ES2287749T3 - Pastas electricamente conductoras. - Google Patents
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Abstract
Una pasta eléctricamente conductora que comprende componentes principales que incluyen un polvo metálico, una frita de vidrio y un vehículo orgánico, en el que el polvo metálico comprende partículas esféricas (A), que tienen un diámetro medio de partícula primaria de 0, 1 a 1 mim y partículas esféricas (B) que tienen un diámetro medio de partícula primaria de 50 nm o menor, y el contenido de partículas esféricas (A) está en el intervalo de 50 al 99% en peso, y el contenido de partículas esféricas (B) está en el intervalo del 1 al 50% en peso; y el contenido de la frita de vidrio está en el intervalo del 0, 1% en peso al 15% en peso de la cantidad total de la frita de vidrio y el polvo metálico.
Description
Pastas eléctricamente conductoras.
La presente invención se refiere a pastas
conductoras que pueden usarse ampliamente para formar circuitos
eléctricos sobre sustratos aislados imprimiendo y sinterizando las
pastas sobre los sustratos aislados.
Las pastas conductoras se usan ampliamente en
componentes electrónicos porque pueden formarse patrones de
electrodo imprimiéndolas. Actualmente, algunos de los patrones
impresos se sinterizan para disminuir la resistencia eléctrica. La
resistencia de contacto entre las partículas de metal en polvo en la
pasta conductora disminuye debido al progreso de la sinterización y
de esta manera da como resultado patrones impresos que presentan
una mayor conductividad. Se propone un método en el que un material
inorgánico tal como vidrio se añade también como aglutinante para
conseguir una unión segura entre los patrones y un sustrato, y se
proponen también materiales para el método. Por ejemplo, la
Referencia de Patente 1 describe una pasta de plata conductora
(pasta conductora) compuesta por polvo de plata como componente
principal, polvo de SiO_{2}, frita de vidrio (PbO - SiO_{2}), y
un vehículo orgánico. En la Referencia 1, se indica que una película
se forma por la adicción de polvo de SiO_{2} durante la
sinterización, mejorándose de esta manera la resistencia a
metalizado.
Como para una frita de vidrio usada en la pasta
conductora, además de la frita de vidrio que contiene plomo
descrito anteriormente, se usa también una frita de vidrio sin plomo
(Referencia de Patente 2). La frita de vidrio está compuesta por
SiO_{2}-Al_{2}O_{3}-B_{2}O_{3}-MgO-CaO,
y tiene un punto de reblandecimiento de 580ºC a 800ºC.
Otra Referencia de Patente describe componentes
individuales usados en pastas conductoras (Referencia de Patente
3). La Referencia 3 establece que un polvo de metal precioso se usa
como polvo metálico y que la forma es preferiblemente esférica, con
un diámetro de partícula de 0,1 a 3,0 \mum. El polvo de vidrio
descrito en esta referencia contiene SiO_{2}, Al_{2}O_{2},
PbO, CaO, y B_{2}O_{3}, bien conocidos como componentes
principales, y tiene un punto de reblandecimiento en el intervalo de
450ºC a 650ºC. El vehículo orgánico que se usa, mezclando con el
polvo metálico y un aglutinante, como agente dispersante para
preparar la pasta conductora resultante adecuada para el
recubrimiento, normalmente contiene un disolvente, una resina y un
aditivo. De acuerdo con la Referencia, un disolvente preferible es
una combinación de ftalato de dietilo, y terpineol, y una resina
preferible es una resina de ácido maleico, etil celulosa y una
resina acrílica. La cera de amida de ácido graso es indispensable
para el aditivo.
Referencia de Patente 1: Publicación de la
Solicitud de Patente Japonesa No Examinada Nº
10-106346
Referencia de Patente 2: Patente Japonesa Nº
294100
Referencia de Patente 3: Publicación de la
Solicitud de Patente Japonesa No Examinada Nº
2003-132735.
Como se describe en las Referencias de Patente 1
a 3, las pastas conductoras a sinterizar generalmente están
compuestas por un polvo de metal precioso, una frita de vidrio y un
vehículo orgánico. Aunque las características de las pastas
conductoras se han mejorado dependiendo de la combinación de dichos
componentes para satisfacer los propósitos de diversos usos, un
defecto de las pastas conductoras conocidas es que si la temperatura
de sinterización es baja, no puede conseguirse una alta
conductividad ya que requieren una alta temperatura de
sinterización (es decir, 500ºC o mayor) para aumentar su
conductividad. Cuando se usa un sustrato que tiene una baja
resistencia, por ejemplo, un sustrato de vidrio, la sinterización
debe realizarse a una temperatura de sinterización baja. De esta
manera, ha habido demandas de pastas conductoras en las que una alta
conductividad y una baja temperatura de sinterización son
compatibles. Aunque una película gruesa debe recubrirse para
disminuir la resistencia a cableado, la película gruesa aumenta la
tensión residual de la película. Cuando un sustrato de vidrio o un
sustrato de vidrio recubierto con una capa dieléctrica se usan como
base, los elementos marginales o grietas de interferencia ocurren
sobre el sustrato de vidrio o en la capa dieléctrica. Por ejemplo,
ha sido difícil aumentar el espesor de la película.
Un objeto de la presente invención es resolver
estos problemas proporcionando una pasta conductora que presenta
una alta conductividad incluso si la sinterización se realiza a una
baja temperatura. Otro aspecto de la presente invención es mejorar
la capacidad de procesado de la pasta, tal como la formación de una
película gruesa de pasta.
Una pasta conductora de acuerdo con la presente
invención contiene un metal en polvo, una frita de vidrio, y un
vehículo orgánico como componentes principales. El polvo metálico
está compuesto de partículas esféricas (A) que tienen un diámetro
medio de partícula primaria de 0,1 a 1 \mum y partículas esféricas
(B) que tienen un diámetro medio de partícula primaria de 50 nm o
menor. El contenido de partículas esféricas (A) varía del 50 al 99%
en peso, y el contenido de partículas (B) varía del 1 al 50% en
peso. Adicionalmente, el contenido de la frita de vidrio varía del
0,1% en peso al 15% en peso de la cantidad total de la frita de
vidrio y el polvo metálico. Para conseguir una alta conductividad,
preferiblemente las partículas finas del polvo metálico se agregan
densamente. En la presente invención, como los huecos entre las
partículas (A) tienen un diámetro de partícula relativamente grande
se llenan con partículas (B) que tienen un diámetro de partícula
relativamente pequeño, la densidad de relleno de las partículas
metálicas es alta y se mejora la conductividad obtenida por
sinterización a baja temperatura.
En particular, el polvo metálico preferiblemente
incluye las partículas esféricas (A) en un 90 a 97% en peso y
partículas esféricas (B) en un 3 a 10% en peso de manera que una
alta densidad de relleno y el efecto de la sinterización a baja
temperatura se consiguen suficientemente, y de esta manera el
contenido de partículas esféricas caras (B) se reduce, lo que es
económico.
El polvo metálico de acuerdo con la presente
invención puede comprender partículas de metal seleccionadas entre
el grupo compuesto por un metal, una aleación y un metal compuesto.
Especialmente, el metal se selecciona preferiblemente entre el
grupo compuesto por platino, oro, plata, cobre, níquel y paladio. La
plata se usa más preferiblemente debido a su alta
conductividad.
Cuando la frita de vidrio está libre de plomo y
el polvo metálico es plata, se prefiere que la frita de vidrio
tenga un punto de trabajado de 500ºC o menor. La procesabilidad de
la pasta se mejora debido a que la frita de vidrio sin plomo puede
tratarse a una temperatura relativamente baja. La frita de vidrio
que tiene un punto de trabajado de 450ºC o menor es más
preferible.
La frita de vidrio que tiene un diámetro de
partícula mayor comparado con el del polvo metálico provoca una
disminución en la dispersibilidad. La frita de vidrio que tiene un
diámetro de partícula medio de 2 \mum o menor presenta una
dispersibilidad mejorada en la pasta, y potencia el efecto de
combinación mencionado anteriormente de los polvos metálicos.
Respecto al vehículo orgánico, se prefiere una
solución preparada disolviendo una resina de celulosa, una resina
acrílica o similares en un disolvente. El disolvente es
preferiblemente no corrosivo para el sustrato recubierto con la
pasta y el disolvente que tiene una baja volatilidad es adecuado
para conseguir una procesabilidad de impresión deseable. Por
ejemplo, para conseguir una aplicabilidad excelente durante la
impresión, es preferible que un vehículo orgánico para serigrafía
se preparare disolviendo del 10 al 20% en peso de etil celulosa que
tiene un peso molecular de 10.000 a 20.000 en acetato de butil
carbitol o \alpha-terpineol.
Las partículas metálicas en la pasta conductora
de acuerdo con la presente invención presentan una alta densidad de
relleno después de la sinterización. Esto mejora particularmente la
conductividad. La combinación de una frita de vidrio apropiada y un
vehículo orgánico aumenta la capacidad de procesado de la pasta
conductora. Mejoran también la aplicabilidad del recubrimiento de
película gruesa y el rendimiento de serigrafía.
La Figura 1 es una micrografía electrónica de un
polvo de plata usado en la presente invención, cuyas partículas
primarias tienen un diámetro de partícula medio de 50 nm o
menor.
El polvo metálico usado en la presente invención
incluye dos tipos, (A) y (B). Las partículas esféricas (A) que
tienen un diámetro medio de partícula primaria de 0,1 a 1 \mum
están disponibles en el mercado, por ejemplo polvo de plata SPQ03S
(diámetro de partícula medio: 0,5 \mum, área superficial
específica: 1,40 m^{2}/g, densidad aparente después de hacer
vibrar el polvo: 4,2 g/cm^{3}) por Mitsui Mining & Smelting
Co., Ltd.
Las partículas esféricas (B) que tienen un
diámetro medio de partícula primaria de 50 nm o menor pueden
prepararse por reducción en húmedo de un compuesto metálico.
Específicamente, un compuesto metálico soluble en agua se añade y
se disuelve en agua o en una mezcla de agua y alcohol inferior, y
después se añade una solución acuosa que contiene un agente
reductor y un agente de tratamiento superficial, agitándose la
solución resultante a una temperatura de 30ºC o menor. Por ejemplo,
en el caso de que el polvo metálico sea un polvo de plata, las
partículas esféricas (B) pueden prepararse de la siguiente
manera.
Se disuelve nitrato de plata en un disolvente
hecho mezclando agua pura y etanol en cantidades iguales, y la
solución resultante se ajusta a pH 11,3 con amoniaco acuoso y se
hace transparente. Después, la solución resultante se ajusta a pH
11,3 con amoniaco acuoso para hacer transparente la solución. Un
agente reductor de ácido L-ascórbico y un agente
dispersante de ácido poliacrílico se disuelven en otra solución
hecha mezclando agua pura y etanol en cantidades iguales y,
mientras la solución resultante se mantiene a 25ºC, la solución de
nitrato de plata, que se prepara por separado como se ha descrito
anteriormente, se añade gradualmente gota a gota a la solución con
agitación para precipitar partículas finas de plata. Posteriormente,
se lavan y se secan; de esta manera, se obtienen partículas de
plata esféricas (B) que tienen un diámetro medio de partícula
primaria de 20 nm. Otras partículas metálicas finas pueden
prepararse por el mismo proceso anterior usando otros metales.
Cada una de las partículas esféricas (A) y (B)
preparadas como en el caso anterior pueden usarse solas en una
pasta conductora. La conductividad de una pasta conductora basada en
un uso individual de las partículas esféricas (A) puede mejorarse
aumentando la temperatura de sinterización. Sin embargo, una baja
temperatura de sinterización para conseguir una mejor capacidad de
procesado provoca una disminución de la conductividad. Por el
contrario, una pasta conductora basada en el uso individual de las
partículas esféricas (B) puede mantener casi la misma conductividad
que para la plata pura incluso si la temperatura de sinterización es
baja. Sin embargo, como la pasta conductora que usa las partículas
esféricas (B) sin partículas esféricas (A) requiere una gran
cantidad de las partículas esféricas caras (B), esto no es
económico.
La presente invención se ha completado para
disminuir la temperatura de sinterización desde el punto de vista
de la capacidad de procesado, y también para conseguir una
suficiente conductividad y economía. En concreto, dos polvos
metálicos de diferente tamaño se mezclan en proporciones
predeterminadas. Cuando el contenido de las partículas esféricas
(B) es menor del 1% en peso, las partículas esféricas (B) no pueden
rodear suficientemente a las partículas esféricas (A). Como
resultado, la sinterización a baja temperatura ocurre en sitios
localizados y las trayectorias conductoras no se generan
suficientemente durante la sinterización. Por lo tanto, la
conductividad resultante es casi la misma que la de la pasta
conductora hecha de partículas esféricas (A) solas. Cuando el
contenido de partículas esféricas (B) es mayor del 50% en peso, las
partículas esféricas (B) rodean completamente a las partículas
esféricas (A), dando como resultado una conductividad suficiente.
Sin embargo, el coste aumenta debido a la gran cantidad de
partículas esféricas (B) usadas. En consecuencia, es preferible que
la proporción de partículas esféricas (A) varíe del 50 al 99% en
peso y la proporción de partículas esféricas (B) varíe del 1 al 50%
en peso. Preferiblemente, la proporción de partículas esféricas (A)
varía del 90 al 97% y la proporción de partículas esféricas (B)
varía del 3 al 10% en peso. En dichas proporciones, la sinterización
a baja temperatura puede generar pastas conductoras que tiene una
conductividad suficiente, y el coste puede suprimirse.
La frita de vidrio puede seleccionarse a partir
de productos disponibles en el mercado. En consideración del
entorno, la frita de vidrio sin plomo es preferible. La frita de
vidrio basada en Bi no contiene plomo y tiene un punto de trabajado
bajo de 500ºC o menor, o un punto de trabajado menor de 450ºC o
menor. Preferiblemente, la frita de vidrio basada en Bi está
compuesta por Bi_{2}O_{3} que contiene ligeras cantidades de
otros materiales de B_{2}O_{3}, por ejemplo "11000",
"1100B" (Asahi Glass Company), y "BR10" (Nippon Frit Co.,
Ltd).
El tamaño de la frita de vidrio usada para una
pasta conductora puede afectar a la conductividad ya que dicha
frita de vidrio generalmente tiene un diámetro de partícula medio de
aproximadamente 3 \mum y un diámetro de partícula máximo de
aproximadamente 50 \mum y tiende a segregar porque el polvo
metálico usado en la pasta conductora es fino. Por lo tanto, la
frita de vidrio que tiene un diámetro de partícula medio de 5 \mum
o menor es adecuada. Como el diámetro de partícula de la frita de
vidrio varía, el diámetro máximo de la frita de vidrio es
preferiblemente de 50 \mum o menor. Una frita de vidrio que tiene
un diámetro de partícula medio de 2 \mum y un diámetro de
partícula máximo de 5 \mum es más preferible porque apenas segrega
y muestra una dispersibilidad excelente, permitiendo una alta
conductividad.
La frita de vidrio puede usarse incluso a un
bajo contenido. Preferiblemente, la proporción de la cantidad de la
frita de vidrio a cantidad total de polvo metálico y frita de vidrio
varía de aproximadamente el 0,1 al 15% en peso de manera que se
proporciona la suficiente adhesión entre la pasta conductora y el
sustrato. Cuando el contenido de la frita de vidrio es menor del
0,1% en peso, la adhesión entre la pasta conductora y el sustrato
disminuye. Sin embargo, un contenido mayor del 15% en peso da como
resultado una baja conductividad. Cuando el contenido de frita de
vidrio varía del 1% al 15% en peso, la adhesión entre la pasta y el
sustrato se potencia adicionalmente. Dicha proporción de frita de
vidrio es más preferible.
Cuando la pasta conductora se usa a un espesor
de 25 \mum o menor, un contenido de frita de vidrio del 1% o
mayor no causa problemas. Sin embargo, cuando la pasta conductora se
aplica como película que tiene un espesor de 25 \mum o mayor, la
tensión residual de la película aumenta durante la sinterización.
Como resultado, cuando se usa como base un sustrato de vidrio o un
sustrato de vidrio recubierto con una capa dieléctrica, ocurre un
patrón de interferencia o agrietamiento sobre el sustrato de vidrio
o en la capa dieléctrica. Por lo tanto, la proporción de la
cantidad de la frita de vidrio a cantidad total de polvo metálico y
frita de vidrio está preferiblemente en el intervalo del 0,1 al 1%
en peso para disminuir la tensión residual de la película y para
potenciar también tanto la aplicabilidad como la adhesión de la
película gruesa al sustrato.
Se requiere que el vehículo orgánico usado en la
presente invención tenga características para mantener una mezcla
uniforme del polvo metálico y la frita de vidrio, para controlar el
recubrimiento uniforme sobre el sustrato mediante un proceso de
serigrafía o similar, o para evitar el emborronado o sangrado de los
patrones impresos. Para mantener estas características, los
vehículos orgánicos se preparan preferiblemente disolviendo una
resina celulosa o una resina acrílica en un disolvente. El
disolvente debe ser no corrosivo para el sustrato recubierto con la
pasta. Un disolvente que tiene baja volatilidad es preferible para
la capacidad de procesado de impresión. Por ejemplo, cuando un
patrón estrecho que tiene una anchura de línea de 200 \mum o menor
se dibuja mediante serigrafía, puede usarse preferiblemente el
vehículo orgánico que se prepara disolviendo del 10 al 20% en peso
de etil celulosa que tiene un peso molecular de 10.000 a 20.000 en
acetato de butil carbitol o \alpha-terpineol.
Los ejemplos de acuerdo con la presente
invención se describirán ahora, aunque el alcance de la presente
invención no se limita a estos ejemplos.
Ejemplos 1 a 6 y Ejemplos
Comparativos 1 a
3
Una solución de vehículo orgánico que tiene un
contenido de resina del 14% en peso se preparó disolviendo etil
celulosa que tenía un peso molecular de 18.000 en acetato de butil
carbitol. Un polvo de plata del tipo y cantidad mostrados en la
Tabla 1 se añadió como polvo metálico a la solución, y la solución
resultante se mezcló minuciosamente usando un desaireador de
agitación rotatoria. Una frita de vidrio del tipo y cantidad
mostrados en la Tabla 1 se añade adicionalmente a la solución,
continuando la agitación. Después de la confirmación visual de la
uniformidad, la solución se aplicó a un molino de tres rodillos para
preparar una pasta conductora. Las pastas conductoras resultantes
en los Ejemplos 1 a 6 y Ejemplos Comparativos 1 a 3 no mostraron un
mal aspecto en estado ordinario.
Cada muestra de pasta conductora se aplicó como
una película con una anchura de 50 mm y una longitud de 90 mm sobre
un sustrato de vidrio (sustrato PD200; Asahi Glass Company). El
sustrato de vidrio resultante se puso en un recipiente termostático
y se calentó a 200ºC durante 30 minutos para volatilizar el
disolvente. Después, el sustrato de vidrio se calentó en un horno a
la temperatura de sinterización (450ºC o 500ºC) mostrada en la
Tabla I durante 30 minutos. Después de la sinterización, se midieron
el espesor de la película y la resistividad volumétrica para
evaluar la conductividad. El espesor de la película se midió con un
ensayador de la rugosidad superficial (SURFCOM130A; Tokyo Seimitsu
Co., Ltd.). La resistividad volumétrica se midió con un medidor de
baja resistividad (Loresta-GP; Mitsubishi Chemical
Corporation) de acuerdo con JISK7194.
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A continuación, se evaluó la adhesión de las
pastas conductoras al sustrato. Las muestras usadas para la
evaluación de conductividad se tallaron cada una de ellas a
intervalos de 1 mm en un patrón de parrilla y se puso una cinta
adhesiva sobre la superficie superior de las mismas para un ensayo
de descascarillado. Después de repetir diez veces el ensayo de
descascarillado, se observó el grado de descascarillado (ensayo de
adhesión de corte cruzado). Las muestras se descascarillaron
parcialmente en el ensayo de adhesión de corte cruzado cuando se
sometieron a 10 ciclos de ensayo de descascarillado sin la incisión
de parrilla, y se observó el grado de descascarillado (ensayo de
adhesión de cinta). La evaluación se realizó de acuerdo con la
siguiente graduación. Excelente: no hay descascarillado en el
ensayo de adhesión de corte cruzado, Bueno: no hay descascarillado
en el ensayo de adhesión de cinta, y Malo: descascarillado con una
proporción de área del 50% o mayor en el ensayo de adhesión de
cinta. Las propiedades características de cada película se muestran
en la Tabla 1.
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(Tabla pasa a página
siguiente)
Como se muestra en la Tabla I, las muestras
preparadas a una temperatura de sinterización de 500ºC presentaron
una resistividad volumétrica de 3 \mu\Omega \cdot cm o menor
en todos los Ejemplos 1 a 6 y en el Ejemplo Comparativo 2,
presentando una alta conductividad. Sin embargo, las muestras en los
Ejemplos Comparativos 1 y 3, cuyo polvo de plata eran partículas
esféricas (A) solas, presentaron una resistividad volumétrica mayor
de 3 \mu\Omega \cdot cm dando como resultado una mala
conductividad. Particularmente, las muestras en el Ejemplo
Comparativo 3, que contenía el aceite de vidrio a la proporción
máxima del 15% en peso, presentaron una mayor resistividad
volumétrica, dando como resultado una disminución de la
conductividad.
Las muestras en el Ejemplo 4, que se prepararon
usando una frita de vidrio que tenía un punto de trabajado de
475ºC, presentaron una conductividad suficiente en el caso de
sinterización a 500ºC, pero no en el caso de sinterización a
450ºC.
Las muestras en el Ejemplo 6, que contenían la
frita de vidrio a la proporción máxima (15% en peso) presentaron
una conductividad ligeramente menor debido al mayor contenido de
vidrio en el material conductor. Sin embargo, la sinterización a
500ºC provocó una resistividad volumétrica de 3 \mu\Omega
\cdot cm o menor. Por lo tanto, el contenido de frita de vidrio
debería de ser del 15% en peso o menor para conseguir un resultado
deseable.
Las muestras en el Ejemplo 5 se prepararon
usando una frita de vidrio que tenía un tamaño mayor. Las muestras
que se sinterizaron a 500ºC presentaron una resistividad volumétrica
suficientemente baja, presumiblemente como resultado de un flujo de
vidrio suficiente. Esto sugirió que esta temperatura de
sinterización provocaba una fluidez suficiente. Sin embargo, las
muestras que se sintetizaron a 450ºC presentaron una resistividad
volumétrica algo mayor. Esto hace suponer que las partículas de
vidrio que tienen un tamaño de partícula sustancialmente máximo en
la frita de vidrio inhibían a las partículas de plata de ser
sinterizadas. Por lo tanto, la frita de vidrio que tenía un
diámetro de partícula medio de 2 \mum o menor es preferible. Entre
ellas, la frita de vidrio que tiene un diámetro de partícula máximo
de menos de 5 \mum es más preferible.
Las muestras en el Ejemplo comparativo 2 que
contenían la frita de vidrio a un bajo contenido (0,5% en peso) se
descascarillaron en el ensayo de adhesión de corte cruzado,
presentando una mala adhesión. Las muestras en el Ejemplo 4, que se
prepararon usando una frita de vidrio que tenía un punto de
trabajado de 475ºC no causaron problemas en el caso de
sinterización a 500ºC pero presentaron un descascarillado parcial en
el caso de sinterización a 450ºC. Sin embargo, ambas muestras pueden
usarse de forma práctica porque ninguna de las muestras presentó
descascarillado en el ensayo de adhesión de cinta.
Ejemplos 7 a 13 y Ejemplos
Comparativos 4 a
6
Una solución de vehículo orgánico que tenía un
contenido de resina del 14% se preparó disolviendo etil celulosa
que tenía un peso molecular de 13.500 en
\alpha-terpineol. Un polvo de plata que tenía el
tipo y cantidad mostrados en las Tablas 2 y 3 se añadió como polvo
metálico a la solución, y la solución resultante se agitó
minuciosamente usando un desaireador de rotación rotatorio. Una
frita de vidrio que tenía el tipo y cantidad mostrados en las
Tablas II y III se añadió adicionalmente a la solución, continuando
con la agitación. Después de la confirmación visual de la
uniformidad, la solución se aplicó a un molino de tres rodillos para
preparar una pasta conductora. Las pastas conductoras
resul-
tantes en todos los ejemplos 7 a 13 y Ejemplos Comparativos 1 y 2 no tenían un mal aspecto en un estado ordinario.
tantes en todos los ejemplos 7 a 13 y Ejemplos Comparativos 1 y 2 no tenían un mal aspecto en un estado ordinario.
Cada muestra de pasta reductora se recubrió
sobre un área con una anchura de 50 ml y una longitud de 90 ml
sobre el sustrato de vidrio (sustrato PD200; Asahi Glass Company).
El sustrato de vidrio resultante se puso en un termostato y se
calentó a 200ºC durante 30 minutos para volatilizar el disolvente.
Después, el sustrato de vidrio se calentó en un horno a una
temperatura de sinterización (450ºC o 500ºC) mostrada en las Tablas
II y III durante 30 minutos. Después de la sinterización, el espesor
de la película y la resistividad volumétrica se midieron para
evaluar la conductividad. El espesor de la película se midió con un
ensayador de la rugosidad superficial (SURFCOM130A; Tokyo Seimitsu
Co., Ltd.). La resistividad volumétrica se midió con un medidor de
baja resistividad (Loresta-GP; Mitsubishi Chemical
Corporation) de acuerdo con JISK7194.
A continuación, se midió la tensión residual de
la película resultante a partir de la intensidad de difracción del
plano (311) de Ag con un analizador de tensión residual por rayos X
usando rayos X de Cr-K\alpha excitados a 30 kV y
20 mA mediante un proceso sin^{2}\psi (método de
iso-inclinación). El módulo de Young de 75.000 MPa
y la proporción de Poisson de 0,38 se usaron como constantes. Los
estados del sustrato de vidrio sinterizado se inspeccionaron
visualmente y con el microscopio óptico para evaluar la
aplicabilidad de la película gruesa. La evaluación se realizó de
acuerdo con la siguiente graduación. Bueno: no hay anormalidad tal
como daño o agrietamiento sobre el sustrato de vidrio, y Malo:
fallo de cohesión sobre el sustrato de vidrio debido a la tensión
residual de la pasta.
A continuación, se evaluó la adhesión de las
pastas conductoras al sustrato. Las muestras usadas para la
evaluación de conductividad se tallaron cada una a intervalos de 1
mm en un patrón de parrilla, y la cinta adhesiva se puso sobre la
superficie superior de las mismas para un ensayo de descascarillado.
Después de realizar diez veces el ensayo de descascarillado, se
observó el grado de descascarillado (ensayo de adhesión de corte
cruzado). Las muestras se descascarillaron parcialmente en el
ensayo de adhesión de corte cruzado cuando se sometieron a 10
ciclos de ensayo de descascarillado sin la incisión de parrilla, y
se observó el grado de descascarillado (ensayo de adhesión de
cinta). La evaluación se realizó de acuerdo con la siguiente
graduación. Excelente: no hay descascarillado en el ensayo de
adhesión de corte cruzado, Bueno: no hay descascarillado en el
ensayo de adhesión de cinta, y Malo: descascarillado con una
proporción de área del 50% o mayor en el ensayo de adhesión de
cinta. Las propiedades características de cada película se muestran
en las Tablas II y III.
\global\parskip1.000000\baselineskip
\newpage
Como se muestra en las Tablas II y III, las
muestras se prepararon a una temperatura de sinterización de 500ºC
que presentaba una resistividad volumétrica de 3 \mu\Omega
\cdot cm o menor en todos los Ejemplos 7 a 13 y en el Ejemplo
Comparativo 2, presentando una alta conductividad. Sin embargo, las
muestras en el Ejemplo comparativo 4, cuyo polvo de plata eran
partículas esféricas (A) solas, presentaba una resistividad
volumétrica mayor de 3 \mu\Omega \cdot cm dando como
resultado una mala conductividad.
Las muestras en los Ejemplos 7 a 9, que
contenían frita de vidrio que tenía un punto de trabajado de 425ºC,
se evaluaron a diversos contenidos de frita de vidrio variables del
1% al 0,25%. Las muestras en el Ejemplo 7, en el que el contenido
de la frita de vidrio era del 1% presentaban una buena adición con
el sustrato. Sin embargo, las muestras recubiertas con las
películas que tenían un espesor de 20 \mum o mayor presentaban
una tensión residual mayor de la película, dando como resultado
desperfectos en los sustratos de vidrio. Por el contrario, las
muestras de los Ejemplos 8 y 9, en las que el contenido de la frita
de vidrio era del 0,5% o el 0,25% no presentaban anormalidad en los
sustratos de vidrio incluso en los casos en los que el espesor de
la película aumentó hasta 40 \mum permitiendo de esta manera la
aplicación de una película gruesa.
Se evaluaron las muestras en los Ejemplos 10 y
11 que contenían una frita de vidrio que tenía un punto de
trabajado de 475ºC en una proporción de contenido del 1% al 0,25%.
Como en los casos en los Ejemplos 7 a 9, las muestras en el Ejemplo
10 en las que el contenido de la frita de vidrio era del 1%
presentaban fallo de cohesión del sustrato de vidrio, dando como
resultado un fallo en la aplicación de la película gruesa cuando el
espesor de la película aumentaba a 20 \mum o mayor. Las muestras
que se sinterizaron a 450ºC presentaron una resistividad
volumétrica ligeramente mayor debido a un punto de trabajado mayor
de la frita de vidrio.
Las muestras de los Ejemplos 12 y 13 contenían
la frita de vidrio que tenía un tamaño de partícula comparativamente
mayor. Sin embargo, como las cantidades de la frita de vidrio en
estos ejemplos eran pequeñas comparadas con aquellas de las
muestras en el Ejemplo 5, el vidrio presentaba un flujo suficiente
durante la sinterización a 450ºC, dando como resultado una buena
conductividad. Respecto al recubrimiento de una película gruesa, en
los resultados en los Ejemplos 7 a 11, ocurrieron desperfectos en el
sustrato de vidrio en las muestras en el Ejemplo 12 en las que el
contenido de la frita de vidrio era del 1% en peso cuando la
película se aplicó con un espesor de 20 \mum o mayor.
En las muestras en los Ejemplos Comparativos 1 a
3, que contenían el 5% en peso de frita de vidrio, ocurrió fallo de
cohesión en el sustrato de vidrio incluso en los casos en los que el
espesor de la película era de 15 \mum, permitiendo de esta manera
un espesor de recubrimiento de 10 \mum o menor.
Como se ha mostrado anteriormente, las pastas
conductoras de acuerdo con la presente invención pueden usarse
preferiblemente en los campos que requieren una conductividad
particularmente alta. Específicamente, las pastas conductoras son
particularmente adecuadas para la formación de electrodos y
similares de pantallas de panel plano.
Claims (9)
1. Una pasta eléctricamente conductora que
comprende componentes principales que incluyen un polvo metálico,
una frita de vidrio y un vehículo orgánico, en el que el polvo
metálico comprende partículas esféricas (A), que tienen un diámetro
medio de partícula primaria de 0,1 a 1 \mum y partículas esféricas
(B) que tienen un diámetro medio de partícula primaria de 50 nm o
menor, y el contenido de partículas esféricas (A) está en el
intervalo de 50 al 99% en peso, y el contenido de partículas
esféricas (B) está en el intervalo del 1 al 50% en peso; y
el contenido de la frita de vidrio está en el
intervalo del 0,1% en peso al 15% en peso de la cantidad total de la
frita de vidrio y el polvo metálico.
2. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con la reivindicación 1, en la que el contenido de la frita
de vidrio es del 0,1% en peso respecto a la cantidad total de la
frita de vidrio y el polvo metálico.
3. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con la reivindicación 1, en la que el contenido de la frita
de vidrio varía del 1% al 15% de la cantidad total de la frita de
vidrio y el polvo metálico.
4. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en la que
el polvo metálico está compuesto del 90 al 97% en peso por
partículas esféricas (A) y del 3 al 10% en peso por partículas
esféricas (B).
5. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en la que
el polvo metálico es al menos un metal o una aleación seleccionada
entre el grupo compuesto por platino, oro, plata, cobre, níquel y
paladio.
6. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en la que
la frita de vidrio no contiene plomo.
7. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en la que
el punto de trabajado de la frita de vidrio es de 500ºC o menor.
8. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en la que
el punto de trabajado de la frita de vidrio es de 450ºC o menor.
9. Una pasta eléctricamente conductora de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en la que
la frita de vidrio es un polvo que tiene un diámetro medio de
partícula de 2 \mum o menor.
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