (W&sub2;-W&sub1;)/W&sub1; ist, W&sub1; das Trockengewicht ist, W&sub2; das
Gleichgewichtsgewicht beim Eintauchen in reines Wasser bei 25ºC ist und Q die
Ionenaustauschkapazität in meq/g des trockenen Harzes in der H-Form ist)
erfüllen, eine hervorragende Wirkung bei der gründlichen Trocknung eines
Gases zeigen.
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Die Menge an Sulfonatgruppen, die dem vorstehend genannten Copolymer
vom Fluortyp einverleibt ist, liegt zweckmäßigerweise im Bereich von 0,5
bis 2,5 meq/g des trockenen Harzes in der H-Form, ausgedrückt als
Ionenaustauschkapazität. Durch Begrenzung der Ionenaustauschkapazität des
Copolymers vom Fluortyp auf den Bereich von 0,5 bis 2,5 meq/g des trockenen
Harzes in der H-Form kann die Polymermembran in einfacher Weise ohne
merkliche Verringerung der Geschwindigkeit der Permeation von Wasserdampf
oder starke Erhöhung des Schmelzpunktes des Copolymers hergestellt
werden, und der Polymermembran kann die Fähigkeit verliehen werden, ihre
Form in stabiler Weise zu erhalten, ohne physikalische Festigkeit zu
opfern.
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Vorzugsweise fällt die Ionenaustauschkapazität in den Bereich von
0,8 bis 1,8 meq/g des trockenen Harzes in der H-Form.
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Die Membran aus dem Copolymer vom Fluortyp kann die Form einer
flachen Lage, eines Schlauches oder einer Hohlfaser aufweisen. Unter anderen
Formen der Membran erweist sich die Hohlfaser als besonders günstig, und
zwar aufgrund der großen Membranoberfläche und der hohen
Behandlungskapazität pro Einheitsvolumen.
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Um eine Trocknung bis zu einem hohen Grad zu erreichen, ist die
Luftdichtigkeit der Vorrichtung sehr wichtig. Auch in dieser Hinsicht
erweist sich die Hohlfasermembran als günstig.
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Die Dicke der Hohlfasermembran soll so gering wie möglich sein, da
die Fähigkeit der Membran, Wasserdampf durchzulassen, und ihre
Gebrauchseigenschaften mit abnehmender Dicke besser werden. Die geringste mögliche
Dicke dieser Membran wird durch Faktoren, wie die Formbarkeit und die
Druckbeständigkeitseigenschaften, festgelegt. Die Dicke der Membran
variiert
mit dem Durchmesser der Hohlfaser. Beispielsweise soll sie in den
Bereich von 40 bis 60 µm fallen, wenn die Hohlfaser einen
Innendurchmesser im Bereich von 400 bis 500 µm aufweist.
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Die erfindungsgemäße Membran wird hergestellt, indem das vorstehend
beschriebene Copolymer vom Fluortyp in die Form eines dünnen Films
gebracht wird, dann der dünne Film mit Alkali hydrolysiert wird, der
hydrolysierte dünne Film mit einer starken Säure zur Umwandlung der
endständigen Gruppen SO&sub2;F des Copolymers in SO&sub3;H behandelt wird und anschließend
das Copolymer einer thermischen Behandlung unterzogen wird.
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Die thermische Behandlung kann gegebenenfalls durchgeführt werden,
während die Stelle der Behandlung mit einem trockenen Gas, z. B.
Stickstoffgas mit einem Wassergehalt von nicht mehr als 2,5 ppm, gespült wird,
oder während die Stelle der Behandlung in einem Vakuum gehalten wird. Die
geeignete Temperatur für die thermische Behandlung liegt im Bereich von
60 bis 250ºC. Wenn die Temperatur zu hoch ist, dann besteht die
Möglichkeit, daß das Copolymer die Ionenaustauschgruppen und dementsprechend
seine Gebrauchseigenschaften verliert. Vorzugsweise liegt die Temperatur
für die thermische Behandlung im Bereich von 70 bis 200ºC.
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Durch die thermische Behandlung wird erreicht, daß das Copolymer
einer Schrumpfung um einige 10 % und einem Abfall des
Wasserabsorptionsverhältnisses unterliegt. Als Ergebnis erfüllt die gebildete Membran die
Beziehung zwischen dem Wasserabsorptionsverhältnis W und der
Ionenaustauschkapazität Q, die durch die folgende Formel dargestellt wird:
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1,20Q - 1,964 < log W < 1,20Q - 1,742
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(worin W (W&sub2;-W&sub1;)/W&sub1; ist, W&sub1; das Trockengewicht ist, W&sub2; das
Gleichgewichtsgewicht beim Eintauchen in reines Wasser bei 25ºC ist und Q die
Ionenaustauschkapazität in meq/g des trockenen Harzes in der H-Form ist).
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Die Membran, die sich bei der thermischen Behandlung ergibt,
trocknet ein Gas auf ein Niveau von nicht mehr als 5 ppm Wassergehalt und
weiter auf ein Niveau von nicht mehr als 1 ppm Wassergehalt. In diesem Sinne
ist es logisch, zu schließen, daß die Membran, die durch die thermische
Behandlung des vorstehend genannten Copolymers erhalten wird, imstande
ist, ein Gas bis auf ein Endniveau zu trocknen, an das bei der üblichen
Kenntnis von herkömmlichen Membranen nicht gedacht werden konnte.
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Das zu trocknende Gas kann einer beliebigen Seite der Membran des
Copolymers vom Fluortyp zugeffihrt werden. Indem die andere Seite der
Membran von einem trockenen Spülgas mit einem geringeren Wassergehalt
überstrichen wird oder indem der Druck mit einer Vakuumpumpe verringert wird,
wird die Partialdruckdifferenz, die die treibende Kraft für die
Membranpermeation ist, erzeugt, und die beabsichtigte Trocknung wird
durchgeführt.
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Das trockene Spülgas mit einem geringeren Wassergehalt wird
zugeführt, um dem behandelten Gas das enthaltene Wasser über die Membran
hinweg zu entziehen, und daher ist es günstig, wenn es sich um ein Inertgas
handelt, dessen Reaktivität bei erhöhten Temperaturen so gering wie
möglich ist. Der Ausdruck "Vakuum", der hier verwendet wird, bedeutet einen
Druck, der geringer als atmosphärischer Druck ist, wobei er jedoch mit
dem Druck des zuzuführenden Gases variiert.
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Die erfindungsgemäße Membran wird durch eine thermische Behandlung
hergestellt. Im Fall einer flachen Membran kann die Frage, ob die Membran
durch eine thermische Behandlung hergestellt worden ist, ohne weiteres
beantwortet werden, indem die Membran auf ihr Wasserabsorptionsverhältnis
untersucht wird.
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Im Fall einer Membran in der Form einer dünnen Hohlfaser kann die
Entscheidung, da das Wasserabsorptionsverhältnis nicht leicht gemessen
werden kann, getroffen werden, indem die Membran auf die Temperatur für
den Beginn der thermischen Schrumpfung untersucht wird, wie es
nachstehend beschrieben wird.
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Eine Probe der Hohlfasermembran mit einem leichten Gewicht (schwer
genug, um die Faser geradezuziehen, jedoch nicht schwer genug, um die
Faser zu strecken), das vom unteren Ende herabhängt, wird in einen
Luftbehälter gehangen. Die Temperatur des Luftbehälters wird allmählich erhöht,
und die Veränderung der Länge der Faser wird mit einem Ablesemikroskop
gemessen. Typische Ergebnisse dieser Messung sind in einem Graphen in
Fig. 6 gezeigt, wobei die horizontale Achse der Temperaturmaßstab und die
vertikale Achse der Maßstab der Faserlänge ist. In dem Graphen bezeichnet
L&sub2;&sub5; die Länge bei 25ºC und Lt die Länge bei einer Temperatur von tºC. Mit
Bezug auf Fig. 6 wird die Temperatur, die durch den Pfeil angezeigt ist,
d. h. die höchste Temperatur, bei der keine Änderung der Länge durch
Erhöhung der Temperatur hervorgerufen wird, als die "höchste Temperatur,
die keine thermische Schrumpfung beinhaltet", bezeichnet. Einige Proben
von Hohlfasermembranen, die bei verschiedenen Temperaturen der
thermischen Behandlung (t) erhalten wurden, wurden auf ihre "höchsten
Temperaturen (T), die keine thermische Schrumpfung beinhalten", untersucht. Die
Ergebnisse sind in Fig. 7 gezeigt. Der Graph zeigt die folgende
Beziehung:
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T = t (1)
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Die Temperatur der thermischen Behandlung (t) einer gegebenen
Hohlfasermembran kann also durch Messung der höchsten Temperatur (T), die
keine thermische Schrumpfung beinhaltet, festgestellt werden.
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Bei dem unter Verwendung der erfindungsgemäßen Membran zu
trocknenden Gas handelt es im allgemeinen um ein Gas, das in Bomben vertrieben
wird. Dieses Gas hat keinen besonders hohen Wasserdampfgehalt. Der
Wasserdampfgehalt des in der Bombe enthaltenden Gases liegt im allgemeinen
im Bereich von mehreren ppm bis einigen 10 ppm. Gelegentlich übersteigt
der Wasserdampfgehalt 100 ppm. Abhängig vom Wasserdampfgehalt eines
gegebenen Gases können die Oberfläche der Membran in der
Wasserabtrennvorrichtung oder die Anzahl der Membranen, die in der Vorrichtung verwendet
werden, in geeigneter Weise variiert werden, um eine Trocknung bis zu
einem gewünschten Grad zu erreichen.
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Zu den Gasen, die unter Verwendung der erfindungsgemäßen Membran zur
Trocknung eines Gases getrocknet werden können, gehört ein epitaxiales
Gas. Konkrete Beispiele für das epitaxiale Gas umfassen HCl, PH&sub3;, B&sub2;H&sub6;,
SiCl&sub4;, SiH&sub2;Cl&sub2;, SiHCl&sub3;, SiH&sub4;, Si&sub2;H&sub6;, SiI&sub4;, SiI&sub2;, SiF&sub4;, SnCl&sub4;, SbCl&sub5;,
GeH&sub4;, GeCl&sub4;, GeI&sub4;, GeI&sub2;, TeH&sub2;, BBr&sub3;, BCl&sub3;, PCl&sub3;, AlCl&sub3;, AsCl&sub3;, (CH&sub3;)&sub3;Al,
(C&sub2;H&sub5;)&sub3;Al, (CH&sub3;)&sub3;Sb, (C&sub2;H&sub5;)&sub3;Sb, (CH&sub3;)&sub3;Ga, (C&sub2;H&sub5;)&sub3;Ga, (CH&sub3;)&sub3;As, (C&sub2;H&sub5;)&sub3;As,
(CH&sub3;)&sub2;Hg, (C&sub2;H&sub5;)&sub3;Hg, (CH&sub3;)&sub3;P und (C&sub2;H&sub5;)&sub3;P sowie Gemische davon. Unter den
epitaxialen Gasen, die vorstehend aufgelistet wurden, werden
Chlorwasserstoffgas, Phosphingas, Diborangas, Tetrachlorsilangas, Trichlorsilangas,
Dichlorsilangas und Gemische davon häufig verwendet.
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Die Wirkungen der vorliegenden Erfindung können wie folgt
zusammengefaßt werden.
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(1) Die erfindungsgemäße durchlässige Polymermembran kann ein Gas
genugend trocknen und diese Fähigkeit zur Trocknung in intakter Form für
eine lange Zeit behalten.
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(2) Die Trocknung des Gases verläuft ohne die Erzeugung
irgendwelchen schwebenden Staubes.
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(3) Die Membran ist beständig gegenüber Korrosion durch ein saures
Gas, wie Chlorwasserstoffgas.
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(4) Im Gegensatz zu einem Molekularsieb, das für die Adsorption
verwendet wird, kann die Membran kontinuierlich für eine lange Zeit
verwendet werden, ohne irgendeine Regenerierung zu erfordern.
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(5) Verschiedene Gase, wie das Gas für das Verfahren zur Herstellung
von Halbleiter-Bauelementen, das Gas, das für das Verfahren zur
Herstellung
von Halbleitervorrichtungen verwendet wird, und das Gas, das für das
Verfahren zur Herstellung von neuen Komponenten verwendet wird, können
durch die erfindungsgemäße Membran genügend getrocknet werden. Wenn die
so getrockneten Gase beim Trockenätzen, der Bildung von
Oxidbeschichtungen, der Reinigung der Oberfläche von Halbleiter-Wafern und der
Innenseiten von Vorrichtungen, der Diffusion von Verunreinigungen auf Halbleiter-
Wafern oder Verbundhalbleiter-Wafern und der Bildung von Überzügen auf
Substraten verwendet werden, dann werden die Halbleiter-Wafer, die
Halbleitervorrichtungen, die Zwischenprodukte und die neuen Komponenten mit
verbesserter Qualität bei erhöhter Ausbeute erhalten.
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(6) Da Gase bis auf einen festgelegten Wassergehalt getrocknet
werden, werden Qualität und Ausbeute bei geätzten Produkten nicht durch
Alterung beeinflußt.
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(7) Da die Entfernung von Wasser durch die Membran bewirkt wird,
führen Gase, die durch die erfindungsgemäße Membran getrocknet werden,
keinen Staub mit sich. Die durch die Verwendung der so getrockneten Gase
erhaltenen Produkte zeigen Verbesserungen sowohl hinsichtlich Ausbeute
als auch hinsichtlich Qualität.
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(8) Da die transportierten Gase verringerte Wassergehalte aufweisen,
werden die fur ihre Übertragung verwendeten Rohre vor Korrosion
geschützt, und die Bildung von feinen metallischen Verunreinigungen wird
verhindert.
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(9) Da bei den metallischen Einrichtungen, wie Röhren, Ventilen und
Durchflußmetern, die bei der Handhabung der Gase verwendet werden, eine
Korrosion durch die extreme Trocknung der Gase verhindert wird, zeigt
sich bei den Vorrichtungen und Einrichtung eine starke Verlängerung der
Lebensdauer, und der Betrieb unter Verwendung der Vorrichtungen und
Einrichtungen ist weniger teuer.
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(10) Während Wasser bei der Zersetzung H&sub2; und O&sub2; bildet, verhindert
die Trocknung mit der erfindungsgemäßen Membran, daß dieses O&sub2; zu
unerwarteten Oxidverunreinigungen führt.
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(11) Die Trocknung mit der erfindungsgemäßen Membran verhindert, daß
ein Gas einer chemischen Reaktion mit Wasser unterliegt, und führt zur
gewünschten Wirkung. (Wenn Wasser, das in einem Gas verbleibt, sich
absetzt und in einen sehr engen Spalt innerhalb eines Reaktors eindringt,
dann reagiert ein Gas, wie beispielsweise SiCl&sub4; oder SiHCl&sub3;, das als
nächstes in den Reaktor eintritt, chemisch mit dem Wasser und erfüllt
daher nicht seine erwartete Funktion).
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(12) Im Fall von HCl-Gas beispielsweise erlaubt die Trocknung mit
der erfindungsgemäßen Membran eine Erhöhung der Reinheit des HCl-Gases
von 99,9 bis 99,99 % auf 99,99 bis 99,999 %. Es kann also billiges HCl-
Gas mit einer um eins geringeren Qualitätsstufe eingesetzt werden, was
eine erhebliche Verringerung der Betriebskosten erlaubt.
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(13) Die Trocknung mit der erfindungsgemäßen Membran verhindert, daß
der Schutzfilm auf dem Sekundärzylinder (einem Wafer-Träger) in der CVD-
Vorrichtung durch HCl-Gas korrodiert und der im Innern befindliche
Graphit freigelegt wird.
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Die vorliegende Erfindung wird nun ausführlicher mit Bezug auf
Arbeitsbeispiele beschrieben. In den Arbeitsbeispielen und den
Vergleichsbeispielen wurde der Wassergehalt der Gase mit einem Taupunktmeter oder
einem Feuchtigkeitsmeter gemessen. Einige Gase wurden nach der Karl
Fischer-Methode vermessen.
Beispiel 1
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Ein trockenes Harz in der H-Form mit einer Ionenaustauschkapazität
von 0,94 meq/g trockenes Harz wurde durch Copolymerisation von
Tetrafluorethylen mit
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erhalten.
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Das auf diese Weise hergestellte Harz wurde bei 250ºC in die Form
eines Films mit einer Dicke von 500 µm gebracht. Dieser Film wurde mit
einer alkalischen Alkohollösung hydrolysiert, dann einem Ionenaustausch
mit einer wäßrigen Salzsäurelösung zur Umwandlung der endständigen Gruppe
der Seitenkette in die Sulfonatform (H-Form) unterworfen und an der Luft
getrocknet. Die erhaltene Membran wurde dann unter Wärme und Vakuum
getrocknet und auf ihr Gleichgewichts-Wasserabsorptionsverhältnis bei 25ºC
untersucht (Fig. 1). Aus Fig. 1 ist ersichtlich, daß das
Wasserabsorptionsverhältnis bei der Trocknungstemperatur von etwa 70ºC oder mehr stark
abfiel und bei höheren Trocknungstemperaturen im wesentlichen konstant
blieb.
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Auf entsprechende Weise wurden durchlässige Polymermembranen mit
einer Ionenaustauschkapazität von 0,8 bis 1,1 meq/g unter Verwendung
verschiedener Arten von Monomeren, wie sie in Tabelle A angegeben sind,
hergestellt. Ihre Wasserabsorptionsverhältnisse sind ebenfalls in Tabelle A
gezeigt. Aus den Ergebnissen ist ersichtlich, daß die Beziehung zwischen
der Ionenaustauschkapazität und dem Wasserabsorptionsverhältnis der
erfindungsgemäßen Membran in den durch die Schraffur in Fig. 2 angegebenen
Bereich fällt.
Tabelle A
Polymerisiertes monomer
Ionenaustauschkapazität (meq/g trokkenes Harz in der H-Form)
Wasserabsorptionsverhältnis (%)
Wassergehalt des behandelten Gases
Bemerkungen
nicht mer als
Erfindungsgemäße Membranen
nichtweniger als 10 ppm
Nicht zur Erfindung gehörende Membranen
Beispiel 2
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Ein trockenes Harz in der H-Form mit einer Ionenaustauschkapazität
von 0,90 meq/g trockenes Harz wurde durch Copolymerisation von
Tetrafluorethylen mit
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erhalten. Mit einer Formgebungsmaschine, die mit einer Spinndüse für die
Herstellung von Hohlfasern ausgestattet war, wurde das Harz bei einer
Temperatur von 250ºC mit einer Geschwindigkeit von 88 m/m
schmelzgesponnen, wobei eine Membran in Form von Hohlfasern mit einem Innendurchmesser
von 500 µm und einer Wanddicke von 60 µm hergestellt wurde.
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Die Hohlfasern wurden mit einer alkalischen Alkohollösung
hydrolysiert und anschließend einem Ionenaustausch mit einer wäßrigen
Salzsäurelösung zur Umwandlung der endständigen Gruppe der Seitenkette in die
Sulfonatform (H-Form) unterzogen und dann an der Luft getrocknet. Ein Bündel
von 400 Hohlfasern mit einer Einheitslänge von 40 cm wurde in eine
Trennvorrichtung SUS eingesetzt, wobei die entgegengesetzten Enden mit einem
Epoxyharz in ihrer Position fixiert wurden und eine
Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Fig. 1 erläutert ist, gebildet wurde. In der
Trennvorrichtung wurde N&sub2;-Gas, das auf einen Wassergehalt von nicht mehr als 1
ppm (ein Taupunkt von -76 ºC) eingestellt und auf 5 kg/cm² G komprimiert
war, durch die Innenseiten der Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5
l/min (der Volumenstrom wird auf atmosphärischen Druck reduziert
ausgedrückt; das gleiche gilt nachstehend) geleitet.
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N&sub2;-Gas, das auf einen Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm (ein
Taupunkt von -76ºC) eingestellt war, wurde bei einem Volumenstrom von
0,75 l/min zugeführt, so daß die Außenseite der Hohlfasern überstrichen
wurde. Die Trennvorrichtung wurde in einem Bad mit konstanter Temperatur
bei 70ºC angeordnet und darin für 3 Stunden erwärmt. Anschließend wurde
die Trennvorrichtung auf Raumtemperatur gekühlt. N&sub2;-Gas, das auf einen
Wassergehalt von 31 ppm (ein Taupunkt von -52ºC) und einen Druck von 5
kg/cm² G eingestellt war, wurde durch das Innere der Hohlfasern bei einem
Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet, und N&sub2;-Gas, das auf einen Taupunkt
von nicht mehr als -76ºC (ein Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm)
eingestellt war, wurde bei einem Volumenstrom von 0,75 l/min zugefuhrt, so
daß die Außenseiten der Hohlfasern überstrichen wurden. Es wurde
festgestellt, daß der Taupunkt am N&sub2;-Gasauslaß der Trennvorrichtung nicht mehr
als -76ºC (ein Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm) betrug. Die
Trennvorrichtung wurde kontinuierlich unter den existierenden Bedingungen
betrieben. Nach 24 Stunden fortgesetztem Betrieb betrug der Taupunkt am N&sub2;-
Gasauslaß immer noch nicht mehr als -76ºC (ein Wassergehalt von nicht
mehr als 1 ppm).
-
Was das Spülgas betrifft, das außerhalb der Hohlfasern verwendet
wurde, so wurde festgestellt, daß der Taupunkt am Auslaß der
Trennvorrichtung -66ºC (ein Wassergehalt von 4,6 ppm) betrug, wenn die Messung
nach 24 Stunden fortgesetztem Betrieb erfolgte. Nach etwa 1000 Stunden
fortgesetztem Betrieb unter den gleichen Bedingungen betrug der Taupunkt
an N&sub2;-Gasauslaß immer noch nicht mehr als -76ºC (ein Wassergehalt von 1
ppm). Das Verhältnis der Menge an Wasserverlust durch das untersuchte Gas
zur Menge an Wasser, das vom Spülgas aufgenommen wurde, war im
wesentlichen konstant bei 1,2:1 innerhalb des Meßfehlerbereiches.
-
Auch die anderen erfindungsgemäßen Membranen zeigten Ergebnisse, die
denen in Beispiel 2 ähnlich waren, wie in Tabelle A gezeigt ist.
Vergleichsbeispiel 1
-
In der gleichen Vorrichtung, wie sie in Beispiel 2 verwendet wurde,
wurden das gleiche N&sub2;-Gas und das gleiche Spülgas jeweils ohne die
Vorwärmbehandlung zugeführt. Nach 44 Stunden fortgesetztem Betrieb erreichte
der Taupunkt des N&sub2;-Gases nicht mehr -60ºC (ein Wassergehalt von 10,6
ppm).
-
In Tabelle A ist auch gezeigt, daß die Membranen, die nicht zur
Erfindung gehören, Ergebnisse ähnlich denen in Vergleichsbeispiel 1 zeigen.
Beispiel 3
-
Ein Polytetrafluorethylen-Copolymer (mit einer
Ionenaustauschkapazität von 0,86 meq/g trockenes Harz in der H-Form), das eine Sulfonatgruppe
besitzt und eine wiederkehrende Einheit der folgenden chemischen Struktur
enthält:
-
wurde geformt, so daß eine Membran in Form von Hohlfasern hergestellt
wurde. Die Hohlfasern wiesen einen Innendurchmesser von 500 µm und einen
Außendurchmesser von 620 µm (eine Wanddicke von 60 µm) auf. Ein Modul
wurde durch Bündeln von 420 Hohlfasern mit einer effektiven Länge von
etwa 38 cm hergestellt, wie es in Fig. 3 erläutert ist. Zum Vergleich
wurden Hohlfasermembranen aus regenerierter Cellulose mit einem
Innendurchmesser von 150 µm und einem Außendurchmesser von 175 µm (einer
Wanddicke von 12,5 µm) hergestellt, indem man dem Verfahren von Beispiel 1
der japanischen Offenlegungsschrift 152 679/1979 folgte. Ein ähnlicher
Modul, der aufgebaut war, wie es in Fig. 3 erläutert ist, wurde durch
Bündeln dieser Hohlfasern in einer Gesamtzahl von 420 hergestellt. Diese
Hohlfasern wiesen eine effektive Länge von etwa 38 cm auf. Handelsübliche
Molekularsiebe wurden zum Vergleich verwendet.
-
Als ein Modell für die Bewertung von Ausbeute und Qualität des
Ätzens wurden fünf Silicium-Wafer verwendet. Nachdem durch die Module und
die Molekularsiebe HCl-Gas mit einem Wassergehalt von 20 ppm getreten
war, wurden die Silicium-Wafer einem Ätzen unterzogen. Die Außenseite der
Membran wurde als ein Gasauslaß 3 für den Modul verwendet, und der
Spülgasauslaß 5 wurde mit einer Vakuumpumpe verbunden. Das Innere des Moduls
wurde auf 10&supmin;² mmHg evakuiert. Auf den geätzten Silicium-Wafern wurde die
Zahl der hellen Punkte durch einen Spiegeltest gezählt und verglichen.
Die hellen Punkte sind Kratzer, die von Wasser oder feinen Teilchen
hervorgerufen werden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Aus den
Daten von Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die Wirkung des erfindungsgemäßen
Moduls durch das völlige Fehlen von hellen Punkten demonstriert werden
kann.
Tabelle 1
Wassergehalt des HCl-Gases (ppm)
Anzahl der hellen Punkte (pro Wafer)*
Kein Modul verwendet (Blindwert)
Erfindungsgemäßer Modul verwendet
Molekularsiebe verwendet
Modul mit regenerierter Cellulosemembran verwendet
* Mittelwert der Ergebnisse auf fünf Wafern.
-
Eine Hohlfasermembran aus einem Polytetrafluorethylen-Copolymer (mit
einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des trockenen Harzes in der
H-Form), das eine wiederkehrende Einheit der Formel:
-
enthielt, ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse wie die, die
vorstehend gezeigt wurden.
Beispiel 4
-
(1) Ein Polytetrafluorethylen-Copolymer (mit einer
Ionenaustauschkapazität von 0,94 meq/g des trockenen Harzes in der H-Form), das eine
Sulfonatgruppe besitzt und eine wiederkehrende Einheit der folgenden
chemischen Struktur enthält:
-
wurde geformt, so daß eine Membran in Form einer Hohlfaser (mit einem
Innendurchmesser von 500 µm und einer Wanddicke von 60 µm) hergestellt
wurde. Die Hohlfaser wurde in Stücke von 40 cm Länge geschnitten. Ein
Bündel von 400 geschnittenen Stücken der Hohlfaser wurde in ein Gehäuse
von SUS eingesetzt, wobei die entgegengesetzten Enden in ihrer Position
mit Epoxyharz fixiert wurden, wobei eine Wasserabtrennvorrichtung, wie
sie in Fig. 3 erläutert ist, hergestellt wurde. In der
Wasserabtrennvorrichtung wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt von nicht mehr
als 1 ppm und einen Druck von 5 kg/cm² G eingestellt wurde, durch das
Innere der Hohlfasern mit einem Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet.
Trockenes Stickstoffgas (Spülgas) mit einem Wassergehalt von nicht mehr
als 1 ppm wurde mit einem Volumenstrom von 0,75 l/min unter
atmosphärischem Druck zugeführt, so daß das Äußere der Hohlfasern überstrichen
wurde. Die Wasserabtrennvorrichtung wurde in ein Bad mit konstanter
Temperatur bei 70ºC gebracht und 3 Stunden vorgewärmt. Sie wurde dann auf
Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas wurde auf Chlorwasserstoffgas
umgestellt, das auf einen Wassergehalt von 50 ppm eingestellt und auf
einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert wurde. Dieses Chlorwasserstoffgas
wurde durch das Innere der Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5
l/min geleitet. Es wurde festgestellt, daß der Wassergehalt des
Chlorwasserstoffgases, der am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde,
3 ppm betrug. Der Betrieb der Jrennvorrichtung wurde unter den
existierenden Bedingungen fortgesetzt. Selbst nach 24 Stunden fortgesetztem
Betrieb betrug der Wassergehalt des Chlorwasserstoffgases immer noch 3 ppm.
-
Was das Spülgas betrifft, das zugeführt wurde, um das Äußere der
Hohlfasern zu überstreichen, so wurde festgestellt, daß der Wassergehalt,
der am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung nach 24 Stunden fortgesetztem
Betrieb gemessen wurde, 8 ppm betrug.
-
Nach etwa 1200 Stunden Betrieb, der unter den gleichen Bedingungen
fortgesetzt wurde, betrug der Wassergehalt des Chlorwasserstoffgases, der
am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde, immer noch 3 ppm.
-
(2) Eine Hohlfasermembran aus einem Polytetrafluorethylen-Copolymer
(mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des trockenen Harzes in
der H-Form), das eine wiederkehrende Einheit der folgenden chemischen
Struktur enthielt:
-
ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse wie sie vorstehend gezeigt
wurden.
Beispiele 5-6
-
Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4
verwendet wurde, wurden verschiedene Rohmaterialgase mit verschiedenen
Wassergehalten, wie es in Tabelle 2 angegeben ist, die auf den gleichen
Druck wie in Beispiel 4 eingestellt wurden, behandelt, und sie wurden
ferner unter variierenden Vakuumbedingungen mit der gleichen
Wasserabtrennvorrichtung behandelt. Die Gase, die man nach der letzten Behandlung
erhielt, wurden auf ihren Wassergehalt untersucht. Die Ergebnisse sind in
Tabelle 2 gezeigt.
Tabelle 2
Art des Gases, Wassergehalt
Volumenstrom an Gas (Vakuum)
Betriebszeit
Wassergehalt am Auslaß nach Trocknen mit Wasserabtrennvorrichtung
nicht mehr als 1 ppm
Beispiel 7
-
(1) In der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4
(1) hergestellt wurde, wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt
von nicht mehr als 1 ppm und einen Druck von 5 kg/cm² G eingestellt
worden war, bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min durch das Innere der
Hohlfasern geleitet. Trockenes Stickstoffgas mit einem Wassergehalt von nicht
mehr als 1 ppm (Spülgas) unter atmosphärischem Druck wurde bei einem
Volumenstrom von 0,75 l/min zugeführt, so daß das Äußere der Hohlfasern
überstrichen wurde. Die Wasserabtrennvorrichtung wurde in einem Bad mit
konstanter Temperatur bei 70ºC angeordnet und 3 Stunden erwärmt.
Anschließend wurde sie auf Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas
wurde auf Chlorwasserstoffgas umgestellt, das auf einen Wassergehalt von
31 ppm eingestellt und auf einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert wurde.
Dieses Chlorwasserstoffgas wurde durch das Innere der Hohlfasern bei
einem Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet. Es wurde festgestellt, daß der
Wassergehalt des Chlorwasserstoffgases, der am Auslaß der
Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde, 3 ppm betrug. Der Betrieb wurde unter den
existierenden Bedingungen fortgesetzt. Selbst nach 24 Stunden
fortgesetztem Betrieb betrug der Wassergehalt des Chlorwasserstoffgases am Auslaß
immer noch 3 ppm.
-
Was das Spülgas, das verwendet wurde, um das Äußere der Hohlfasern
zu überstreichen, anbelangt, so wurde festgestellt, daß der Wassergehalt,
der am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung nach 24 Stunden fortgesetztem
Betrieb gemessen wurde, 5 ppm betrug.
-
Nach etwa 1200 Stunden fortgesetztem Betrieb unter den gleichen
Bedingungen wurde festgestellt, daß der Wassergehalt des
Chlorwasserstoffgases, der am Auslaß gemessen wurde, immer noch 3 ppm betrug.
-
Wenn H&sub2;-Gas mit einem Wassergehalt von 6 ppm auf entsprechende Weise
mit der Wasserabtrennvorrichtung getrocknet wurde, dann erhielt man H&sub2;-
Gas mit hoher Reinheit, das genügend auf einen Wassergehalt von nicht
mehr als 1 ppm getrocknet war.
Beispiele 8-9
-
Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4 (1)
hergestellt wurde, wurden Rohmaterialgase, die auf einen festgelegten
Druck eingestellt wurden, unter einem Vakuum mit der
Wasserabtrennvorrichtung behandelt, indem man dem Verfahren von Beispiel 7 folgte. Die so
behandelten Gase wurden auf den Wassergehalt untersucht. Die Ergebnisse
sind in der nachstehenden Tabelle 3 gezeigt.
Tabelle 3
Art des Gases, Wassergehalt
Volumenstrom an Gas (Vakuum)
Betriebszeit
Wassergehalt am Auslaß nach Trocknen mit Wasserabtrennvorrichtung
nicht mehr als 1 ppm
Beispiel 10
-
In der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4 (1)
verwendet wurde, wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt von
nicht mehr als 1 ppm und einen Druck von 5 kg/cm² G eingestellt wurde,
bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min durch das Innere der Hohlfasern
geleitet. Trockenes Stickstoffgas (Spülgas) mit einem Wassergehalt von
nicht mehr als 1 ppm wurde unter atmosphärischem Druck bei einem
Volumenstrom von 0,75 l/min zugeführt, um das Äußere der Hohlfasern zu
überstreichen. Die Wasserabtrennvorrichtung wurde in einem Bad mit konstanter
Temperatur bei 70 C angeordnet und darin 3 Stunden erwärmt. Anschließend
wurde sie auf Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas wurde auf
Phosphingas umgeschaltet, das auf einen Wassergehalt von 30 ppm eingestellt
und auf einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert wurde. Dieses Phosphingas
wurde durch das Innere der Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5
l/min geleitet. Es wurde festgestellt, daß der Wassergehalt des
Phosphingases, der am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde, nicht
mehr als 3 ppm betrug. Der Betrieb wurde unter den existierenden
Bedingungen fortgesetzt. Nach etwa 800 Stunden fortgesetztem Betrieb unter den
gleichen Bedingungen wurde festgestellt, daß der Wassergehalt des
Phosphingases am Auslaß immer noch nicht mehr als 3 ppm betrug.
Beispiele 11, 12, 13
-
Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4 (1)
verwendet wurde, wurden verschiedene Rohmaterialgase mit variierenden
Wassergehalten, die in Tabelle 4 angegeben sind, behandelt, wobei die
Rohmaterialgase und die Spülgase unter dem gleichen Druck gehalten
wurden, und ferner wurden sie unter einem Vakuum behandelt, indem man dem
Verfahren von Beispiel 10 folgte. Die Rohmaterialgase wurden am Auslaß
der Wasserabtrennvorrichtung auf ihren Wassergehalt untersucht. Die
Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.
Tabelle 4
Art des Gases und Wassergehalt
Volumenstrom des Rohmaterialgases
Spülgas oder Vakuum
Betriebszeit
Wassergehalt am Auslaß nach Trocknen mit der Wasserabtrennvorrichtung
Phosphingas
Arsingas
Bortrichloridgas
(Probengas)
-
Eine Hohlfasermembran, die durch Formen eines Polytetrafluorethylen-
Copolymers (mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des
trockenen Harzes in der H-Form), das eine wiederkehrende Einheit der
folgenden chemischen Struktur:
-
enthielt, erhalten wurde, ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse
wie die, die vorstehend beschrieben wurden.
Beispiele 14, 15, 16
-
(1) Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4
(1) verwendet wurde, wurden variierende Rohmaterialgase mit variierenden
Wassergehalten, wie sie in Tabelle 5 angegeben sind, behandelt, wobei die
Rohmaterialgase und die Spülgase unter dem gleichen Druck gehalten
wurden, und ferner wurden sie unter einem Vakuum behandelt, indem man dem
Verfahren von Beispiel 7 folgte. Nach der Behandlung wurden die Gase auf
ihren Wassergehalt untersucht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
Tabelle 5
Art des Gases und Wassergehalt
Volumenstrom des Rohmaterialgases
Spülgas oder Vakuum
Betriebszeit
Wassergehalt am Auslaß nach Trocknen mit der Wasserabtrennvorrichtung
Chlorwasserstoffgas, 30 ppm
Phosphingas
Arsingas
(Probengas)
-
(2) Eine Hohlfasermembran, die durch Formen eines
Polytetrafluorethylen-Copolymers (mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des
trockenen Harzes in der H-Form), das eine wiederkehrende Einheit der
folgenden chemischen Struktur:
-
enthielt, erhalten wurde, ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse
wie die, die vorstehend beschrieben wurden.
Beispiel 17
-
(1) Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 4
(1) verwendet wurde, wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt von
nicht mehr als 1 ppm eingestellt und auf einen Druck von 5 kg/cm² G
komprimiert wurde, bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min durch das Innere der
Hohlfasern geleitet. Trockenes Stickstoffgas (Spülgas) mit einem
Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm wurde bei einem Volumenstrom von 0,75
l/min zugeführt, um das Äußere der Hohlfasern zu überstreichen. Die
Wasserabtrennvorrichtung wurde in einem Bad mit konstanter Temperatur bei
70ºC angeordnet und darin 3 Stunden erwärmt. Anschließend wurde sie auf
Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas wurde auf CH&sub4;-Gas
umgeschaltet, das auf einen Wassergehalt von 50 ppm eingestellt und auf 5 kg/cm² G
komprimiert wurde. Das CH&sub4;-Gas wurde durch das Innere der Hohlfasern bei
einem Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet. Es wurde festgestellt, daß der
Wassergehalt des Gases, der am Auslaß der Wasserabtrennvorrichtung
gemessen wurde, nicht mehr als 1 ppm betrug.
-
In der gleichen Weise wie vorstehend beschrieben wurde H&sub2;-Gas auf
einen Wassergehalt von nicht mehr als 1 ppm getrocknet.
-
(2) Eine Hohlfasermembran, die durch Formen eines
Polytetrafluorethylen-Copolymers (mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des
trockenen Harzes in der H-Form), das eine wiederkehrende Einheit der
folgenden chemischen Struktur:
-
enthielt, erhalten wurde, ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse.
Beispiel 18
-
Eine Hohlfasermembran (500 µm Innendurchmesser und 60 µm Wanddicke)
wurde durch Formen eines Polytetrafluorethylen-Copolymers (trockenes Harz
in der H-Form mit einer Ionenaustauschkapazität von 0,90 meq/g des
trockenen Harzes), das eine Sulfonatgruppe besitzt und eine
wiederkehrende Einheit der folgenden chemischen Struktur:
-
enthält, hergestellt. Die Hohlfaser wurde in Stücke von 40 cm
geschnitten. Ein Bündel von 400 geschnittenen Stücken wurde in ein Gehäuse von
SUS eingesetzt, wobei die entgegengesetzten Enden des Bündels an ihrem
Ort mit Epoxyharz fixiert wurden, wobei eine Wasserabtrennvorrichtung,
wie sie in Fig. 3 erläutert ist, hergestellt wurde. In der
Wasserabtrennvorrichtung wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt von nicht
mehr als 1 ppm eingestellt und auf einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert
wurde, durch das Innere der Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5
l/min geleitet. Trockenes Stickstoffgas (Spülgas) mit einem Wassergehalt
von nicht mehr als 1 ppm unter atmosphärischem Druck wurde bei einem
Volumenstrom von 0,75 l/min zugeführt, um das Äußere der Hohlfasern zu
überstreichen. Die Wasserabtrennvorrichtung wurde in einem Bad mit
konstanter
Temperatur bei 70ºC angeordnet und darin 3 Stunden erwärmt. Sie
wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas wurde auf CH&sub4;-Gas
umgeschaltet, das auf einen Wassergehalt von 50 ppm eingestellt und auf 5
kg/cm² G komprimiert wurde. Das CH&sub4;-Gas wurde durch das Innere der
Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet. Es wurde
festgestellt, daß der Wassergehalt des CH&sub4;-Gases, der am Auslaß der
Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde, nicht mehr als 1 ppm betrug. In der
gleichen Weise wurde Ar-Gas auf einen Wassergehalt von nicht mehr als 1
ppm getrocknet.
-
(2) Eine Hohlfasermembran, die durch Formen eines
Polytetrafluorethylen-Copolymers (H-Form des trockenen Harzes mit einer
Ionenaustauschkapazität von 0,94 meq/g trockenes Harz), das eine wiederkehrende Einheit
der folgenden chemischen Struktur enthielt:
-
erhalten wurde, ergab im wesentlichen die gleichen Ergebnisse wie die,
die vorstehend beschrieben wurden.
Beispiel 19
-
In der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, die in Beispiel 4 (1)
hergestellt wurde, wurde Stickstoffgas, das auf einen Wassergehalt von nicht
mehr als 1 ppm eingestellt und auf einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert
wurde, bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min durch das Innere der
Hohlfasern geleitet. Trockenes Stickstoffgas (Spülgas) mit einem Wassergehalt
von nicht mehr als 1 ppm wurde unter atmosphärischem Druck bei einem
Volumenstrom von 0,75 l/min zugeführt, um das Äußere der Hohlfasern zu
überstreichen. Die Wasserabtrennvorrichtung wurde in einem Bad mit
konstanter Temperatur bei 70ºC angeordnet und darin 3 Stunden erwärmt. Sie
wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Das Stickstoffgas wurde auf Arsingas
umgeschaltet, das auf einen Wassergehalt von 18 ppm eingestellt und auf
einen Druck von 5 kg/cm² G komprimiert wurde. Das Arsingas wurde durch
das Innere der Hohlfasern bei einem Volumenstrom von 0,5 l/min geleitet.
Es wurde festgestellt, daß der Wassergehalt des Arsingases, der am Auslaß
der Wasserabtrennvorrichtung gemessen wurde, nicht mehr als 1 ppm betrug.
Der Betrieb wurde unter den existierenden Bedingungen fortgesetzt. Nach
24 Stunden fortgesetztem Betrieb unter den gleichen Bedingungen betrug
der Wassergehalt des Arsingases immer noch nicht mehr als 1 ppm. Der
Wassergehalt des Arsingases selbst nach etwa 170 Stunden fortgesetztem
Betrieb betrug immer noch nicht mehr als 1 ppm.
Beispiele 20-21
-
Mit der gleichen Wasserabtrennvorrichtung, wie sie in Beispiel 20
verwendet wurde, wurden Rohmaterialgase mit variierenden Wassergehalten,
wie sie in Tabelle 6 angegeben sind, behandelt, wobei die Rohmaterialgase
und das Spülgas unter dem gleichen Druck gehalten wurden, und sie wurden
ferner unter einem Vakuum behandelt, indem man dem Verfahren von Beispiel
19 folgte. Der Wassergehalt der Gase wurde untersucht. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 6 gezeigt.
Tabelle 6
Art des Gases und Wassergehalt
Volumenstrom des Rohmaterialgases
Spülgas oder Vakuum
Betriebszeit
Wasser am Auslaß nach Trocknen mit der Wasserabtrennvorrichtung
(Probengas)
nicht mehr als 1 ppm