DK164567B - Fremgangsmaade og apparat til forarbejdning af straalingsfoelsomme elementer - Google Patents
Fremgangsmaade og apparat til forarbejdning af straalingsfoelsomme elementer Download PDFInfo
- Publication number
- DK164567B DK164567B DK482083A DK482083A DK164567B DK 164567 B DK164567 B DK 164567B DK 482083 A DK482083 A DK 482083A DK 482083 A DK482083 A DK 482083A DK 164567 B DK164567 B DK 164567B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- developing liquid
- conductivity
- liquid
- elements
- developer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 69
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 3
- 210000002445 nipple Anatomy 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 101000738901 Homo sapiens PMS1 protein homolog 1 Proteins 0.000 description 6
- 102100037482 PMS1 protein homolog 1 Human genes 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- FRTWHAZIMKWRFR-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-disulfophenoxy)benzene-1,2-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C=CC=2)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)=C1S(O)(=O)=O FRTWHAZIMKWRFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000411 inducer Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M sodium octanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC([O-])=O BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing
Landscapes
- Automation & Control Theory (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Near-Field Transmission Systems (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Weting (AREA)
- Time Recorders, Dirve Recorders, Access Control (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
DK 164567 B
i
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde forarbejdning af et antal i et billedmønster bestrålede strå-lingsfølsomme elementer af den i indledningen til krav 1 angivne art. Opfindelsen angår endvidere et apparat til 5 udøvelse af fremgangsmåden og af en art som angivet i indledningen til krav 3.
Strålingsfølsomme elementer af den angivne art benyttes til fremstilling af f.eks. trykplader, især litografiske 10 trykplader, trykte kredsløb og integrerede kredsløb. Strålingsfølsomme elementer til anvendelse ved fremstilling af litografiske trykplader består sædvanligvis af en metallisk bærerplade, der er mekanisk eller kemisk behandlet til opnåelse af en egnet hydrofil overflade, og 15 som bærer det strålingsfølsomme overtræk. Ved anvendelsen bestråles pladen i et billedmønster med aktiniske stråler, idet der benyttes enten et negativt eller positivt transparent forlag af et egnet materiale. Den aktiniske stråling virker ved at ændre opløseligheden af det strå-20 lingsfølsomme overtræk. Det bestrålede element forarbejdes ved, at det i et billedmønster bestrålede strålingsfølsomme materiale behandles derefter med en fremkalder til selektivt at fjerne uønskede områder af overtrækket fra bærerpladen og derved efterlade et billede, der be-25 står af områder med resterende overtræk på bærerpladen.
Andre typer trykplader og trykte og integrerede kredsløb kan fremstilles på tilsvarende måde. Efter fremkaldningen vaskes pladen, og i tilfælde af en litografisk plade behandles den med et imprægnerings- eller overtræksmiddel, 30 hvis hovedformål er at beskytte de ikke-billedmæssige arealer eller at gøre dem hydrofile.
Det konkrete procesforløb og behandlingsvæsken afhænger af opløseligheden og de kemiske egenskaber for det be-35 handlede strålingsfølsomme overtræk. Selv om behandlingen eller forarbejdningen kan ske manuelt, benyttes i stadig højere grad automatiske processer.
2
DK 164567 B
Der findes tre typer væske, der almindeligt anvendes til fremkaldning af substraktive overtræk, nemlig alkaliske fremkaldere, opløsningsmiddelfremkaldere og vandige fremkaldere. De alkaliske fremkaldere anvendes til positivt 5 arbejdende overtræk, baseret på guinondiazider, og består af en vandig opløsning af en egnet base, f.eks. et sili-cat, et phosphat eller et hydroxid. Opløsningsmiddelfremkaldere anvendes til negativt arbejdende overtræk, baseret på foto-tværbindende materialer, f.eks. polyvinylcin-10 namat, og består af et egnet opløsningsmiddel, f.eks. en glycolether eller en butyrolacton, et overfladeaktivt middel og eventuelt en mineralsyre. Vandige fremkaldere anvendes til negativt arbejdende overtræk, baseret på en diazo-harpiks og består af en vandig opløsning af et 15 overfladeaktivt middel.
Et problem ved behandling af strålingsfølsomme materialer med fremkaldervæske består deri, at fremkalderen gradvis nedbrydes under brugen, efterhånden som der opløses mere 20 og mere overtræksmateriale i denne, indtil den ikke længere er i stand til på passende måde at fjerne overtrækket fra bæreren. Denne nedbrydning er progressiv, og derfor kan ved en litografisk plade opstå en ukorrekt fremkaldning, før fremkalderen er helt udtømt eller forbrugt.
25
Det har tidligere været kendt at anvende ledningsevnemålinger som grundlag for styring af procesbetingelserne ved fremkaldelse af eksponerede film, hvor fremkaldervæsken har indeholdt vand der i løbet af processen er for-30 dampet. Ledningsevnemålingerne har således været brugt til styring af supplerende vandtilsætning.
Fra US 4 310 238 kendes et elektrostatisk kopieringsapparat, der omfatter en fremkaldertank med to sensorer, 35 hvoraf den ene. måler den elektriske modstand af fremkaldervæsken og den anden måler væskens optiske transmission. Tonerpartikler tilføres fremkaldervæsken automatisk 3
DK 164567 B
for at kompensere for forbruget under fremkaldelsen, idet tilførslen styres af de to sensorer på en sådan måde, at den optiske transmission opretholdes på en værdi, der er bestemt af en forud fastlagt funktion af den elektriske 5 modstand.
En sådan styring af fremkalderens aktivitet på basis af målinger af den optiske transmission er dog behæftet med en betydelig usikkerhed, da man ikke kan regne med, at 10 den optiske transmission i alle tilfælde korrelerer på samme måde med den elektriske modstand. Desuden er udnyttelsesgraden af toner forholdsvis lav.
Ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, der er ejendomme-15 lig ved det i den kendetegnende del af krav 1 anførte, udnyttes det i og for sig kendte forhold, at der er korrelation imellem effektiviteten af fremkaldervæsken og fremkaldervæskens elektriske ledningsevne, således at fremkalderprocessen kan styres på basis af målinger af 20 fremkaldervæskens elektriske ledningsevne.
Dette opnås ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen derved, at der benyttes en fremkaldervæske af en sådan art, at den selektivt fjerner uønsket overtræk fra substratet, 25 idet effektiviteten i denne henseende ændrer sig efterhånden som antallet af forarbejdede elementer forøges, og at forarbejdningsbetingelserne ændres ved at variere den tid, elementerne er i berøring med fremkaldervæsken og/eller ved tilsætning af yderligere fremkaldervæske til 30 fremkaldervæsken og/eller ved at variere omrøringseffek ten af fremkaldervæske i berøring med elementerne og/eller ved at variere temperaturen af fremkaldervæsken. Anordningen eller pladematerialet behandles således med en fremkaldervæske, idet den elektriske ledningsevne af 35 fremkaldervæsken måles under processen, og procesbetingelserne varieres på den angivne måde i afhængighed af ændringerne i den elektriske ledningsevne.
4
DK 164567 B
Ved en sådan kontrolleret styring af procesbetingelserne, hvorved aktiviteten af fremkaldervæsken holdes tilnærmelsesvis konstant ved løbende tilsætning af frisk fremkaldervæske og/eller ved at variere procesbetingelserne i 5 afhængighed af den elektriske ledningsevne, opnås større sikkerhed for konstant aktivitet. Desuden har det overraskende vist sig, at der kan opnås en forbedret udnyttelsesgrad af fremkalderkemikalierne.
10 Det har således vist sig muligt, ved at øge omrøringseffektiviteten og/eller temperaturen, at opretholde fremkaldervæskens aktivitet i længere tid udover det tidspunkt, hvor fremkaldervæsken normalt ville blive kasseret.
15
Apparatet til brug ved udøvelse af den omhandlede fremgangsmåde omfatter som anført i indledningen til krav 1 en beholder til fremkaldervæsken, organer til fremføring af de strålingsfølsomme elementer langs en bane gennem 20 apparatet, således at de bringes i berøring med fremkaldervæsken under givne procesbetingelser, og apparatet er -ejendommeligt ved det i den kendetegnende del af krav 3 anførte.
25 Procesbetingelserne kan variere, f.eks. som nævnt ved at variere forarbej dningsgraden og/eller variere temperaturen af fremkaldervæsken, og/eller fornyelsen eller erstatningen af væsken eller på anden måde variere sammensætningen af denne. Således kan midlerne til at variere 30 procesbetingelserne bestå i midler til at variere procestiden og/eller midler til variering af temperaturen for fremkaldervæsken og/eller midler til at tilsætte suppleringsvæske eller anden væske til fremkaldervæsken.
35 I apparatet kan anvendes udgangssignalet til at styre en motor, som driver de organer, der bevæger anordninger. På denne måde er opholdstiden for de strålingsfølsomme ele- 5
DK 164567 B
menter i apparatet afhængig af udgangssignalet, dvs. af ledningsevnen, og derfor af aktiviteten af fremkaldervæsken. Forarbejdningsgraden af elementerne varierer derfor som en funktion af ledningsevnen af fremkaldervæsken.
5 Desuden kan i stedet forbearbejdningsgraden varieres under anvendelse af udgangssignalet til at styre en motor til at drive en valse, som er indrettet til at omrøre fremkaldervæsken, der er i berøring med elementerne, således at valsernes rotationshastighed er afhængig af ud-10 gangssignalet, dvs. af fremkalderaktiviteten.
Apparatet kan omfatte en opvarmnings- og afkølingsenhed til at variere temperaturen for fremkaldervæsken i afhængighed af afgangssignalet.
15 I stedet kan apparatet omfatte et reservoir til at opbevare suppleringsvæske for fremkaldervæsken, dvs. samme, en anden eller en mere koncentreret opløsning, idet strømmen af suppleringsvæske til hovedparten af frerakal-20 dervæsken i apparatet styres af udgangssignalet ved hjælp af f.eks. en solenoideventil.
I tilfælde af at en fremkaldervæske ikke har tilstrækkelig høj ledningsevne, kan der tilsættes et litografisk 25 inert materiale, der ioniserer i opløsningen f.eks. kaliumnitrat.
Opfindelsen skal i det efterfølgende illustreres nærmere med henvisning til tegningen, hvori: 30 fig. 1 er et skematisk diagram af et apparat ifølge den foreliggende opfindelse, fig. 2 er et blokdiagram af et kontrolkredsløb for appa-35 ratet ifølge fig. 1,
DK 164567 B
6 fig. 3 er et kredsløbsdiagram for en del af det i fig. 2 viste kontroldiagram, og fig. 4 er et skematisk diagram af et andet apparat ifølge 5 den foreliggende opfindelse.
Af fig. 1 ses, at apparatet omfatter en tank 1, som indeholder en flydende fremkalder, et par med overtræk af elastomert stof forsynede indføringsvalser 2 og 2a, et 10 par elastomer-overtrukne udføringsvalser 3 og 3a, en elektrisk jævnstrømsmotor 4 med variabel hastighedsregulering, beregnet til at drive valsen 2. Valsen 2a er drevet ved berøringen med valsen 2 (valserne 3 og 3a kan også, om ønsket, drives af motoren 4). En ledningsmålecelle 15 5 er monteret i tanken 1, så den er beliggende i fremkal dervæsken. Et reservoir la til opbevaring af erstatningsvæske for fremkalder er monteret i tanken 1. Et varme/kø-le-element 8 kan også forefindes.
20 1 fig· 2 er vist et elektrisk styrekredsløb, bestående af en konstant spændingskilde i form af integreret spændingsregulator, en spændingsomdanner 10, omfattende ledningsmålecellen, og en servo-anordning 11 i form af et tyristor-styret jævnstrømsinstrument, hvis udgangssignal 25 har en styrefunktion.
Som vist i fig. 3 er den regulerende spænding fra kilden 9 tilsluttet gennem ledningsmålecellen 12 til et par jævnstrømsforstærkere 13 og 14. Variation af ledningsev-30 nen for fremkaldervæsken producerer en forandring i indgangsspændingen til forstærkeren 13. Udgangssignal fra forstærkeren 14 er tilsluttet servo-mekanismen 11. En variabel modstand 15 er tilsluttet for at ændre udbyttet af forstærkeren 13.
Ved anlæggets drift føres billedvis eksponerede strålingsfølsomme anordninger i rækkefølge gennem indførings- 35 7
DK 164567 B
valserne 2 og 2a, som fører disse langs en bane 6 gennem apparatet herefter ud af apparatet via udføringsvalserne 3 og 3a. Under passagen langs banen 6 er de strålingsfølsomme elementer neddyppet i fremkaldertanken 1, hvorved 5 de mere opløselige områder af det billedvise eksponerede strålingsfølsomme overtræk på pladerne fjernes selektivt.
I afhængighed af fremkalderens ledningsevne kan udgangssignalet fra servo-mekanismen anvendes til at ændre hastigheden af motoren 4, variere temperaturen af fremkal-10 dervæsken ved indvirkning på opvarmnings/afkølings-enhe-den og/eller drive en styringsventil lb på suppleringsreservoiret .
Det er klart, at ledningsevneparametrene kan variere i 15 afhængighed af typen af fremkaldervæsken.
Passende ændringer af måleområdet kan opnås ved indstilling af potentiometret 15.
20 Med henvisning til fig. 4 omfatter apparatet et par elastomer-beklædte indføringsvalser 20 og 20a, et par elastomer-beklædte afgangsvalser 30 og 30a og en elektrisk jævnstrømsmotor 40 med variabel hastighed til drift af valserne 20 og 20a. Apparatet omfatter et separat reser-25 voir 21 for fremkaldervæske og en pumpe 25 for levering af fremkaldervæske til en bruseblok 26 anbragt mellem et par plys-overtrukne omrøringsvalser 23 og 23a, der er drevet af en motor 24 med separat hastighedsregulering.
En plade 22 er anbragt under valserne 23 og 23a, og bru-30 seblokken 26, og en opsamlingsbeholder 27 er monteret for at returnere behandlingsvæsken til reservoiret 21. Et op-varmnings/afkølings-element 29 er anbragt i reservoiret 21.
35 Apparatet omfatter en .ledningsmålingscelle 28 af samme art som anvendt i apparatet ifølge fig. 1, og denne er hensigtsmæssigt anbragt i reservoiret 21 som vist. Appa- 8
DK 164567 B
ratet omfatter også et elektrisk styringskredsløb af samme type som vist i fig. 2 og 3, og afgangssignalet fra servo-mekanismen i kredsløbet føres til motoren 40 og/el-ler motoren 24 og/eller opvarmnings/afkølingsenheden 29 5 og/eller en styreventil 21b i reservoiret 21a. Under driften føres en billedmæssig eksponeret strålingsfølsom plade med forsiden opad langs en bane mellem indførings-valserne 20 og 20a, mellem valsernes 23 og 23a og pladen 22 og derefter mellem aftagningsvalserne 30 og 30a. Det 10 eksponerede strålingsfølsomme overtræk på pladen bringes i berøring med valserne 23 og 23a og fremkaldningen opnås ved en kombineret kvældning og opløsningsmiddelvirkning.
Graden af behandling, som anordningen underkastes (dvs.
15 opholdstiden i apparatet og/eller graden af omrøring af behandlingsvæsken ved valsen 23), og/eller koncentrationen af fremkaldervæsken styres i afhængighed af variationer i ledningsevnen i fremkalderen under forarbejdningen.
20 Opfindelsen skal i det efterfølgende illustreres nærmere ved hjælp af nogle eksempler.
EKSEMPEL 1 25 En processor af den i fig. 1 viste type blev fyldt med fremkaldervæske, bestående af en vandig opløsning indeholdende natriummetasilicat, dinatriumphosphat og et overfladeaktivt stof ved en temperatur på 22 °C.
30 Et antal positivt arbejdende forsensibiliserede plader, alle bestående af en kornet og anodiseret aluminiumplade, overtrukket med en strålingsfølsom blanding af naphtho-quinondiazidsulfonsyreester og en novolakharpiks, blev eksponeret under en kontinuerlig gråtone-kile og en præ- 35 cisionsmålestrimmel af typen Fogra PMS1.
9
DK 164567 B
Pladerne blev kørt gennem processoren. Ledningsevnen blev målt ved hjælp af et måleinstrument for ledningsevne med fuldt udslag på 60.000 microsiemens/cm. Et mærke blev anbragt på gråtone-kilden og ved PMS1-aflæsninger for hver 5 formindskelse af ledningsevnen på 1000 microsiemens. Resultaterne fremgår af efterfølgende tabel:
Ledningsevne Trin på kilen PMS1 (Microslemens/cm) klar/fast A_B_ 10 50.000 3/9 8 8 49.000 3/9 8 8 48.000 3/9 8 8 47.000 3/9 8 8 15 46.000 3/8 8 8 45.000 3/7 10 8 44.000 2/7 10 6 43.000 2/6 10 6 42.000 2/6 10 6 20
Processoren blev fyldt med frisk fremkalder, og pladerne førtes gennem, indtil ledningsevnen var faldet til 45.000 microsiemens. Fremkalderen blev derefter opvarmet, indtil ledningsevnen atter var 50.000 microsiemens. Flere plader 25 blev forarbejdet gav trin på kilen og PMSl-målinger for henholdsvis 3/9 og 8,8.
Fremkalderen blev afkølet til 22 °C (ledningsevne 45.000 microsiemens). Flere plader blev forarbejdet ved trinvis 30 nedsat hastighed, indtil der blev opnået målinger på 3/9 og 8,8. Det blev vist, at en plade skulle have en 50%’s større fremkaldelsestid.
Til slut blev der tilsat fremkalder-fornyer til processo-35 ren for at bringe ledningsevnen tilbage til 50.000 microsiemens, hvorefter en plade blev ført til gennem processoren til opnåelse af aflæsninger på 3/9 og 8,8.
DK 164567 B
10 EKSEMPEL 2
Eksempel 1 blev gentaget med den ændring, at fremkalderen bestod af en vandig opløsning indeholdende natriumhydr-5 oxid og et overfladeaktivt middel. Den oprindelige ledningsevne var 60.000 microsiemens/cm og gav aflæsninger af trin-kile og PMS1 på henholdsvis 3/9 og 8,8. Ledningsevnen af effektivt udtømt fremkalder var 50.000 microsiemens/cm (trin-kile 3,7, PMS1 10,8). Fremkalderen blev 10 opvarmet, indtil ledningsevnen var 60.000 micro siemens/cm, hvilket genvandt aflæsningerne af trin-kile-PMS1.
Ved afkøling af fremkalderen, indtil ledningsevnen var 15 50.000 microsiemens/cm, måtte en plade have en 45%'s større fremkaldningstid for at give korrekte aflæsninger.
En plade fremkaldt med fremkalder-fornyer til 60.000 microsiemens/cm gav atter samme aflæsninger på 3/9 og 8,8.
20 25 30 35 11
DK 164567 B
EKSEMPEL 3
Et antal plader blev eksponeret og fremkaldt i overensstemmelse med eksempel 1 og GB-patent nr. 1 591 988 til 5 fremstilling af såkaldt rester-fri eller kontinuert-tone-plader. Ledningsevnen af fremkalderen var oprindeligt 32.000 microsiemens/cm, og den oprindeligt fremkaldte plade havde et densitetsområde på 1,65. Efter at der var forarbejdet et antal plader, var ledningsevnen faldet til 10 25.000 microsiemens/cm, og det opnåede densitetsområde var kun 1,3. Ved opvarmning af fremkalderen, indtil ledningsevnen atter var 32.000 microsiemens/cm, genvandtes et densitetsområde på 1,65. Afkølet fremkalder /ledningsevne 25.000 microsiemens/cm) krævede 55% ekstra fremkal-15 dertid. Densitetsområdet på 1,65 kunne genvindes ved at forny fremkalderen til en ledningsevne på 32.000 microsiemens/cm.
EKSEMPEL 4 20
Reservoiret af en processor af den i fig. 4 viste type blev fyldt med en vandig fremkalder, bestående af en vandig opløsning af et overfladeaktivt middel, natriumben-zoat og natriumoctanoat. Ledningsevnen af den friske 25 fremkalder var 24.500 microsiemens/cm. Ikke-eksponerede plader med et overtræk af diazo-harpiks førtes gennem processoren, og ledningsevnen blev kontinuerligt styret, indtil pladerne udviste tegn på skumning ved påføring af tryksværte. Ledningsevnen af fremkalderen var så 15.200 30 microsiemens/cm. Flere plader blev behandlet med en trinvis langsommere hastighed, og det viste sig nødvendigt at øge fremkaldertiden med 35% for at opnå rene plader.
EKSEMPEL 5 35
Dette eksempel beskæftiger sig med fremkaldervæsker, der hovedsageligt svækkes på grund af forurening med vand fra 12
DK 164567 B
atmosfæren.
En processor af samme type som anvendt i eksempel 4 blev fyldt med en fremkalder, bestående hovedsagelig af 2-me-5 thylethylacetat, et overfladeaktivt stof og phosphorsyre. Ledningsevnen af fremkalderen var 14,1 microsiemens/cm.
For at simulere forurening blev der tilsat vand i en mængde på 0,5% og ledningsevnen blev målt, medens ikke-eksponerede plader med et overtræk baseret på polyvinyl-10 cinnamat førtes gennem processoren. Ved et vandindhold på 6% var ledningsevnen 46,5 microsiemens/cm, og den udviklede plade udviste tegn på skumning. Flere plader blev forarbejdet med trinvis nedsat hastighed, og det viste sig nødvendigt at forøge fremkaldertiden med 40% for at 15 opnå rene plader.
EKSEMPEL 6
Prøver af slutbehandlingsvæsker, baseret på en vandig op-20 løsning af stivelse og et overfladeaktivt stof og egnet til negativt arbejdende plader blev fremstillet med normal koncentration, 20% og 50% overkoncentration og 50% og 75% underkoncentration. Ledningsevnen for prøverne ved 22 °C var følgende: 25 50% overkoncentration 7.500 microsiemens/cm 20% overkoncentration 6.500 microsiemens/cm
Normal 5.600 microsiemens/cm 50% underkoncentration 3.500 microsiemens/cm 30 75% underkoncentration 2.300 microsiemens/cm
Prøverne blev anvendt til at forarbejde eksponerede og fremkaldte negativt arbejdende plader. De med opløsninger af overkoncentration behandlede plader udviste tegn på 35 ubehandlede billedarealer, og plader behandlet med opløsninger af underkoncentration udviste tilbøjelighed til skumning på ikke-billedmæssige områder. Ved måling af
DK 164567 B
13 ledningsevnen og ændring af koncentrationen af færdiggørelsesvæsken i overensstemmelse hermed kunne der opnås en tilfredsstillende forarbejdning af pladerne.
5 EKSEMPEL 7
Eksempel 6 blev gentaget under anvendelse af prøver af færdigbehandlingsvæsker omfattende en vandig opløsning af gummiarabicum. Ledningsevnen var dog for lav til at være 10 tilfredsstillende. Til hver prøve sattes 0,2 vægt-% kaliumnitrat. Ledningsevnen måltes til følgende værdier: 50% overkoncentration 6.000 microsiemens/cm 20% overkoncentration 5.000 microsiemens/cm 15 Normal 4.400 microsiemens/cm 50% underkoncentration 3.500 microsiemens/cm 75% underkoncentration 3.000 microsiemens/cm
Prøverne blev anvendt til at forarbejde de ifølge eksem-20 pel 1 fremkaldte plader. Igen viste de med opløsninger af overkoncentration en tilbøjelighed til mangelfuld behandling, og de med opløsninger af underkoncentration behandlede plader udviste en tilbøjelighed til skumning.
25 EKSEMPEL 8
Eksempel 6 blev gentaget med prøver af færdigbehandlingsopløsning, udviklet til beskyttelse af de ikke-biliedmæssige arealer af en litografisk plade under en hærdnings-30 proces af billedet, idet færdigbehandlingsopløsningen be stod af en vandig opløsning af et natriumdodecyleret oxi-dibenzendisulfonat og natriumcitrat. Ledningsevnen var følgende: 35
DK 164567 B
14 50% overkoncentration 57.000 microsiemens/cm 20% overkoncentration 55.000 microsiemens/cm
Normal 52.000 microsiemens/cm 50% underkoncentration 41.500 microsiemens/cm 5 75% underkoncentration 37.200 microsiemens/cm
Prøverne blev anvendt til behandling af plader af den i eksempel 1 benyttede type, og de behandlede plader blev bagt ved 220 °C i 10 minutter. Der var ingen synlige ef-10 fekt af anvendelse af prøver med overkoncentration, men prøver med underkoncentration kunne ikke beskytte de ikke-billedmæssige arealer, som skummede kraftigt.
15 20 t 25 30 35
Claims (3)
1. Fremgangsmåde til forarbejdning af et antal i et bil-5 ledmønster bestrålede strålingsfølsomme elementer, idet hver af disse omfatter et substrat, der er forsynet med et i et billedmønster bestrålet strålingsfølsomt overtræk, hvorved 10 (i) elementerne behandles i rækkefølge under givne pro cesbetingelser med en fremkaldervæske, (ii) den elektriske ledningsevne af fremkaldervæsken måles under forarbejdningen af elementerne, og (iii) procesbetingelserne, hvorunder elementerne behandles med fremkaldervæsken, varieres i afhængighed af ændringerne af den elektriske ledningsevne med henblik på at opretholde effektiviteten af fremkalder- 20 væsken, kendetegnet ved, at den benytte de fremkaldervæske er af en sådan art, at den selektivt fjerner uønsket overtræk fra substratet, idet effektiviteten i denne henseende ændrer sig efterhånden som antallet af forarbejdede elementer 25 forøges, og at forarbejdningsbetingelserne ændres ved at variere den tid, elementerne er i berøring med fremkaldervæsken og/eller ved tilsætning af yderligere fremkaldervæske til fremkaldervæsken og/eller ved at variere omrøringseffekten af frem-30 kaldervæske i berøring med elementerne og/eller ved at variere temperaturen og fremkaldervæsken.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at fremkaldervæsken omfatter et litografisk inert 35 materiale i opløsning til forøgelse af den elektriske ledningsevne. DK 164567 B
3. Apparat til udøvelse af fremgangsmåden ifølge krav 1 eller 2, hvilket apparat består af (i) en beholder (1, 21) for fremkaldervæsken, 5 (ii) organer (2, 2a, 3, 3a) til fremføring af de strålingsfølsomme elementer langs en bane (6) gennem apparatet, således at de bringes i berøring med fremkaldervæsken under givne procesbetingelser, 10 (iii) et organ (5, 28) til måling af den elektriske ledningsevne af fremkaldervæsken og til dannelse af et udgangssignal i afhængighed af den nævnte ledningsevne, og 15 (iv) organer til at variere procesbetingelserne, som er styret af nævnte udgangssignal, kendetegnet ved, at organerne til variering af 20 procesbetingelserne omfatter en motor (4, 40) med variabel hastighed til drift af organerne til fremføring af elementerne på en sådan måde, at det tidsrum, i hvilket elementerne er i kontakt med fremkaldervæsken, er afhængigt af ledningsevnen, et reservoir (la, 21a) til opbeva-25 ring af yderligere mængder fremkaldervæske og udstyret med en ventil (lb, 21b), der er beregnet til at føre yderligere mængder fremkaldervæske til beholderen fra reservoiret i afhængighed af ledningsevnen, en motor (24) med variabel hastighed til drift af en omrørervalse (23, 30 23a) til omrøring af den i berøring med elementerne stå ende fremkaldervæske, således at omrøringseffekten af væsken i berøring med elementerne er afhængig af ledningsevnen, og en enhed (8, 29) neddykket i fremkaldervæsken til at variere dens temperatur, således at tempe-35 raturen af fremkaldervæsken er afhængig af ledningsevnen.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8230105 | 1982-10-21 | ||
| GB8230105 | 1982-10-21 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK482083D0 DK482083D0 (da) | 1983-10-20 |
| DK482083A DK482083A (da) | 1984-04-22 |
| DK164567B true DK164567B (da) | 1992-07-13 |
| DK164567C DK164567C (da) | 1992-11-30 |
Family
ID=10533758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK482083A DK164567C (da) | 1982-10-21 | 1983-10-20 | Fremgangsmaade og apparat til forarbejdning af straalingsfoelsomme elementer |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4577948A (da) |
| EP (1) | EP0107454B2 (da) |
| JP (1) | JPH0612435B2 (da) |
| AT (1) | ATE49066T1 (da) |
| AU (1) | AU576737B2 (da) |
| CA (1) | CA1208062A (da) |
| DE (1) | DE3381022D1 (da) |
| DK (1) | DK164567C (da) |
| ES (1) | ES8501677A1 (da) |
| FI (1) | FI76647C (da) |
| NO (1) | NO166207C (da) |
| ZA (1) | ZA837724B (da) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4621037A (en) * | 1984-07-09 | 1986-11-04 | Sigma Corporation | Method for detecting endpoint of development |
| JPS6161164A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法 |
| JPS61188542A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sharp Corp | 自動現像機 |
| JP2516022B2 (ja) * | 1987-07-17 | 1996-07-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法 |
| US4796042A (en) * | 1987-07-31 | 1989-01-03 | Hoechst Celanese Corp. | Printing plate processor having recirculating water wash reclamation |
| JP2585784B2 (ja) * | 1989-02-03 | 1997-02-26 | 株式会社東芝 | 自動現像装置および方法 |
| DE3921564A1 (de) * | 1989-06-30 | 1991-01-17 | Peter Luettgen | Verfahren zur regelung der konzentration von entwickler- bzw. entschichterloesung fuer leiterplatten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| JPH0359662A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-14 | Konica Corp | 感光材料処理装置 |
| JP2696759B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1998-01-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 補充制御方法 |
| DE4204691A1 (de) * | 1992-02-17 | 1993-09-02 | Hoechst Ag | Verfahren und vorrichtung zum entwickeln von strahlungsempfindlichen, belichteten druckformen |
| US5294955A (en) * | 1992-05-18 | 1994-03-15 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for washing light sensitive material |
| US5578430A (en) * | 1994-07-30 | 1996-11-26 | Eastman Kodak Company | Method of processing photographic silver halide materials without replenishment |
| GB9415429D0 (en) * | 1994-07-30 | 1994-09-21 | Kodak Ltd | Method of processing photographic colour silver halide materials |
| US6143479A (en) * | 1999-08-31 | 2000-11-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates |
| CN1267790C (zh) * | 2000-01-31 | 2006-08-02 | 富士胶片株式会社 | 自动显影装置及补充显影补充液的方法 |
| US6391530B1 (en) | 2000-11-03 | 2002-05-21 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors |
| JP2004212681A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の自動現像方法及びその自動現像装置 |
| JP2005077781A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Toppan Printing Co Ltd | 現像時間の管理装置及び現像時間の管理方法 |
| US20050076801A1 (en) * | 2003-10-08 | 2005-04-14 | Miller Gary Roger | Developer system |
| US7078162B2 (en) * | 2003-10-08 | 2006-07-18 | Eastman Kodak Company | Developer regenerators |
| US7088932B2 (en) * | 2003-12-31 | 2006-08-08 | Samsung Electronics Co., Ltd | System and method for measuring charge/mass and liquid toner conductivty contemporaneously |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2390497A (en) * | 1942-12-31 | 1945-12-11 | James T Campbell | Lithographic plate making apparatus |
| US3515000A (en) * | 1968-08-06 | 1970-06-02 | Controlotron Corp | Liquid gauge |
| DE2207137A1 (de) * | 1972-02-16 | 1973-08-30 | Werner Merz | Anlage zur entwicklung fotografischen materials |
| GB1388257A (en) * | 1972-04-01 | 1975-03-26 | Gerdts Gustav F Kg | Measuring liquid levels by electrical means |
| DE2648538C2 (de) * | 1976-10-27 | 1978-12-21 | Fernsteuergeraete Kurt Oelsch Kg, 1000 Berlin | Verfahren zur automatisch geregelten Konstanthaltung der Zusammensetzung von Bädern und Vorrichtung zur Durchfährung des Verfahrens |
| JPS53110532A (en) * | 1977-03-09 | 1978-09-27 | Ricoh Co Ltd | Automatic controller of developer concentrations of wet type diazo copiers |
| DE2861444D1 (en) * | 1977-08-18 | 1982-02-11 | Vickers Ltd | Apparatus and method for the controlled processing of radiation sensitive devices in dependence upon the temperature of the developer liquid |
| DE2835413A1 (de) * | 1978-08-12 | 1980-02-21 | Hoechst Ag | Einrichtung zur elektrischen standueberwachung einer entwicklerloesung in einem vorratsgefaess |
| DE2836837A1 (de) * | 1978-08-23 | 1980-03-06 | Agfa Gevaert Ag | Verfahren zur elektrofotografischen entwicklung von elektronenradiografischen folien, und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| GB2046931B (en) * | 1979-02-27 | 1983-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of developing positive-acting photosensitive lithographic printing plate precursor |
| DE2908283C3 (de) * | 1979-03-03 | 1982-02-04 | Mathias Bäuerle GmbH, 7742 St Georgen | Elektrisch betriebenes Gerät, insbesondere Vervielfältigungsgerät, mit einem mit Flüssigkeit zum chemischen Behandeln von Gegenständen aufnehmenden Behälter |
| US4310238A (en) * | 1979-09-08 | 1982-01-12 | Ricoh Company, Ltd. | Electrostatic copying apparatus |
| FR2505520A1 (fr) * | 1981-05-06 | 1982-11-12 | Pictorial Service | Dispositif de regeneration d'un fluide contenu dans un bac |
| JPS5895349A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性プレ−トの現像補充液補充方法 |
-
1983
- 1983-10-14 AT AT83306230T patent/ATE49066T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-10-14 DE DE8383306230T patent/DE3381022D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1983-10-14 EP EP83306230A patent/EP0107454B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-10-17 ZA ZA837724A patent/ZA837724B/xx unknown
- 1983-10-19 AU AU20417/83A patent/AU576737B2/en not_active Ceased
- 1983-10-20 DK DK482083A patent/DK164567C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-10-20 FI FI833837A patent/FI76647C/fi not_active IP Right Cessation
- 1983-10-20 ES ES526604A patent/ES8501677A1/es not_active Expired
- 1983-10-20 CA CA000439349A patent/CA1208062A/en not_active Expired
- 1983-10-20 US US06/543,919 patent/US4577948A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-10-20 NO NO833831A patent/NO166207C/no unknown
- 1983-10-21 JP JP58196271A patent/JPH0612435B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO166207B (no) | 1991-03-04 |
| ES526604A0 (es) | 1984-12-01 |
| DK164567C (da) | 1992-11-30 |
| EP0107454B1 (en) | 1989-12-27 |
| NO833831L (no) | 1984-04-24 |
| NO166207C (no) | 1991-06-12 |
| EP0107454A2 (en) | 1984-05-02 |
| FI833837A0 (fi) | 1983-10-20 |
| FI833837L (fi) | 1984-04-22 |
| EP0107454A3 (en) | 1986-03-12 |
| DE3381022D1 (de) | 1990-02-01 |
| AU2041783A (en) | 1984-05-03 |
| ES8501677A1 (es) | 1984-12-01 |
| DK482083A (da) | 1984-04-22 |
| JPH0612435B2 (ja) | 1994-02-16 |
| EP0107454B2 (en) | 1993-06-09 |
| JPS59131930A (ja) | 1984-07-28 |
| FI76647C (fi) | 1988-11-10 |
| ZA837724B (en) | 1984-06-27 |
| DK482083D0 (da) | 1983-10-20 |
| FI76647B (fi) | 1988-07-29 |
| AU576737B2 (en) | 1988-09-08 |
| CA1208062A (en) | 1986-07-22 |
| ATE49066T1 (de) | 1990-01-15 |
| US4577948A (en) | 1986-03-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DK164567B (da) | Fremgangsmaade og apparat til forarbejdning af straalingsfoelsomme elementer | |
| DE3824334C2 (de) | Verfahren zum Entwickeln von bildmäßig belichteten lithographischen Druckplatten | |
| US5930547A (en) | Process and apparatus for developing radiation-sensitive, exposed printing forms | |
| US4537496A (en) | Method of replenishing a developer for photosensitive plate | |
| EP0000995B1 (en) | Apparatus and method for the controlled processing of radiation sensitive devices in dependence upon the temperature of the developer liquid | |
| US4573782A (en) | Developing apparatus for forming an image in light-sensitive material using photopolymerizable composition | |
| JPWO1995018400A1 (ja) | 感光材料の処理方法および装置 | |
| JPH0560585B2 (da) | ||
| JPH063542B2 (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| GB1599301A (en) | Processing of radiation sensitive devices | |
| JPS6177854A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS61123846A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS63282740A (ja) | 印刷用感光材料の現像方法 | |
| JPS60142338A (ja) | 感光性印刷版の現像補充方法及びその装置 | |
| JPS60142339A (ja) | 感光性印刷版の現像補充方法及びその装置 | |
| JPS60196753A (ja) | 現像方法 | |
| JPS6161166A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JP2532275B2 (ja) | 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法 | |
| JPH02118577A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JP2516022C (da) | ||
| JPS63197951A (ja) | 感光材料の処理方法 | |
| JPS63197950A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JPS6385745A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JPS61117547A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS6161165A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PBP | Patent lapsed |