DE68905988T2 - Aluminium-legierung fuer magnetplattensubstrate mit ausgezeichneter plattierbarkeit. - Google Patents

Aluminium-legierung fuer magnetplattensubstrate mit ausgezeichneter plattierbarkeit.

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DE68905988T2 DE89117983T DE68905988T DE68905988T2 DE 68905988 T2 DE68905988 T2 DE 68905988T2 DE 89117983 T DE89117983 T DE 89117983T DE 68905988 T DE68905988 T DE 68905988T DE 68905988 T2 DE68905988 T2 DE 68905988T2
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Aluminiumlegierung für ein Magnetplattensubstrat, und insbesondere betrifft sie eine Alumlnlumlegierung mit ausgezeichneter Plattierbarkeit, welche die Adhäsion stromloser Beschichtungen bei der Grundierbeschichtung, die Glätte der plattierten Oberfläche etc. verbessert.
  • Als Aufzeichnungsplatte, die für die Aufzeichnungsvorrichtung elektronischer Computer verwendet wird, setzt man im allgemeinen jene ein, bei der die Oberfläche eines eine Aluminiumlegierung umfassenden Substrats mit magnetischem Material beschichtet ist. Eine derartige Magnetplatte wird in der Weise hergestellt, daß das Substrat zu einer festgelegten Dicke bearbeitet und die Oberfläche spiegelähnlich poliert wird, mit einer Mischung aus dem Pulver einer magnetischen Substanz und dem Pulver eines Harzes beschichtet und dann eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, um den Film aus der magnetischen Substanz zu bilden.
  • In letzter Zeit sind bei den Magnetplatten große Speichervermögen und hohe Dichte erforderlich geworden. Somit wird der magnetische Bereich der Magnetplatte pro Bit zunehmend kleiner hergestellt, und gleichzeitig war es erforderlich, den freien Raum zwischen dem Magnetkopf und der Magnetplatte zu verkleinern. Als Ergebnis entstanden ebenfalls für den aus der magnetischen Substanz bestehenden Film Anforderungen bezüglich der dünneren Herstellung und der Verbesserung der Abriebbeständigkeit. Aus diesem Grund wird eine Magnetplatte vorgeschlagen, bei der, nachdem das Substrat zu einer festgelegten Dicke bearbeitet und die Oberfläche spiegelähnlich behandelt wurde, ein hartes nichtmagnetisches Metall, z.B. Ni-P, stromlos als ein Grundiermlttel zur Beschichtung mit der magnetischen Substanz und dann eine magnetische Substanz, z. B. eine Co-Ni-P-Legierung mittels Sputtern oder elektrochemisches Beschichten aufbeschichtet werden.
  • Für ein derartiges Magnetplattensubstrat werden folgende Charakteristiken gefordert.
  • (1) Es sollte von dem Typ sein, das keine Wärmebehandlung erfordert, und es sollte eine ausreichende Festigkeit besitzen, um die Hochgeschwindigkeitsrotation während der verschiedenen Verarbeitungsschritte und der Anwendung auszuhalten.
  • (2) Es sollte ein geringes Gewicht besitzen, es sollte dazu in der Lage sein, durch Polieren eine spiegelähnliche Oberfläche zu erhalten und es sollte keine Oberflächendefekte, wie Vertiefungen bzw. Löcher etc. auftreten lassen.
  • (3) Die Adhäsion der die Grundierungsbehandlung darstellenden stromlosen Beschichtung sowie die Glätte der Oberfläche sollten ausgezeichnet sein, und es sollten keine Defekte, wie Vertiefungen bzw. Löcher etc. auch nicht nach der Beschichtung auftreten.
  • Als ein diese Charakteristiken erfüllendes Substrat für Magnetplatten wird die JIS A5086-Legierung (Mg 3,5 - 4,5 Gew.-%, Fe ≤ 0,50 Gew.-%, Si ≤ 0,40 Gew.-%, Mn 0,20 - 0,7 Gew.-%, Cr 0,05 - 0,25 Gew.-%, Cu ≤ 0,10 Gew.-%, Ti ≤ 0,15 Gew.- %, Zn ≤ 0,25 Gew.-% und der Rest Al) eingesetzt oder es wird eine Legierung verwendet, in welcher die in der Matrix hergestellten intermetallischen Verbindungen durch Regulierung von Fe, Si, etc. verringert werden, die die Verunreinigungen in der JIS A5086-Leglerung darstellen.
  • Bei dem die besagte JIS A5086-Legierung umfassenden Substrat gab es allerdings insofern ein Problem, als daß der durch stromloses Beschichten erhaltene Bezug sich gelegentlich im Beschichtungsprozeß mit der magnetischen Substanz oder während des Gebrauchs ablöste, und zwar aufgrund der schwachen Adhäsion beim stromlosen Beschichten, wenn diese die Grundierungsbehandlung für die Beschichtung mit der magnetischen Substanz ist. Außerdem kann nicht behauptet werden, daß die Oberflächenglätte nach der stromlosen Beschichtung ausreichend ist. Das heißt, die intermetallischen Verbindungen fallen zur Zeit der Zinkatbehandlung heraus, wodurch Löcher entstehen. Diese Löcher verschwinden in vielen Fällen durch nachfolgendes Polieren, wenn die Dicke der stromlosen Plattierung 20 um beträgt, aber aufgrund der neueren Tendenz, die Beschichtungsdicke dünner zu gestalten (z. B. 17 um), kommt es vor, daß Löcher selbst nach dem sich an das Beschichten anschließende Polierenzurückbleiben. Außerdem wird die Platte aus der Aluminiumlegierung zu einer festgesetzten Größe herausgestanzt und dann einer Schnitt- oder Mahlpolierung unterworfen. Zu diese Zeit fallen in einigen Fällen die intermetallischen Verbindungen heraus, so daß Lochdefekte entstehen. Wie bezüglich der Verbesserung der Plattierbarkeit von Magnetplatten beschrieben wurde, ist es besonders wünschenswert, hauptsächlich die Anzahl der intermetallischen Verbindungen der Aluminiumlegierung für das Substrat zu vermindern und ebenfalls das Größenausmaß kleiner zu gestalten. Verschiedenartige Maßnahmen wurden dafür ergriffen, jedoch sind ausreichende Ergebnisse nicht unbedingt erreicht worden.
  • Darüber hinaus ist die Korrosionsbeständigkeit des Magnetplattensubstrats ebenfalls eine der wichtigen Charakteristiken, jedoch kann nicht behauptet werden, daß diese bisher ausreichend war. Als ein Ergebnis von verschiedenen Untersuchungen der Erfinder wurde klar, daß bezüglich der Verringerung der besagten Korrosionsbeständigkeit kleine Defekte in dem Beschichtungsfilm ebenfalls signifikant zusammen mit der Korrosionsbeständigkeit des Al-Substrats beeinträchtigend wirken.
  • Als Folge von ausführlichen Untersuchungen im Bereich der besagten Probleme wurde bekannt, daß es für die Adhäsion der stromlosen Beschichtung mit einer Ni-P-Legierung und der Glätte der beschichteten Oberfläche notwendig ist, den Zinkatfilm der Vorbehandlung dünn, einheitlich und dicht adhärieren bzw. anhaften zu lassen, und es hat sich ferner herausgestellt, daß die Adhäsion des beschichteten Films mit der Ni-P-Legierung nicht nur durch das Haftverhalten des Zinkatfilms, sondern auch durch den Durchmesser der Kristallkörnchen im Material und der der Matrix hinzuzufügenden Spurenelemente beeinflußt wird, d. h., wenn die Kristallkörnchen klein sind,wird die Adhäsion verstärkt und die Adhäsion und die winzigen Defekte in dem plattierten Film werden ebenfalls durch den Typ und die Menge der hinzuzsetzenden Spurenelemente reguliert. Nach weiteren Untersuchungen wurde die Aluminiumlegierung für das Magnetplattensubstrat gemäß der Erfindung entwickelt, in der durch Kombination der besagten Effekte durch Wechselwirkungen untereinander folgendes Ergebnis erzielt werden kann: die Adhäsion der die Grundierungsbeschichtung darstellenden stromlosen Beschichtung ist ausgezeichnet und doch ist die plattierte Oberfläche glatt, es gibt keine Oberflächendefekte und die Korrosionsbeständigkeit des beschichteten Substrats ist ebenfalls ausgezeichnet.
  • Eine der Legierungen der Erfindung (A) ist eine Aluminiumlegierung für ein Magnetplattensubstrat mit ausgezeichneter Plattierbarkelt, die dadurch gekennzeichnet ist, daß nicht weniger als 0,010 Gew.-% und weniger als 0,03 Gew.-% Cu. nicht weniger als 2 Gew.-% und nicht mehr als 6 Gew.-% Mg sowie nicht weniger als 0,05 Gew.-% und nicht mehr als 2,0 Gew.-% Zn enthalten sind, daß weiterhin eines oder mehrere von mehr als 0,01 Gew.-% und weniger als 0,05 Gew.-% Mn und mehr als 0,01 Gew.-% und weniger als 0,05 Gew.-% Cr enthalten sind, wobei der Rest Al ist, und daß als Verunreinigungselemente Si, Fe, Ti bzw. ein anderes einzelnes unvermeidbares Element so reguliert werden, daß sie nicht mehr als 0,1 Gew.-%, nicht mehr als 0,1 Gew.-%, nicht mehr als 0,02 Gew.-% bzw. nicht mehr als 0,02 Gew.-% ausmachen. Eine weitere Aluminiumlegierung der Legierungen der Erfindung (B) ist eine Aluminiumlegierung für ein Magnetplattensubstrat mit ausgezeichneter Plattierbarkeit, die dadurch gekennzeichnet ist, daß nicht weniger als 0,010 Gew.-% und weniger als 0,03 Gew.-% Cu, nicht weniger als 2 Gew.-% und nicht mehr als 6 Gew.-% Magnesium, nicht weniger als 0,05 Gew.-% und nicht mehr als 2,0 Gew.-% Zn und nicht weniger als 0,005 Gew.-% und weniger als 0,05 Gew.-% Zr enthalten sind, weiterhin eines oder mehrere von mehr als 0,01 Gew.-% und weniger als 0,05 Gew.- % Mn und mehr als 0,01 Gew.-% und weniger als 0,05 Gew.-% Cr enthalten sind, wobei der Rest Al ist, und daß als Verunreinigungselemente Si, Fe, Ti bzw. ein anderes einzelnes unvermeidbares Element so reguliert werden, daß sie nicht mehr als 0,1 Gew.-%, nicht mehr als 0,1 Gew.-%, nicht mehr als 0,02 Gew.-% bzw. nicht mehr als 0,02 Gew.-% ausmachen.
  • Im folgenden werden die Bedeutung der hinzuzufügenden Elemente und der Grund für die Einschränkung der Legierungszusammensetzungen in den Legierungen der Erfindung erläutert (nachfolgend wird Gew.-% in den Legierungszusammensetzungen einfach mit % abgekürzt).
  • Mg wird zugesetzt um hauptsächlich die Festigkeit zu erhalten, und der Grund, warum der Gehalt desselben auf nicht weniger als 2 % und nicht mehr als 6 % beschränkt ist, ist dadurch bedingt daß bei weniger als 2 % keine ausreichende Festigkeit erhalten werden kann, und bei mehr als 6 % eine intermetallische Al- Mg-Verbindung gebildet wird, und gleichzeitig macht sich die Bildung von nichtmetallischen Einschlüssen, wie MgO, durch die Hochtemperaturoxidation beim Schmelzen und Formen bemerkbar, was, bedingt durch Locher, zum Auftreten von Defekten führt.
  • Zn macht die Zinkatbehandlung möglich und der Grund, warum der Gehalt desselben auf nicht weniger als 0,05 % und nicht mehr als 2,0 % beschränkt ist, wird dadurch bedingt, daß bei weniger als 0,05 % die Wirkung der Zinkatbehandlung unzureichend ist und bei mehr als 2,0 % die Walzenverarbeitbarkeit und die Korrosionsbeständigkeit vermindert werden, und insbesondere die Korrosionsbeständigkeit des Materials ist ebenfalls im Beschichtungsverfahren schlecht, wodurch die Zinkatbehandlung uneinheltlich wird und die Adhäsion der Beschichtung und die Glätte der Oberfläche vermindert werden. Außerdem wird durch Einstellung des Gehalts des Zn innerhalb des besagten Bereichs die Menge des gelösten Al zur Zeit der Zinkatbehandlung vermindert, und die Glätte kann bei der nachfolgenden stromlosen Beschichtung erhöht werden.
  • Die Zugabe von Cu erfolgt aus dem Grund, daß die gelöste Menge des Al zur Zeit der Zinkatbehandlung vermindert wird, weiterhin wird der Zinkatfilm dünn, einheitlich und dicht adhäriert, um die Oberflächenglätte der nachfolgenden stromlosen Beschichtung zu erhöhen, und gleichzeitig werden geringe Defekte im beschichteten Film vermindert, wodurch ein brauchbarer Film entsteht, wobei die Korrosionsbeständigkeit des beschichteten Trägers, die eine wichtige Charakteristik des beschichteten Substrats ist, zufriedenstellend ist. Der Grund, warum der Gehalt von Cu auf nicht weniger als 0,010% und nicht weniger als 0,03 % in (A) und (B) der Legierungen der Erfindung beschränkt ist, ist der, daß bei weniger als 0,010 % die Wirkung auf die Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit des beschichteten Substrats geringer ist, und bei 0,03 % oder mehr ist die Korrosionsbeständigkelt des Materials selbst signifikant vermindert, und insbesondere die Korrosionsbeständigkeit des Materials selbst ist in dem Beschichtungsverfahren gering, wodurch die Zinkatbehandlung uneinheitlich wird und die Adhäsion der Beschichtung und die Oberflächenglätte schlecht werden. Die Fotos der Fig. 1, (A), (B), (C) und (D), zeigen das Aussehen von Legierungen (X 500, mittels eines optischen Mikroskops aufgenommene Fotos), in denen verschiedene Mengen von 0%, 0,02 %, 0,05% bzw. 0,15% Cu einer Legierung auf Al-Bais mit 4,0 % Mg, 0,5 % Zn, 0,03 % Mn, 0,03 % Cr zugesetzt und die hergestellten Legierungen der Beschichtung unterzogen wurden.
  • Das Äußere der Legierung mit 0% Cu, d. h. ohne Zugabe von Cu, zeigt unter den obigen Legierungen eine rauhe Gesamtoberfläche, wohingegen die Legierung mit Zugabe von 0,02 % Cu äußerlich eine glatte Oberfläche ergibt.
  • Allerdings taucht allmählich die Rauheit der Oberfläche mit Zunahme der Zugabemenge an Cu wieder auf. Das Äußere der Legierung mit Zusatz von 0,05 % Cu ist ein wenig rauher als das mit Zusatz von 0,02 % Cu, und die Rauheit derselben tritt dann in bemerkenswertem Maße auf, wenn die Zusatzmenge des Cu 0,15 % erreicht.
  • Mn, Cr und Zr lagern sich als winzige Verbindungen zur Zeit der Homogenisierungsbehandlung des Rohblocks und/oder beim Heißwalzen und Tempern ab. Ein Teil davon wird in die feste Lösung in der Matrix eingebracht, um die Festigkeit zu erhöhen und die rekristallisierten Körnchen fein zu machen, dadurch üben sie den Effekt aus, daß sie die Adhäsion der stromlosen Beschichtung erhöhen und zu der Verbesserung in den Schneide- und Poliereigenschaften des Substrats aus der Aluminiumlegierung beisteuern und durch Wechselwirkung untereinander die Verbesserung in der Adhäsion des Ni-P-Beschichtungsfilms bewirken. Der Grund, warum die Mengen derselben auf die jeweiligen besagten Bereiche beschränkt sind, ist der, daß bei Werten unter den unteren Grenzen die Wirkungen unzureichend sind, und oberhalb der oberen Grenzen werden nicht nur Überschußelemente während der Behandlung der Schmelze durch den Filter beim Formen entfernt, was eine vergebliche Mühe bedeutet, sondern es werden auch grobe intermetallische Verbindungen gebildet, die beim Schneiden und Polieren sowie bei dem Ätzen mit Alkalien und der Zinkatbehandlung herausfallen, wodurch der Lochdefekt verursacht wird.
  • Unter diesen können Mn und Cr ihre Wirkungen ausüben, wenn sie einzeln hinzugegeben werden, jedoch können größere Wirkungen durch kombinierten Zusatz erreicht werden. Da keine ausreichenden Effekte durch einzelne Zugabe von Zr im Vergleich zu Mn und Cr erhalten werden können, ist es erforderlich, es in Kombination mit Mn und/oder Cr zuzusetzen, und in solchen Fällen können stärkere Wirkungen erhalten werden als in dem Fall des Zusatzes von Mn und/oder Cr.
  • Der Grund, warum Fe und Si jeweils auf nicht mehr als 0,1 % beschränkt sind, liegt darin, daß Fe und Si aufgrund der Ablagerung als intermetallische Verbindungen kaum in die feste Lösung in Aluminium eingebracht werden können, und bei großen Mengen derselben liegt eine Reihe von groben intermetallischen Verbindungen der Typen Al-Fe, Al-Fe-Si etc. vor und fallen beim Schneiden und Polieren des Substrats und bei der Zinkatbehandlung heraus, wodurch die Tendenz besteht, daß Lochstellendefekte verursacht werden.
  • Außerdem wirken sich andere nicht vermeidbare Verunreinigungselemente (z. B. Ni, V, B etc.) nicht auf die Charakteristika der Legierungen der Erfindung aus, wenn sie nicht zu jeweils mehr als 0,02 % vorliegen.
  • Weiterin ist es bezüglich der intermetallischen Verbindungen, die in der Struktur der Legierungen der Erfindung enthalten sind, wünschenswert, einen maximalen Durchmesser von nicht mehr als 15 um herzustellen. Die intermetallischen Verbindungen fallen nicht nur beim Ätzen mit Alkalien und bei der Zinkatbehandlung, sondern auch beim Schneiden und Polieren des aus der Aluminiumlegierung bestehenden Substrats heraus, wodurch Lochstellendefekte verursacht werden, diese können jedoch während der nachfolgenden stromlosen Beschichtung weitestgehend abgedeckt werden, und weiterhin werden die Loch stellen nach dem Polieren des beschichteten Substrats in ihrer Größe beträchtlich kleiner als wirkliche intermetallische Verbindungen. Mit dem gegenwärtigen Trend zu hoher Dichte und großer Speicherkapazität erhöhen sich auch die an das Plattensubstrat gestellten Eigenschaften, und die Situation ist die, daß z. B. bei einem 88,9 mm (3,5") Plattenträger eine einen Durchmesser von 5 um übersteigende Lochstelle in der Oberfläche nach dem Plattieren und der nachfolgenden Polierung nicht akzeptiert werden kann. Als ein Ergebnis der ausführlichen Untersuchungen wurde den Erfindern bekannt, daß der maximale Durchmesser der intermetallischen Verbindung in der Aluminiumlegierung nicht mehr als 15 um betragen darf, um zu erreichen, daß der maximale Durchmesser der Lochstellen in der Oberfläche nach dem Plattieren und der nachfolgenden Polierung nicht mehr als 5 um beträgt. Außerdem variiert der Lochdurchmesser in Abhängigkeit von der Dicke des Films nach dem Plattieren und der anschließenden Polierung. Wenn die Dicke des plattierten Films mindestens nicht weniger als 10 um nach der Plattierung und dem nachfolgenden Polieren beträgt, ist es möglich, einen maximalen Durchmesser der Lochstellen nach der Plattierung und dem nachfolgenden Polieren von nicht mehr als 5 um zu erhalten, falls der maximale Durchmesser der intermetallischen Verbindung in der Legierung nicht mehr als 15 um beträgt.
  • Außerdem kann die Legierung der Erfindung nicht nur für das Substrat, das mit der Plattierung grundiert werden soll, verwendet werden, sondern auch für herkömmliches Substrat vom Beschichtungs-Typ.
  • Beispiele 1 bis 17 und Vergleichsbeispieie 18 bis 45
  • Ein herkömmliches Al-Metall mit einer Reinheit von mehr als 99.5 % wurde geschmolzen und Legierungselemente wurden zugegeben, um Legierungsschmelzen mit den in Tabelle 1 gezeigten Zusammensetzungen herzustellen. Nach dem Entgasen, Absetzen und Filtern durch einen Filter wurden die Schmelzen unter Kühlung mit Wasser geformt, um Rohblöcke mit einer Dicke von 350 mm, einer Breite von 1000 mm und einer Länge von 2000 mm zu erhalten. Auf beiden Seiten dieser Rohblöcke wurden 10 mm abrasiert und anschließend wurden die Rohblöcke einer Durchweichungsbehandlung während etwa 6 Stunden bei einer Temperatur von 480 ± 30ºC unterzogen. Nachfolgend wurden sie dem Heißwalzen oder Kaltwalzen gemäß dem herkömmlichen Verfahren unterworfen, um Platten mit einer Dicke von 1,5 mm zu erhalten.
  • Aus diesen Platten wurden Scheiben mit einem Durchmesser von 95 mm ausgestanzt und nach dem Tempern bei 350ºC während 2 Stunden wurde eine Grob- und Feinpolierung durchgeführt, um mit einer spiegelähnlichen Oberfläche abzuschließen. Diese Platten wurden mit einem herkömmlichen Lösungsmittel entfettet und 30 Sekunden bei 40ºC mit 5 %-iger wäßriger NaOH-Lösung geätzt, und sodann wurden Flecke durch 30 Sekunden lange Behandlung mit 30 %-iger wäßriger HNO&sub3;-Lösung bei Raumtemperatur entfernt. Anschließend wurde der maximale Durchmesser der intermetallischen Verbindungen bestimmt. Nacheinander wurden die Zinkatbehandlung und dann die stromlose Plattierung mit der Ni-P-Legierung durchgeführt, und weiterhin schloß sich eine Endpolierung an. Danach wurden die Adhäsion des plattierten Films, die Glätte der Oberfläche und der Lochstellendefekt bestimmt. Diese Ergebnisse wurden mit denen der herkömmlichen JIS A5086-Legierung (Mg 4 %, Mn 0,5 %, Cr 0,2 %, Fe 0,3%, Si 0,05%, Ti 0,01 %, Zn 0,01 % und als Rest Al) verglichen und in Tabelle 1 wiedergegeben. Tabelle 1 (1) Chemische Zusammensetzung (Gew.-%) Andere Verunreinigungen u. Al Legierung der Erfindung Vergleichslegierung Rest Bemerkung) Das Zeichen - in der Tabelle steht für die Menge 0,000 Gew.-% oder weniger Tabelle 1 (1) - Fortsetzung Max. Durchmesser der intermetallischen Verbindung (um) Adhäsion Oberflächenrauhigkeit Ra (um) Oberflächendefekte Chlorwasserstoffsäure-Beständigkeit Legierung der Erfindung Vergleichslegierung Tabelle 1 (2) Chemische Zusammensetzung (Gew.-%) Andere Verunreinigungen u. Al Vergleichslegierung Herkömml. Legierung Legierung Rest Bemerkung) Das Zeichen - in der Tabelle steht für die Menge 0,000 Gew.-% oder weniger Tabelle 1 (2) - Fortsetzung Maximaler Durchmesser der intermetallischen Verbindung (um) Adhäsion Oberflächenrauhigkeit Ra (um) Oberflächendefekte Chlorwasserstoffsäure-Beständigkeit Vergleichslegierung Herkömml. Legierung
  • Außerdem wurde anstelle der Zinkatbehandlung eine doppelte Zinkatbehandlung unter Verwendung von Arb 302ZN (Handelsname, Okuno Pharmaceutical) durchgeführt, und für die stromlose Beschichtung mit der Ni-P-Legierung wurde der Ny 719-Überzug (Handelsname, Okuno Pharmaceutical) verwendet. Die stromlose Ni-P-Beschichtung wurde mit einer Dicke von 17 um hergestellt, und ein Spielraum von 4 um wurde für die anschließende Endpolierung (Schleifen) zurückgelassen, wodurch endgültig eine Dicke von 13 um blieb.
  • Bezüglich der Adhäsion wurden Proben mit einer Größe von 50 mm im Quadrat nach dem Polieren des Bezugs herausgeschnitten, 30 Minuten bei einer Temperatur von 400ºC erhitzt und sofort mit Wasser normaler Temperatur abgekühlt. um das Abschälen und die Blasenbildung des Bezugs, die auf dem Unterschied in der thermischen Expansion zwischen der Aluminiumlegierung und der Ni-P- Legierung zurückzuführen sind, zu untersuchen, wobei eine Probe ohne Abschälung oder Blasenbildung mit O gekennzeichnet wurde, eine Probe, bei der dieses nur leicht auftrat, mit Δ gekennzeichnet wurde, und eine Probe, bei der sie in einer großen Anzahl auftraten, mit X gekennzeichnet wurde (eine Probe mit O ist akzeptierbar und eine mit Δ oder X ist nicht akzeptierbar). Außerdem wurde bezüglich der Glätte die Oberflächenrauheit nach dem Polieren des Bezugs unter Anwendung eines allgemeinen Oberflächenrauheits-Testers SE-3H (hergestellt von Kosaka Laboratory) bestimmt, und der durchschnittliche Wert von vier Messungen der durchschnittlichen Zentrallinienhöhe Ra (um), beschrieben in JIS B0601, wurde dargestellt. Bezüglich des Ausmaßes von Oberflächendefekten wurde die Oberfläche des plattierten Substrats unter einem optischen Mikroskop nach der abschließenden Endpolierung (Polierung des Bezugs) betrachtet, wobei ein Fall, bei dem der maximale Durchmesser einer bestehenden Lochstelle 5 um überstieg, mit X bezeichnet wurde, und der Fall, bei dem der maximale Durchmesser nicht mehr als 5 um trotz der Anwesenheit von Lochstellen betrug, mit O gekennzeichnet wurde. Weiterhin wurde in bezug auf die Korrosionsbeständigkeit des beschichteten Substrats eine Bestimmung mittels des Chlorwasserstoffsäure-Beständigkeitstest durchgeführt (die Eintauchzeit in eine 1N Chlorwasserstoffsäurelösung bei Raumtemperatur betrug 24 Stunden), wobei folgende Kennzeichnung getroffen wurde: O zeichnet den Fall, daß keine Abschälung oder Blasenbildung in dem beschichteten Film auftrat, Δ bedeutet ein leichtes Auftreten und X bedeutet das Auftreten einer großen Anzahl (O ist akzeptabel und Δ oder X sind nicht akzeptabel).
  • Wie aus Tabelle 1 ersichtlich ist, treten in der Legierng der Erfindung praktisch keine durch Lochstellen bedingten Defekte auf, und sie ist in den Charakteristika, wie Adhäsion, Glätte, Korrosionsbeständigkeit etc. ausgezeichnet, wenn sie als Plattierungssubstrat eingesetzt wird. Dagegen sind bei Vergleichsmaterialien, die außerhalb des Bereichs der Erfindung liegen, oder bei der JIS A5086-Legierung, die das herkömmliche Material darstellt, entweder die eine oder andere der Charakteristika Adhäsion, Oberflächenglätte, Oberflächendefekte und Korrosionsbeständigkeit sichtlich verschlechtert.
  • Wie beschrieben, ist die Adhäsion der stromlosen Beschichtung, die die Grundierungsbehandlung darstellt, ausgezeichnet, wenn die Legierung der Erfindung als Magnetplattensubstrat zur Beschichtung eingesetzt wird, dennoch ist die Oberfläche nach der Beendigung der Beschichtung glatt und weist keine Defekte auf, ebenso ist die Korrosionsbeständigkeit des Substrats nach der Beschichtung ausgezeichnet. Die Erfindung ist deshalb sichtbar industriell wirksam, indem sie die Herstellung von großen Speicherkapazitäten und hochen Dichten bei Magnetplatten und bei anderem möglich macht.

Claims (2)

1. Aluminiumlegierung für ein Magnetplattensubstrat mit ausgezeichneter Plattierbarkeit, dadurch gekennzeichnete daß nicht weniger als 0,010 Gew.% und weniger als 0,03 Gew.% Cu, nicht weniger als 2 Gew.% und nicht mehr als 6 Gew.% Mg sowie nicht weniger als 0,05 Gew.% und nicht mehr als 2.0 Gew.% Zn enthalten sind, daß weiterhin eines oder mehrere von mehr als 0,01 Gew.% und weniger als 0,05 Gew.% Mn und mehr als 0,01 Gew.% und weniger als 0,05 Gew.% Cr enthalten sind, wobei der Rest Al ist, und daß als Verunreinigungselemente Si, Fe, Ti bzw. ein anderes einzelnes unvermeidbares Element so reguliert werden, daß sie nicht mehr als 0,1 Gew.%, nicht mehr als 0,1 Gew.%, nicht mehr als 0,02 Gew.% bzw. nicht mehr als 0,02 Gew.% ausmachen.
2. Aluminiumlegierung für ein Magnetplattensubstrat mit ausgezeichneter Plattierbarkeit, dadurch gekennzeichnet, daß nicht weniger als 0,010 Gew.% und weniger als 0,03 Gew.% Cu, nicht weniger als 2 Gew.% und nicht mehr als 6 Gew.% Mg, nicht weniger als 0,05 Gew.% und nicht mehr als 2,0 Gew.% Zn sowie nicht weniger als 0,005 Gew.% und weniger als 0,05 Gew.% Zr enthalten sind, daß weiterhin eines oder mehrere von mehr als 0,01 Gew.% und weniger als 0,05 Gew.% Mn und mehr als 0,01 Gew.% und weniger als 0,05 Gew.% Cr enthalten sind, wobei der Rest Al ist, und daß als Verunreinigungselemente Si, Fe, Ti bzw. ein anderes einzelnes unvermeidbares Element so reguliert werden, daß sie nicht mehr als 0,1 Gew.%, nicht mehr als 0,1 Gew.%, nicht mehr als 0,02 Gew.% bzw. nicht mehr als 0,02 Gew.% ausmachen.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04205814A (ja) * 1990-11-30 1992-07-28 Nec Corp 磁気記憶体
CH683188A5 (de) * 1991-01-11 1994-01-31 Alusuisse Lonza Services Ag Aluminiumoberflächen.
JPH05282668A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Kobe Steel Ltd 垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法
JPH06162493A (ja) * 1992-11-18 1994-06-10 Nec Ibaraki Ltd 磁気ディスク用基板
JP3107480B2 (ja) * 1993-06-16 2000-11-06 日本鋼管株式会社 磁気ディスク用チタン製基板
JP5480599B2 (ja) * 2009-11-10 2014-04-23 株式会社神戸製鋼所 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法
JP6302721B2 (ja) * 2014-03-31 2018-03-28 株式会社神戸製鋼所 アルミニウム合金板
JP5762612B1 (ja) 2014-09-27 2015-08-12 株式会社Uacj 磁気ディスク基板用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、磁気ディスクの製造方法
CN107532245B (zh) * 2015-05-28 2019-07-16 株式会社Uacj 磁盘用铝合金基板及其制造方法、以及使用了该磁盘用铝合金基板的磁盘
CN109097641B (zh) * 2018-09-19 2020-01-14 东莞市灿煜金属制品有限公司 一种适用于手机后壳及中板边框一体的高强度可镜面氧化铝的制造方法
CN110527878B (zh) * 2019-09-23 2021-06-18 东莞市灿煜金属制品有限公司 一种笔记本电脑专用铝合金的制造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5698461A (en) * 1980-01-08 1981-08-07 Kobe Steel Ltd Manufacture of al alloy plate for magnetic disk
JPS60140B2 (ja) * 1980-01-28 1985-01-05 株式会社神戸製鋼所 磁気デイスク用Al基合金板の製造法
JPS60194040A (ja) * 1984-02-18 1985-10-02 Kobe Steel Ltd メツキ性に優れたデイスク用アルミニウム合金板
JPS61266548A (ja) * 1985-05-21 1986-11-26 Furukawa Alum Co Ltd 磁気デイスク基板用アルミニウム合金
JPH01230745A (ja) * 1988-03-08 1989-09-14 Furukawa Alum Co Ltd 磁気ディスク基板用アルミニウム合金

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