ES2335693T3 - Procedimiento para la fabricacion de estructuras metalicas formadoras de dibujos sobre un sustrato portador. - Google Patents
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Abstract
Procedimiento para la fabricación de estructuras metálicas para la formación de dibujos sobre un sustrato portador, que comprenden las siguientes etapas de procedimiento: a) disponer el sustrato portador, b) formar el dibujo sobre el sustrato portador utilizando material compuesto que contiene metal dispersado, en el que el metal dispersado es menos noble que el cobre; c) llevar el sustrato portador con el dibujo formado sobre el mismo por el material compuesto en la etapa de procedimiento b. a establecer contacto con iones de haluro; y d) depositar posteriormente por reacción de intercambio de cargas una capa de cobre sobre el dibujo formado por el material compuesto, de manera que se producen estructuras de metal.
Description
Procedimiento para la fabricación de
estructuras metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato
portador.
La presente invención se refiere a un
procedimiento para la fabricación de estructuras metálicas
formadoras de dibujos sobre un sustrato portador, más
específicamente para la fabricación de una antena para operativa
RFID (Identificación por Radio Frecuencia) en la gama de UHF.
Durante varias décadas, la tecnología RFID ha
sido una tecnología para dispositivos antirrobo de tipo electrónico,
sin contactos, aplicable en almacenes (EAS: vigilancia electrónica
de artículos). En el caso más simple, un dispositivo adecuado para
aplicaciones RFID consiste en las antenas de un dispositivo lector o
de un detector, así como medios de seguridad o una etiqueta a la
cual se hace referencia también como transpondedor. Por lo tanto,
el dispositivo de lectura sirve para producir un campo
electromagnético y también para detectar el campo modificado por el
transpondedor. En este caso, el transpondedor utilizado es un
oscilador (LC) influyendo por efectos de resonancia en el campo
magnético alternativo del dispositivo lector al pasar por delante de
sus antenas. Como resultado, la caída de voltaje en una bobina del
generador del dispositivo de lectura cambia ligeramente indicando,
por lo tanto, la presencia del transpondedor en el campo alterno del
dispositivo lector. No obstante, este tipo de transpondedores de 1
bit son adecuados solamente para las aplicaciones mencionadas o para
otras similares.
Para otras aplicaciones, por ejemplo para la
utilización en la identificación de billetes de banco, animales,
pacientes, artículos y gestión de inventarios, como sistema de
acceso, en identificación de posición, y como sistema inmovilizador
electrónico, los transpondedores de 1 bit, anteriormente conocidos,
no son apropiados, puesto que solamente contienen la información
"presente" o "no presente", pero no contienen otras
informaciones más complejas. Para estos objetivos, los
transpondedores deben tener soportes de datos para almacenar la
información deseada. Habitualmente, la memoria de un semiconductor
electrónico (chip) es utilizada como soporte de datos. Para
permitir la lectura de la información almacenada desde el soporte de
datos, el transpondedor debe ser situado en la proximidad del
dispositivo lector. También es conocido el disponer una batería para
que el transpondedor haga funcionar el chip. No obstante, esto es
oneroso y, por lo tanto, no es posible para muchas aplicaciones.
Por lo tanto, la energía almacenada en el campo electromagnético
transmitida por el dispositivo lector puede ser utilizada en vez de
una batería eléctrica. Para este objetivo, la energía absorbida por
la antena del transpondedor es rectificada y suministrada al
chip.
En muchos casos, el dispositivo lector ha
utilizado campos alternativos en un rango de frecuencia que llega
hasta varias decenas de MHz. La frecuencia típicamente utilizada es
de 13,56 MHz. La longitud de onda de esta realización varía desde
varias decenas hasta varios miles de metros (13,56 MHz: 22,1 m).
Dado que cuando se utiliza radiación electromagnética a una
frecuencia de 13,56 MHz, el transpondedor de manera típica se
encuentra todavía en la zona próxima al dispositivo lector, el campo
emitido por el dispositivo lector en el lugar del transpondedor
tiene que ser considerada como campo magnético alternativo. De
acuerdo con ello, la transmisión de potencia entre la antena del
lector y el transpondedor se consigue de manera similar que con el
transpondedor de 1 bit. El campo magnético alternativo está
influenciado por la modulación de carga en el transpondedor, de
manera que el cambio inducido por la modulación de la carga es
también detectable en el dispositivo lector. Esta modulación de
carga lleva la información suministrada por el chip.
Los sistemas RFID que funcionan en la gama de
frecuencias que llegan hasta varias decenas de MHz requieren
antenas muy grandes. Además, la eficacia de esta técnica es muy
baja. Esto, no obstante, es desventajoso en muchas aplicaciones.
Por lo tanto, se han desarrollado sistemas que funcionan en la gama
de frecuencias de UHF (UHF: frecuencia ultraelevada, cuya
frecuencia se debe comprender en general en una gama de 0,3 a 3 GHz,
longitud de onda: 10 cm - 1 m). Las frecuencias de UHF reservadas
para RFID son de 868 MHz en Europa y 915 MHz en USA. Dado que la
distancia que separa al transpondedor con respecto al dispositivo
lector es en este caso considerablemente mayor que la longitud de
onda, la antena del transpondedor no se encuentra en el campo
próximo de la antena emisora del dispositivo lector. Como
consecuencia, el campo emitido por el dispositivo lector en el
lugar del transpondedor no puede ser considerado un campo magnético
alternativo. La radiación electromagnética emitida por el
dispositivo lector es reflejada por la antena del transpondedor. Al
cambiar la resistencia de carga en el transpondedor, su capacidad
de reflexión puede ser modificada de manera que la información
almacenada en el chip es modulada a la radiación electromagnética
reflejada y de este modo puede ser recibida por el dispositivo
lector.
Se han realizado numerosas propuestas para
fabricar transpondedores para aplicaciones RFID. En muchos casos,
uno de los criterios de evaluación más importantes del procedimiento
ha sido el bajo coste de fabricación de las estructuras de antena.
A este respecto, se han hecho muchas propuestas:
El documento DE 102 29 166 A1 da a conocer, por
ejemplo, un procedimiento para la fabricación de una capa metálica
estructurada que comprende, como mínimo, las siguientes etapas:
disponer un cátodo sobre la superficie del cual se definen áreas
conductoras y no conductoras que forman una estructura de protección
o máscara y un ánodo, estando dispuestos dicho cátodo y dicho ánodo
en un electrolito que contiene un metal de sustrato, aplicar un
voltaje entre el cátodo y el ánodo, depositar el metal del sustrato
sobre áreas conductoras del cátodo, disponer una capa portadora y
llevar dicha capa portadora en contacto con la superficie del cátodo
y transferir el metal del sustrato depositado sobre el cátodo sobre
la capa portadora, preservando la capa metálica estructurada. Con
este objetivo, un tambor de acero inoxidable que es dotado de una
estructura de protección o máscara realizada en un material
plástico o cerámica, es utilizado, por ejemplo, como cátodo. La
estructura de cobre, que es formada depositando cobre sobre el
tambor, es dotada de un adhesivo y a continuación prensada contra
un elemento laminar de papel o de plástico como capa portadora,
siendo transferida la estructura de cobre al elemento laminar.
El documento DE 101 45 749 B1 da a conocer un
procedimiento de fabricación de una capa metálica sobre un cuerpo
portador en el que una capa adhesiva es aplicada, por lo menos,
parcialmente, sobre una superficie de dicho cuerpo portador,
depositándose una capa metálica o polvo metálico sobre la superficie
del cuerpo portador dotada de una capa adhesiva, siendo fijado
dicho elemento laminar metálico o material en polvo a dicha capa
adhesiva y a continuación las áreas del elemento laminar metálico o
polvo que no se adhieren a la capa de adhesivo son eliminadas
mecánicamente de manera que las áreas del elemento laminar metálico
o de polvo que se adhieren a la capa adhesiva permanecen como
estructura sobre el cuerpo portador. Con este objetivo, un cuerpo
portador realizado en un material plástico es dotado, por ejemplo,
de un adhesivo. A continuación, un elemento laminar metálico, por
ejemplo, de cobre, es aplicado a la capa adhesiva. A continuación la
capa de cobre, que ha sido aplicada a las áreas portadoras que no
han sido dotadas de recubrimiento de adhesivo, es eliminada
mecánicamente, por ejemplo, por cepillado. La capa de cobre
estructurada puede ser reforzada químicamente y/o por recubrimiento
electrolítico. En una variante alternativa del procedimiento, la
capa metálica puede ser también aplicada prensándola sobre el
elemento laminar de plástico, utilizándose un troquel estructurado
con este objetivo. La capa metálica se adhiere en las zonas en las
que el troquel prensa la capa metálica sobre el elemento laminar de
plástico. A continuación, la capa metálica que no ha sido prensada
es eliminada mecánicamente, por ejemplo, por cepillado.
En el documento DE 100 65 540 B1 se describe un
procedimiento de fabricación de un conductor en forma de banda o
fleje sobre el sustrato, en el que el conductor en forma de fleje es
pulverizado sobre aquél como suspensión de partículas metálicas
utilizando una protección o máscara o un dispositivo de
pulverización enfocado. La suspensión de partículas metálicas
contiene, como mínimo, una fracción de partículas de cobre. La
suspensión es una especie de laca que es pulverizada con grosor que
aumenta progresivamente sobre la superficie del sustrato.
El documento DE 101 24 772 C1 da a conocer un
método para la formación de una antena montada en un chip
semiconductor en el que una capa de antena estructurada fabricada a
partir de un material de soldadura queda constituida adoptando la
forma de una antena sobre un portador con dicho chip semiconductor
aplicado posteriormente sobre dicho portador y soldado a dicha capa
de antena y dicha capa de antena es fundida formando la antena. Una
pasta de soldadura que contiene preferentemente partículas de
soldadura realizadas a partir de un material que contiene, como
mínimo, de manera aproximada, una composición eutéctica, por
ejemplo, una aleación o un compuesto intermetálico que contiene,
como mínimo, uno de los elementos del grupo de Sn, In, Bi y Ga se
utiliza para este objetivo. La pasta de soldadura es impresa sobre
dicho portador.
El documento DE 101 45 750 A1 describe un método
para la fabricación de una capa metálica sobre un cuerpo portador
en el que se aplican partículas conductoras a una superficie del
cuerpo portador, de manera que se fijen sobre el mismo, y dicho
cuerpo portador con las partículas es recubierto químicamente con
metal y/o por medios electrolíticos en un baño de recubrimiento
metálico para formar la capa metálica. Con este objetivo, se
deposita en primer lugar una capa adhesiva estructurada sobre la que
se han fijado las partículas conductoras, tales como partículas de
cobre o de hierro, por ejemplo, sobre el cuerpo del portador. A
continuación, el cuerpo del portador. A continuación, el cuerpo
portador con las partículas fijadas a la capa de adhesivo es
colocado en un baño de recubrimiento metálico, formándose una capa
metálica químicamente y/o por medios electrolíticos sobre las
partículas yuxtapuestas. En vez de la capa adhesiva, se puede
utilizar también un cuerpo portador dotado de características
adhesivas. La capa metálica producida químicamente y/o por medios
electrolíticos puede ser, por ejemplo, una capa de
cobre.
cobre.
El documento DE 102 54 927 A1 da a conocer un
método de fabricación de estructuras conductoras sobre un soporte
en el que una superficie del soporte es cubierta inicialmente, por
lo menos de forma parcial, con partículas conductoras, a
continuación se deposita una capa de pasivado sobre la capa de
partículas formada por las partículas conductoras, estando formada
dicha capa de pasivado como negativo de la estructura conductora y
finalmente la estructura conductora es formada en las áreas que no
han sido cubiertas por la capa de pasivado. Con este objetivo, una
capa no conductora realizada preferentemente a partir de partículas
de hierro es aplicada en primer lugar por soplado, pulverización o
impresión sobre la totalidad de la superficie del portador. No
habría conductividad eléctrica entre partículas conductoras
adyacentes dado que éstas tendrían una superficie no conductora.
Las partículas se adhieren al portador, por ejemplo, por medio de un
adhesivo. A continuación, la capa de pasivado es aplicada tal como
por impresión. Las zonas desnudas pueden ser entonces cobreadas con
un baño de cobre por intercambio iónico, de manera que el hierro que
no es metal noble es intercambiado por el cobre que es un metal más
noble.
El documento DE 35 15 985 A1 se refiere a la
fabricación de un recubrimiento soldable sobre un sustrato,
comprendiendo el método, la aplicación de una capa de metal
soldable en forma de tiras conductoras y/o zonas de contacto sobre
un sustrato aislante eléctricamente. El método comprende la
aplicación de una primera capa de un barniz eléctricamente
conductor en forma de tiras conductoras y/o áreas de contacto sobre
el sustrato, conteniendo el barniz entre otras partículas de
metales, efectuando el curado de la primera capa y sumergiendo el
sustrato que lleva la primera capa curada en una solución que
contiene iones de un metal soldable para depositar químicamente una
segunda capa de metal sobre la primera capa. Las partículas
metálicas del barniz pueden ser, por ejemplo, partículas de hierro.
La solución puede ser ácida y puede contener, por ejemplo, ácido
sulfúrico e iones de cobre. La solución puede ser, de manera
alternativa, una solución de cloruro de cobre.
El problema que subyace en la presente invención
es que las características de transmisión de las antenas fabricadas
utilizando los métodos conocidos no son satisfactorios, en
particular si se utilizan dentro del rango UHF.
Por lo tanto, es un objetivo de la presente
invención dar a conocer un método para la fabricación de estructuras
metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato portador.
De manera más específica, es un objetivo de la
presente invención dar a conocer un método para la fabricación de
estructuras metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato
portador a utilizar como antena para operativa RFID.
Oro objetivo de la presente invención consiste
en dar a conocer un procedimiento de fabricación de estructuras
metálicas para la formación de dibujos sobre un sustrato portador a
utilizar como antena para operativa RFID utilizando radiación en el
rango de frecuencia UHF o MW.
Otro objeto de la presente invención consiste en
dar a conocer un método para la fabricación de estructuras
metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato portador a
utilizar como antena para operativa RFID, cuya antena permite
conseguir de manera muy fiable una distancia de transmisión
suficientemente grande entre un lector que emite activamente
radiación RFID y un transpondedor en el que se utiliza la antena
para recibir y emitir la radiación RFID.
Otro objetivo de la presente invención consiste
en dar a conocer un procedimiento para la fabricación de estructuras
metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato portador
utilizado como antena para operativa RFID, utilizando un
procedimiento con bajo coste de fabricación apropiado para la
fabricación en masa de transpondedores.
Otro objetivo de la presente invención consiste
en dar a conocer un procedimiento para la fabricación de estructuras
metálicas formadoras de dibujo sobre un sustrato portador, en el
que el procedimiento es muy fiable, en particular en condiciones de
fabricación.
Otro objetivo adicional de la presente invención
consiste en dar a conocer un procedimiento para la fabricación de
estructuras metálicas formadoras de dibujos sobre un sustrato
portador, en el que el procedimiento permite la fabricación de
estructuras metálicas suficientemente adherentes al sustrato.
Estos objetivos se consiguen mediante el
procedimiento según la reivindicación 1. Realizaciones preferentes
de la invención se definen en las reivindicaciones dependientes.
El aspecto más importador de la presente
invención se refiere a un procedimiento de fabricación de
estructuras metálicas formadoras de dibujo sobre un sustrato
portador.
Otro aspecto de la presente invención se refiere
a un procedimiento para la fabricación de estructuras metálicas
formadoras de dibujos sobre un sustrato portador que se utiliza como
antena para aplicaciones RFID, preferentemente para funcionamiento
en UHF o MW.
El procedimiento de la invención para la
fabricación de estructuras metálicas formadoras de dibujos sobre un
sustrato portador comprende las siguientes etapas de
procedimiento:
a) disponer el sustrato portador,
b) formar el dibujo sobre el sustrato portador
utilizando material compuesto que contiene metal dispersado, en el
que el metal dispersado es menos noble que el cobre;
c) llevar el sustrato portador con el dibujo
formado sobre el mismo por el material compuesto en la etapa de
procedimiento b) a establecer contacto con iones de haluro; y
d) depositar posteriormente por reacción de
intercambio de cargas una capa de cobre sobre el dibujo formado por
el material compuesto, de manera que se producen estructuras de
metal.
El procedimiento de la invención sirve en
particular para fabricar antenas para aplicaciones RFID,
principalmente en el rango UHF. Una estructura de antena prevista
para este objetivo adopta, por ejemplo, la forma de dos ramas en
forma de U con la longitud de las respectivas patas que es, por
ejemplo, algo menos de 10 cm, estando conectada cada una de las dos
ramas con un componente semiconductor especial que comprende el
circuito eléctrico necesario para el funcionamiento de un
transpondedor. Para la conexión del componente semiconductor a la
estructura de la antena se pueden disponer patillas de conexión en
cada rama en la que el componente semiconductor establece contacto,
por ejemplo, por adherencia de manera directa o a través de tiras
portadoras de chips (intercalador ("interposer"), bandas,
paquetes de transferencia de chips ("flip chip packages")).
El método de la invención tiene la ventaja de
que permite conseguir de manera muy fiable una distancia de
transmisión suficientemente grande entre un dispositivo de lectura
que emite de manera activa la radiación RFID y el transpondedor,
aunque funcione en el rango UHF y MW. UHF, tal como se utiliza en
esta descripción, de acuerdo con la invención, se refiere a
radiación electromagnética en un rango de frecuencia comprendido
aproximadamente entre 500 MHz y aproximadamente 1,5 GHz. El término
MW utilizad en esta descripción, según la invención, se refiere a
radiación de microondas, es decir, radiación electromagnética en una
frecuencia superior aproximadamente a 1,5 GHz. Una distancia grande
de transmisión, por ejemplo una distancia de hasta 3 m, se consigue
ya con una potencia de radiación muy baja del dispositivo de lectura
de unos 500 mW aproximadamente. Con una antena UHF realizada por
ataque químico sobre un material recubierto de cobre de modo
convencional (grosor de capa de cobre de 5 \mum, 15 \mum o 35
\mum) o con una antena de UHF realizada a partir de cobre
depositado químicamente sobre pastas catalíticas o con una antena
UHF realizada únicamente a partir de una pasta de plata o con una
antena UHF realizada químicamente y electrolíticamente con un grosor
de capa de cobre de 5 \mum, 10 \mum, 15 \mum o 30 \mum con
el mismo dibujo, una distancia de transmisión tan grande ha sido
conseguida solamente en casos individuales y no ha sido
reproducible.
Además, el procedimiento es extremadamente
eficaz en cuanto a costes, dado que los materiales utilizados son
muy económicos y dado que el procedimiento puede ser llevado a cabo
a gran escala técnica con buena capacidad de reproducción.
Los iones de haluros son preferentemente iones
de cloruros, bromuros o yoduros, más específicamente iones de
cloruros. Los iones de haluro pueden ser proporcionados, por
ejemplo, por una sal de haluro. La sal de haluro puede ser, por
ejemplo, una sal alcalina, una sal de un metal alcalinotérreo o una
sal de un metal pesado, más específicamente una sal de hierro (II)
y/o hierro (III).
Los iones de haluros contenidos en una solución,
la solución de preinmersión, contiene posiblemente, de manera
adicional, como mínimo un ácido. La solución de preinmersión es
preferentemente acuosa. El ácido puede ser en particular un ácido
mineral, pero básicamente también un ácido orgánico. El ácido
mineral puede ser más específicamente ácido sulfúrico. Si el ácido
mineral es ácido clorhídrico, se puede prescindir de otra fuente de
iones haluro.
Una realización preferente de la solución de
preinmersión es una solución acuosa de cloruro de hierro (III) que
puede contener ácido sulfúrico en particular. De manera alternativa,
se puede utilizar una solución acuosa que contiene sulfato de
hierro (II) y una sal de un cloruro alcalino, tal como cloruro
sódico, así como un ácido, tal como ácido sulfúrico.
La solución de preinmersión funciona a una
temperatura incrementada, preferentemente comprendida, por ejemplo,
entre unos 30º y unos 70ºC, más preferentemente entre unos 40 y unos
50ºC.
Si la solución de preinmersión que contiene la
fuente de iones haluro es utilizada, de acuerdo con el procedimiento
de la invención, de forma separada para el pretratamiento del
dibujo formado por el material compuesto, se consigue una gran
distancia de transmisión desde el dispositivo lector al
transpondedor en funcionamiento UHF y MW, aunque la potencia de
radiación del dispositivo de lectura se ajuste a un valor muy bajo,
por ejemplo de 500 mW aproximadamente. Se ha demostrado en este
caso que la resistencia eléctrica de la estructura de la antena es
muy baja y que asciende a 1-5 \Omega de manera
típica, dependiendo del dibujo de la estructura de la antena.
Además, la capa de metal depositada se adhiere bien al material
compuesto: llevando a cabo una prueba de pelado utilizando una
cinta adhesiva no se destruye la capa de metal del material
compuesto. Por lo tanto, no se dificulta la resistencia
eléctrica.
No obstante, si el dibujo establece contacto con
los iones de haluro simultáneamente con el depósito del metal y no
antes del mismo, al combinar las etapas de método c) y d), la
resistencia eléctrica del dibujo es superior en un factor de
10-100 con referencia a cuando el sustrato portador
es llevado a establecer contacto con iones de haluro antes del
depósito del metal. Además, en este caso, dicha capa de metal
depositada no se adhiere lo suficientemente fuerte al material
compuesto. Si se lleva a cabo una prueba de pelado, la capa de metal
puede ser separada virtualmente de forma completa por pelado del
material compuesto y se pega a la cinta utilizada para llevar a
cabo la prueba de pelado. De acuerdo con ello, la conductividad
eléctrica del dibujo queda alterada. La adherencia insuficiente de
la capa de metal depositada al material compuesto sobre el sustrato
portador hace dicho dibujo inutilizable, dado que además de la
requerida distancia grande de transmisión en funcionamiento UHF y
MW también se requiere un mínimo de resistencia
del transpondedor con respecto a la exposición mecánica si el transpondedor es utilizado como etiqueta sin contacto.
del transpondedor con respecto a la exposición mecánica si el transpondedor es utilizado como etiqueta sin contacto.
Si el sustrato portador no se lleva en contacto,
en absoluto, con iones de haluro, solamente se consigue una
distancia de transmisión muy corta. Esto excluirá los
transpondedores fabricados de este modo para su utilización en un
funcionamiento razonable en UHF y MW. Se ha descubierto que la
resistencia eléctrica de la estructura de la antena es muy elevada
en este caso, mientras que es muy baja si se lleva a cabo el
procedimiento de la invención con las cuatro etapas del método,
siendo entonces la resistencia eléctrica, por ejemplo, más baja en
un factor aproximadamente de 100-1000 que cuando el
dibujo no es llevado a establecer contacto en absoluto con los
iones de haluro.
No obstante, se demuestra que no será suficiente
minimizar la resistencia eléctrica para conseguir una distancia de
transmisión grande, dado que el depósito de una capa de cobre gruesa
sobre el dibujo formado por el material compuesto no proporcionará
un rendimiento satisfactorio de la estructura de la antena.
Además, se ha descubierto que el llevar el
sustrato que soporta el material compuesto en forma de dibujo a
establecer contacto con una solución de preinmersión que contiene
iones de haluro es ventajoso en comparación con llevar el sustrato
a establecer contacto con haluro durante la etapa de depósito
metálico, sin contacto previo del mismo con una solución de
preinmersión que contiene haluro. Esto resulta del hecho de que la
distancia de transmisión que se puede conseguir será mayor y que la
adherencia de las estructuras metálicas fabricadas sobre el
sustrato portador será más elevada en el primer caso que en el
segundo caso.
En la etapa de método d), el metal es depositado
por medio de una reacción de intercambio de carga. El metal se
deposita, de este modo, sobre el dibujo formado por el material
compuesto, mientras que el metal dispersado contenido en el
material compuesto se disuelve de manera simultánea.
El metal depositado es más específicamente
cobre. Se obtiene una conductividad eléctrica particularmente
elevada del dibujo dotado de recubrimiento con la capa de cobre si
el cobre es depositado por medio de una solución ácida que contiene
iones de cobre. De manera más específica, se puede utilizar para el
depósito una solución del sulfato de cobre con ácido sulfúrico. Se
ha descubierto además que s ventajoso depositar cobre, de manera
más específica, por reacción de intercambio de cargas por medio de
una solución que contiene, como mínimo, un agente formador de
complejo para el cobre. El agente formador de complejo puede formar
complejos más específicamente en medio ácido o en medio alcalino.
En medio ácido se puede utilizar un agente formador de complejo de
ácido fosfórico, tal como ácido
1-hidroxietiliden-1,1-difosfónico
y en medio alcalino trietanolamina.
El cobre se deposita sobre el material compuesto
preferentemente con un grosor que no supera 5 \mum, más
preferentemente con un grosor que no supera 2 \mum, e incluso de
manera más preferente con un grosor comprendido entre 0,8 y 1,8
\mum.
Se ha descubierto que la distancia de
transmisión depende en gran medida del grosor de la capa de cobre
depositada. Si la capa de cobre es demasiado gruesa, por ejemplo,
con un grosor de 10 \mum, la conductividad eléctrica de la
estructura de antena formada es muy elevada. No obstante, la
distancia de transmisión que se puede conseguir es muy baja y
disminuye adicionalmente al aumentar el grosor de la capa de
cobre.
Si, como contraste, no se deposita metal sobre
el dibujo formado por el material compuesto y si el material
compuesto con la carga del metal dispersado se utiliza solo para
formar una estructura de antena, no se puede transmitir señal en
absoluto. Por esta razón, por una parte se debe disponer un
recubrimiento metálico en el dibujo. Por otra parte, es ventajoso
un recubrimiento con un reducido grosor de recubrimiento.
En la selección del metal dispersado en el
material compuesto se ha descubierto que debe ser menos noble que
el metal depositado en la etapa del procedimiento d),
preferentemente cobre. Los metales dispersados especialmente
ventajosos son seleccionados del grupo que comprende hierro,
aleaciones a base de hierro, zinc y aleaciones a base de zinc,
preferentemente si el cobre es el metal depositado en la etapa d)
del método. El hierro, en particular hierro de alta pureza es un
metal dispersado especialmente ventajoso. Para la fabricación del
material compuesto se ha descubierto que es ventajoso un polvo de
hierro fabricado a partir de hierro carbonilo. El procedimiento
utilizado para este objetivo es similar al procedimiento Mond
desarrollado para el polvo de níquel preparado a partir de níquel
carbonilo. Este material en polvo puede tener en particular un
tamaño de partículas que no supera aproximadamente 6 \mum. El
grosor del recubrimiento del dibujo formado por el material
compuesto es, por ejemplo, unas 10 \mum directamente después de
impresión. En estas condiciones en particular es preferible un
tamaño de partículas no superior a unos
6 \mum.
6 \mum.
Además del metal dispersado, el material
compuesto puede contener también partículas de carbón eléctricamente
conductoras, tales como partículas de hollín conductor y partículas
de negro de carbón. Estas partículas influyen ventajosamente, por
ejemplo, a la capacidad de impresión del material compuesto.
El material compuesto puede contener, como
mínimo, un aglomerante seleccionado entre el grupo que comprende
resinas epoxi, resinas de poliuretano y resinas acrílicas. Con esta
finalidad, se puede utilizar, por ejemplo, un sistema aglomerante
polímero, tal como el que está contenido en una tinta de impresión
por serigrafía de tipo comercial. Para el curado del sistema
aglomerante, se puede añadir justamente antes de la impresión un
endurecedor adecuado basado en resina alifática o aromática de
poliisocianato. Cuando es necesario, la viscosidad adecuada para
una aplicación, por ejemplo, impresión, se ajusta añadiendo un
agente de dilución, tal como acetato de etilo. Las medidas
anteriores permiten formular el material compuesto como una pasta
eléctricamente conductora.
La impresión por serigrafía se ha descubierto
que es particularmente adecuada como método de impresión.
Básicamente, la impresión por grabado puede ser también utilizada.
Se ha observado que es suficiente un grosor de recubrimiento húmedo
de 10 \mum aproximadamente. Una estructura de antena acabada de
imprimir, secada a temperatura ambiente no tiene todavía
conductividad eléctrica medible y, por lo tanto, no es adecuada para
su utilización como antena de un transpondedor. Solamente en
recubrimiento metálico posterior hace operativa la antena. El
tratamiento adicional de la invención con iones de haluro es
necesario en particular cuando se utiliza dentro de un rango
de
UHF.
UHF.
Después de la formación, el dibujo formado por
el material compuesto puede ser gelificado, preferentemente a
temperatura ambiente. A continuación, el dibujo es llevado a
establecer contactos con los iones haluro y finalmente se deposita
el metal. Si el tiempo transcurrido entre la impresión del dibujo y
el depósito del metal sobre el mismo es superior a dos horas, los
iones haluro impiden adicionalmente el depósito retardado que se
produce de otro modo durante el intercambio de carga y provocan que
el metal se deposite inmediatamente después de que el dibujo ha
sido llevado a establecer contacto con la solución.
Después del depósito del metal, el dibujo dotado
de recubrimiento es revenido preferentemente a una temperatura más
elevada. La temperatura de revenido es suficientemente baja para que
el sustrato portador no sea alterado (revenido tolerado por el
material de base). Este tratamiento de revenido puede tener lugar
inmediatamente después del depósito del metal aproximadamente a una
temperatura de 120 a 140ºC si se utiliza polietilen tereftalato
como sustrato portador y puede durar aproximadamente de 2 a 3
minutos. Durante este periodo de tiempo, las partículas de metal
dispersadas, más específicamente partículas de hierro y los núcleos
de metal, más específicamente los núcleos de cobre, generadas
durante la radiación de intercambio de carga se incorporan de manera
fiable en una matriz de polímero de reticulación térmica del
aglomerante en el material compuesto.
Si la capa de metal formada por medio de la
reacción de intercambio iónico se debe reforzar todavía más, ello
se puede conseguir por depósito de metal no electrolítico (sin
fuente de corriente externa) y/o por recubrimiento electrolítico,
por ejemplo, por recubrimiento electrolítico de cobre, por ejemplo,
en un baño de recubrimiento de cobre ácido que contiene ácido
sulfúrico, ácido metansulfónico, ácido amidosulfúrico o ácido
pirofosfórico o una mezcla de algunos o todos estos ácidos. Para
depósitos de metal por electrolisis sobre este tipo de dibujos
aplicados a un sustrato portador de tipo banda o cinta, se puede
utilizar el aparato descrito en el documento DE 103 42 512 A, cuyo
aparato estará dotado, como mínimo, con un electrodo de contacto
para la pieza a trabajar y, como mínimo, una zona de electrolisis
en la que, como mínimo, un contraelectrodo y la pieza a trabajar
son llevados a establecer contacto con el líquido de proceso,
quedando dispuesto el electrodo de contacto fuera de la zona de
electrolisis y sin contacto con el líquido de proceso y estando
separados dicho electrodo de contacto y dicha zona de electrolisis
entre sí para permitir el tratamiento electrolítico de pequeñas
estructuras eléctricamente conductoras. Se ha descubierto que es
ventajoso terminar con un tratamiento térmico aproximadamente a
120ºC durante unos 2 a 3 minutos después del tratamiento de
recubrimiento electrolítico a efectos de conseguir una resistencia
uniforme de la unión. Se ha descubierto, no obstante, que, después
del depósito del metal por reacción de intercambio de cargas, la
necesidad de depósito de metal adicional sin electrolisis y/o
depósito de metal por electrolisis por recubrimiento electrolítico
se pueden evitar
fácilmente.
fácilmente.
El sustrato portador consiste preferentemente,
como mínimo, de un material seleccionado entre el grupo que
comprende polietilen tereftalato, cloruro de polivinilo,
policarbonato, polietilen naftalato y papel impregnado.
Antes de aplicar el dibujo, el sustrato portador
es habitualmente limpiado y secado nuevamente según necesidades. Lo
mismo es aplicable al sustrato portador dotado del dibujo. Entre las
etapas de tratamiento el sustrato es lavado para eliminar la
solución adherida.
En caso de que el dibujo es reforzado por
recubrimiento electrolítico, la resistencia de la unión sobre el
polietilen tereftalato se ha determinado que es de 4 N/cm^{2 }en
la prueba de pelado. Por el contrario, con pastas conductoras de
plata reforzadas por recubrimiento electrolítico, los valores de la
resistencia de la unión que se consiguieron fueron solamente de 2
N/cm^{2}.
Para mejor comprensión de la invención se
explicarán a continuación algunos ejemplos.
La figura 1 muestra un dibujo para una
estructura de antena.
Para todas las pruebas que se indican a
continuación se escogieron las siguientes condiciones:
Sobre una lámina portadora consistente en un
material de polietilen tereftalato se imprimió por serigrafía con
pasta una estructura de antena para el funcionamiento UHF. La
estructura de antena es la mostrada en la figura 1. La estructura
de antena consiste en dos ramas de la antena (1, 2) que están
conectadas por soldadura a una banda (5) portadora de chip en
patillas de conexión (3, 4). La banda (5) portadora del chip lleva
un componente semiconductor (6).
La pasta contenía aproximadamente el 70% en peso
de polvo de hierro con un tamaño de partículas de
2-6 \mum, el 24% en peso de un aglomerante basado
en una resina de poliuretano a la que se añadió un endurecedor y un
agente de dilución para ajustar la viscosidad añadidos justamente
antes de la impresión. El grosor de recubrimiento en húmedo era
aproximadamente de 10 \mum. Después de la serigrafía el sustrato
portador con la estructura de antena impresa sobre la misma fue
gelificado durante 0,1-1 hora a temperatura
ambiente.
Después de ello, el sustrato portador impreso
fue tratado de acuerdo con la tabla 1.
La antena producida de este modo, estructurada
sobre el sustrato portador, fue conectada a continuación por
soldadura a un componente semiconductor montado en una banda
portadora de chip (banda portadora de chip UHF con un chip de
conexión Philips).
A continuación, la resistencia eléctrica entre
las dos patas de un ramal de la estructura de antena fue medida (en
los lugares indicados (3) y (7) de la figura 1). Además, se
determinó la distancia de transmisión que se podía conseguir
utilizando un dispositivo lector de SAMSys Technologies, Canadá, que
tenía una potencia de emisión de 500 mW
o 3 W.
o 3 W.
\newpage
Ejemplos comparativos A hasta
C
Se indican en la tabla 2 los compuestos de
soluciones de preinmersión que no contienen haluro (ejemplos
comparativos A y B) y una composición de una solución de depósito
de metal que contiene iones haluro (ejemplo comparativo C), así
como los valores de la resistencia y valores de la prueba de pelado
obtenidos. En los ejemplos comparativos A y B se han utilizado
soluciones de depósito de metal que tenia la siguiente composición:
216 g/l CuSO_{4} \cdot 5 H_{2}O, 50 ml/l H_{2}SO_{4},
concentrado. En el ejemplo comparativo C no se llevó a cabo la
etapa de procedimiento C), es decir, el sustrato portador no fue
pretratado en una solución de preinmersión.
Utilizando un chip Philips
i-connect y un dispositivo lector SAMSys 500 mW no
se pudo localizar transferencia de potencia con ninguna de las
estructuras de antena fabricadas en los ejemplos comparativos A y B.
Como consecuencia, la distancia de transmisión fue de 0 m. Los
valores de resistencia eléctrica medidos en las estructuras de
antena producidos como en los ejemplos A, B y C fueron relativamente
elevados. Además, la resistencia de unión del dibujo al sustrato se
comprobó aplicando una cinta adhesiva al dibujo y efectuando pelado
aproximadamente en ángulo recto con respecto al sustrato. Si se
observó cobre pegado a la cinta, se consideró que la resistencia de
la unión no era suficientemente elevada. Tal como indica la tabla 2,
la resistencia de la unión era satisfactoria en los ejemplos
comparativos A y B, pero no era satisfactoria en el ejemplo
comparativo C.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplos
1-18
Se indican en la tabla 3 compuestos de
soluciones de preinmersión, según la invención, conteniendo haluros
y también los valores de resistencia obtenidos. La prueba de pelado
realizada con todas las estructuras de antena indicó una unión
suficientemente resistente de la capa de cobre depositado al
material compuesto.
De los datos de prueba, se muestra que
utilizando una solución de preinmersión que contiene haluro, la
resistencia eléctrica es claramente reducida con respecto a la
utilización de una solución de preinmersión sin haluro. Si esta
solución de preinmersión no contiene ácido, la resistencia eléctrica
aumenta también ligeramente.
\vskip1.000000\baselineskip
En otro ejemplo, la distancia de transmisión fue
medida con antenas realizadas de acuerdo con el procedimiento de la
invención. Las condiciones de fabricación eran idénticas a las
condiciones preferentes. La solución de preinmersión contenía: 250
ml/l H_{2}SO_{4}, concentrado, 10 g/l FeCl_{3} \cdot 6
H_{2}O (correspondiente al ejemplo 1).
Utilizando un chip Philips
i-connect y un dispositivo lector SAMSys 500 mW se
obtuvieron una distancia de transmisión continua de 1,42 m y una
distancia de transmisión máxima de 1,74 m haciendo promedio de 12
antenas y utilizando una potencia de radiación del dispositivo de
lectura aproximada de 3W se consiguió una distancia de transmisión
máxima de 4,02 m.
Se comprenderá que los ejemplos y realizaciones
que se describen tienen finalidad ilustrativa solamente y que se
pueden introducir diferentes modificaciones de cambios teniendo en
cuanta lo anterior y asimismo combinaciones de características
descritas en esta solicitud para ser sugeridas por personas expertas
en la materia y se incluirán dentro del ámbito de la invención
descrita que se define por las reivindicaciones adjuntas.
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
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(Tabla pasa a página
siguiente)
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\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
Claims (24)
1. Procedimiento para la fabricación de
estructuras metálicas para la formación de dibujos sobre un sustrato
portador, que comprenden las siguientes etapas de
procedimiento:
a) disponer el sustrato portador,
b) formar el dibujo sobre el sustrato portador
utilizando material compuesto que contiene metal dispersado, en el
que el metal dispersado es menos noble que el cobre;
c) llevar el sustrato portador con el dibujo
formado sobre el mismo por el material compuesto en la etapa de
procedimiento b. a establecer contacto con iones de haluro; y
d) depositar posteriormente por reacción de
intercambio de cargas una capa de cobre sobre el dibujo formado por
el material compuesto, de manera que se producen estructuras de
metal.
\vskip1.000000\baselineskip
2. Procedimiento, según la reivindicación 1,
caracterizado porque el dibujo formado por el material
compuesto es llevado a establecer contacto con una solución que
contiene los iones de haluro y, como mínimo, un ácido.
3. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque los iones
haluro son iones cloruro, bromuro o yoduro.
4. Procedimiento, según la reivindicación 1,
caracterizado porque se deposita cobre por medio de una
solución ácida.
5. Procedimiento, según la reivindicación 4,
caracterizado porque la solución ácida contiene ácido
sulfúrico.
6. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones 1, 4 ó 5, caracterizado porque el cobre se
deposita por medio de una solución que contiene, como mínimo, un
agente de formación de complejo para el cobre.
7. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el material
compuesto contiene, como mínimo, un metal dispersado seleccionado
entre el grupo que contiene hierro, aleaciones a base de hierro,
zinc y aleaciones a base de zinc.
8. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el metal
dispersado es hierro de alta pureza.
9. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones 7 y 8, caracterizado porque el hierro es
formado a partir de hierro carbonilo.
10. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el metal
dispersado tiene dimensiones de partículas que no superan los 6
\mum.
11. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el material
compuesto contiene adicionalmente partículas de carbón
conductoras.
12. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el material
compuesto formador del dibujo es gelificado a temperatura
ambiente.
13. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el cobre
depositado sobre el material compuesto es revenido a una
temperatura incrementada.
14. Procedimiento, según la reivindicación 13,
caracterizado porque la temperatura de revenido es
suficientemente baja para no alterar el sustrato portador.
15. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el cobre es
depositado sobre el material compuesto con un grosor que no supera
los 5 \mum.
16. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el material
compuesto contiene, como mínimo, un aglomerante seleccionado entre
el grupo que contiene resinas epoxi, resinas poliuretano y resinas
acrílicas.
17. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el material
compuesto es una pasta conductora.
\newpage
18. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el dibujo
es formado sobre el sustrato portador por impresión.
19. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el dibujo
es formado sobre el sustrato portador por serigrafía.
20. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el sustrato
portador consiste, como mínimo, en un material seleccionado entre
el grupo que comprende polietilen tereftalato, cloruro de
polivinilo, policarbonato, polietilen naftalato y papel
impregnado.
21. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el dibujo
es una estructura de antena.
22. Procedimiento, según la reivindicación 21,
caracterizado porque la estructura de antena tiene patillas
de conexión dispuestas para establecer contacto con un componente
semiconductor.
23. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones 21 y 22, caracterizado porque la estructura
de antena es adecuada para recepción UHF.
24. Procedimiento, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque es adecuado
para la fabricación de antenas para utilización en RFID.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102005038392 | 2005-08-09 | ||
| DE102005038392A DE102005038392B4 (de) | 2005-08-09 | 2005-08-09 | Verfahren zum Herstellen von Muster bildenden Kupferstrukturen auf einem Trägersubstrat |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2335693T3 true ES2335693T3 (es) | 2010-03-31 |
Family
ID=37307595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES06776606T Active ES2335693T3 (es) | 2005-08-09 | 2006-08-04 | Procedimiento para la fabricacion de estructuras metalicas formadoras de dibujos sobre un sustrato portador. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8202567B2 (es) |
| EP (1) | EP1913801B1 (es) |
| JP (1) | JP4802244B2 (es) |
| KR (1) | KR101225383B1 (es) |
| CN (1) | CN101243735B (es) |
| AT (1) | ATE453310T1 (es) |
| BR (1) | BRPI0614296A2 (es) |
| DE (2) | DE102005038392B4 (es) |
| ES (1) | ES2335693T3 (es) |
| MY (1) | MY143624A (es) |
| PL (1) | PL1913801T3 (es) |
| TW (1) | TWI415534B (es) |
| WO (1) | WO2007017192A1 (es) |
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- 2005-08-09 DE DE102005038392A patent/DE102005038392B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-08-04 PL PL06776606T patent/PL1913801T3/pl unknown
- 2006-08-04 US US12/063,271 patent/US8202567B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-04 KR KR1020087003323A patent/KR101225383B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-04 DE DE602006011335T patent/DE602006011335D1/de active Active
- 2006-08-04 EP EP06776606A patent/EP1913801B1/en not_active Not-in-force
- 2006-08-04 BR BRPI0614296-6A patent/BRPI0614296A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2006-08-04 AT AT06776606T patent/ATE453310T1/de active
- 2006-08-04 WO PCT/EP2006/007734 patent/WO2007017192A1/en not_active Ceased
- 2006-08-04 CN CN200680029374XA patent/CN101243735B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-04 ES ES06776606T patent/ES2335693T3/es active Active
- 2006-08-04 JP JP2008525442A patent/JP4802244B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-07 MY MYPI20063791A patent/MY143624A/en unknown
- 2006-08-09 TW TW095129248A patent/TWI415534B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100136252A1 (en) | 2010-06-03 |
| DE102005038392B4 (de) | 2008-07-10 |
| ATE453310T1 (de) | 2010-01-15 |
| WO2007017192A1 (en) | 2007-02-15 |
| MY143624A (en) | 2011-06-15 |
| TWI415534B (zh) | 2013-11-11 |
| US8202567B2 (en) | 2012-06-19 |
| DE602006011335D1 (de) | 2010-02-04 |
| KR101225383B1 (ko) | 2013-01-22 |
| BRPI0614296A2 (pt) | 2011-03-22 |
| PL1913801T3 (pl) | 2010-06-30 |
| JP2009505383A (ja) | 2009-02-05 |
| EP1913801A1 (en) | 2008-04-23 |
| CN101243735B (zh) | 2012-09-26 |
| CN101243735A (zh) | 2008-08-13 |
| EP1913801B1 (en) | 2009-12-23 |
| DE102005038392A1 (de) | 2007-03-15 |
| JP4802244B2 (ja) | 2011-10-26 |
| KR20080033385A (ko) | 2008-04-16 |
| TW200726349A (en) | 2007-07-01 |
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