ES2256247T3 - METHOD AND MANUFACTURE OF SEALED MONOLITIC PHOTOELECTROCHEMICAL SYSTEMS AND A SEALED MONOLITIC PHOTOELECTROCHEMICAL SYSTEM. - Google Patents

METHOD AND MANUFACTURE OF SEALED MONOLITIC PHOTOELECTROCHEMICAL SYSTEMS AND A SEALED MONOLITIC PHOTOELECTROCHEMICAL SYSTEM.

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ES2256247T3
ES2256247T3 ES01938929T ES01938929T ES2256247T3 ES 2256247 T3 ES2256247 T3 ES 2256247T3 ES 01938929 T ES01938929 T ES 01938929T ES 01938929 T ES01938929 T ES 01938929T ES 2256247 T3 ES2256247 T3 ES 2256247T3
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pressing
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porous structure
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Henrik Pettersson
Tadeusz Gruszecki
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Abstract

Method for manufacturing sealed monolithic electrochemical systems (1), which method comprises the following method steps: application of electrolyte to a pattern of a porous structure located on a substrate (3), which structure constitutes a monolithic electrochemical electrode and comprises a photoelectrode (6), an insulating layer (7) and a counterelectrode (8) application of a sealing material (10) surrounding said porous structure to form a laminate comprising a front plane consisting of said substrate (3) and the porous structure and a rear plane consisting of the sealing material (10). <IMAGE>

Description

Método y fabricación de sistemas fotoelectroquímicos monolíticos sellados y un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado.Method and manufacturing of systems sealed monolithic photoelectrochemicals and a system sealed monolithic photoelectrochemical.

Campo técnicoTechnical field

El presente invento se refiere a un método para fabricar sistemas fotoelectroquímicos monolíticos sellados de acuerdo con el preámbulo de la reivindicación 1 de la patente, y en particular a un método para fabricar sistemas fotoelectroquímicos monolíticos que comprenden un substrato, un patrón, localizado sobre ese substrato, de una estructura porosa que comprende un foto-electrodo, una capa aislante y un contra-electrodo, en el que la estructura porosa se rellena con electrolito antes de que el patrón de la estructura porosa se encapsule entre el substrato y el plano trasero formado por material sellante.The present invention relates to a method for manufacture sealed monolithic photoelectrochemical systems of according to the preamble of claim 1 of the patent, and in particular to a method for manufacturing photoelectrochemical systems monolithic comprising a substrate, a pattern, located on that substrate, of a porous structure comprising a photo electrode, an insulating layer and a counter electrode, in which the porous structure is filled with electrolyte before the structure pattern Porous encapsulates between the substrate and the rear plane formed by sealing material.

El presente invento también se refiere a un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado de acuerdo con el preámbulo de la reivindicación 16 de la patente.The present invention also relates to a sealed monolithic photoelectrochemical system in accordance with the preamble of claim 16 of the patent.

Técnica anteriorPrior art

Previamente, a partir del documento WO 97/16838, se conocía un método para fabricar células fotoelectroquímicas monolíticas. En este método se forman células fotoelectroquímicas por medio de patrones de material conductor que se aplican sobre un material transparente aislado eléctricamente. A continuación, se aporta una estructura porosa aplicando sucesivamente una capa de semiconductor poroso, una capa de aislante poroso y una capa de conductor poroso. Tras la aplicación de la estructura porosa se proporciona un electrolito líquido a la misma. La estructura porosa también se cubre con una capa de cobertura aislante.Previously, as of WO 97/16838, a method for manufacturing photoelectrochemical cells was known monolithic In this method photoelectrochemical cells are formed by means of conductive material patterns that are applied on a transparent electrically isolated material. Then it provides a porous structure by successively applying a layer of porous semiconductor, a layer of porous insulator and a layer of porous conductor After the application of the porous structure provides a liquid electrolyte to it. Porous structure It is also covered with an insulating cover layer.

No obstante, se ha comprobado que en el sellado de los sistemas fotoelectroquímicos monolíticos surgen un número de problemas. Por otra parte, se ha encontrado que las células son sensibles a la humedad y a las impurezas, debido a que la presencia de humedad e impurezas tiene un efecto considerable sobre la estabilidad del sistema a largo plazo. Por otra parte, es importante que el sellado a lo largo del borde exterior de las células evite eficazmente la fuga o disipación de, por una parte, electrolito procedente del interior de las células y, por otra, impurezas y humedad procedentes del exterior hacia el interior de las células.However, it has been proven that in the sealing from the monolithic photoelectrochemical systems a number of problems. On the other hand, it has been found that the cells are sensitive to moisture and impurities, because the presence of moisture and impurities has a considerable effect on the Long-term system stability. Moreover, it is important that the sealing along the outer edge of the cells effectively prevent the leakage or dissipation of, on the one hand, electrolyte from inside the cells and, on the other, impurities and moisture from outside to inside of the cells.

Se han intentado varios métodos para sellar sistemas fotoelectroquímicos monolíticos, en los cuales se coloca electrolito para sellar, tales como pegar o unir dos rodillos manteniéndolos unidos mediante prensado. Ninguno de los métodos que se han probado anteriormente ha dado lugar a sistemas fotoelectroquímicos con características a largo plazo suficientemente buenas y con grado de deficiencia suficientemente bajo del comportamiento de la célula durante el proceso de sellado, lo cual ha dado lugar a que la fabricación industrial de sistemas fotoelectroquímicos sea más difícil.Several methods have been tried to seal monolithic photoelectrochemical systems, in which it is placed electrolyte to seal, such as bonding or joining two rollers holding them together by pressing. None of the methods that have been tested previously has resulted in systems Photoelectrochemicals with long-term characteristics good enough and sufficiently deficient low cell behavior during the sealing process, which has resulted in the industrial manufacturing of systems Photoelectrochemicals are more difficult.

Breve descripción del inventoBrief Description of the Invention

El objeto del invento es proporcionar un método para fabricar sistemas fotoelectroquímicos monolíticos sellados, en los que se reduce el riesgo de la presencia de humedad e impurezas en la célula tras el sellad, se aumenta la estabilidad de las células a largo plazo y el sellado tiene un elevado grado de impermeabilidad con respecto al entorno.The object of the invention is to provide a method to manufacture sealed monolithic photoelectrochemical systems, in which reduces the risk of the presence of moisture and impurities in the cell after sealing, the stability of the Long-term cells and sealing has a high degree of impermeability with respect to the environment.

Estos objetos se consiguen mediante un método de acuerdo con la parte que caracteriza de la reivindicación 1 de la patente. El material sellante comprende un plástico que se funde y se une a un plano frontal, formado por un substrato y células localizadas sobre el substrato. Debido al hecho que el material sellante se calienta y se somete a prensado, se obtiene el sellado a lo largo del borde del patrón de la estructura porosa. El borde significa por una parte el borde interno que separa entre sí las células individuales de un determinado grupo de células y, por otra, el borde externo que separa un grupo de células del entorno. Dado que la capa plástica es muy flexible cuando se calienta, se obtiene un sellado bueno y muy hermético, reduciéndose el riesgo de que penetren la humedad y las impurezas y aumentándose la estabilidad del sistema a largo plazo. El método sellante de acuerdo con el invento también reduce el riesgo de que el rendimiento de las células se reduzca durante el proceso de fabricación.These objects are achieved by a method of according to the characterizing part of claim 1 of the patent. The sealing material comprises a plastic that melts and joins a frontal plane, formed by a substrate and cells located on the substrate. Due to the fact that the material sealant is heated and pressed, sealing is obtained along the edge of the pattern of the porous structure. The edge on the one hand it means the inner edge that separates the individual cells of a certain group of cells and, by another, the outer edge that separates a group of cells from the environment. Since the plastic layer is very flexible when heated, it gets a good and very tight seal, reducing the risk of that penetrate moisture and impurities and increasing the Long-term system stability. The sealing method of according to the invention also reduces the risk that the Cell yield is reduced during the process of manufacturing.

En una realización preferida del invento, el sistema fotoelectroquímico monolítico se somete a sobrepresión, permitiendo la evacuación de la humedad y los gases de la estructura porosa. Esto da lugar a la posibilidad de obtener un producto más limpio y por tanto más estable a largo plazo.In a preferred embodiment of the invention, the monolithic photoelectrochemical system is subjected to overpressure, allowing the evacuation of moisture and gases from the structure porous This gives rise to the possibility of obtaining one more product clean and therefore more stable in the long term.

En una realización preferida del invento, el plano frontal y el trasero se presionan juntos mediante un dispositivo de prensado flexible. Presionando el plano frontal y el plano trasero juntos con un dispositivo de prensado flexible, se proporciona un buen sellado a lo largo del borde del patrón de células aplicado. Se proporciona buen sellado tanto a lo largo del borde interno entre las células individuales como del borde externo que rodea a las células. El sellado entre las células, esto es el borde interno, da lugar a que se reduzca el riesgo de fuga entre las células, y el sellado alrededor del patrón de células, esto es el borde exterior, reduce el riesgo de que la suciedad y la humedad procedentes del exterior penetren en el interior de las células.In a preferred embodiment of the invention, the front and rear plane are pressed together by a flexible pressing device. Pressing the frontal plane and the back plane together with a flexible pressing device, it provides a good seal along the edge of the pattern of cells applied. Good sealing is provided both along the inner border between individual cells as well as the outer edge surrounding the cells. The sealing between the cells, this is the internal edge, leads to a reduction in the risk of leakage between the cells, and the seal around the cell pattern, this is the outer edge reduces the risk of dirt and moisture coming from outside penetrate inside the cells.

Otro objeto del invento es proporcionar un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado que comprende una barrera protectora eficaz frente a la entrada de humedad e impurezas en las células procedentes del entorno, en el que se reduce el riesgo de degradación de la función de la célula durante el encapsulado, y es posible que las células tengan características de estabilidad a largo plazo suficientemente buenas. Estos objetos se logran mediante un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado de acuerdo con la parte que caracteriza de la reivindicación 16 de la patente. Por medio de un material sellante que comprende al menos una primera capa formada por una película plástica, se proporciona una unión entre el plano frontal y el plano trasero del sistema fotoelectroquímico, que reduce el riesgo que de la humedad penetre en las células y también reduce el riesgo de que el electrolito fluya hacia el exterior de la célula y entre en contacto con la célula adyacente. Dado que la capa plástica es muy flexible en estado caliente, se obtiene un sellado bueno y muy hermético, se reduce el riesgo de que penetre la humedad y de esta forma se aumenta la estabilidad del sistema a largo plazo.Another object of the invention is to provide a sealed monolithic photoelectrochemical system comprising a effective protective barrier against the entry of moisture and impurities in the cells coming from the environment, in which the risk of degradation of cell function during encapsulated, and it is possible that cells have characteristics of Long-term stability good enough. These objects are achieved through a sealed monolithic photoelectrochemical system of according to the characterizing part of claim 16 of the patent. By means of a sealing material comprising at least a first layer formed by a plastic film, is provided a junction between the frontal plane and the rear plane of the system photoelectrochemical, which reduces the risk of moisture penetrating in the cells and also reduces the risk of the electrolyte flow out of the cell and come into contact with the adjacent cell. Since the plastic layer is very flexible in hot state, you get a good and very tight seal, it reduces the risk of moisture penetrating and thus Increases the stability of the system in the long term.

En una realización preferida, el material sellante comprende al menos una segunda capa, que constituye una capa de barrera y posee propiedades apropiadas para evitar la penetración de humedad y suciedad en el interior de la célula procedente del entorno. Este tipo de material sellante es especialmente apropiado, porque se reduce el riesgo de defecto de la estabilidad del sistema a largo plazo.In a preferred embodiment, the material sealant comprises at least a second layer, which constitutes a barrier layer and possesses appropriate properties to avoid moisture and dirt penetration inside the cell from the environment. This type of sealing material is especially appropriate, because the risk of defect of Long-term system stability.

Descripción de las figurasDescription of the figures

El invento se describe a continuación con referencia a las figuras de los dibujos adjuntos, en las queThe invention is described below with reference to the figures of the attached drawings, in which

La Fig. 1 muestra un corte transversal de un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado que comprende un número de células,Fig. 1 shows a cross section of a sealed monolithic photoelectrochemical system comprising a number of cells,

La Fig. 2 muestra otra realización de un sistema fotoelectroquímico monolítico, en el que la conexión en serie entre el número de células se lleva a cabo por interconexión alterna de paredes terminales,Fig. 2 shows another embodiment of a system monolithic photoelectrochemical, in which the serial connection between the number of cells is carried out by alternating interconnection of terminal walls,

La Fig. 3 muestra un grupo de células aplicadas al sustrato,Fig. 3 shows a group of applied cells to the substrate,

La Fig. 4 muestra un diagrama de flujo del proceso de sellado del sistema fotoelectroquímico monolítico,Fig. 4 shows a flow chart of the sealing process of the monolithic photoelectrochemical system,

La Fig. 4A muestra un diagrama de flujo de un grupo de procesos por partes en los procesos de sellado mostrados en la Figura 4,Fig. 4A shows a flow chart of a group of processes by parts in the sealing processes shown in Figure 4,

La Fig. 5 muestra el prensado de un sistema fotoelectroquímico por medio de un diagrama flexible,Fig. 5 shows the pressing of a system photoelectrochemical by means of a flexible diagram,

La Fig. 6 muestra un cabezal de prensado suave,Fig. 6 shows a pressing head soft,

La Fig. 7 muestra un sistema de dos cámaras para someter a prensado un sistema fotoelectroquímico,Fig. 7 shows a two-chamber system for subject a photoelectrochemical system to pressing,

La Fig. 8 muestra un sistema fotoelectroquímico con un material sellante de dos partes, yFig. 8 shows a photoelectrochemical system with a two part sealant material, and

La Fig. 9 muestra un sistema fotoelectroquímico con las áreas externas presionadas fuertemente unas con otras.Fig. 9 shows a photoelectrochemical system with the external areas pressed strongly with each other.

Modos de llevar a cabo el inventoWays of carrying out the invention

En la Figura 1, se muestra un corte transversal de un sistema 1fotoelectroquímico monolítico sellado que comprende un número de células 2A, 2B, 2C. Cada célula 2A, 2B, 2C constituye una estructura porosa y comprende un fotoelectrodo 6, una capa aislante 7 y un contraelectrodo 8. Las células 2A, 2B, 2C o las estructuras porosas se aplican sobre el sustrato en un patrón. El patrón se rodea por un borde que consiste en un borde interno que separa las células individuales unas de otras y un borde externo que rodea un grupo de células que constituye dicho patrón. El documento WO 97/16838 describe un ejemplo de tal sistema, cuya descripción se incorpora enteramente en la presente memoria.In Figure 1, a cross section is shown of a sealed monolithic photoelectrochemical system comprising a number of cells 2A, 2B, 2C. Each cell 2A, 2B, 2C constitutes a porous structure and comprises a photoelectrode 6, a layer insulator 7 and a counter electrode 8. Cells 2A, 2B, 2C or Porous structures are applied on the substrate in a pattern. He pattern is surrounded by an edge consisting of an internal edge that separates individual cells from each other and an outer edge surrounding a group of cells that constitutes said pattern. He WO 97/16838 describes an example of such a system, whose Description is incorporated herein entirely.

El sistema 1 fotoelectroquímico monolítico comprende foto-electrodos en forma de fotoelectrodos 6 nanoporosos construidos sobre el sustrato. El sustrato comprende una capa 3 de soporte de material completamente o parcialmente transparente y también una fina capa conductora 4 que se aplica a la capa 3 de soporte. La capa 3 de soporte puede ser de vidrio o de plástico, en cuyo caso el sistema fotoeléctrico puede diseñarse flexiblemente en cierto modo. Cada fotoelectrodo 6 se coloca sobre la capa fina conductora. La capa conductora está dividida en un patrón de líneas 5 finas divisorias en las que la capa conductora es retirada, formándose a continuación un grupo de células aisladas mutuamente. Preferiblemente, el patrón consiste en un grupo de rectángulos alargados, pero puede por supuesto estar diseñado de manera arbitraria, aunque preferiblemente es un patrón para cubrir la superficie. La Figura 2 muestra un ejemplo de patrón apropiado, y se observa el sistema 2 fotoelectroquímico visto desde encima.The monolithic photoelectrochemical system 1 comprises photo electrodes in the form of photoelectrodes 6 nanoporous ones built on the substrate. The substrate comprises a layer 3 of material support completely or partially transparent and also a thin conductive layer 4 that is applied to the support layer 3. The support layer 3 can be made of glass or of plastic, in which case the photoelectric system can be designed flexibly in a way. Each photoelectrode 6 is placed on The conductive thin layer. The conductive layer is divided into a pattern of 5 dividing fine lines in which the conductive layer is removed, then forming a group of isolated cells mutually. Preferably, the pattern consists of a group of elongated rectangles, but can of course be designed from arbitrary manner, although preferably it is a pattern to cover the surface. Figure 2 shows an example of an appropriate pattern, and the photoelectrochemical system 2 seen from above is observed.

De acuerdo con la realización que se muestra en la Figura 2, el patrón de la estructura porosa como un grupo de células rectangulares 2A-2D. Las células están colocadas borde largo con borde largo. En este caso, el borde externo está formado por un rectángulo 40 que rodea el grupo de células y el borde interno está formado por un grupo de líneas 41 paralelas que separan las células unas de otras. Un grupo de células se encuentra conectado en serie de forma conocida, por ejemplo como se indica a continuación. También se plantean otros patrones para cubrir la superficie, por ejemplo, un grupo de hexágonos. No obstante, la realización preferida con rectángulos permite la conexión simple en serie entre las células. Con el fin de realizar una conexión en serie entre células de manera simple, se disponen las capas de célula en la realización que se muestra en la Figura 1, donde las células se encuentran interconectadas borde con borde como sigue: el fotoelectrodo 6 se extiende hasta un borde de la capa 4 conductora de células, mientras que el otro borde se deja libre. Las líneas 5 divisorias se diseñan con una anchura tal que no exista riesgo de que el fotoelectrodo entre en contacto con la célula adyacente.According to the embodiment shown in Figure 2, the pattern of the porous structure as a group of 2A-2D rectangular cells. The cells are placed long edge with long edge. In this case, the edge external is formed by a rectangle 40 that surrounds the group of cells and the inner edge is formed by a group of lines 41 parallel that separate cells from each other. A group of cells is connected in series in a known way, for example as It is indicated below. Other patterns are also raised for cover the surface, for example, a group of hexagons. Do not However, the preferred embodiment with rectangles allows the Simple serial connection between cells. In order to perform a serial connection between cells in a simple way, they are arranged the cell layers in the embodiment shown in Figure 1, where cells are interconnected edge to edge as follows: photoelectrode 6 extends to an edge of the conductive layer 4 of cells, while the other edge is left free. The dividing lines 5 are designed with a width such that there is no risk of the photoelectrode coming into contact with the adjacent cell.

El fotoelectrodo 6 está cubierto por una capa porosa de un aislante 7, que se extiende sobre un borde de la capa conductora y aísla al fotoelectrodo 6 del contraelectrodo 8 poroso que se encuentra localizado en el aislante 7. Preferiblemente, el aislante 7 también puede constituir un reflector difuso que refleja la luz que ha pasado a través del fotoelectrodo 6 sin ser absorbida en él, aumentándose el grado de absorción del sistema.The photoelectrode 6 is covered by a layer porous of an insulator 7, which extends over an edge of the layer conductive and isolates the photoelectrode 6 from the porous counter electrode 8 which is located in insulator 7. Preferably, the insulator 7 may also constitute a diffuse reflector that reflects the light that has passed through photoelectrode 6 without being absorbed in it, increasing the degree of absorption of the system.

En una realización preferida, el contraelectrodo 8 se aplica de tal forma que esencialmente cubre el aislante 7 y se extiende hasta la capa sobre una célula adyacente no cubierta por el aislante 7. De esta forma, se crean las células conectadas en serie, entrando en contacto con 11, proporcionándose 12 únicamente para la primera y la última en un grupo de células interconectadas.In a preferred embodiment, the counter electrode 8 is applied in such a way that it essentially covers the insulator 7 and is extends to the layer on an adjacent cell not covered by the insulator 7. In this way, the connected cells are created in series, contacting 11, providing 12 only for the first and the last in a group of cells interconnected

Los contraelectrodos 8 de las respectivas células se separan mediante un interespacio 9. Es importante que las células se aíslen unas de otras de forma que el electrolito no pueda salirse de los electrodos o del aislante y entre en contacto con los electrodos de las diferentes células. Con el fin de garantizar que esto no suceda, el interespacio puede rellenarse con un material aislante. En una realización preferida, el material aislante está formado por partes de material sellante 10 que se somete a prensado en el interior del interespacio 9.The counter electrodes 8 of the respective cells are separated by an interspace 9. It is important that cells are isolated from each other so that the electrolyte cannot out of electrodes or insulator and come into contact with the electrodes of the different cells. In order to guarantee that this does not happen, the interspace can be filled with a isolating material. In a preferred embodiment, the material insulator is formed by parts of sealing material 10 that subject to pressing inside the interspace 9.

Antes de que el sistema 1 fotoelectroquímico sea sellado, el fotoelectrodo 6 absorbe una sustancia activa, por ejemplo un colorante que absorbe luz. Además, se suministra el electrolito a la estructura porosa formada por el fotoelectrodo 6, aislante 7 y contraelectrodo 8. En una realización preferida, el electrolito se suministra por medio de un proceso de impresión, de manera apropiada impresión por serigrafía. Utilizando este método, puede suministrarse la cantidad correcta de electrolito, de forma que se rellena la estructura porosa de cada célula pero sin llegar a superar la capacidad de llenado. Si se suministra demasiado electrolito, existe riesgo de que el electrolito se desplace al interior del interespacio 9 entre las células, dando lugar a un riesgo de cortocircuito entre las células. En otra realización, el electrolito es suministrado dejando que la estructura porosa adsorba el electrolito durante el proceso de suministro.Before the photoelectrochemical system 1 is sealed, photoelectrode 6 absorbs an active substance, by example a dye that absorbs light. In addition, the electrolyte to the porous structure formed by photoelectrode 6, insulator 7 and counter electrode 8. In a preferred embodiment, the electrolyte is supplied by means of a printing process, of proper way screen printing. Using this method, the correct amount of electrolyte can be supplied, so that the porous structure of each cell is filled but without arriving to exceed the filling capacity. If too much is supplied electrolyte, there is a risk that the electrolyte will travel to the inside of interspace 9 between cells, leading to a risk of short circuit between cells. In another embodiment, the electrolyte is supplied letting the porous structure adsorbs the electrolyte during the supply process.

En otra realización, que se muestra en la Figura 3, la conexión en serie entre un número de células 2A, 2B y 2C se lleva a cabo a través de las paredes terminales de las células que se conectan como se describe a continuación. En esta realización, las células se encuentran en un patrón en el que cada célula es rectangular y tiene dos lados largos y dos paredes terminales. Las células se forman sobre un sustrato con una capa 4 de material conductor. Las células se aíslan unas de otras mediante canales 5 del material conductor que ha sido grabado. Cada célula comprende un ánodo 6 de material poroso, y en el presente caso este ánodo está formado por un fotoelectrodo sensible a la luz. Se aplica un aislante 7 de material poroso al ánodo 6. Se aplica un contraelectrodo 8 de material poroso a dicho aislante 7. Con el fin de llevar a cabo la conexión en serie entre las células, éstas se conectan de tal forma que el ánodo de una célula se conecta al contraelectrodo de la célula siguiente. En la realización que se muestra en la Figura 2, esto se lleva a cabo mediante canales grabados 5 que están diseñados siguiendo un patrón de zig-zag, que produce un patrón de forma en L de las superficies conductoras que consisten en un grupo de Ls, que tienen una parte trasera 13 y un pie 14, enfrentados el uno con respecto al otro de forma que la protuberancia de una L tiende a estar localizada directamente en posición adyacente a la siguiente L. El fotoelectrodo 6 está localizado en su totalidad dentro de la parte trasera, es decir la parte alargada, de una zona con forma de L. El aislante 7 se encuentra colocado de forma que cubre el fotoelectrodo y se extiende ligeramente sobre el pie 14 de la zona con forma de L de una célula adyacente, es decir el aislante 7 actúa de puente en el canal grabado 5 dentro de una zona correspondiente a la anchura de la célula. La conexión en serie se lleva a cabo mediante el contraelectrodo 8 de una célula a la que se permite que se extienda dentro de la capa conductora 4 de una célula adyacente. En la realización que se muestra en la Figura 3, esto se lleva a cabo por medio del contraelectrodo 8 que se extiende dentro del pie 14 de una zona con forma de L de una célula adyacente. La Figura 3 también muestra una material encapsulante 10A y una capa de cubrimiento 10B que juntos constituyen un material sellante 10. En una realización preferida, el material encapsulante 10 está formado por una capa de adhesión 19A, y una capa de cubrimiento 10B que está formada por una capa de adhesión 19B y una capa de barrera 19C.In another embodiment, shown in Figure 3, the serial connection between a number of cells 2A, 2B and 2C is carried out through the terminal walls of the cells that They are connected as described below. In this embodiment, the cells are in a pattern in which each cell is rectangular and has two long sides and two terminal walls. The cells are formed on a substrate with a layer 4 of material driver. The cells are isolated from each other by channels 5 of the conductive material that has been recorded. Each cell comprises an anode 6 of porous material, and in the present case this anode is formed by a light sensitive photoelectrode. A insulator 7 of porous material to the anode 6. A counter electrode 8 of porous material to said insulator 7. In order of carrying out the serial connection between the cells, these are connect in such a way that the anode of a cell connects to the counter electrode of the next cell. In the embodiment that shown in Figure 2, this is done through channels Engravings 5 that are designed following a pattern of zigzag, which produces an L-shaped pattern of the conductive surfaces consisting of a group of Ls, which have a rear part 13 and a foot 14, facing each other with respect to the other so that the protuberance of an L tends to be located directly adjacent to the next L. The photoelectrode 6 is located entirely within the part rear, that is the elongated part, of an area shaped like L. insulator 7 is positioned so that it covers the photoelectrode and extends slightly over foot 14 of the area L-shaped of an adjacent cell, that is insulator 7 acts as a bridge on the recorded channel 5 within an area corresponding to the width of the cell. The serial connection is carried out by the counter electrode 8 of a cell to which it is allowed to extend into conductive layer 4 of a adjacent cell. In the embodiment shown in Figure 3, this is carried out by means of the counter electrode 8 that extends within foot 14 of an L-shaped area of a cell adjacent. Figure 3 also shows an encapsulating material 10A and a covering layer 10B that together constitute a material sealant 10. In a preferred embodiment, the encapsulating material 10 is formed by an adhesion layer 19A, and a layer of covering 10B which is formed by an adhesion layer 19B and a barrier layer 19C.

Después de que el electrolito ha sido suministrado a al estructura porosa, el sistema 1 fotoelectroquímico se sella por medio de un material sellante 10 de acuerdo con el invento, utilizando un método descrito a continuación con respecto a la Figura 4.After the electrolyte has been supplied to the porous structure, the photoelectrochemical system 1  It is sealed by means of a sealing material 10 according to the invention, using a method described below with respect to to Figure 4.

En una primera etapa 20 del método, se aplica un material sellante 12 al sustrato 3 de tal forma que cubra completamente las células 2A-2C y su estructura porosa, para formar un sistema fotoeléctrico monolítico sellado que comprende un plano frontal formado por dicho sustrato y la estructura porosa, y un plano trasero formado por el material sellante. El material sellante comprende al menos una capa de plástico, preferiblemente un termoplástico tal como, por ejemplo, ácido polietilen-metacrílico, que tras calentamiento, se pretende que se adhiera al sustrato subyacente y, si resulta apropiado, a la estructura porosa localizada sobre el sustrato. En una realización preferida, el material sellante está formado por un material laminado, con una capa de plástico de adhesión y una capa de barrera con baja o nula permeabilidad frente a líquidos y aire, por ejemplo una hoja de papel de aluminio. En otra realización preferida, el material sellante comprende por una parte una capa de plástico de adhesión que se pretende, igual que antes, que se una al sustrato, y por otra un material laminado formado por una capa de plástico y una capa de material laminado en la que se pretende que el material plástico se adhiera a dicha capa de adhesión. La capa plástica está unida a la capa de aluminio de forma conocida por las personas expertas en la técnica, por ejemplo mediante pegado. Utilizando una capa intermedia, se consigue una buena unión ya que la capa de adhesión más flexible adopta la forma del soporte de manera más eficaz que la capa de aluminio menos flexible.In a first stage 20 of the method, a sealing material 12 to the substrate 3 in such a way that it covers completely 2A-2C cells and their structure porous, to form a sealed monolithic photoelectric system that it comprises a frontal plane formed by said substrate and the porous structure, and a rear plane formed by the material sealant The sealing material comprises at least one layer of plastic, preferably a thermoplastic such as, for example, polyethylene methacrylic acid, which after heating, it is intended to adhere to the underlying substrate and, if appropriate, to the porous structure located on the substratum. In a preferred embodiment, the sealing material is formed by a laminated material, with a plastic layer of adhesion and a barrier layer with low or no permeability against to liquids and air, for example a sheet of aluminum foil. In Another preferred embodiment, the sealant material comprises a part a layer of adhesion plastic that is intended, like before, that it joins the substrate, and on the other a laminated material formed by a layer of plastic and a layer of laminated material in which is intended for the plastic material to adhere to said layer of adhesion. The plastic layer is attached to the aluminum layer of way known to those skilled in the art, for example by gluing. Using an intermediate layer, you get a Good bonding as the more flexible adhesion layer takes the form of the support more effectively than the aluminum layer less flexible.

Con el fin de garantizar que se obtiene una hermeticidad adecuada frente a la entrada de líquido a través del borde de la capa de adhesión, la capa de adhesión, en una realización preferida, se diseña con un espesor de menos de 50 \mum y, en una realización más preferida, con un espesor de menos de 30 \mum. Con dichos espesores, se obtiene una capa que es suficientemente fina como para que el borde de flujo intenso no ejerza un impacto negativo sobre la estabilidad a largo plazo de las células encerradas, al mismo tiempo que el espesor sea lo suficientemente grande como para que resulte fácil de manejar.In order to ensure that you get a adequate tightness against liquid ingress through the edge of the adhesion layer, the adhesion layer, in a preferred embodiment, is designed with a thickness of less than 50 um and, in a more preferred embodiment, with a thickness of less of 30 µm. With such thicknesses, a layer is obtained that is fine enough that the edge of intense flow does not exert a negative impact on the long-term stability of the cells enclosed, at the same time that the thickness is what Large enough to be easy to handle.

En una segunda etapa 21 del método, el material sellante se somete a prensado junto con el sustrato y con las células localizadas sobre el sustrato. El sellado se lleva a cabo mediante un plano frontal formado por dicho sustrato y la estructura porosa y un plano trasero formado por el material sellante que está siendo sometido a prensado mientras que se calienta, produciéndose la fusión de la capa de adhesión junto con el plano frontal, y dando lugar al sellado lo largo del borde del patrón. El sellado aísla las células individuales unas de otras a lo largo del borde interno del patrón y, de esta forma, evita la fuga del electrolito entre las células y también aísla el grupo de células cuyo patrón constituye del entorno que lo rodea en el borde exterior del patrón y, de esta forma, evita que se produzca la entrada de suciedad o humedad en las células. A continuación, se indican realizaciones preferidas alternativas del prensado.In a second stage 21 of the method, the material sealant is pressed together with the substrate and with the cells located on the substrate. The sealing is carried out by a frontal plane formed by said substrate and the porous structure and a rear plane formed by the material sealant that is being pressed while heats, resulting in the melting of the adhesion layer together with the frontal plane, and resulting in sealing along the edge of the Pattern. The seal isolates the individual cells from each other to along the inner edge of the pattern and, thus, prevents electrolyte leakage between the cells and also isolates the group of cells whose pattern constitutes the surrounding environment at the edge outside of the pattern and, thus, prevents the occurrence of dirt or moisture entering the cells. Then it indicate alternative preferred embodiments of the pressing.

Además, la Figura 4A muestra simbólicamente determinados procesos por partes preferidos durante el sellado 21. En un primer proceso por partes 22, se coloca primero una capa de plástico de adhesión frente al plano frontal, y sobre ella un material laminado formado por una capa de adhesión, preferiblemente de plástico, y una capa de barrera, preferiblemente de aluminio. En el caso en que la utilización está formada por una capa de plástico y una capa de aluminio, la capa de plástico está unida a la capa de aluminio de forma bien conocida por la persona experta en la técnica, por ejemplo mediante pegado. Utilizando una capa intermedia, se consigue una buena unión ya que la capa de adhesión más flexible adopta la forma del soporte de manera más eficaz que la capa de aluminio menos flexible. La Figura 8 muestra el plano frontal 19, la capa de adhesión 19A y la capa de barrera de al capa de adhesión 19B y la capa de barrera 19C. La capa de adhesión 19B tiene la función de unir la capa de barrera 19C y la capa de adhesión 19A. Preferiblemente, la capa de adhesión está formada por un termoplástico.In addition, Figure 4A shows symbolically certain processes by preferred parts during sealing 21. In a first process by parts 22, a layer of adhesion plastic in front of the frontal plane, and on it a laminated material formed by an adhesion layer, preferably of plastic, and a barrier layer, preferably of aluminum. In the case in which the use is formed by a layer of plastic and an aluminum layer, the plastic layer is attached to the layer of aluminum well known to the person skilled in the technique, for example by gluing. Using a layer intermediate, a good bond is achieved since the adhesion layer more flexible adopts the support form more effectively than the least flexible aluminum layer. Figure 8 shows the plan front 19, the adhesion layer 19A and the barrier layer of the layer of adhesion 19B and the barrier layer 19C. Adhesion layer 19B It has the function of joining the barrier layer 19C and the layer of accession 19A. Preferably, the adhesion layer is formed by a thermoplastic

En un segundo proceso por partes 23, el plano frontal y el material sellante se someten a sobrepresión, lo que hace posible que se reduzca la presencia de suciedad y humedad en el interior de las células.In a second process by parts 23, the plane front and sealing material are subjected to overpressure, which makes it possible to reduce the presence of dirt and moisture in the inside the cells.

En un tercer proceso por partes 24, el plano frontal y el material sellante se someten a prensado mediante un dispositivo de prensado flexible, dando lugar a un buen sellado alrededor de los bordes tanto interno como externo.In a third process by parts 24, the plane front and the sealing material are subjected to pressing by means of a flexible pressing device, resulting in a good seal around both internal and external edges.

Con el fin de lograr un sellado todavía mejor alrededor del borde externo, dicho borde puede incluso presionarse más, con un dispositivo de prensado fuerte en un proceso por partes 25, ligeramente fuera de las células, por ejemplo a 2-5 mm del borde de las células. Este prensado hace más fina cualquier capa presente de adhesión 19A, reduciéndose de esta forma el riesgo de entrada de suciedad o humedad procedentes del entorno una vez que se ha producido la unión. La Figura 9 muestra un grupo de células que se someten a prensado mediante un dispositivo de prensado fuerte para dar lugar a dos zonas 26A y 26B que esencialmente rodean al agrupamiento de células 2A-2D. En una zona 26C, 26D alrededor de cada uno de los contactos 11, 12, la agrupación de células no se somete a prensado con el fin de evitar que la capa de aluminio en la capa de barrera sea sometida a prensado junto con la capa conductora en el sustrato. Con el fin de evitar cualquier contorneamiento entre la capa conductora y la capa de aluminio en las zonas 26A y 26B, que puede afectar de forma negativa a la agrupación de células, estas zonas se separan mediante canales grabados 26E y 26F, estando las áreas en las que tiene lugar el prensado fuerte aisladas eléctricamente del total de agrupamiento de células.In order to achieve an even better seal around the outer edge, said edge can even be pressed more, with a strong pressing device in a parts process 25, slightly outside the cells, for example a 2-5 mm from the edge of the cells. This pressing makes finer any present layer of adhesion 19A, reducing from this way the risk of dirt or moisture coming from of the environment once the union has occurred. Figure 9 shows a group of cells that are pressed by a strong pressing device to give rise to two zones 26A and 26B that essentially surround the clustering of cells 2A-2D. In an area 26C, 26D around each of contacts 11, 12, the cluster of cells is not subjected to pressed in order to prevent the aluminum layer in the layer from barrier be subjected to pressing together with the conductive layer in the substratum. In order to avoid any contouring between the conductive layer and the aluminum layer in zones 26A and 26B, which can negatively affect cell clustering, these zones are separated by recorded channels 26E and 26F, the areas in which strong pressed pressing takes place electrically of the total cell grouping.

Los procesos por partes indicados anteriormente pueden combinarse de manera individual para obtener por separado realizaciones preferidas del invento.The processes by parts indicated above can be combined individually to obtain separately preferred embodiments of the invention.

En una realización preferida, el prensado se lleva a cabo mediante un dispositivo de prensado flexible. Un dispositivo de prensado flexible significa que se permite que el dispositivo de prensado se deforme lo suficiente como para tener acceso a los interespacios que existen entre las células, siendo el material sellante prensado contra el plano frontal, de forma que el material sellante es prensado contra las células y desciende al interior de los interespacios entre las células y también rodea los bordes del patrón. Las Figuras 5, 6 y 7 muestran ejemplos de realizaciones de dispositivos de prensado flexibles.In a preferred embodiment, the pressing is carried out by means of a flexible pressing device. A flexible pressing device means that the pressing device is deformed enough to have access to the interspaces that exist between the cells, being the sealant material pressed against the frontal plane, so that the sealant material is pressed against the cells and descends to the inside the interspaces between cells and also surrounds the Pattern borders Figures 5, 6 and 7 show examples of Flexible pressing device embodiments.

La Figura 5 muestra el prensado de un sistema fotoeléctrico monolítico por medio de un diagrama flexible 15A. El sistema 1 fotoelectroquímico se coloca sobre un soporte 15B, y posteriormente es cubierto por el diagrama flexible 15A. De manera apropiada, el diagrama flexible puede ser de caucho. A continuación, se somete el sistema fotoelectroquímico a prensado por medio del diagrama 15A, y se aplica calor, llevándose a cabo el sellado. En una realización preferida, el prensado del diagrama 15A se lleva a cabo mediante el espacio 16 alrededor del sistema 1 fotoelectroquímico que se somete a sobrepresión. La sobrepresión reduce la presencia de humedad e impurezas en las células antes de que tenga lugar el sellado, mejorando así la calidad de las células. El soporte 15B también puede estar diseñado como un diagrama flexible.Figure 5 shows the pressing of a system monolithic photoelectric by means of a flexible diagram 15A. He 1 photoelectrochemical system is placed on a 15B support, and It is subsequently covered by flexible diagram 15A. By way of appropriate, the flexible diagram may be rubber. Then, the photoelectrochemical system is subjected to pressing by means of the diagram 15A, and heat is applied, sealing being carried out. In a preferred embodiment, the pressing of diagram 15A is brought to out through space 16 around system 1 Photoelectrochemical that is subjected to overpressure. Overpressure reduces the presence of moisture and impurities in the cells before that the sealing takes place, thus improving the quality of the cells. The 15B bracket can also be designed as a flexible diagram

En una realización preferida, el prensado tiene lugar bajo una presión que se obtiene a partir de diagramas flexibles que rodean al sistema fotoelectroquímico flexible. Haciendo uso de un diagrama flexible, se obtiene un prensado uniforme sobre la totalidad del sistema fotoelectroquímico monolítico y un buen sellado en los interespacios 9 de las células mencionados anteriormente.In a preferred embodiment, the pressing has place under a pressure that is obtained from diagrams flexible surrounding the flexible photoelectrochemical system. Using a flexible diagram, a pressing is obtained uniform over the entire photoelectrochemical system monolithic and a good seal in the interspaces 9 of the cells mentioned above.

En una realización preferida, el prensado se obtiene colocando el sistema fotoelectroquímico monolítico en el hueco entre dos diagramas flexibles y sometiendo dicho hueco a sobrepresión, actuando la presión del entorno sobre el sistema fotoelectroquímico monolítico. Esta sobrepresión también contribuye a reducir la humedad y la presencia de suciedad en la estructura porosa antes que tenga lugar el sellado final.In a preferred embodiment, the pressing is obtained by placing the monolithic photoelectrochemical system in the gap between two flexible diagrams and subjecting said gap to overpressure, acting the pressure of the environment on the system monolithic photoelectrochemical. This overpressure also contributes to reduce moisture and the presence of dirt in the structure porous before final sealing takes place.

La Figura 6 muestra una realización alternativa en la que el prensado se lleva a cabo mediante un cabezal de prensado 17 que comprende una superficie de prensado 18 formada por un material suave, por ejemplo caucho, que presiona el material sellante dando lugar al plano frontal, de forma que el material sellante es presionado contra las células y desciende al interior de los interespacios entre las células y también alrededor de los bordes del patrón. De acuerdo con una realización preferida, este tipo de prensado puede tener lugar en una cámara sujeta a sobrepresión, haciendo posible que se reduzca la presencia de suciedad y de humedad en el producto final acabado.Figure 6 shows an alternative embodiment in which the pressing is carried out by means of a spindle pressing 17 comprising a pressing surface 18 formed by a soft material, for example rubber, that presses the material sealant giving rise to the frontal plane, so that the material sealant is pressed against the cells and descends inside of interspaces between cells and also around Pattern borders According to a preferred embodiment, this type of pressing can take place in a chamber subject to overpressure, making it possible to reduce the presence of dirt and moisture in the final finished product.

En una realización ilustrativa, el sistema fotoelectroquímico monolítico se coloca en un horno que calienta el sistema fotoelectroquímico monolítico hasta aproximadamente 100ºC, produciéndose el calentamiento desde temperatura ambiente en un período de aproximadamente 30 minutos. A continuación, el material se enfría lentamente.In an illustrative embodiment, the system monolithic photoelectrochemical is placed in an oven that heats the monolithic photoelectrochemical system up to approximately 100 ° C, heating from room temperature occurring in a period of approximately 30 minutes. Then the material It cools slowly.

De acuerdo con un método alternativo, el sistema fotoelectroquímico se sella por medio del plano frontal y del material sellante, colocándose en una cámara que se somete a sobrepresión. De acuerdo con una realización preferida, con el fin de permitir la evacuación para reducir más la presencia de suciedad y humedad, el plano frontal y el material sellante se separan por medio un espacio durante un período de tiempo mientras son sometidos a la sobrepresión.According to an alternative method, the system Photoelectrochemical is sealed by means of the frontal plane and the sealing material, placed in a chamber that is subjected to overpressure According to a preferred embodiment, in order to allow evacuation to further reduce the presence of dirt and humidity, the frontal plane and the sealing material are separated by half a space for a period of time while they are submitted  to overpressure.

Cuando el plano frontal y el material sellante han alcanzado la temperatura correcta, el plano frontal se somete a prensado junto con el material sellante.When the frontal plane and the sealing material have reached the correct temperature, the frontal plane is subjected to pressed together with the sealing material.

En una realización del invento, el prensado se lleva a cabo utilizando una cámara de dos partes como se muestra en la Figura 7. La cámara 30 está formada por una envuelta 31 y comprende una primera parte 34 de cámara y una segunda parte 35 de cámara separadas mediante un diagrama flexible 32. El sistema fotoelectroquímico 33 a unir se coloca en una de las partes de la cámara. Una bomba de aire (que no se ve) está conectada, o puede conectarse, al colector con el fin de hacer posible la evacuación tanto de la primera parte de la cámara como de la segunda parte de la cámara. Para ello, puede proporcionarse la envuelta 31 con una vía de comunicación entre la primera y la segunda cámara, comprendiendo la vía de comunicación una válvula de comprobación colocada de forma que la evacuación de la primera y de la segunda cámara pueda llevarse a cabo simultáneamente, pero el aire no fluya de la segunda a la primera cámara cuando posteriormente se introduzca aire con el fin de permitir el prensado del plano frontal y del material sellante del sistema fotoelectroquímico.In one embodiment of the invention, the pressing is carried out using a two part camera as shown in Figure 7. The chamber 30 is formed by an envelope 31 and it comprises a first chamber part 34 and a second part 35 of chamber separated by a flexible diagram 32. The system Photoelectrochemical 33 to be joined is placed in one of the parts of the camera. An air pump (not seen) is connected, or it can connect to the collector in order to make evacuation possible both the first part of the camera and the second part of the camera. To do this, envelope 31 can be provided with a communication path between the first and second cameras, the communication path comprising a check valve placed so that the evacuation of the first and second camera can be carried out simultaneously, but the air does not flow from the second to the first chamber when later introduce air in order to allow flat pressing front and sealing material of the photoelectrochemical system.

El invento no se encuentra limitado a las realizaciones descritas anteriormente, pero puede variarse dentro del alcance de las reivindicaciones de patente siguientes. En una realización, se prevé encapsular una configuración a lo largo de una célula solar. En este caso, se usan diferente electrolitos para la configuración y para la célula solar, que se encapsulan de forma simultánea. Además, ambos planos frontal y trasero pueden comprender capas adicionales; por ejemplo, puede colocarse una capa coloreada entre la capa de adhesión 19A y la capa de adhesión 19B, con el fin de dar lugar a una apariencia de producto deseada, o de manera alterativa es posible colorear estas u otras capas que forman parte del producto.The invention is not limited to embodiments described above, but can be varied within of the scope of the following patent claims. In a embodiment, it is envisaged to encapsulate a configuration along a solar cell In this case, different electrolytes are used to the configuration and for the solar cell, which are encapsulated so simultaneous. In addition, both front and rear planes can comprise  additional layers; for example, a colored layer can be placed between the adhesion layer 19A and the adhesion layer 19B, in order to give rise to a desired product appearance, or so alterative it is possible to color these or other layers that are part of the product.

Claims (17)

1. Un método para fabricar un sistema fotoelectroquímico monolítico (1), que comprende las siguientes etapas:1. A method of manufacturing a system monolithic photoelectrochemical (1), comprising the following stages:
--
aplicación de un electrolito a un patrón de una estructura porosa (2A, 2B, 2C , 2D) localizada sobre un sustrato, constituyendo la estructura al menos una célula electroquímica monolítica (2A, 2B, 2C, 2D) y comprendiendo un fotoelectrodo (6), una capa aislante (7) y un contraelectrodo (8)application of an electrolyte to a pattern of a porous structure (2A, 2B, 2C, 2D) located on a substrate, the structure constituting at least one cell monolithic electrochemistry (2A, 2B, 2C, 2D) and comprising a photoelectrode (6), an insulating layer (7) and a counter electrode (8)
--
aplicación de un material sellante (10) que rodea a dicha estructura porosa para formar el menos un sistema fotoelectroquímico monolítico (1) que comprende un plano frontal (19) formado por dicho sustrato y la estructura porosa y el plano frontal (19A, 19B, 19C) están formados por material sellante (10).application of a sealant material (10) surrounding said porous structure to form at least one system monolithic photoelectrochemical (1) comprising a frontal plane (19) formed by said substrate and the porous structure and the plane front (19A, 19B, 19C) are formed by sealing material (10)
que se caracteriza porque, tras la aplicación de dicho electrolito, se llevan a cabo las siguientes etapas del méto-
do:
characterized in that, after the application of said electrolyte, the following steps of the method are carried out
do:
--
dicho plano frontal (19) y el plano trasero se calientan y se someten a prensado, produciéndose el sellado a lo largo del borde del patrón de la estructura porosa gracias a que una capa plástica que forma parte del material sellante (10) se funde y se une a dicho plano frontal (19).saying frontal plane (19) and the rear plane are heated and subjected to pressing, sealing occurs along the edge of the pattern of the porous structure thanks to a plastic layer that forms part of the sealing material (10) melts and joins said plane front (19).
2. El método que se reivindica en la reivindicación 1, que se caracteriza porque el plano frontal (19) y el plano trasero (19A, 19B, 19C) se someten a prensado mediante un dispositivo de prensado flexible (18, 32).2. The method claimed in claim 1, characterized in that the front plane (19) and the rear plane (19A, 19B, 19C) are subjected to pressing by means of a flexible pressing device (18, 32). 3. El método de la reivindicación 1 ó 2, que se caracteriza porque, junto con dicho calentamiento y prensado,3. The method of claim 1 or 2, characterized in that, together with said heating and pressing,
--
dicho plano frontal (19) y plano trasero (19A, 19B, 19C) se someten a sobrepresión, permitiéndose de esta forma la evacuación de humedad y gases de la estructura porosa (2A, 2B, 2C, 2D).saying front plane (19) and rear plane (19A, 19B, 19C) undergo overpressure, thus allowing moisture evacuation and gases of the porous structure (2A, 2B, 2C, 2D).
4. El método de en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, que se caracteriza porque dicho plano frontal (19) y plano trasero (19A, 19B, 19C) se someten a prensado por medio de un diagrama flexible (32).4. The method of any one of claims 1-3, characterized in that said front plane (19) and rear plane (19A, 19B, 19C) are subjected to pressing by means of a flexible diagram (32). 5. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque dicho plano frontal (19) y plano trasero (19A, 19B, 19C) se colocan entre los diagramas flexibles (18, 32) que juntos forman un hueco que rodea al plano frontal (19) y al plano trasero (19A, 19B, 19C), y en el que dicho hueco se somete a sobrepresión, a continuación teniendo lugar el prensado del plano frontal (19) y del plano trasero (19A, 19B, 19C).5. The method of any one of the preceding claims, characterized in that said front plane (19) and rear plane (19A, 19B, 19C) are placed between the flexible diagrams (18, 32) that together form a surrounding hollow to the frontal plane (19) and to the rear plane (19A, 19B, 19C), and in which said gap is subjected to overpressure, then the pressing of the frontal plane (19) and the rear plane (19A, 19B, taking place), 19C). 6. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque el plano frontal (19) y el plano trasero (19A, 19B, 19C) se colocan en un primera cámara (30), en la que el plano frontal y el plano trasero se someten a sobrepresión, y en el que el plano frontal y el plano trasero se someten a prensado.The method of any one of the preceding claims, characterized in that the frontal plane (19) and the rear plane (19A, 19B, 19C) are placed in a first chamber (30), in which the frontal plane and the rear plane is subjected to overpressure, and in which the front plane and the rear plane are pressed. 7. El método de la reivindicación 6, que se caracteriza porque dicho plano frontal (19) y plano trasero (19A, 19B, 19C) se separan uno del otro mediante un hueco (16), al tiempo que se someten a sobrepresión, durante un período de tiempo antes de ser sometidos a prensado.7. The method of claim 6, characterized in that said front plane (19) and rear plane (19A, 19B, 19C) are separated from each other by a gap (16), while being subjected to overpressure, during a period of time before being pressed. 8. El método de la reivindicación 6 ó 7, que se caracteriza porque el plano frontal (19) y el plano trasero (19A, 19B, 19C) se colocan en un sistema de dos cámaras (30, 34), en el que una primera (30) y una segunda cámaras (34) se separan mediante un diagrama flexible (32), en el que al menos la cámara en la que se colocan el plano frontal (19) y el plano trasero (19A, 19B, 19C) se somete a sobrepresión, y en el que el plano frontal y el plano trasero se someten a prensado por medio de en prensado positivo en la segunda cámara (34), sometiendo a prensado el diagrama (32) contra el plano frontal o contra el plano trasero.8. The method of claim 6 or 7, characterized in that the front plane (19) and the rear plane (19A, 19B, 19C) are placed in a two-chamber system (30, 34), in which a first (30) and a second chamber (34) are separated by a flexible diagram (32), in which at least the chamber in which the frontal plane (19) and the rear plane (19A, 19B, 19C) are placed it is subjected to overpressure, and in which the frontal plane and the rear plane are subjected to pressing by means of positive pressing in the second chamber (34), by pressing the diagram (32) against the frontal plane or against the plane rear. 9. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque dicho electrolito se aplica a dicho patrón de la estructura porosa (2A, 2B, 2C, 2D) por medio de un proceso de impresión.9. The method of any one of the preceding claims, characterized in that said electrolyte is applied to said pattern of the porous structure (2A, 2B, 2C, 2D) by means of a printing process. 10. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque dicho electrolito se aplica a dicho patrón de la estructura porosa (2A, 2B, 2C, 2D) por medio de un proceso de reparto.10. The method of any one of the preceding claims, characterized in that said electrolyte is applied to said pattern of the porous structure (2A, 2B, 2C, 2D) by means of a distribution process. 11. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque el plano trasero (19A, 19B, 19C) está formado por una película plástica, y en el que dicho plano trasero y plano frontal (19) se juntan fundiendo juntos la película plástica y el plano frontal.11. The method of any one of the preceding claims, characterized in that the rear plane (19A, 19B, 19C) is formed by a plastic film, and wherein said rear plane and front plane (19) are fused together the plastic film and the frontal plane. 12. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque el sustrato comprende una capa de soporte (3) formada por un material de plástico o de vidrio.12. The method of any one of the preceding claims, characterized in that the substrate comprises a support layer (3) formed of a plastic or glass material. 13. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque el plano trasero (19A, 19B, 19C) comprende una capa de adhesión (19A) de plástico, y también un material laminado que comprende al menos una capa de adhesión (19B) y una capa de barrera (19C), en el que la capa de adhesión (19A) se aplica al plano frontal (19) y dicho material laminado que forma parte del plano trasero se coloca sobre dicha capa de adhesión (19B), y en el que dicho plano frontal (19) y plano trasero se unen juntos para formar un sistema fotoelectroquímico monolítico (1) fundiendo juntos la capa de adhesión (19A), el plano frontal (19) y la capa de adhesión (19B).13. The method of any one of the preceding claims, characterized in that the rear plane (19A, 19B, 19C) comprises an adhesion layer (19A) of plastic, and also a laminated material comprising at least one adhesion layer (19B) and a barrier layer (19C), in which the adhesion layer (19A) is applied to the front plane (19) and said laminated material that is part of the rear plane is placed on said adhesion layer (19B) , and wherein said frontal plane (19) and rear plane join together to form a monolithic photoelectrochemical system (1) by melting together the adhesion layer (19A), the frontal plane (19) and the adhesion layer (19B) . 14. El método de una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que se caracteriza porque dicho plano frontal (19) y plano trasero (19A, 19B, 19C) se someten a prensado juntos mediante un cabezal de prensado fuerte dentro de una zona que rodea al agrupamiento de células fotoelectroquímicas (2A, 2B, 2C, 2D).14. The method of any one of the preceding claims, characterized in that said front plane (19) and rear plane (19A, 19B, 19C) are subjected to pressing together by means of a strong pressing head within an area surrounding the grouping of photoelectrochemical cells (2A, 2B, 2C, 2D). 15. El método de la reivindicación 4, que se caracteriza porque dicha zona tiene una distancia mínima hasta el borde exterior que rodea dicho agrupamiento de células (2A, 2B, 2C, 2D) superior a 1 mm.15. The method of claim 4, characterized in that said area has a minimum distance to the outer edge surrounding said cell cluster (2A, 2B, 2C, 2D) greater than 1 mm. 16. Un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado que comprende un sustrato que actúa de soporte para un patrón, localizado sobre dicho sustrato, de una estructura porosa que comprende un foto-electrodo (6), una capa aislante (7) y un contraelectrodo (8), electrolito absorbido en dicho sustrato para formar al menos una célula fotoelectroquímica (2A, 2B, 2C, 2D) y contactos (11, 12) para dichos electrodos para la interconexión con al menos un circuito eléctrico y el material de sellado (10) localizado sobre dicho sustrato y que cubre dicha estructura porosa, que se caracteriza porque el material sellante (10) comprende una capa de adhesión (19A) de plástico que se aplica a dicho sustrato y estructura porosa (19) y un material laminado (19B, 19C) que comprende al menos una capa de adhesión (19B) y una capa de barrera (19C), en el que la capa de adhesión (19B) se coloca sobre dicha capa de adhesión (19A), y en el que dicho sustrato, estructura porosa y material sellante se unen juntos para formar un sistema fotoelectroquímico monolítico sellado (1) fundiendo juntos el sustrato, la capa de adhesión (19A) y la capa de adhesión (19B).16. A sealed monolithic photoelectrochemical system comprising a substrate that acts as a support for a pattern, located on said substrate, of a porous structure comprising a photo electrode (6), an insulating layer (7) and a counter electrode (8) , electrolyte absorbed in said substrate to form at least one photoelectrochemical cell (2A, 2B, 2C, 2D) and contacts (11, 12) for said electrodes for interconnection with at least one electrical circuit and the sealing material (10) located on said substrate and covering said porous structure, characterized in that the sealing material (10) comprises an adhesion layer (19A) of plastic that is applied to said substrate and porous structure (19) and a laminated material (19B, 19C ) comprising at least one adhesion layer (19B) and a barrier layer (19C), in which the adhesion layer (19B) is placed on said adhesion layer (19A), and wherein said substrate, structure Porous and sealing material will join together to form a sealed monolithic photoelectrochemical system (1) by melting together the substrate, the adhesion layer (19A) and the adhesion layer (19B). 17. El sistema fotoelectroquímico monolítico sellado de la reivindicación 16, que se caracteriza porque dicha capa de barrera (19C) está formada por una lámina de metal.17. The sealed monolithic photoelectrochemical system of claim 16, characterized in that said barrier layer (19C) is formed by a sheet of metal.
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