EP0881865A3 - Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets - Google Patents

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EP0881865A3 EP98109597A EP98109597A EP0881865A3 EP 0881865 A3 EP0881865 A3 EP 0881865A3 EP 98109597 A EP98109597 A EP 98109597A EP 98109597 A EP98109597 A EP 98109597A EP 0881865 A3 EP0881865 A3 EP 0881865A3
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Abstract

Dargestellt und beschrieben ist eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets (5) mittels hochfrequenter Leistung unter Ausnutzung von Hohlkathodenentladungen in mindestens einer Hohlkathodenkammer (32), die von einer Hohlkathode (12) umgeben ist, die eine Einlaßöffnung (15) für ein Arbeitsgas umfaßt, mit wenigstens einer der Hohlkathode (12) benachbarten Anode (11), wobei die Hohlkathode (12) und die Anode (11) gegenüberliegende Öffnungen (6, 7) aufweisen, durch die die Plasmajets (5) von der Hohlkathodenkammer (32) in einen Prozeßraum (33) gelangen.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine derartige Vorrichtung zu schaffen, die eine homogene Disposition einer funktionalen Schicht (25) auf einem bahnförmigen und gegebenenfalls temperaturempfindlichen Substrat (24) ermöglicht.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Vorrichtung mehrere separate Hohlkathodenkammern (32) umfaßt und jedem Plasmajet (5) jeweils eine Hohlkathodenkammer (32) als Entladungsraum zugeordnet ist.
EP98109597A 1997-05-30 1998-05-27 Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets Expired - Lifetime EP0881865B1 (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7721673B2 (en) 2006-11-03 2010-05-25 Industrial Technology Research Institute Hollow cathode discharging apparatus
CN107852805A (zh) * 2014-12-05 2018-03-27 Agc玻璃欧洲公司 空心阴极等离子体源

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE516336C2 (sv) * 1999-04-28 2001-12-17 Hana Barankova Apparat för plasmabehandling av ytor
ATE245310T1 (de) * 2000-03-14 2003-08-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und vorrichtung zur plasmagestützten oberflächenbehandlung und verwendung des verfahrens
DE10120405B4 (de) * 2001-04-25 2008-08-21 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung eines Niedertemperatur-Plasmas
DE10203543B4 (de) * 2002-01-29 2008-04-30 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung eines APG-Plasmas
DE102004029081A1 (de) * 2004-06-16 2006-01-05 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mittels mindestens eines Plasma-Jets
DE102005032890B4 (de) * 2005-07-14 2009-01-29 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Atmosphärendruck-Plasmen
GB0612814D0 (en) * 2006-06-28 2006-08-09 Boc Group Plc Method of treating a gas stream
CN100559546C (zh) * 2006-11-21 2009-11-11 财团法人工业技术研究院 中空式阴极放电装置
FR2912864B1 (fr) * 2007-02-15 2009-07-31 H E F Soc Par Actions Simplifi Dispositif pour generer un plasma froid dans une enceinte sous vide et utilisation du dispositif pour des traitements thermochimiques
EP2316252B1 (de) 2008-08-04 2018-10-31 AGC Flat Glass North America, Inc. Plasmaquelle und verfahren zum auftragen von dünnfilmbeschichtungen mittels plasmaunterstützter chemischer gasphasenabscheidung und verfahren dazu
CN101730374B (zh) * 2008-10-30 2012-05-09 财团法人工业技术研究院 等离子体系统
DE102010027570B3 (de) 2010-07-19 2011-11-10 Eagleburgmann Germany Gmbh & Co. Kg Faltenbalg-Kompensator
RU2466514C2 (ru) * 2011-02-09 2012-11-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Камская государственная инженерно-экономическая академия" (ИНЭКА) Способ получения электрического разряда в парах электролита и устройство для его осуществления
BR112017011770A2 (pt) 2014-12-05 2017-12-26 Agc Flat Glass Na Inc fonte de plasma que utiliza um revestimento de redução de macro partícula e método de usar a fonte de plasma que utiliza um revestimento de redução de macro partícula para a deposição de revestimentos de filme fino e modificação de superfícies
US9721765B2 (en) 2015-11-16 2017-08-01 Agc Flat Glass North America, Inc. Plasma device driven by multiple-phase alternating or pulsed electrical current
US10242846B2 (en) 2015-12-18 2019-03-26 Agc Flat Glass North America, Inc. Hollow cathode ion source
US10573499B2 (en) 2015-12-18 2020-02-25 Agc Flat Glass North America, Inc. Method of extracting and accelerating ions
EP3474635B1 (de) 2017-10-17 2021-08-18 Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. Modulares plasmastrahlbehandlungssystem
FR3115180B1 (fr) * 2020-10-14 2022-11-04 Peter Choi Appareil de génération de plasma

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0502829A1 (de) * 1991-03-04 1992-09-09 PROEL TECNOLOGIE S.p.A. Vorrichtung mit ungeheizter Kathode zur dynamischen Erzeugung von Plasma
DE4233895A1 (de) * 1992-10-08 1994-04-14 Juergen Prof Dr Engemann Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung bahnförmiger Materialien
EP0727508A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-21 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Substratoberflächen

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CS246982B1 (en) * 1985-06-17 1986-11-13 Ladislav Bardos Method and apparatus for producing chemically active environment for plasma chemical reactions namely for deposition of thin layers
US4954751A (en) * 1986-03-12 1990-09-04 Kaufman Harold R Radio frequency hollow cathode
US5464667A (en) * 1994-08-16 1995-11-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Jet plasma process and apparatus
SE503141C2 (sv) * 1994-11-18 1996-04-01 Ladislav Bardos Apparat för alstring av linjär ljusbågsurladdning för plasmabearbetning
DE19541236A1 (de) * 1995-11-06 1997-05-07 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0502829A1 (de) * 1991-03-04 1992-09-09 PROEL TECNOLOGIE S.p.A. Vorrichtung mit ungeheizter Kathode zur dynamischen Erzeugung von Plasma
DE4233895A1 (de) * 1992-10-08 1994-04-14 Juergen Prof Dr Engemann Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung bahnförmiger Materialien
EP0727508A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-21 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Substratoberflächen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7721673B2 (en) 2006-11-03 2010-05-25 Industrial Technology Research Institute Hollow cathode discharging apparatus
CN107852805A (zh) * 2014-12-05 2018-03-27 Agc玻璃欧洲公司 空心阴极等离子体源
CN107852805B (zh) * 2014-12-05 2020-10-16 Agc玻璃欧洲公司 空心阴极等离子体源

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