ES2327570T3

ES2327570T3 - Crisol para la cristalizacion de silicio y procedimiento para elaborar el mismo.

Info

Publication number: ES2327570T3
Application number: ES06806079T
Authority: ES
Inventors: Gilbert Rancoule
Original assignee: Vesuvius Crucible Co
Current assignee: Vesuvius Crucible Co
Priority date: 2005-10-06
Filing date: 2006-10-06
Publication date: 2009-10-30
Anticipated expiration: 2026-10-06
Also published as: TW200720496A; RU2401889C2; CN101278078A; NO20082102L; US20080260608A1; AU2006298957A1; AU2006298957B2; CN101278078B; TWI400369B; DE602006008498D1; JP2009510387A; ATE439461T1; ZA200803754B; CA2624887C; KR101212924B1; CA2624887A1; EP1954856A1; UA89284C2; US8298333B2; BRPI0616485A2

Abstract

Un crisol (1) para la cristalización de silicio, que comprende a) un cuerpo de base (2) que comprende una superficie inferior (21) y paredes laterales (22) que definen un volumen interior; b) un revestimiento protector (3) a base de nitruro de silicio orientado hacia el volumen interior; caracterizado porque dicho revestimiento protector (3) comprende del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio, del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, seleccionado del grupo constituido por - aglutinantes que comprende un compuesto organometálico a base de química de silicio tales como siloxano, tetraetilortosilicato, tetraetoxisilano, polidimetilsilano o una combinación de los mismos; - aglutinantes a base de sílice que comprende aceite de silicona, siloxano, clorosilano o una combinación de los mismos; y - aglutinantes que comprende partículas submicrónicas y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, tales como sílice coloidal, el contenido total de oxígeno variando del 5 al 15% en peso.

Description

Crisol para la cristalización de silicio y procedimiento para elaborar el mismo.

La invención se refiere a un crisol para la cristalización de silicio y a la preparación y la aplicación de un revestimiento protector para crisoles usados en el manejo de materiales fundidos que se solidifican en el crisol y se remueven luego como longotes, y más particularmente a un revestimiento protector para crisoles usados en la solidificación de silicio policristalino.

Se usan típicamente los crisoles (por ejemplo elaborados de sílice fundida, carburo de silicio, cuarzo, nitruro de silicio, nitruro de silicio ligado por reacción, o grafito) en la solidificación de silicio policristalino. Se escoge el silicio principalmente por su alta pureza y disponibilidad. Hay problemas en el uso del silicio, sin embargo, como crisol para la producción de silicio mediante este método.

El silicio en su estado fundido reacciona con el crisol de sílice que está en contacto con el mismo. El silicio fundido reacciona con la sílice formando monóxido de silicio y oxígeno. El oxígeno contamina el silicio. El monóxido de silicio es volátil y reacciona con los componentes de grafito dentro del horno. El monóxido de silicio reacciona con el grafito formando carburo de silicio y monóxido de carbono. El monóxido de carbono reacciona entonces con el silicio fundido, formando monóxido de silicio volátil adicional, carburo de silicio, carburos y óxidos de trazas metálicas o aditivos y carbono. El carbono contamina el silicio. El silicio puede reaccionar también con las varias impurezas contenidas en el crisol (hierro, boro, aluminio,...) y/o contenidas en el revestimiento de nitruro.

La reacción entre la sílice y el silicio promueve la adhesión del silicio al crisol. Está adhesión, combinada como a diferencia de coeficientes de expansión térmica entre los dos materiales, crea tensión en el lingote de sílice, haciendo que se agriete con el enfriamiento. Se sabe en la técnica que un revestimiento protector aplicado al interior del crisol en el área de contacto con el lingote puede evitar la reacción entre el silicio y la sílice que origina la contaminación del lingote y el agrietamiento. Para que sea eficaz, el revestimiento debe ser suficientemente grueso para evitar que el silicio reaccione con el crisol de sílice y no debe contaminar adversamente el silicio ya sea por sí mismo o a causa de contaminantes dentro del mismo.

Se describe una variedad de materiales y técnicas en la literatura, los cuales intentan resolver el problema de reacción y adhesión del crisol en contacto con el material fundido.

Se sabe que los revestimientos de nitruro de silicio evitan la reacción química entre el silicio fundido y la sílice del crisol. La patente de E.U.A. No. 4,741,925 describe un revestimiento de nitruro de silicio para crisoles aplicados mediante deposición química de vapor a 1250ºC, mientras que el documento WO-A1-2004/053207 expone un revestimiento de nitruro de silicio aplicado mediante aspersión de gas caliente ionizado. La patente de E.U.A. No. 4,218,418 describe una técnica de formar una capa de vidrio dentro de un crisol de sílice mediante calentamiento rápido para evitar el agrietamiento del silicio durante el procedimiento de fusión.

La técnica anterior incluye referencias específicas a agentes pulverizados de liberación de molde para su aplicación a crisoles en la solidificación direccional del silicio. Además, se menciona el uso de deposición química de vapor, evaporación de solvente, tratamiento con llama a alta temperatura y otros medios costosos y complejos para la aplicación de revestimientos de crisol. Se hacen referencias a aglutinantes y solventes específicos. Se hacen referencias al mezclado, la aspersión o el cepillado para suspensiones espesas de revestimientos pulverizados.

Se sabe que los revestimientos de nitruro de silicio evitan la reacción química entre el silicio fundido y la sílice del crisol.

Sin embargo, el revestimiento mismo de nitruro de silicio puede originar problemas. El grosor de revestimiento de nitruro de silicio necesario para evitar que el silicio reaccione con el crisol de sílice es bastante importante (aproximadamente 300 \mum), haciendo así que la operación de revestimiento sea costosa y consumidora de tiempo. Además, este revestimiento de nitruro de silicio es mecánicamente débil y puede exfoliarse o descamarse durante su uso o incluso antes. Se recomienda por lo tanto aplicar este revestimiento precisamente al último antes de uso, es decir en las instalaciones del usuario final, dejando así la molestia de aplicar este revestimiento grueso al usuario
final.

Las tecnologías conocidas para proveer un revestimiento estable de nitruro sobre un crisol de cerámica incluyen 1) la oxidación del revestimiento de nitruro a una alta temperatura que varíe de 700ºC a 1450º bajo un ciclo controlado de quemado y (2) y la adición de materiales auxiliares de concreción/adhesión (o adherencia) a la composición de nitruro. Los aditivos pueden ser aditivos de metales u óxidos, tales como Al_{2}O_{3}, SiO_{2}, AIN, Al, Si, sílice ahumada o fina y otros. Un revestimiento de nitruro de silicio que comprende sílice ahumada se describe en la solicitud copendiente EP0447105. La oxidación del nitruro de silicio a óxido de silicio aumenta la cantidad de oxígeno en el revestimiento y origina el problema mencionado anteriormente. Además, el nivel de oxidación y la cantidad resultante de oxígeno no son fáciles de controlar.

La necesidad de mantener un bajo contenido de oxígeno en el revestimiento del crisol fue puesta en relieve por la mayoría de las publicaciones de los productores de silicio que describen las interacciones químicas o físicas durante la aplicación fotovoltaica o de semiconductores. Se recomienda el uso de revestimiento de nitruro de silicio con bajo contenido de oxígeno para la producción de lámina cristalina semiconductora de alta calidad. El uso de polvo de nitruro de silicio de alta pureza con bajo contenido de oxígeno se ha descrito notablemente en la patente de E.U.A. No. 6,165,425. Este documento describe un revestimiento de nitruro de silicio que tiene un contenido extremadamente bajo de oxígeno del 0.3% al 5% en peso a lo mucho. El revestimiento puede comprender promotores de adhesión, tales como alcohol polivinílico y se seca al aire a una temperatura que varía preferiblemente de 500ºC a 700ºC. A estás bajas temperaturas de secado, no tiene lugar la oxidación de nitruro de silicio, no hay formación de SiO_{2} en el límite de granos y se mantiene la eficacia completa del nitruro de silicio. Sin embargo, subsisten algunos problemas. Puesto que no hay oxidación del revestimiento, el revestimiento permanece pulverulento y se daña fácilmente cuando se vierte el silicio líquido al crisol.

Es conveniente por lo tanto proveer un crisol que no presente los problemas mencionados anteriormente, que comprenda un revestimiento que sea más fuerte (evite la exfoliación y la descamación), con resistencia mejorada al desgaste mecánico, fácil y barato de producir, a la vez que evite la reacción química entre el silicio fundido y el crisol y mantenga los requisitos adicionales en términos del contenido de oxígeno.

Se ha hallado ahora que se pueden resolver estos problemas con un crisol para la cristalización de silicio que comprende a) un cuerpo de base que comprende una superficie inferior y paredes laterales que definen un volumen interior; b) un revestimiento protector a base de nitruro de silicio en la superficie de las paredes laterales orientadas hacia el volumen interior, dicho revestimiento comprendiendo del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio y del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, el contenido total de oxígeno variando del 5 al 15% en peso. De acuerdo con la presente invención, el aglutinante de baja temperatura es seleccionado del grupo constituido por

- aglutinantes que comprende un compuesto organometálico a base de química de silicio tales como siloxano, tetraetilortosilicato, tetraetoxisilano, polidimetilsilano o una combinación de los mismos;

- aglutinantes a base de sílice que comprende aceite de silicona, siloxano, clorosilano o una combinación de los mismos; y

- aglutinantes que comprende partículas submicrónicas y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, tales como sílice coloidal. Preferiblemente, el aglutinante de baja temperatura es un aglutinante a base de sílice. Se puede usar también un polvo de oxinitruro de silicio y preferiblemente una combinación de polvos de nitruro de silicio y oxinitruro de silicio. El polvo de oxinitruro de silicio está comprendido generalmente entre el 5 y el 20% en peso. El polvo de oxinitruro de silicio puede ser un oxinitruro reciclado o un oxinitruro activado con agua. Una ventaja considerable de la presente invención es que la cantidad de oxígeno contenida en el polvo de nitruro de silicio ya no es crítica y se puede considerar el uso de un polvo que contenga cierta cantidad de oxígeno, como por ejemplo un polvo reciclado. Una fase cristalográfica del polvo de nitruro de silicio puede ser \alpha o \beta.

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Se da a entender por aglutinante de baja temperatura, un aglutinante que crea una aglutinación a una temperatura menor a la temperatura requerida para oxidar el nitruro de silicio. Preferiblemente, se crea esta aglutinación a una temperatura menor a 800ºC y más preferiblemente menor a 500ºC.

Por aglutinante mineral se da a entender un aglutinante que comprende una base de mineral cuyos residuos dan siempre una forma mineral más carbón o no. Por el contrario, dichos aglutinantes orgánicos, como CMC (carboximetilcelulosa), cola, agentes tensioactivos, dan residuos que son solamente carbono. La alta reactividad del aglutinante está dada parcialmente por la base mineral.

La granulometría del polvo de nitruro de silicio o de oxinitruro de silicio es generalmente submicrónica, tamaño de partícula \leq 1 \mum. Sin embargo, se puede usar también una mezcla de polvos de nitruro que comprendan diferentes tamaños de partícula y que comprendan notablemente partículas o granos más gruesos comprendidos entre 2 y 50 \mum, preferiblemente entre 2 y 5 \mum. Se escoge la mezcla de manera que mejore una o más características. La mezcla puede mejorar la estabilidad de la suspensión y/o aumentar además la adhesión del revestimiento sobre el crisol. En caso de que esté presente otro revestimiento debajo y/o encima de la capa de nitruro de acuerdo con la presente invención, una mezcla puede facilitar también la adhesión entre los diferentes revestimientos. El otro revestimiento puede ser por ejemplo un revestimiento a base de sílice, como se describe en la solicitud de patente WO2005/106084 y la solicitud copendiente PCT/EP2006/006347. La cantidad de partículas más gruesas está comprendida generalmente entre el 20 y el 50% en peso con respecto a las partículas submicrónicas. El polvo de nitruro de silicio más grueso es menos costoso, la introducción de tal polvo reduce también el costo del revestimiento.

Dependiendo de la aplicación, el revestimiento protector tendrá un grosor de 50 \mum a 500 \mum, preferiblemente de 200 a 500 \mum. Para evitar alguna contaminación, es esencial que el revestimiento protector sea de pureza muy alta con un contenido extremadamente bajo de carbono.

Esta nueva tecnología se basa en el uso de cantidades limitadas y controladas de oxígeno en el revestimiento. Se introduce el oxígeno con un aglutinante mineral de baja temperatura (gel líquido, organometálico, de nanopartículas, microfloculante, soluciones no miscibles, microemulsiones, óxidos). Se crea una fase de aglutinación de temperatura muy baja a través de todo el revestimiento, aumentando la resistencia mecánica al desgaste del revestimiento protector, a la vez que mantienen las propiedades deseadas del nitruro de silicio. Se reduce mucho el riesgo de exfoliación y descamación del revestimiento.

Se escogen los aditivos y las cantidades de manera que se obtenga un contenido total de oxígeno que varíe del 5 al 15% en peso y muy preferiblemente del 8 al 12% en peso. Un contenido total de oxígeno menor al 5% no provee una fase suficiente de aglutinación que dé por resultado una baja resistencia mecánica del revestimiento. Cuando el contenido de oxígeno es demasiado alto, se presentan los problemas de contaminación explicados anteriormente.

La temperatura de calentamiento para crear la aglutinación es menor a la temperatura requerida para oxidar el nitruro de silicio. La temperatura de calentamiento es menor a 800ºC y preferiblemente menor a 500ºC. De esta manera, se controla por completo la cantidad de oxígeno mediante la adición de la cantidad determinada de aglutinante mineral de baja temperatura. No hay reacción adicional de oxidación que pueda modificar el contenido de
oxígeno.

El oxígeno en la dispersión de aglutinación está haciendo una diferencia con respecto al oxígeno producido mediante la oxidación del nitruro de silicio. La baja cohesión entre el sistema de aglutinación y el polvo de nitruro permite mantener la eficacia completa del nitruro como agente no humectante. Se crea la ligadura química alrededor de los granos y no se oxidan los granos del nitruro de silicio a SiO_{2} en su periferia. Se realza este efecto con la densificación de baja temperatura para una aglutinación creada mediante una fijación química en lugar de la típica reacción térmica de oxidación. El revestimiento de la presente invención permite aumentar la resistencia mecánica del revestimiento mediante el objetivo de un sistema de aglutinación bien controlado, a la vez que mantiene la eficacia completa de los granos de nitruro de silicio.

Puesto que no hay problema de exfoliación o descamación con el revestimiento de acuerdo con la invención, y se puede preparar antes de llegar a las instalaciones del usuario final.

Otro objeto de la invención es una composición para revestir un crisol para la cristalización de silicio que comprende del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio y del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, el contenido total de oxígeno siendo mayor al 5% en peso. Se puede aplicar la composición mediante diferentes métodos. En un método preferido, se mezcla la composición con la fase líquida para formar una suspensión para su aplicación sobre el crisol.

Otro objeto de la invención es un procedimiento para elaborar un crisol que comprenda un revestimiento protector de acuerdo con la invención; el procedimiento comprendido en los pasos de

a) proveer el cuerpo de base que comprende una superficie inferior y paredes laterales que definen un volumen interior y

b) aplicar un revestimiento protector que comprenda del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio y del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, el contenido total de oxígeno siendo mayor al 5% en peso de la superficie de las paredes laterales orientadas hacia el volumen interior. De acuerdo con la presente invención, el aglutinante de baja temperatura es seleccionado del grupo constituido por

-: aglutinantes que comprende un compuesto organometálico a base de química de silicio tales como siloxano, tetraetilortosilicato, tetraetoxisilano, polidimetilsilano o una combinación de los mismos;

-: aglutinantes a base de sílice que comprende aceite de silicona, siloxano, clorosilano o una combinación de los mismos; y

-: aglutinantes que comprende partículas submicrónicas y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, tales como sílice coloidal.

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Usualmente, se aplicará la capa de superficie en agua o en solvente por aspersión o cepillado, preferiblemente por aspersión en un sistema a base de agua que comprenda una cantidad apropiada de agua para permitir la suspensión de la composición entera.

En una modalidad preferida del procedimiento de acuerdo con la invención, el paso de aplicar el revestimiento va seguido por un paso de calentamiento c) a una temperatura y por una duración apropiada para calcinar sustancialmente todo el compuesto orgánico presente en los revestimientos y para crear la aglutinación. En una modalidad preferida, la temperatura de calentamiento permanece debajo de la temperatura de oxidación de nitruro de silicio. De esta manera, se mantiene bajo control el contenido de oxígeno en el revestimiento. La temperatura de oxidación del nitruro de silicio puede variar dependiendo de la composición de revestimiento, pero es usualmente de aproximadamente 800ºC. El calentamiento del crisol revestido puede tener lugar también en el sitio del cliente. Es posible también realizar un calentamiento previo antes del envío al cliente y el calentamiento final o adicional en el sitio del cliente.

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Se describirá ahora la invención con referencia a la figura 1 adjunta que sirve solamente para ilustrar la invención y no está destinada a limitar su alcance. La figura 1 muestra una sección transversal de un crisol de acuerdo con la invención.

En la figura 1, el crisol está designado con el número de referencia 1. Comprende un cuerpo de base 2 que comprende una superficie inferior 21 y paredes laterales 22 que definen un volumen interior para la cristalización del silicio. El crisol comprende una capa protectora 3 que está constituida del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio, del 5 al 20% del aglutinante mineral de baja temperatura de la invención, el contenido total de oxígeno siendo mayor al 5% en peso de la superficie de las paredes laterales 22 orientadas hacia el volumen interior.

Se ilustrará ahora la invención por medio de ejemplos de acuerdo con la invención y ejemplos comparativos. El procedimiento para aplicar el revestimiento sobre el cuerpo de base se puede efectuar de diferentes maneras. La composición depende del método escogido.

El primer método preferido (capa reactiva) comprende el paso de

- mezclar polvos de nitruro de silicio y compuesto organometálico a base de química de silicio seleccionada preferiblemente del grupo constituido por siloxano, tetraetilortosilicato, tetraetoxisilano, polidimetilsilano o una combinación de los mismos (los compuestos organometálicos son conocidos como tales y están disponibles en el mercado);

- asperjar el revestimiento sobre el crisol con un líquido reactivo de la familia de cloruro de amonio, amoniaco, solución nítrica o cualquier otro líquido reactivo adecuado para este procedimiento;

- calentar el crisol revestido a una temperatura debajo de 500ºC para la estabilización del revestimiento.

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El segundo método preferido (solución aglutinante) comprende el paso de

- mezclar polvos de nitruro de silicio con un aglutinante a base de sílice, seleccionado preferiblemente del grupo constituido por aceite de silicona, siloxano, clorosilano o una combinación de los mismos;

- aplicar como revestimiento un líquido reactivo de la familia de ácidos (ácido clorhídrico, ácido nítrico, ácido silícico, tetracloruro de silicio o cualquier otro ácido adecuado para este procedimiento) como neutralización para la hidrólisis de base en cuanto a los compuestos amino-organometálicos;

- calentar el crisol revestido a una temperatura debajo de 500ºC para remover los líquidos de reacción.

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En otra modalidad, se realiza el paso de aspersión usando una reacción a base de vapores de amoniaco o soluciones para sistemas de hidrólisis de ácido.

El tercer método preferido (solución saturada y precipitación) comprende el paso de

- mezclar polvos de nitruro de silicio con partículas submicrónicas (< 10^{-6}) y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, preferiblemente sílice coloidal;

- precipitar la mezcla preparada sobre la superficie del crisol mediante reacción térmica, reacción con vapor o incluso reacción química directa usando la sustancia química de neutralización apropiada para formar base ácida, alcohol o reacción de pH;

calentar el cristal revestido a una temperatura debajo de 500ºC, preferiblemente antes de su uso.

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Se muestran en el cuadro 1 ejemplos de composiciones de revestimiento para los tres métodos.

CUADRO 1 Composición de revestimiento protector

1

PVA significa alcohol polivinílico y PEG significa polietilenglicol.

TEOS significa tetraetilortosilicato.

Los ejemplos preferidos son las composiciones a base de sílice coloidal, ya que son fáciles y seguras de manejar. Se escoge la composición en función del método usado, para obtener el contenido de oxígeno y la resistencia al desgaste mecánico que se procura.

En los siguientes cuadros, se ha determinado la adhesión de los varios revestimientos sobre el crisol de acuerdo con ASTM D4541, usando un probador de adhesión por tracción POSITEST (de la empresa DEFELSKO Corp.). Este probador evalúa la adhesión del revestimiento, determinando la mayor fuerza tensional de tracción que puede soportar antes de desprenderse, es decir la fuerza requerida para jalar un diámetro específico de prueba de revestimiento de su substrato, usando presión hidráulica. La fuerza se expresa en términos de presión (kPa).

En el cuadro 2 se muestran ejemplos de crisol y rendimientos relacionados:

CUADRO 2

2

6 y 7 son ejemplos comparativos.

RBSN significa "nitruro de silicio enlazado por reacción" y es un tipo conocido de crisol.

6 y 7 son ejemplos comparativos y corresponden a los ejemplos 1 y 2 de la patente de E.U.A. No. 6,165,425. C1 comprende un polvo de nitruro de silicio con un contenido de oxígeno de 1.3% y sin aglutinante mineral de baja temperatura. C2 comprende un polvo de nitruro silicio con un contenido de oxígeno del 6% y sin aglutinante mineral de baja temperatura.

Con respecto al ejemplo 6, se notó daño del revestimiento cuando se vertió metal de silicio al crisol. Con respecto al ejemplo 7, se notaron pérdidas considerables de metal, como se explica en la patente de E.U.A. No. 6,165,425.

Claims

1. Un crisol (1) para la cristalización de silicio, que comprende a) un cuerpo de base (2) que comprende una superficie inferior (21) y paredes laterales (22) que definen un volumen interior; b) un revestimiento protector (3) a base de nitruro de silicio orientado hacia el volumen interior; caracterizado porque dicho revestimiento protector (3) comprende del 80 al 95% en peso de nitruro de silicio, del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, seleccionado del grupo constituido por

- aglutinantes que comprende partículas submicrónicas y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, tales como sílice coloidal, el contenido total de oxígeno variando del 5 al 15% en peso.

2. El crisol de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque el contenido total de oxígeno varía del 8 al 12% en peso.

3. El crisol de conformidad con la reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado además porque el revestimiento protector (3) de nitruro de silicio tiene un grosor comprendido entre 50 \mum y 500 \mum, preferiblemente entre 200 y 500 \mum.

4. El crisol de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 ó 3, caracterizado además porque el revestimiento protector de nitruro de silicio comprende partículas \leq 1 \mum.

5. El crisol de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado además porque el revestimiento protector de nitruro de silicio comprende también partículas más gruesas.

6. El crisol de conformidad con la reivindicación 5, caracterizado además porque las partículas gruesas están comprendidas entre 2 y 50 \mum, preferiblemente entre 2 y 5 \mum.

7. El crisol de conformidad con la reivindicaciones 4 ó 5, caracterizado además porque la cantidad de partículas gruesas es del 20 al 50% en peso.

8. Un procedimiento para la preparación de un crisol (1) para la cristalización de silicio, que comprende:

a) proveer un cuerpo de base (2) que comprende una superficie inferior (21) y paredes laterales (22) que definen un volumen interior; y

b) aplicar un revestimiento protector (3) que comprende del 80% al 95% en peso de nitruro de silicio y del 5 al 20% en peso de un aglutinante mineral de baja temperatura, seleccionado del grupo constituido por

-: aglutinantes que comprende partículas submicrónicas y/o nanopartículas de sílice adaptadas para formar una suspensión, tales como sílice coloidal,

el contenido total de oxígeno siendo mayor al 5% en peso, en la superficies de las paredes laterales (22) orientadas hacia el volumen interior.

9. El procedimiento de conformidad con la reivindicación 8, caracterizado además porque comprende el paso adicional c) de calentar el crisol revestido a una temperatura inferior a la temperatura de oxidación del nitruro de silicio.

10. El procedimiento de conformidad con la reivindicación 8 ó 9, caracterizado además porque el paso b) se lleva a cabo por aspersión.

11. Un crisol para la cristalización de silicio obtenible por el procedimiento de la reivindicación 8.