ES2251812T3 - Procedimiento y dispositivo para la obtencion de capas de esmalte endurecidas. - Google Patents
Procedimiento y dispositivo para la obtencion de capas de esmalte endurecidas.Info
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Abstract
Pintado con spray, boquilla de irradiación con UV a través de fibras ópticas promueve la reacción de los procesos cinéticos que están controlados por temperatura, polimerización catiónica y formulación nanostructurada. Una reacción de reticulación es iniciada en una formulación de pintura reactiva. Este revestimiento sobre una superficie al menos localmente, antes de la reacción está finalizado. Las reivindicaciones independientes se incluyen para el equipo que realiza el procedimiento, y para el revestimiento así producido. El equipo emplea un rociador y/o un aplicado electrostático con un alojamiento en campana. Características preferidas: inicio de la reacción preferiblemente emplea iluminación UV (1), en conjunto con al menos un fotoiniciador en la formulación. La cinética de la reacción está controlada por la variación de la temperatura, y/o el uso de una reacción lo suficientemente lenta, especial mente una polimerización catiónica, y/o por un separador espacial de fotoiniciador(es) desde los componentes de la formulación y/o por minimización de reactividad de los fotoiniciador(es). La separación espacial mencionada, es por nanoestructuración de la formulación de la pintura. Etapas adicionales incluyen el mezclado de un agente de protección UV y/o pigmento en la formulación antes del revestimiento. Una pistola manual de rociado (6) aplica la pintura. En el equipo, las fibras ópticas (3, 4) transmiten la luz UV a la formulación de pintura.
Description
Procedimiento y dispositivo para la obtención de
capas de esmalte endurecidas.
La presente invención se refiere a un
procedimiento y a un dispositivo para la obtención de capas de
esmalte endurecidas, en especial endurecidas por radiación, sobre
una superficie substrato.
Actualmente se obtienen capas de esmalte, con
ayuda, entre otros, del método de endurecimiento por radiación. En
el caso de endurecimiento por radiación se transforma una mezcla
fácilmente elaborable de substancias de empleo reactivas y
aditivos en un retículo polímero tridimensional, estable
mecánicamente, mediante exposición. En este caso se aplica la
formulación de esmalte reactiva en primer lugar sobre el substrato
correspondiente, y en un segundo paso se reticula mediante
exposición óptica, preferentemente con una lámpara UV, o por medio
de endurecimiento por haz de electrones. Son ejemplos a tal efecto
las polimerizaciones de formulaciones de esmalte de baja
viscosidad, iniciadas ópticamente a través de fotoiniciadores, de
monómeros reactivos, oligómeros y prepolímeros, a modo de ejemplo
la polimerización de acrilato a través de radicales o la
polimerización de viniléter o epóxido catiónica, o el reticulado
óptico de polímeros líneales con cadenas laterales reactivas.
Además encuentran empleo polímeros a base de (met)acrilatos,
(met)acrilamidas, éteres vinílicos de maleinimida, sistemas
de abstracción de hidrógeno, poliésteres insaturados, así como
resinas endurecibles por ácido. Las aplicaciones típicas son
revestimientos de papel, esquíes, muebles, suelos, metales,
materiales sintéticos, o bien pegamentos.
En el caso de un esmaltado endurecible por
radiación, como por ejemplo el esmaltado en UV o el endurecimiento
por haz de electrones de superficies tridimensionales de estructura
compleja, como por ejemplo las de vehículos automóviles, la
exposición se debe efectuar uniformemente para evitar que en puntos
críticos, como por ejemplo en bordes o en áreas internas,
permanezcan zonas no endurecidas. Las zonas no endurecidas
remanentes pueden conducir a adhesiones, a emisión de compuestos de
bajo peso molecular, unidad parcialmente a una carga por olor y/o
un peligro para la salud, así como a brillo deficiente y acción
protectora deficiente del esmalte. Esto hace necesario
frecuentemente una elaboración subsiguiente costosa, o incluso la
eliminación de substratos valiosos, vinculada a costes elevados.
Para poder garantizar una exposición uniforme de substratos de gran
superficie, hasta el momento se emplearon lámparas de gran
superficie, en especial lámparas UV en combinación con robótica
3D. Esto requiere inversiones elevadas en instalaciones de
exposición a medida con correspondientes costes de operación
elevados y tiempos de paso lentos, y tratamiento subsiguiente
térmico, eventualmente costoso, como por ejemplo en el caso de
formulaciones Dualcure. Otro problema de procedimientos de
esmaltado convencionales se presenta en el caso de empleo de
formulaciones de esmalte pigmentadas o provistas de aditivos
antisolares. Estos últimos se emplean principalmente en
aplicaciones externas. En ambos casos se puede llegar a
interacciones con la luz irradiada para exposición, por ejemplo
para la absorción o para la dispersión de luz UV. Esto tiene como
consecuencia a su vez que, debido al "efecto de sombreado" de
la luz necesaria para el activado, eventualmente se efectúa un
activado apenas insuficiente de la reacción de reticulado mediante
el sistema fotoiniciador. Por consiguiente, es muy difícil llegar a
un endurecimiento homogéneo, en especial en capas de esmalte más
profundas.
Por lo tanto, una tarea de la presente invención
es poner a disposición un procedimiento con cuya ayuda se pueda
obtener fácilmente, y de manera relativamente rápida, una capa de
esmalte uniforme sin la aparición de los problemas expuestos
anteriormente.
Este problema se soluciona mediante el
procedimiento según la invención conforme a la reivindicación 1. En
las subreivindicaciones se indican perfeccionamientos
convenientes.
El procedimiento según la invención constituye un
procedimiento para la obtención de una capa de esmalte,
preferentemente una capa de esmalte endurecida en al menos un punto
de una superficie substrato, presentando el procedimiento al menos
los siguientes pasos en el siguiente orden:
- a)
- iniciación óptica de al menos una reacción de reticulado en al menos una formulación de esmalte reactiva, que contiene fotoiniciadores y componentes de formulación de esmalte reactivos a reticular,
- b)
- aplicación, preferentemente aplicación homogénea de al menos una formulación de esmalte reactiva, aún de viscosidad reducida, antes de la producción de una capa de esmalte altamente viscosa en al menos un punto de la superficie substrato.
En este caso se entiende por "iniciación al
menos de una reacción de reticulado" que la reacción de
reticulado no transcurre aún en este momento, en el que, no
obstante, al menos una formulación de esmalte reactiva ha creado
aun estado debido al cual se desarrolla la reacción de reticulado
tras un cierto intervalo de tiempo.
Según la invención, al menos una reacción de
reticulado se inicia ya antes de la aplicación de la formulación
de esmalte sobre la superficie substrato correspondiente. Esto
permite una iniciación homogénea de la reacción de reticulado, y
evita de este modo un reticulado poco uniforme, por ejemplo de
substratos tridimensionales de forma compleja, en los que
frecuentemente se debe realizar un gasto considerable en
procedimientos de esmaltado convencionales para tratar
verdaderamente del mismo modo cada punto de superficie a esmaltar,
y para obtener de este modo una capa de esmalte uniforme.
Según la invención, en el paso a), la reacción de
reticulado se inicia ópticamente en al menos una formulación de
esmalte reactiva. Preferentemente, esto se efectúa mediante
exposición UV o radiación de electrones de al menos una
formulación de esmalte reactiva. En una formulación de esmalte
reactiva, empleable en este caso, una reacción de reticulado debe
ser activable ópticamente, de modo que se puede producir una capa
de esmalte altamente viscosa, estable mecánicamente, a partir de
una formulación de esmalte de baja viscosidad.
Al menos una formulación de esmalte comprende al
menos un fotoiniciador. Este fotoiniciador, al menos 1, puede
interaccionar con luz irradiada correspondientemente de manera que,
de este modo, se pone en disposición de inducir la reacción de
reticulado en al menos una formulación de esmalte. Son ejemplos a
tal efecto las polimerizaciones de formulaciones de esmalte de baja
viscosidad, iniciadas ópticamente a través de fotoiniciadores, de
monómeros reactivos, oligómeros y prepolímeros, y el reticulado
óptico de polímeros lineales con cadenas laterales reactivas. En
este caso se pueden citar, entre otras, la polimerización de
acrilato a través de radicales y la polimerización de éter
vinílico o epóxido catiónica. La formulación de esmalte, aún de
viscosidad reducida, se irradia ahora con luz, preferentemente con
luz UV, antes de aplicación sobre la superficie substrato en
cuestión. En este caso es relativamente sencillo conseguir una
exposición UV homogénea. Por ejemplo en la tobera de inyección
para la formulación de esmalte reactiva, o en el correspondiente
conducto, se puede efectuar un flujo homogéneo con luz UV, de modo
que se expone desde diversos lados, o el conducto de alimentación
está diseñado como conductor de luz UV. En este caso, también es
ventajoso que, con estas dimensiones, o bien geometrías reducidas,
se pueda trabajar no solo con lámparas UV convencionales, sino
también con láseres UV. Estos últimos se emplean preferentemente
debido a su control de haz sencillo, y a la posibilidad de
adaptación óptima de longitud de onda de láser a la absorción del
sistema fotoiniciador contenido en la formulación de esmalte
reactiva, como se describe, a modo de ejemplo, en J.-P. Fouassier,
Photoinitiation, Photopolymerization and Photocuring, Hanser
Publishers, München,
1995.
1995.
En el procedimiento según la invención se adoptan
medidas que permiten controlar cinéticamente la reacción de
reticulado en la formulación de esmalte reactiva, que se debe
iniciar, inducir, y finalmente se debe desarrollar; a tal efecto
es decisivo el período de inducción, como se describe en J.P.-
Fouassier, Photoinitiation, Photopolymerization and
Photocuring, Hanser Publishers, München, 1995, página 165,
figura 5.1. Mediante el correspondiente ajuste cinético de la
reacción de reticulado se impide que la formulación de esmalte
reactiva expuesta no se transforme en la correspondiente superficie
substrato ya antes de la incidencia, y se reticule,
preferentemente de manera homogénea, antes de su distribución en la
misma, y con ello se transforme en un estado que dificultaría
considerablemente una distribución uniforme de la formulación de
esmalte sobre la superficie substrato. El intervalo de tiempo entre
la iniciación de la reacción de reticulado y su verdadero empleo
debe ser al menos tal elevado que la formulación de esmalte
reactiva, aún de baja viscosidad, llegue a la superficie
substrato, y se pueda desarrollar en la misma para dar una película
de homogeneidad deseada. Solo a continuación se establece la
reacción de reticulado, mediante lo cual se obtiene en último
término una capa de esmalte endurecida. Esta presenta todas las
propiedades mecánicas, como por ejemplo resistencia al rayado y
elasticidad, así como una buena estabilidad química, como son
conocidas en las capas de esmalte endurecidas por radiación
obtenidas según los procedimientos precedentes. Además del control
de cinética de reacción de reticulado, también se procura
preferentemente que la iniciación, a modo de ejemplo la radiación
UV de la formulación de esmalte, se efectúa inmediatamente, es
decir, aproximadamente fracciones de segundo antes de la
aplicación de la formulación de esmalte sobre el substrato. Por lo
tanto, la formulación de esmalte se expone poco antes o después de
abandonar la unidad de aplicación, y por lo demás se procura una
distancia corta de la unidad de aplicación a la superficie
substrato.
Preferentemente se ajusta la temperatura de la
formulación de esmalte reactiva de modo que la reacción de
reticulado no se establezca inmediatamente después de su iniciación,
sino de manera retardada. En este caso, la formulación de esmalte
reactiva se prepara de modo que se mantenga la viscosidad de
aplicación necesaria, a modo de ejemplo mediante fracciones
elevadas de diluyentes reactivos. Estos último garantizan la
distribución homogénea de la formulación de esmalte sobre la
superficie substrato correspondiente, también a temperaturas
elevadas.
Preferentemente, tras la aplicación de la
formulación de esmalte fría sobre el substrato se efectúa un
temperado del substrato hasta 140ºC, preferentemente a una
temperatura por debajo de 100ºC. De este modo se acelera el inicio
y el desarrollo de la reacción de reticulado.
Según la invención se emplea una reacción de
reticulado suficientemente lenta. Esto significa que la formulación
de esmalte reactiva se selecciona, o bien se sintetiza de modo que
la reacción de reticulado a desencadenar en la misma se desarrolle
con suficiente lentitud, de modo que, tras su iniciación, para la
formulación de esmalte, aún de baja viscosidad, quede suficiente
tiempo para llegar a la correspondiente superficie substrato, y
para desarrollar una película homogénea. Un ejemplo de tal tipo de
reacción constituye la polimerización catiónica. Según J.-P.
Fouassier, Photoinitiation, Photopolymerization and
Photocuring, Hanser Publishers, München, 1995, página 214, con
el empleo de diglicidiléter de bisfenol-A se
muestra tal sistema.
Según la invención, la reacción de reticulado se
retarda mediante una separación espacial de fotoiniciadores y los
componentes de formulación de esmalte reactivos a reticular, como
por ejemplo monómeros y prepolímeros reactivos. En este caso, esto
se efectúa a través de un nanoestructurado de la formulación de
esmalte. A modo de ejemplo, los fotoiniciadores contenidos en la
formulación de esmalte se alojan preferentemente en partículas. En
este caso, estas partículas presentan preferentemente un diámetro en
el intervalo de nm a \mum, de modo especialmente preferente en
el intervalo de 10 nm a 100 \mum. Por consiguiente, también se
puede retrasar la reacción de reticulado en el tiempo que los
fotoiniciadores, o bien sus productos de disociación, requieren
para la difusión a partir de las partículas. En otra forma de
ejecución preferente, los fotoiniciadores no solo se alojan en
partículas, sino que se fijan en látices o dendrímeros. El tiempo
de retraso de la reacción de reticulado, que se consigue de este
modo, corresponde ahora al tiempo que requieren los componentes
reactivos de la formulación de esmalte, como por ejemplo monómeros u
oligómeros reactivos, para la penetración por difusión en los
látices.
En otra forma de ejecución del procedimiento
según la invención, mediante el control cinético de la reacción de
reticulado, es decir, mediante control de reacción selectivo, se
ajusta dinámicamente las propiedades reológicas durante la fase de
aplicación de la formulación de esmalte sobre la superficie
substrato. De este modo se pueden substituir modificadores de
viscosidad (aditivos de reología), lo que elimina de nuevo
problemas de esmaltado típicos, como por ejemplo la tendencia al
goteo en superficies verticales.
En otra forma preferente de ejecución del
procedimiento según la invención, entre el paso a), es decir, la
iniciación de la reacción de reticulado en al menos una formulación
de esmalte reactiva, y el paso b), esto es, la aplicación
homogénea de al menos una formulación de esmalte reactiva antes del
inicio de la reacción de reticulado en al menos un punto de la
superficie substrato, se introduce un paso adicional a'), es decir,
un mezclado de al menos un agente protector UV a al menos una
formulación de esmalte reactiva. En este caso se disuelven los
agentes protectores UV preferentemente en diluyentes reactivos, y
poco después de la radiación UV se añaden con mezclado de manera
homogénea a la formulación de esmalte reactiva que contiene
fotoiniciadores, y poco después de su aplicación sobre la
superficie substrato en circulación preferentemente turbulenta.
Mediante este tipo de mezclado de agentes protectores UV no se
producen mermas de homogeneidad de radiación UV, es decir, el
endurecimiento por radiación UV de la formulación de esmalte no se
reduce, mientras que, simultáneamente, mediante adición de agentes
protectores UV se garantiza un estabilizado en UV de larga
\hbox{duración.}
Preferentemente, en otra forma de ejecución del
procedimiento según la invención, entre el paso a) y el paso b)
está previsto un paso adicional a''), en el que se añade con
mezclado al menos un pigmento a al menos una formulación de
esmalte reactiva. En este caso, el pigmento, a modo de ejemplo para
revestimientos base, se añade con mezclado en circulación
turbulenta, preferentemente poco después de la iniciación de la
reacción de reticulado en al menos una formulación de esmalte, a
modo de ejemplo mediante irradiación UV de una formulación de
esmalte que contiene fotoiniciador, y poco antes de la aplicación de
la misma. En este caso, el pigmento está dispersado
preferentemente en diluyentes reactivos. A modo de ejemplo, como
pigmentos se pueden emplear los descritos en J.-P. Fouassier,
Photoinitiation, Photopolymerization and Photocuring, Hanser
Publishers, München, 1995, páginas 285 a 297; No obstante, mediante
la adición con mezclado subsiguiente son concebibles también todos
los pigmentos convencionales, incompatibles con el endurecimiento
por radiación por absorbentes, y con ellos no endurecibles, como se
emplean, por ejemplo, en el sector automovilístico. Mediante este
tipo de adición con mezclado de un pigmento, en especial en el caso
de endurecimiento por radiación, es decir la iniciación de
reacción de reticulado mediante exposición, en especial mediante
exposición UV, este no se reduce en su homogeneidad.
Preferentemente, el procedimiento según la
invención se emplea también para la mejora, o bien para la
reparación de capas de esmalte en su superficie substrato. En este
caso, para la aplicación de al menos una formulación de esmalte
reactiva antes del empleo de al menos una reacción de reticulado en
al menos un punto de la superficie substrato se emplea una pistola
pulverizadora manual. En este caso se garantiza la aplicación local
necesaria de la formulación de esmaltes sobre la superficie
substrato, es decir, exactamente en el punto defectuoso, o bien a
mejorar. Además, el empleo de una pistola pulverizadora manual es
muy práctico, y posible directamente in situ en cualquier
sentido.
Un dispositivo apropiado para la obtención de una
capa de esmalte endurecida en al menos un punto de una superficie
substrato, conforme
al procedimiento según la invención, presenta los
siguientes elementos:
- a)
- al menos un depósito de reserva para al menos una formulación de esmalte reactiva,
- b)
- al menos una unidad de exposición, preferentemente una unidad de exposición UV, además preferentemente un láser UV, y
- c)
- al menos una unidad de aplicación con una tobera, en especial una cabeza de pulverizado, y/o
- d)
- una campana para una aplicación electrostática (campana ESTA), estando configurada la unidad de exposición, al menos una, de modo que en la unidad de exposición, al menos una, la radiación generada en la unidad de aplicación, al menos una, entre en contacto con la formulación de esmalte reactivo.
En una forma preferente de ejecución del
dispositivo está previsto al menos un conductor lumínico, con cuya
ayuda la luz generada en la unidad de exposición, al menos una, se
pone en contacto con la formulación de esmalte reactiva en la
unidad de aplicación, al menos una. Este conductor lumínico, al
menos uno, preferentemente varios, preferentemente conductores de
luz UV, se introducen en la unidad de aplicación poco antes de la
tobera. En el caso de la unidad de aplicación se trata
preferentemente de una cabeza de pulverizado o una campana ESTA.
Por medio del conductor lumínico se consigue sin gran esfuerzo una
exposición homogénea, en especial una exposición UV de la
formulación de esmalte reactiva poco antes de abandonar la unidad
de aplicación. En este caso se pueden emplear instalaciones de
aplicación convencionales, a modo de ejemplo robots de esmaltado,
y dotar los mismos de modo subsiguiente con una exposición acoplada
con fibras, preferentemente una exposición UV acoplada con fibras.
De este modo se ahorran considerables costes de inversión y
operación, ya que se suprimen hornos de cochura y lámparas de
superficie costosas. También desde el punto de vista ecológico,
este gasto de energía mínimo se debe considerar una ventaja
considerable frente al estado de la técnica. Todas las propiedades
positivas adicionales del esmaltado por radiación, como por ejemplo
ausencia de disolventes y ausencia de emisión de monómeros, se
mantienen. Por lo demás, también aumenta el rendimiento, ya que el
paso que determina la velocidad bajo empleo del dispositivo según
la invención es la aplicación de la formulación de esmalte
reactiva, como por ejemplo la pulverización de la formulación de
esmalte reactiva sobre la superficie substrato, y ya no
adicionalmente, como hasta la fecha, la exposición, en parte
compleja. Además, la demanda de espacio de un dispositivo según la
invención asciende a una fracción de la demanda de espacio de una
instalación empleada hasta el momento. Por lo tanto, en cualquier
proceso de esmaltado se es sensiblemente más flexible en el manejo.
A modo de ejemplo, en la industria automovilística es muy ventajoso
poder llevar a cabo el proceso de esmaltado también en espacio más
reducido.
Otras ventajas, características y posibilidades
de aplicación de la invención resultan de la siguiente descripción
de un dispositivo según la invención en combinación con la
correspondiente figura. Muestra:
La figura 1 la estructura esquemática de un
dispositivo apropiado para la obtención de al menos una capa de
esmalte endurecida en al menos un punto de una superficie
substrato.
En la figura 1 se muestra esquemáticamente la
estructura de un dispositivo apropiado. A través de una
alimentación 5 se conduce al menos una formulación de esmalte
reactiva a partir de un depósito de reserva a la unidad de
aplicación provista de una tobera 6. Inmediatamente antes de la
salida de la tobera se aplican dos conductores lumínicos 3 y 4,
preferentemente conductores de luz UV. Desde la unidad de
exposición 1, en cuyo caso se trata preferentemente de una lámpara
UV, de modo especialmente preferente de un láser UV, se conduce la
luz a través de un cierre 2 dispuesto en la unidad de exposición,
en el que están aplicados los conductores lumínicos 3 y 4, a la
unidad de aplicación a través de ambos conductores lumínicos 3 y 4,
y justo inmediatamente antes de la tobera 6 de la unidad de
aplicación. Mediante esta disposición de conductores lumínicos 3, 4
según la invención, representada en este caso, se consigue una
irradiación UV homogénea de la formulación de esmalte reactiva
poco antes de abandonar la unidad de aplicación inmediatamente en el
orificio de salida de la tobera 6. Por consiguiente, en este punto
se inicia la reacción de reticulado en la formulación de esmalte
reactiva. En este caso, la reacción de reticulado se selecciona, o
se controla cinéticamente con ayuda de otros métodos, de modo que
se inicia, pero no se induce aún o se desarrolla en este punto, es
decir, inmediatamente antes del orificio de salida de la tobera 6.
La unidad de aplicación se dispone a una distancia corta respecto a
la superficie substrato a esmaltar en cuestión. Por consiguiente,
si se debe asegurar que el intervalo de tiempo entre irradiación
UV de la formulación de esmalte reactiva poco antes del orificio de
salida de la tobera 6 y la incidencia de la formulación de esmalte
reactiva sobre la superficie substrato, sea suficientemente
elevado para que la formulación de esmalte, aún no reticulada, tenga
aún suficiente tiempo para desarrollar una capa homogénea sobre la
superficie substrato. Solo a continuación, mediante la reacción de
reticulado iniciada, se obtiene una capa de esmalte endurecida, que
posee todas las propiedades, como por ejemplo resistencia al
rayado y elasticidad, así como una buena estabilidad química, como
son conocidas en las capas de esmalte endurecidas por
radiación.
Claims (6)
1. Procedimiento para la obtención de al menos
una capa de esmalte, en al menos un punto de una superficie
substrato, que presenta al menos los siguientes pasos en el
siguiente orden:
- a)
- iniciación óptica de al menos una reacción de reticulado en al menos una formulación de esmalte reactiva, que contiene fotoiniciadores y componentes de formulación de esmalte reactivos a reticular,
- b)
- aplicación, preferentemente aplicación homogénea de al menos una formulación de esmalte reactiva, aún de viscosidad reducida, antes de la producción de una capa de esmalte altamente viscosa en al menos un punto de la superficie substrato,
caracterizado porque la
reacción de reticulado se retrasa mediante una separación espacial
de fotoiniciadores y los componentes de formulación de esmalte
reactivos a reticular, consiguiéndose la separación espacial
mediante nanoestructuración de la formulación de
esmalte.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque en el paso a) se inicia la reacción de
reticulado de al menos una formulación de esmalte reactiva mediante
irradiación UV.
3. Procedimiento según la reivindicación 1 o 2,
caracterizado porque la nanoestructuración de la formulación
de esmalte se ocasiona mediante alojamiento de los fotoiniciadores
en partículas con un diámetro de 10 nm a 100 \mum.
4. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque, tras el
paso a) y antes del paso b), el procedimiento presenta al menos en
siguiente paso adicional:
- a')
- adición con mezclado de al menos un agente protector UV a al menos una formulación de esmalte reactiva.
5. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque, tras el
paso a), y antes del paso b), el procedimiento presenta al menos el
siguiente paso adicional:
- a'')
- adición con mezclado de al menos un pigmento a al menos una formulación de esmalte reactiva.
6. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque, en el
paso b), la aplicación de al menos una formulación de esmalte
reactiva se efectúa antes de la iniciación de al menos una reacción
de reticulado en al menos un punto de la superficie substrato con
ayuda de una pistola pulverizadora manual.
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