DE3852987T2 - Silizium enthaltendes Polyimid-Prepolymer, davon abgeleitete ausgehärtete Produkte und Verfahren zu deren Herstellung. - Google Patents
Silizium enthaltendes Polyimid-Prepolymer, davon abgeleitete ausgehärtete Produkte und Verfahren zu deren Herstellung.Info
- Publication number
- DE3852987T2 DE3852987T2 DE3852987T DE3852987T DE3852987T2 DE 3852987 T2 DE3852987 T2 DE 3852987T2 DE 3852987 T DE3852987 T DE 3852987T DE 3852987 T DE3852987 T DE 3852987T DE 3852987 T2 DE3852987 T2 DE 3852987T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- formula
- silicon
- precursor
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 30
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims description 28
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 26
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims description 14
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- -1 polysiloxane group Polymers 0.000 claims description 9
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 6
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 4
- OBFQBDOLCADBTP-UHFFFAOYSA-N aminosilicon Chemical class [Si]N OBFQBDOLCADBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 39
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 12
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 11
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 4
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(S(=O)(=O)C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFOOEYJGMMJJLS-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminonaphthalene Chemical compound C1=CC(N)=C2C(N)=CC=CC2=C1 YFOOEYJGMMJJLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 1-acetylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC(=O)N1CCCC1=O YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPHRTSFRLFDOHZ-UHFFFAOYSA-N 3-[[4-[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)C1=CC=C([Si](C)(C)CCCN)C=C1 FPHRTSFRLFDOHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCC(C)(C)CCCN ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYTXQZMZTQHONB-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenoxy)-dimethylsilyl]oxyaniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1O[Si](C)(C)OC1=CC=C(N)C=C1 IYTXQZMZTQHONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylaniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(N)C=C1 CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N dodecane-2,11-diamine Chemical compound CC(N)CCCCCCCCC(C)N CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine powder Natural products NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
- C08G77/455—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Silicium enthaltenden löslichen Polyimid-Vorläufer, auf das ausgehärtete Produkt, das bei Erhitzen des Vorläufers, um ihn zu vernetzten/auszuhärten, erhalten wird, und auf die Herstellung des Vorläufers und des ausgehärteten Produkts.
- Unter den organischen Polymeren haben die Polyimidharze eine hohe Wärmebeständigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, diese Eigenschaften sind jedoch denjenigen von anorganischen Verbindungen unterlegen.
- Um die Oberflächenhärte, die Verschleißfestigkeit und dgl. von Polyimidharzen zu verbessern, kann das Harz mit anorganischen Materialien gefüllt werden. In diesem Falle besteht jedoch die Gefahr, daß ein Bruch zwischen dem Füllstoff und dem Harz auftritt.
- Siliciumdioxid ist ein anorganisches Material mit guten praktischen Eigenschaften, beispielsweise einem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und einer hohen Härte neben einer guten Wärmebeständigkeit, es ist jedoch spröde und schwierig zu verarbeiten oder zu formen. Aus diesem Grund sind die praktischen Anwendungen von Siliciumdioxid beschränkt. Um nun die Verarbeitbarkeit und Formbarkeit zu verbessern, wurde bereits eine Vielzahl von Verbindungen synthetisiert, in denen Gruppen, die an jedes Siliciumatom gebunden sind, teilweise durch Alkylgruppen ersetzt sind. Diese Technik hat sich bis zu einem gewissen Grade als erfolgreich erwiesen, beispielsweise im Falle der Polydimethylsiloxane und dgl., diese Verbindungen haben jedoch auch Nachteile, beispielsweise eine beachtliche Verschlechterung der Wärmebeständigkeit und eine merkliche Zunahme des Wärmeausdehnungskoeffizienten sowie eine ausgeprägte Abnahme der Härte.
- Um diese Nachteile zu überwinden, wurden bereits viele Vorschläge gemacht, Polyimide mit Siliciumverbindungen chemisch zu kombinieren (vgl. beispielsweise die offengelegten japanischen Patentpublikationen Nr. 143 328/1982, 7 473/1983 und 13 631/1983). Diese Vorschläge beruhen auf dem partiellen Ersatz einer Diaminkomponente, die ein Ausgangsmaterial für ein Polyimid ist, durch ein Polydisiloxan, das an beiden Enden endständige Diamingruppen aufweist.
- In der japanischen Patentpublikation Nr. 32 162/1983 wird ein vernetztes Polyimid mit einer Siloxangruppe vorgeschlagen, das hergestellt werden kann durch Mischen einer Polyamidsäure, die an beiden Enden mit reaktionsfähigen Siliciumverbindungen abgeschlossen ist, mit einem Polysiloxan, das an beiden Enden Hydroxylgruppen aufweist, und anschließendes Erhitzen der Mischung.
- Außerdem wurde bereits als ein Verfahren zur Herstellung von Siliciumdioxid-Filmen vorgeschlagen, ein reaktionsfähiges Silan, beispielsweise ein Alkoxysilan oder ein Acetoxysilan, zu Calcinieren (vgl. z.B. die japanischen Patentpublikationen Nr. 16 488/1977 und 20 825/1977, die offengelegten japanischen Patentpublikationen Nr. 34 258/1980 und 250 032/1986 und das US-Patent Nr. 4 408 009).
- Die in den obengenannten japanischen Patentpublikationen Nr. 143 328/1982, 7473/1983 und 13 631/1983 beschriebenen Produkte weisen jedoch noch Nachteile auf, beispielsweise eine beachtliche Abnahme der Wärmebeständigkeit, eine merkliche Zunahme des Wärmeausdehnungskoeffizienten sowie eine ausgeprägte Abnahme der Härte.
- Die in der japanischen Patentpublikation Nr. 32162/1983 beschriebene Verbindung weist zwar eine gute Affinität für anorganische Verbindungen auf, sie kann jedoch keine Materialien mit niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten ergeben.
- Was die Calcinierung eines reaktionfähigen Silans, beispielsweise eines Alkoxysilans oder eines Acetoxysilans, angeht, so sind die nach diesem Verfahren hergestellten Filme sehr spröde und die Dicke der Filme beträgt höchstens mehrere Tausend Å.
- Gegenstand der Erfindung ist ein Silicium enthaltender löslicher Polyimid-Vorläufer, der eine logarithmische Viskositätszahl von 0,05 bis 5 dl/g, gemessen bei einer Konzentration von 0,5 g/dl bei 30 ± 0,01ºC in N-Methyl-2- pyrrolidon, aufweist und umfaßt eine Verbindung der Formel:
- worin bedeuten:
- R² eine aliphatische Gruppe mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine alicyclische Gruppe mit 4 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine aromatisch-aliphatische Gruppe mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine carbocyclisch-aromatische Gruppe mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine Polysiloxangruppe der Formel
- (worin jede Gruppe R&sup5; für eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylengruppe, eine C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenphenylengruppe, eine C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenoxyphenylengruppe oder eine Phenylengruppe steht, jede Gruppe R&sup6; für eine C&sub1;-C&sub6;-Alkylgruppe, eine Phenylgruppe oder eine Alkylphenylgruppe mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen steht und 1 einen Wert von 1 bis 100 hat) oder eine Gruppe der Formel
- (worin R&sup7; für eine aliphatische Gruppe mit bis zu 8 Kohlenstoffatomen, eine aromatisch-aliphatische Gruppe oder ein Wasserstoffatom steht);
- R³ eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylen-, C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenphenylen-, C&sub7;-C&sub1;&sub0;- Alkylenoxyphenylen- oder Phenylen-Gruppe;
- jede Gruppe R&sup4; eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylgruppe, eine Phenylgruppe oder eine Alkyl-substituierte Phenylgruppe mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen;
- k und m jeweils die Zahl 0, 1, 2 oder 3 und die Summe von k und m 1 oder mehr;
- n eine ganze Zahl von 1 oder mehr;
- p und q jeweils eine positive ganze Zahl; und
- L eine Gruppe
- (worin R¹ für eine tetravalente carbocyclisch-aromatische Gruppe steht und die beiden Carbonylgruppen einer Imidgruppe oder eine Amidgruppe und eine Carboxylgruppe jeweils in ortho-Stellung zueinander gebunden sind).
- Gegenstand der Erfindung ist außerdem ein gehärtetes (ausgehärtetes) Silicium enthaltendes Polyimid, das durch Erhitzen einer Lösung, die eine Verbindung der Formel (I) enthält, auf eine Temperatur von 50 bis 500ºC erhalten wird. Das gehärtete (ausgehärtete) Material enthält eine Verbindung der Formel
- worin R², R³, R&sup4;, k, l, m und n die oben angegebenen Bedeutungen haben; v und w jeweils positive Zahlen bedeuten und L' für eine Gruppe steht
- (worin R¹ die oben angegebene Bedeutung hat).
- Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung eines wie vorstehend definierten Vorläufers, durch gemeinsame Umsetzung von a Molen eines Dianhydrids der Formel
- (worin R¹ wie oben definiert ist),
- b Molen eines Diamins H&sub2;N-R²-NH² (worin R² wie oben definiert ist)
- c Molen jeder der Aminosiliciumverbindungen der Formeln
- (worin R³, R&sup4;, k und m wie oben definiert sind und X¹ für eine Alkoxy-, Acetoxy- oder Hyxdroxygruppe oder ein Halogenatom steht) und
- d Molen einer Siliciumverbindung der Formel SiX²&sub4;
- worin X² für eine Alkoxy-, Acetoxy- oder Hydroxygruppe oder ein Halogenatom steht;
- wobei das Verhältnis (2b + c)/a einen Wert von 1,8 bis 2,2 hat und das Verhältnis d/a einen Wert von 0,03 bis 33 hat;
- wobei die Reaktion in Gegenwart von 70 Gew.-% oder mehr eines Lösungsmittels bei einer Temperatur von 0 bis 200ºC 0,2 bis 20 h lang durchgeführt wird.
- Die Gruppe R² ist vorzugsweise eine Gruppe der Formel
- (worin r die Zahl 0 oder 1 bedeutet); R³ ist vorzugsweise unabhängig eine Phenylengruppe und k und m stehen jeweils vorzugsweise für die Zahl 3.
- Der erfindungsgemäße Vorläufer kann hergestellt werden durch Mischen der folgenden fünf Verbindungen miteinander:
- a Molen eines Dianhydrids der Formel
- (worin R¹ die oben angegebene Bedeutung hat);
- b Molen eines Diamins der Formel
- H&sub2;N - R² - NH&sub2; (VII)
- (worin R² die oben angegebene Bedeutung hat);
- c Molen Aminosiliciumverbindungen der Formeln
- (worin R³, R&sup4;, k und in die oben angegebenen Bedeutungen haben und x¹ für ein Halogenatom oder eine Hydroxyl-, Alkoxy- oder Acetoxygruppe steht); und
- d Molen einer Siliciumverbindung der Formel
- SiX²&sub4; (IX)
- (worin X² den oben für X¹ angegebenen Bereich von Bedeutungen hat);
- wobei der Wert des Verhältnisses (2b + c)/a 1,8 bis 2,2 beträgt und der Wert des Verhältnisses d/a 0,3 bis 33 beträgt; und
- die Reaktion bei einer Temperatur von 0 bis 200ºC 0,2 bis 20 h lang durchgeführt wird.
- Alternativ können die vier Verbindungen der Formeln (VI) bis (VIII') miteinander gemischt werden, bei einer Temperatur von 0 bis 200ºC 0,2 bis 10 h lang miteinander umgesetzt werden und die restliche Verbindung der Formel (IX) kann dann zugegeben werden, wobei erforderlichenfalls eine Säure und/oder eine geringe Menge Wasser zugegeben wird, woran sich eine 0,2 bis 30-stündige Reaktion bei 50 bis 200ºC anschließt.
- Zu Beispielen für die Tetracarbonsäuredianhydride und Diester der Formel (VI) gehören Pyromellithsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3'- Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,3',4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 3,3',4,4' -Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,3',4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3 -Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)ätherdianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonsäuredianhydrid, 1,2,5,6-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,6,7-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid,
- und die Diester dieser Verbindungen mit Alkoholen.
- Zu typischen Beispielen für Diamine der Formel (VII) gehören aromatische Diamine, wie 4,4'-Diaminodiphenyläther, 4,4'-Diaminodiphenylmethan, 4,4'-Diaminodiphenylsulfon, 4,4'-Diaminodiphenylsulfid, 4,4'-Diaminodiphenylthioäther, 4,4'-Di(meta-aminophenoxy)diphenylsulfon, 4,4'-Di-(paraaminophenoxy)diphenylsulfon, ortho-Phenylendiamin, meta- Phenylendiamin, para-Phenylendiamin, Benzidin, 2,2'-Diaminodiphenyl-2,2'-propan, 1,5-Diaminonaphthalin und 1,8- Diaminonaphthalin; aliphatische Diamine, wie Trimethylendiamin, Tetramethylendiamin, Hexamethylendiamin, 4,4-Dimethylheptamethylendiamin, 2,11-Dodecandiamin; Siliciumdiamine, wie Bis(p-aminophenoxy)dimethylsilan und 1,4-Bis(3- aminopropyldimethylsilyl)benzol; ein alicyclisches Diamin, wie 1,4-Diaminocyclohexan; Aminoalkyl-substituierte aromatische Verbindungen, wie o-xylylendiamin und m-Xylylendiamin; und Guanamine, wie Acetoguanamin und Benzoguanamin.
- Beispiele für Diaminopolysiloxane mit Aminogruppen an beiden Enden der Formel (V) sind folgende:
- Beispiele für Aminosiliciumverbindungen der Formeln (VIII) und (VIII') sind folgende:
- Zu Beispielen für Siliciumverbindungen der Formel (IX) gehören:
- Zu Beispielen für das Lösungsmittel das bei der Umsetzung der obengenannten Ausgangsmaterialien verwendet wird (nachstehend gelegentlich als "Reaktionslösungsmittel" bezeichnet) gehören N-Methylpyrrolidon, Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Tetramethylharnstoff, Pyridin, Dimethylsulfon, Hexamethylsulfonamid, Methylformamid, N-Acetyl-2-pyrrolidon, Toluol, Xylol, Ethylenglycolmonomethyläther, Ethylenglycolmonoethyläther, Ethylenglycolmonobutyläther, Diethylenglycolmonomethyläther, Diethylenglycolmonoethyläther, Diethylenglycldimethyläther, Diethylenglycoldiethyläther und Mischungen von zwei oder mehr derselben. Außerdem können erfindungsgemäß auch Lösungsmittelgemische, die jeweils 30 Gew.-% oder mehr des obengenannten Lösungsmittels und ein weiteres Lösungsmittel enthalten, verwendet werden.
- Als Ergebnis der Umsetzung zwischen den Verbindungen der Formeln (VI), (VII), (VIIl) und (VIII') kann eine Polyamidsäure (oder ein Polyimid) erhalten werden, worin X¹ eine reaktionsfähige Gruppe darstellt, die an ihr(sein) Ende gebunden ist. Diese vier Ausgangsmaterialien können in beliebiger Reihenfolge zugegeben werden, ein Polymer mit einem höheren Molekulargewicht kann jedoch erhalten werden, wenn man zuerst die Verbindungen der Formeln (VI) und (VII) miteinander umsetzt und dann die Verbindungen der Formeln (VIII) und (VIII') zusetzt. Die Reaktion kann bei einer Temperatur von 0 bis 200ºC 0,2 bis 20 h lang durchgeführt werden. Wenn die Reaktionstemperatur höher ist, ist der Mengenanteil an Imidgruppen in dem Polymer größer als derjenige an Säureamid und die Gruppen X¹ werden teilweise hydrolysiert, so daß eine Kondensation des Siloxans auftreten kann unter Erhöhung des Molekulargewichts des Polymers. Alternativ können dann, wenn eine hohe Imidgruppenbildung erwünscht ist, die Amidgruppen des auf bekannte Weise hergestellten Polyamids (beispielsweise durch Zugabe einer geringen Menge Essigsäureanhydrid und/oder Pyridin, Isochinolin oder eines tertiären Amins, wie Imidazol) bei Normaltemperatur Umgebungstemperatur vollständig oder teilweise in Imidgruppen umgewandelt werden. In dieser ersten Reaktionsstufe kann die Verbindung der Formel (IX) vorher zugegeben werden, vorausgesetzt, daß keine Probleme auftreten.
- Danach werden d Mole der Siliciumverbindung der Formel (IX) zu der Reaktionsmischung zugegeben und erforderlichenfalls wird eine Säure und/oder eine geringe Menge Wasser zugegeben und die Mischung wird bei einer Temperatur von 50 bis 200ºC 0,2 bis 30 h lang reagieren gelassen. Die Zugabe von Säure und von Wasser ist eine bekannte Maßnahme zur Beschleunigung der Kondensation des Siloxans. Beispiele für geeignete Säuren sind Mineralsäuren, organische Säuren, saure Ionenaustauscherharze und feste saure Materialien, in denen anorganische Säuren auf Träger aufgebracht sind. Als Mineralsäuren sind Chlorwasserstoffsäure, Schwefelsäure und Salpetersäure bevorzugt. Als organische Säuren können Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure, Oxalsäure, Citronensäure, Malonsäure, Salicylsäure, Chloressigsäure, Fluoressigsäure, Benzolsulfonsäure und Toluolsulfonsäure verwendet werden. Beispiele für saure Ionenaustauscherharze sind stark saure kationische Austauscherharze vom Sulfonsäure-Typ und supersaure kationische Harze und zu bevorzugten Beispielen für die Ionenaustauscherharze gehören diejenigen, wie sie unter den Handelsnamen Diaion-SKIB-H, Diaion-PK-229-H, Amberlite-IR-120B, Amberlite-118, Amberlite-112, Amberlite-122, Amberlite-124, Amberlite-20ºC und Naphion-H erhältlich sind. Zu Beispielen für feste saure Materialien gehören Siliciumdioxid, Aluminiumoxid-Siliciumdioxid, Zirkoniumoxid und Aktivkohle, die Schwefelsäure oder Phosphorsäure trägt.
- Die Menge der Säure, die zugegeben werden soll, beträgt vorzugsweise 1/10 (mc + 4d) mol oder weniger, die Säure kann aber auch in einer größeren Menge vorliegen. Was die Menge des Wassers, das zugegeben werden soll, angeht, so kann sie [(mc + 4d - (2d + c)] mol oder weniger betragen, wenn sie oberhalb dieses Wertes liegt, kann die Reaktionsgeschwindigkeit jedoch beschleunigt werden.
- Die Bedingung, daß a, b und c so groß sind, daß das Verhältnis (2b + c)/a 1,8 bis 2,2 beträgt, erfordert eine im wesentlichen äquivalente Beziehung für die Bildung des Amids aus dem Säureanhdrid der Formel (VI) und den Aminen der Formeln (VII), (VIII) und (VIII'). Wenn daher das Verhältnis weniger als 1,8 beträgt, überwiegt ein Polyimid und wenn es mehr als 2,2 beträgt, überwiegt eine Siliciumverbindung.
- Das Reaktionslösungsmittel wird vorzugsweise in einer Menge von 70 Gew. -% oder mehr, bezogen auf das Gesamtgewicht von Lösungsmittel und Reaktanten, verwendet. Bei niedrigeren Werten kann die Lösung während der Reaktion gelieren.
- Nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren kann der erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer (nachstehend der Einfachheit halber als "Vorläufer" bezeichnet) erhalten werden, dessen logarithmische Viskositätszahl innerhalb des Bereiches von 0,05 bis 5 dl/g, gemessen wie oben, liegt und der das gewünschte Molekulargewicht hat. Wenn die logarithmische Viskositätszahl weniger als 0,05 beträgt, sind die Beschichtungseigenschaften unzureichend und es ist schwierig, einen Vorläufer zu synthetisieren, in dem der Wert größer als 5 ist.
- Die Grundstruktur des erfindungsgemäßen Silicium enthaltenden löslichen Polyimid-Vorläufers kann durch die Formel (I) dargestellt werden, in den Endabschnitten der Formel (I) sind jedoch Gruppen -Si-X¹, -Si-X² oder Si-OH vorhanden, die teilweise nicht umgesetzt worden sind. Der erfindungsgemäße Vorläufer wird dann calciniert, um die Kondensationsreaktion des Siloxans zu vervollständigen, mit dem Ergebnis, daß eine Aushärtung und Insolubilisierung auftreten als Folge einer intermolekularen Vernetzung. Auf diese Weise kann aus dem erfindungsgemäßen Vorläufer eine feste Struktur hergestellt werden.
- Bezüglich der Parameter p und q in der Formel (I) gilt, daß dann, wenn das Verhältnis q/p groß wird, die Imid-Eigenschaften schwach werden und diejenigen der Siliciumverbindung überwiegen. Wenn das Verhältnis q/p und der Wert für m ansteigen und der Wert für n abnimmt, werden die Eigenschaften des anorganischen Materials (Siliciumdioxid) stark. Infolgedessen nimmt der Wärmeausdehnungskoeffizient ab und die Härte steigt merklich an. Aus diesem Grund beträgt das Verhältnis q/p, d.h. w/v, vorzugsweise 0,03 bis 33. Wenn R² steht für
- (worin r die Zahl 0 oder 1 bedeutet), weist der Vorläufer eine besonders gute Löslichkeit in dem Lösungsmittel auf.
- In vielen Fällen wird der erfindungsgemäße Vorläufer als Firnis in Form einer Lösung in einem Lösungsmittel verwendet, wobei die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltene Lösung konzentriert oder mit einem Lösungsmittel verdünnt werden kann, um die gewünschte Konzentration zu erzielen. Das Verdünnungslösungsmittel kann das gleiche sein wie das Reaktionslösungsmittel. Aus der Lösung des erfindungsgemäßen Vorläufers können auf bekannte Weise Formkörper hergestellt werden. So kann beispielsweise die Vorläuferlösung in Form einer Schicht auf eine Glasplatte, eine Kupferplatte oder eine Aluminiumplatte aufgebracht und dann erhitzt werden, um das Lösungsmittel zu entfernen unter gleichzeitiger Vernetzung der Siloxan-Bindungen, wobei ein harter zäher Überzugsfilm gebildet wird. Die Bildung von Laminat-Verbundmaterialien kann auch erzielt werden durch Wiederholung des obengenannten Arbeitsganges oder durch Aufbringen eines Firnis als Klebstoff zwischen heterogenen Platten (Blättern) und Calcinieren derselben. Außerdem können auch Laminatmaterialien mit verstärkten Filmen hergestellt werden durch Imprägnieren eines Füllstoffs (beispielsweise von Glasfasern oder dgl.) mit einem Firnis und anschließendes Calcinieren desselben, um den Firnis auszuhärten. Die Calcinierungsbedingungen hängen von der Art des Lösungsmittels, der Dicke des Überzugsfilms und dgl. ab, die Calcinierungstemperatur beträgt jedoch in der Regel 50 bis 500ºC, vorzugsweise 200 bis 400ºC, und die Calcinierungszeit beträgt im allgemeinen 0,5 bis 2 h.
- In dem ausgehärteten Material mit einem hohen Molekulargewicht, das hergestellt wird durch Erhitzen des Vorläufers, um ihn zu calcinieren, tritt eine Dehydratationskondensation
- zwischen nicht-umgesetztem -CONH und -COOH, eine weitere Dehydratationskondensation ( Si-O-Si ) zwischen SiOH und HOSi und eine Kondensation ( Si-O-Si ) zwischen SiOH und X²Si ) auf. Daher wird L¹ in der Formel (I') des ausgehärteten Materials nur durch die Formel dargestellt
- Der erfindungsgemäße Vorläufer hat die gewünschte logarithmische Viskositätszahl und deshalb ist die Viskosität seiner Lösung für eine gute Beschichtung geeignet. Außerdem treten dann, wenn der Überzugsfilm aus dem Vorläufer calciniert wird, Siloxankondensationsreaktionen auf, die eine intermolekulare Bindung mit sich bringen, so daß der Überzugsfilm hart und zäh wird. Der Vorläufer-Überzugsfilm kann auch eine starke Haftung an Gläsern, Keramiken, Silicium-Wafern, verschiedenen Metalloxiden und dgl. aufweisen.
- Da das erfindungsgemäße ausgehärtete, Silicium enthaltende Polyimid aus der starken molekularen Bindung durch die Siloxankondensationsreaktion resultiert, hat das ausgehärtete Material eine hohe Härte und Zähigkeit, eine verbesserte Wärmebeständigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, der nahe bei demjenigen von anorganischen Verbindungen liegt.
- Da das erfindungsgemäße ausgehärtete Material eine verbesserte Wärmebeständigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten hat, der nahe bei demjenigen von anorganischen Verbindungen liegt, wie vorstehend angegeben, ist es geeignet als Laminierungsmaterial, das auf anorganische Platten bzw. Folien auflaminiert wird.
- Darüber hinaus ist in dem erfindungsgemäßen ausgehärteten Material die Sprödigkeit, die einer der Nachteile der anorganischen Verbindungen ist, eliminiert und deshalb kann das ausgehärtete Material zu dickeren Überzugsfilmen als Oberflächenbeschichtungsmaterialien geformt werden. Zusätzlich zu diesem Vorteil ist das erfindungsgemäße ausgehärtete Material auch härter als organische Überzugsfilme aus Polyimiden und dgl. und es ist somit von praktischem Wert als Material für die Grenze (Abgrenzung) zwischen organischen und anorganischen Materialien.
- Das erfindungsgemäße ausgehärtete Material kann leicht verarbeitet werden durch Gießformen oder Beschichten und Erhitzen des Silicium enthaltenden löslichen Polyimids, das aus leicht zugänglichen Ausgangsmaterialien unter moderaten Bedingungen synthetisiert werden kann. Außerdem kann die ausgezeichnete Struktur des ausgehärteten Materials erhalten werden durch Imprägnieren einer anorganischen Faser, beispielsweise einer Glasfaser, mit einer erfindungsgemäßen Vorläuferlösung und anschließendes Calcinieren.
- Das aus dem erfindungsgemäßen Vorläufer erhaltene ausgehärtete Material weist eine ausgezeichnete Wärmebeständigkeit und ausgezeichnete mechanische, elektrische und Hafteigenschaften auf. Daher kann der erfindungsgemäße Vorläufer in verschiedenen Beschichtungsmitteln für Glas, Keramik, Silicium-Wafer und Metalloxide, orientierte Flüssigkristall-Filme, Klebstoffe, anorganische Fasern, wie Glasfasern und dgl., verwendet werden. Das ausgehärtete Material, das erhalten wird, wenn man den obengenannten Vorläufer imprägniert und calciniert, ist als Strukturmaterial und dgl. in diesen Gegenständen verwendbar.
- Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf Beispiele, Vergleichsbeispiele und Verwendungstests näher erläutert. Es ist jedoch klar, daß die vorliegende Erfindung auf diese Beispiele nicht beschränkt ist.
- In einem 1 1-Kolben, der mit einem Rührer, einem Tropftrichter, einem Thermometer, einem Kühler und einer Stickstoffeinleitungsvorrichtung ausgestattet war, wurde zuerst die Atmosphäre durch ein Stickstoffgas verdrängt und dann wurden 500 g Ethylcarbitol, das dehydratisiert und gereinigt worden war, und 2,52 g (0,0101 mol) 3,3'- Diaminodiphenylsulfon (nachstehend der Einfachheit halber als "DDS" bezeichnet) eingeführt, danach wurde gerührt, wobei man eine einheitliche Lösung erhielt. Während diese Lösung bei einer Temperatur von 30 bis 35ºC gehalten wurde, wurden 6,54 g (0,0203 mol) 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid (nachstehend der Einfachheit halber als "BTDA" bezeichnet) zugegeben und dann wurde eine Reaktion 5 h lang durchgeführt. Danach wurden 4,33 g (0,0203 mol) Aminophenyltrimethoxysilan (nachstehend der Einfachheit halber als "APM" bezeichnet) (meta/para = 46/54) zugegeben und die Temperatur wurde dann auf 150ºC erhöht und die Reaktion wurde 3 h lang durchgeführt. Danach wurden 42,28 g (0,203 mol) Tetraethoxysilan, 5 g Essigsäure und 35 g Wasser in den Kolben gegeben und die Reaktion wurde 18 h lang bei 60ºC durchgeführt. Zu diesem Zeitpunkt wurde in der Lösung kein nicht-umgesetztes Tetraethoxysilan mehr nachgewiesen. Der auf diese Weise erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer war transparent und rötlich-braun und er hatte eine logarithmische Viskositätszahl von 0,15 dl/g. Das Infrarot-Absorptionsspektrum des Vorläufers ist in der Fig. 1 dargestellt. Dieses Spektrum zeigt, daß der Vorläufer eine große Menge Imidgruppen, jedoch kaum Säureamid enthielt.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 26,31 g (0,0608 mol) Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfon (nachstehend der Einfachheit halber als "BAPS" bezeichnet) mit 500 g Ethylcarbitol gemischt und dann wurden 22,39 g (0,0695 mol) BTDA zugegeben und die Reaktion wurde 6 h lang bei 30ºC durchgeführt. Außerdem wurden 3,34 g (0,0157 mol) APMS (meta/para = 46/54) zugegeben und die Reaktion wurde 2 h lang durchgeführt. Danach wurden 36,20 g (0,174 mol) Tetraethoxysilan, 6,5 g Essigsäure und 6 g Wasser zugegeben und dann wurde 20 h lang bei 60ºC eine Reaktion durchgeführt. Zu diesem Zeitpunkt wurde kein nicht-umgesetztes Tetraethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,32 dl/g auf. Nach dem Infrarot-Absorptionsspektrum enthielt dieser Vorläufer eine große Menge Säureamid, jedoch kaum Amidgruppen.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 31,74 g (0,143 mol) 3-Aminopropyltriethoxysilan (nachstehend der Einfachheit halber als "APS-E" bezeichnet), 10,91 g (0,0717 mol) Tetramethoxysilan und 14,35 g (0,0716 mol) 4,4'-Diaminodiphenyläther (nachstehend der Einfachheit halber als "DDE" bezeichnet) zugegeben und gelöst in einem Lösungsmittelgemisch aus 250 g N-Methyl-2-pyrrolidon und 250 g 2-Methoxyethanol zur Herstellung einer einheitlichen Lösung. Während diese Lösung bei einer Temperatur von 25ºC gehalten wurde, wurden 31,27 g (0,143 mol) Pyromellithsäuredianhydrid zugegeben und die Reaktion wurde 2 h lang durchgeführt und weitere 6 h lang bei 60ºC fortgesetzt. Danach wurden 5,5 g Essigsäure und 4 g Wasser zugegeben und dann wurde die Reaktion 4 h lang bei 80ºC durchgeführt. Zu diesem Zeitpunkt wurde in der Lösung kein nicht-umgesetztes Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,082 dl/g auf. Nach dem Infrarot-Absorptionsspektrum enthielt dieser Vorläufer eine große Menge Säureamid, jedoch kaum Imidgruppen.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 16,28 g (0,0813 mol) DDE in einem Lösungsmittelgemisch aus 300 g N-Methyl-2-pyrrolidon und 200 g 2-Methoxymethanol gelöst zur Herstellung einer einheitlichen Lösung. Zu dieser Lösung wurden 38,81 g (0,108 mol) Bis[3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid (nachstehend der Einfachheit halber als "DSDA" bezeichnet) zugegeben und dann wurde 5 h lang eine Reaktion bei 20ºC durchgeführt. Danach wurden 11,41 g (0,0596 mol) 3-Aminopropylmethyldiethoxysilan zugegeben und die Reaktion wurde weitere 2 h lang bei 90ºC durchgeführt. Zu dieser Lösung wurden 1,65 g (0,0108 mol) Tetramethoxysilan, 2,5 g konzentrierte Chlorwasserstoffsäure und 3 g Wasser zugegeben, dann wurde die Reaktion 10 h lang bei 50ºC durchgeführt. Zu diesem Zeiptunkt wurde kein Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid- Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,20 dl/g auf. Durch das Infrarot-Absorptionsspektrum wurde bestätigt, daß ein Säureamid und eine Imidgruppe in diesem Vorläufer gleichzeitig vorlagen.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 2,57 g (0,0104 mol) DDS und 5,28 g (0,0238 mol) APS-E zu 500 g Methylcarbitol zugegeben und außerdem wurden 7,69 g (0,0239 mol) BTDA zugegeben, dann wurde 12 h lang bei 160ºC eine Reaktion durchgeführt. Außerdem wurden 72,65 g (0,477 mol) Tetramethoxysilan, 12 g Essigsäure und 25 g Wasser zugegeben, danach wurde 12 h lang bei 75ºC reagieren gelassen. Zu diesem Zeitpunkt wurde kein Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,27 dl/g auf. Nach dem Infrarot-Absorptionsspektrum enthielt dieser Vorläufer eine große Menge einer Imidgruppe, jedoch kaum Säureamid.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 17,98 g (0,0502 mol) DSDA zu 500 g 2-Ethoxyethanol zugegeben und die Veresterung des Säureanhydrids wurde 5 h lang bei 135ºC unter Rückfluß durchgeführt. Außerdem wurden zu dieser Lösung 10,86 g (0,0251 mol) BAPS und 7,65 g (0,0427 mol) 3-Aminopropyltrimethoxysilan zugegeben und es wurde weitere 6 h lang bei 135ºC unter Rückfluß erhitzt. Diese Lösung wurde abgekühlt und während sie bei einer Temperatur von 70ºC gehalten wurde, wurden 38,22 g (0,251 mol) Tetramethoxysilan, 15 g Essigsäure und 40 g Wasser zugegeben, danach wurde 12 h lang bei 70ºC reagieren gelassen. Zu diesem Zeitpunkt wurde kein nicht-umgesetztes Trimethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,77 dl/g auf. Nach dem Infrarot-Absorptionsspektrum enthielt dieser Vorläufer eine große Menge Imidgruppen, jedoch kaum Säureamid.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 14,41 g (0,0490 mol) 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid und 15,78 g (0,0490 mol) BTDA zu 500 g Ethylcarbitol zugegeben und die Reaktion wurde 3 h lang bei 150ºC durchgeführt, um das Säureanhydrid zu verestern. Außerdem wurden zu dieser Lösung 14,59 g DDS und 21,69 g (0,0980 mol) APS-E zugegeben und dann wurde die Reaktion 5 h lang bei 150ºC durchgeführt. Diese Lösung wurde auf 60ºC abgekühlt und es wurden 14,91 g (0,0980 mol) Tetramethoxysilan, 4 g Essigsäure und 3 g Wasser zugegeben, danach wurde 21 h lang reagieren gelassen. Zu diesem Zeitpunkt wurde kein nicht-umgesetztes Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 1,30 dl/g auf. Nach dem Infrarot- Absorptionsspektrum enthielt dieser Vorläufer eine große Menge Imidgruppen, jedoch kaum Säureamid.
- Das Verfahren des Beispiels 4 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß keine konzentrierte Chlorwasserstoffsäure zugegeben wurde und die zweite Reaktion 22 h lang durchgeführt wurde. Als die zweite Reaktion beendet war, wurde in der Reaktionslösung kein nicht-umgesetztes Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,023 dl/g auf. Durch das Infrarot-Absorptionsspektrum wurde bestätigt, daß in diesem Vorläufer Säureamid und eine Imidgruppe gleichzeitig vorlagen.
- Das Verfahren des Beispiels 4 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß kein Wasser zugegeben wurde und daß die zweite Reaktion 16 h lang durchgeführt wurde. Als die zweite Reaktion beendet war, wurde in der Reaktionslösung kein nicht-umgesetztes Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,021 dl/g auf. Durch das Infrarot-Absorptionsspektrum wurde bestätigt, daß in diesem Vorläufer Säureamid und eine Imidgruppe gleichzeitig vorlagen.
- Das Verfahren des Beispiels 4 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß konzentrierte Chlorwasserstoffsäure und Wasser nicht zugegeben wurden und daß die zweite Reaktion 28 h lang durchgeführt wurde. Als die zweite Reaktion beendet war, wurde in der Reaktionslösung kein nicht-umgesetztes Tetramethoxysilan mehr nachgewiesen. Der so erhaltene erfindungsgemäße Silicium enthaltende lösliche Polyimid-Vorläufer wies eine logarithmische Viskositätszahl von 0,024 dl/g auf. Durch das Infrarot-Absorptionsspektrum wurde bestätigt, daß in diesem Vorläufer Säureamid und eine Imidgruppe gleichzeitig vorlagen.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 55,56 g (0,267 mol) Tetraethoxysilan, 5,5 g Essigsäure und 60 g Wasser zu 500 g Methylcarbitol zugegeben und dann wurde 18 h lang bei 80ºC eine Reaktion durchgeführt. Zu diesem Zeitpunkt wurde in der Reaktionslösung kein nichtumgesetztes Tetraethoxysilan mehr nachgewiesen und es wurde ein transparentes Tetraethoxysilan-Oligomer erhalten.
- Unter Verwendung der gleichen Vorrichtungen und unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden 44,61 g (0,103 mol) BAPS zugegeben zu und gelöst in 500 g Ethylcarbitol. Während diese Lösung bei einer Temperatur von 25ºC gehalten wurde, wurden 37,98 g (0,118 mol) BTDA zugegeben und dann wurde die Reaktion 5 h lang durchgeführt. Danach wurden 5,56 g (0,0265 mol) APMS zugegeben und dann wurde 2 h lang eine Reaktion durchgeführt, wobei man eine Polyamidsäurelösung erhielt.
- In der folgenden Tabelle 1 sind die Mengen der in den Beispielen 1 bis 10 und in den Vergleichsbeispielen 1 und 2 verwendeten Ausgangsmaterialien, d.h. die a, b, c und d Mole sowie die Werte von (2b + c)/a und d/a angegeben. Tabelle 1 a mol b mol c mol d mol (2b+c)/a d/a Beispiel Vgl.-Bsp. Vgl.-Bsp.
- Glasplatten wurden mit den in den Beispielen 1 bis 10 und in den Vergleichsbeispielen 1 und 2 jeweils synthetisierten Firnissen beschichtet und dann wurde in einem Elektroofen 1 h lang bei 300ºC calciniert, so daß jeweils ein Überzugsfilm mit einer Dicke von 1,5 um auf der Glasplatte gebildet wurde. Die Beschichtungseigenschaften, die Oberflächenhärte und die Wärmebeständigkeit wurden bewertet durch Erhitzen der auf diese Weise hergestellten Überzugsfilme bis auf eine hohe Temperatur und anschließendes Messen der Gewichtsabnahme derselben. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 2 angegeben.
- Die Fig. 1 zeigt das Infrarot-Absorptionsspektrum des in Beispiel 1 erhaltenen erfindungsgemäßen ausgehärteten Materials.
- Die Oberflächenhärte in der Tabelle 2 gibt die Bleistifthärte an, gemessen gemäß JIS K 5400. Die Beschichtungseigenschaften wurden bewertet durch visuelles Betrachten des Aussehens der auf den Glasplatten nach der obengenannten Calcinierung gebildeten Überzugsfilme, und die Bewertung "gut" wurde vergeben für den Fall, daß die Bedingungen (1) Bildung eines Überzugsfilms mit praktisch einheitlicher Dicke auf der gesamten Glasplatte, (2) glatter Überzugsfilm und (3) keine Rißbildung erfüllt waren. Die Gewichtsabnahme wurde ausgedrückt in "Gewichtsabnahme (%)" für den Fall, daß die Temperatur jedes Überzugsfilms von Normaltemperatur auf 700ºC erhöht wurde bei einer Temperatursteigerungsgeschwindigkeit von 10ºC/min unter Verwendung einer Thermowaage TGD 5000, hergestellt von der Firma Shinku Riko Co., Ltd. Tabelle 2 Beschichtungs-Flüssigkeit Beschichtungs-Eigenschaften Oberflächenhärte Gewichtsabnahme,% Beispiel Vgl.-Bsp. gut Rißbildung
Claims (8)
1. Silicium enthaltender Polyimid-Vorläufer, der eine
logarithmische Viskositätszahl von 0,05 bis 5 dl/g,
gemessen bei einer Konzentration von 0,5 g/dl bei 30 ± 0,01ºC
in N-Methyl-2-pyrrolidon, aufweist und umfaßt eine
Verbindung der Formel:
worin bedeuten:
R² eine aliphatische Gruppe mit 2 bis 12
Kohlenstoffatomen, eine alicyclische Gruppe mit 4 bis 30
Kohlenstoffatomen, eine aromatisch-aliphatische Gruppe mit
6 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine
carbocyclisch-aromatische Gruppe mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine
Polysiloxangruppe der Formel
(worin jede Gruppe R&sup5; für eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylengruppe,
eine C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenphenylengruppe, eine
C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenoxyphenylengruppe oder eine Phenylengruppe steht,
jede Gruppe R&sup6; für eine C&sub1;-C&sub6;-Alkylgruppe, eine
Phenylgruppe oder eine Alkylphenylgruppe mit bis zu 12
Kohlenstoffatomen steht und 1 einen Wert von 1 bis
100 hat) oder eine Gruppe der Formel
(worin R&sup7; für eine aliphatische Gruppe mit bis zu 8
Kohlenstoffatomen, eine aromatisch-aliphatische
Gruppe oder ein Wasserstoffatom steht);
R³ eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylen-, C&sub7;-C&sub1;&sub0;-Alkylenphenylen-, C&sub7;-C&sub1;&sub0;-
Alkylenoxyphenylen- oder Phenylen-Gruppe;
jede Gruppe R&sup4; eine C&sub1;-C&sub4;-Alkylgruppe, eine Phenylgruppe
oder eine Alkyl-substituierte Phenylgruppe mit bis zu
12 Kohlenstoffatomen;
k und m jeweils die Zahl 0, 1, 2 oder 3 und die Summe von
k und m 1 oder mehr;
n eine ganze Zahl von 1 oder mehr;
p und q jeweils eine positive ganze Zahl; und
L eine Gruppe
(worin R¹ für eine tetravalente
carbocyclisch-aromatische Gruppe steht und die beiden Carbonylgruppen einer
Imidgruppe oder eine Amidgruppe und eine Carboxylgruppe
jeweils in ortho-Stellung zueinander gebunden sind),
wobei die logarithmische Viskositätszahl inh wie folgt
definiert ist
worin die bei 30 ± 0,01ºC bei einer Konzentration von
015 g/dl in einem Lösungsmittel unter Verwendung eines
Ubbelohde-Viskosimeters gemessene Viskosität, o die
Viskosität des Lösungsmittels bei der gleichen Temperatur,
gemessen unter Verwendung des gleichen Viskosimeters, und
C die Konzentration 0,5 g/dl bedeuten.
2. Vorläufer nach Anspruch 1, worin R² steht für eine
Gruppe der Formel
worin r für die Zahl 0 oder 1 und die Gruppen R³ für
Phenylengruppen stehen.
3. Vorläufer nach Anspruch 1 oder 2, worin k und in
jeweils für die Zahl 3 stehen.
4. Ausgehärtetes Material, hergestellt aus einem
Silicium enthaltenden Polyimid, das eine Komponente der Formel
umfaßt
worin R², R³, R&sup4;, k, m und n die in Anspruch 1 angegebenen
Bedeutungen haben, L¹ für eine Gruppe der Formel steht
(worin R¹ wie in Anspruch 1 definiert ist) und v und w
jeweils positive ganze Zahlen bedeuten.
5. Ausgehärtetes Material nach Anspruch 4, worin R² und
R³ wie in Anspruch 2 definiert sind.
6. Ausgehärtetes Material nach Anspruch 4, worin k und in
jeweils die Zahl 3 bedeuten.
7. Verfahren zur Herstellung eines Silicium enthaltenden
löslichen Polyimid-Vorläufers, der umfaßt eine Komponente
der in Anspruch 1 definierten Formel (I) und eine
logarithmische Viskositätszahl von 0,05 bis 5 dl/g, gemessen
wie in Anspruch 1 definiert, aufweist, das umfaßt
das Mischen der folgenden fünf Verbindungen miteinander:
a Mole eines Dianhydrids der Formel
(worin R¹ die oben angegebene Bedeutung hat);
b Mole eines Diamins der Formel
H&sub2;N - R² - NH&sub2; (VII')
(worin R² die oben angegebene Bedeutung hat);
c Mole Aminosilicium-Verbindungen der Formeln
(worin R³, R&sup4;, k und in die oben angegebenen
Bedeutungen haben und X' für ein Halogenatom oder eine
Hydraxyl-, Alkaxy- oder Acetaxygruppe steht) und
d Mole einer Siliciumverbindung der Formel
SiX²&sub4; (IX)
(worin X² die oben für X angegebenen Bedeutungen
hat),
wobei der Wert für das Verhältnis (2b + c)/a 1,8 bis 2,2
beträgt und der Wert für das Verhältnis d/a 0,03 bis 33
beträgt; und
das Reagierenlassen der Mischung in Gegenwart eines
Lösungsmittels bei einer Temperatur van 0 bis 200ºC für
30 0,2 bis 20 h; oder alternativ
das Mischen der Verbindungen der Formeln (VI) bis (VIII')
in jeder gewünschten Reihenfolge miteinander;
das Reagierenlassen der Mischung bei einer Temperatur van
0 bis 200ºC für eine Zeitspanne von 0,2 bis 10 h;
die anschließende Zugabe der Verbindung der Formel (IX);
die Zugabe einer Säure und/oder einer geringen Menge
Wasser, falls erforderlich; und
das Reagierenlassen der Mischung bei 50 bis 200ºC für 0,2
bis 30 h.
8. Verfahren zur Herstellung eines ausgehärteten
Silicium enthaltenden Palyimids, das umfaßt das Erhitzen eines
Vorläufers nach einem der Ansprüche 1 bis 4 auf eine
Temperatur von 50 bis 500ºC, um das Lösungsmittel zu
verdampfen und gleichzeitig den Vorläufer zu
vernetzten/auszuhärten.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62283728A JP2628322B2 (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | シリコン含有可溶性ポリイミド前駆体及びその製造法 |
| JP62285050A JP2607104B2 (ja) | 1987-11-11 | 1987-11-11 | シリコン含有ポリイミド硬化物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3852987D1 DE3852987D1 (de) | 1995-03-23 |
| DE3852987T2 true DE3852987T2 (de) | 1995-06-01 |
Family
ID=26555170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3852987T Expired - Fee Related DE3852987T2 (de) | 1987-11-10 | 1988-11-09 | Silizium enthaltendes Polyimid-Prepolymer, davon abgeleitete ausgehärtete Produkte und Verfahren zu deren Herstellung. |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4970283A (de) |
| EP (1) | EP0316154B1 (de) |
| KR (1) | KR910008341B1 (de) |
| DE (1) | DE3852987T2 (de) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2619515B2 (ja) * | 1989-02-02 | 1997-06-11 | チッソ株式会社 | シリコンポリイミド前駆体組成物 |
| KR0159287B1 (ko) * | 1991-01-24 | 1999-01-15 | 윤종용 | 실록산 변성 폴리이미드 수지의 제조방법 |
| JPH04351667A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及び電子部品用保護膜 |
| US5300627A (en) * | 1991-10-17 | 1994-04-05 | Chisso Corporation | Adhesive polyimide film |
| US5241041A (en) * | 1991-12-16 | 1993-08-31 | Occidental Chemical Corporation | Photocrosslinkable polyimide ammonium salts |
| JP2722915B2 (ja) * | 1992-01-17 | 1998-03-09 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性樹脂及びその製造方法並びに電子部品用保護膜 |
| CN1106788C (zh) * | 1996-02-13 | 2003-04-23 | 日东电工株式会社 | 电路基片 |
| KR101543478B1 (ko) * | 2010-12-31 | 2015-08-10 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 투명 폴리이미드 필름 및 그 제조방법 |
| JP7823391B2 (ja) * | 2020-03-24 | 2026-03-04 | 東レ株式会社 | 樹脂膜、その製造方法、樹脂組成物、ディスプレイおよびその製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3948835A (en) * | 1973-06-07 | 1976-04-06 | Ciba-Geigy Corporation | Silicon-modified prepolymers |
| US3950308A (en) * | 1973-06-07 | 1976-04-13 | Ciba-Geigy Corporation | Crosslinked polymers containing siloxane groups |
| US3926911A (en) * | 1973-06-07 | 1975-12-16 | Ciba Geigy Corp | Crosslinked polymers containing siloxane groups |
| JPS61108627A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Chisso Corp | 可溶性ポリイミドシロキサン前駆体及びその製造方法 |
| US4499252A (en) * | 1984-03-28 | 1985-02-12 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd. | Process for producing polyimide precursor |
| JPH0610260B2 (ja) * | 1984-10-29 | 1994-02-09 | チッソ株式会社 | シリコ−ンポリイミド前駆体の製法 |
| JPS61207438A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-13 | Chisso Corp | 可溶性ポリイミドシロキサン前駆体及びその製造方法 |
| JPH0617474B2 (ja) * | 1985-05-31 | 1994-03-09 | チッソ株式会社 | 高接着性シリコン含有ポリアミド酸の製造法 |
| US4609700A (en) * | 1985-06-19 | 1986-09-02 | Chisso Corporation | Soluble imide oligomer and a method for producing the same |
| JPH0768347B2 (ja) * | 1985-09-25 | 1995-07-26 | 株式会社日立製作所 | 有機ケイ素末端ポリイミド前駆体とポリイミドの製造方法 |
| JPS62265326A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Chisso Corp | 塗膜性良好な可溶性ポリイミドシロキサン前駆体の製造法及び硬化物の製造法 |
| JPS6315223A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-22 | Chisso Corp | 液晶配向膜用塗布液及び加熱により形成された液晶配向膜 |
-
1988
- 1988-11-09 DE DE3852987T patent/DE3852987T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-09 KR KR1019880014686A patent/KR910008341B1/ko not_active Expired
- 1988-11-09 EP EP88310548A patent/EP0316154B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-10 US US07/269,299 patent/US4970283A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3852987D1 (de) | 1995-03-23 |
| EP0316154A3 (en) | 1989-08-16 |
| KR890008205A (ko) | 1989-07-10 |
| US4970283A (en) | 1990-11-13 |
| KR910008341B1 (ko) | 1991-10-12 |
| EP0316154B1 (de) | 1995-02-08 |
| EP0316154A2 (de) | 1989-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE68917952T2 (de) | Herstellung von Silicon enthaltendem Polyimid-Prepolymer und davon erhaltene gehärtete Polyimide. | |
| DE69214051T2 (de) | Siloxan modifiziertes Polyimid-Harz und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE3486131T2 (de) | Harzmaterial mit geringer thermischer Ausdehnung für Verdrahtungsisolationsfolie. | |
| DE3855656T2 (de) | Schmelzformbares kristallines Polyimid | |
| DE69026158T2 (de) | Gedruckte Schaltung auf flexibler Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| EP0208396B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von siliciumenthaltender haftender Polyamidsäure und vernetzte Polyimide | |
| DE69710048T2 (de) | Polymialcopolymer, Formteile aus Polymialcopolymer sowie ein Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE3874372T2 (de) | Polysiloxan-polyimide und verfahren zu deren herstellung. | |
| DE2426910C2 (de) | ||
| DE60305114T2 (de) | Imidsiliconharz und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE60220265T2 (de) | Siliciumhaltiges Copolymer und Verfahren zur Herstellung desselben | |
| DE19804617A1 (de) | Siloxan-Polyimid und wärmebeständiges Haftmittel, das dasselbe enthält | |
| DE68906247T2 (de) | Polyimid mit niedrigem elastizitaetsmodul und seine herstellung. | |
| DE3131907C2 (de) | Polyamidsäure-Silicon-Zwischenprodukt und dessen Herstellung | |
| DE3873844T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines silicon enthaltenden polyimids sowie dessen vorstufe. | |
| DE602004001920T2 (de) | Siloxanpolymer, Verfahren zur Herstellung und hitzehärtende Harzzusammensetzung | |
| DE4217603A1 (de) | Haertbare harzzusammensetzungen und schutzbeschichtung fuer elektronische bauteile | |
| DE69700977T2 (de) | Polyimidvorläuferlösung, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung oder eines Films daraus | |
| DE60302853T2 (de) | Farbloses und transparentes Polyimidsilikonharz mit wärmehärtenden funktionellen Gruppen | |
| DE69129596T2 (de) | Polyimid gegründeter Flüssigkristalle aufstellender Wirkstoff | |
| DE3888666T2 (de) | Polyimid-Harz und Isolationsschicht für elektrische oder elektronische Geräte. | |
| DE69029413T2 (de) | Zusammensetzung aus Silicon-Polyimid-Vorläufern | |
| DE69803012T2 (de) | Polyimidfolie, ein Verfahren zu ihrer Herstellung, und eine mit Metallfolie verbundene Polyimidfolie | |
| KR910008341B1 (ko) | 실리콘-함유 가용성 폴리이미드 전구체, 이의 경화 물질, 및 이의 제조방법 | |
| DE69514635T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyimidharz |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |