DK141107B - Fremgangsmaade til fremstilling af en af tantal bestaaende film til tyndfilmkondensatorer eller tyndfilmmodstande - Google Patents

Description

HD FREMLÆGS ELSESSKRIFT 1 i»· 1 1 07 DANMARK w into.»· et_· 4/10 «(21) Ansegnino nr. 891/76 (22) IncBavérat dan 2· 081*'. Ϊ575 (23) Lebedag 2. mST. 1976 (44) Ansegnlngen fremlagt og fremlseggeteesekrfftet offentliggjort den 14. Jan. 198Ο DIREKTORATET FOR 4 ^ t ^ PATENT-OG VAREMÆRKEVÆSENET <3°> Prioritet begæret fre den

27. mar. 1975# 2513660, DE

(71) SIEMENS AKTIENGESELLSCHAPT, Berlin und Muenchen, 8 Muenchen 2, Wit*=

Telsbacherplatz 2, DE.

(72) Opfinder: Wllfrled Anders# 8012 Rlemerllng, Auenstrasse 53a# DE.

(74) Fuldmesgtlg under sagens behandling: .Internationalt Patent-Bureau.

(64) Fremgangsmåde til fremstilling af en af tantal bestående film til tyndfllmkondensatorer eller tyndflimmodstande.

Opfindelsen angår en fremgangsmåde til fremstilling af en af tantal bestående film til tyndfilmkondensatorer eller tyndfilmmodstande, hvorved der på et substrat påføres en tantalfilm og derefter et fotolaklag, og det således fremstillede produkt derpå tørres, belyses, fremkaldes og skylles i vand, hvorefter lakken hærdes, og tantalfilmen ved hjælp af en ætseopløsning indeholdende en blanding af salpetersyre og flussyre bortætses på de ikke af laklaget dækkede steder, hvorpå der foretages en skylning i vand, en opløsning af lakmasken og en yderligere skyl-leproces.

Fra beskrivelsen til USA patent nr. 3.391.373 er det kendt at bortætse tantalfilmen på tyndfilmkondensatorer eller tyndfilmmodstande ί bestemte områder ved hjælp af blandinger af flussyre og salpetersyre. Herved forsynes de steder, som ikke skal bortætses, med en lakmaske ved hjælp af fotolitografi. Ofte er lakmaskens 2 141107 vedhæftning imidlertid ikke tilstrækkelig, således at der afhængigt af beskaffenheden og tykkelsen af tantalfilmen kan optræde en stærk underætsning og/eller bortsvømning af lakmasken før afslutningen af ætseprocessen.

For at undgå denne ulempe er det almindeligt at forstærke fotolakkernes ved-hæftningsevne ved opvarmning af substratet med specielle laktilsætninger eller vedhæftningsformidlere. Denne fremgangsmåde kan imidlertid ikke anvendes ved tantalfilm. Ved disse er en tørring ved en temperatur over 150°C nemlig problematisk, da der allerede her optræder diffusionsfænomener samt overfladeoxidering. Kendte laktilsætninger er derimod ikke tilstrækkelige til anvendelse inden for tantaltynd-filmteknikken eller kræver en høj bearbejdningsteknisk indsats.

Opfindelsen tager sigte på at angive en fremgangsmåde til fremstilling af en af tantal bestående film, som skal ætses bort i områder, der skal fjernes i overensstemmelse med en belægningskonfiguration, hvorved angreb på eller underætsning af lakmasken undgås.

Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er ejendommelig ved, at der til den af en blanding af omkring 40% flussyre og omkring 65% salpetersyre bestående ætseopløs-ning tilsættes en eddikesyre-tilsætning, og at blandingsforholdet for de nævnte bestanddele vælges til omkring 1:3:3.

Ætseopløsninger bestående af blandinger af flussyre og omkring 65% salpetersyre med eddikesyretilsætninger er i og for sig kendt, f.eks. fra A.F. Bogenschutz: "Atzpraxis fur Halbleiter", Carl Manser Verlag, Miinchen 1967, side 61-68. Ved disse tjener eddikesyretilsætningen imidlertid kun til pufferdannelse. Alle hidtil kendte bestræbelser på at forhindre underætsning og/eller bortsvømning af lakmasken har udelukkende været rettet mod beskaffenheden eller behandlingen af lakmasken. Ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen opnås der overraskende den størst mulige skånelse af lakmasken. Som følge heraf kan opvarmningen ved høje temperaturer falde bort, hvilken opvarmning på grund af de ovenfor anførte ulemper er problematisk. Den af eddikesyre bestående tilsætning til ætsemidlet overgår yderligere virkningen af de kendte laktilsætninger mange gange. Samtidigt udnyttes den kendte puffer- og fortyndingseffekt af eddikesyren.

I det følgende forklares opfindelsen nærmere under henvisning til et udførelseseksempel.

Udførelseseksemplet angår en fremgangsmåde til fremstilling af grundelektroden i en tantaltyndfilmkondensator. Grundmaterialet består af et hårdtglassubstrat, som ved hjælp af katodeforstøvningen er belagt med en tantalfilm på ca. 4500 k. Herefter påføres uden speciel tørring af det belagte hårdtglassubstrat et ca. 2^u tykt fotolaklag gennem centrifugering. En efterfølgende tørring foregår i en halv time ved 80°C i en cirkulationsovn. Derefter belyses produktet med en 200 W belysningsmaskine i ca. 12 sekunder og fremkaldes i ca. 50 sekunder i en fortyndet alkalisk fremkalder. Efter skylning i vand (10 min.) og udhærdning af lakken på en