ES2340605T3 - Precursor de forma para impresion flexografica grabable por laser. - Google Patents
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Abstract
Un método para elaborar una forma para impresión flexográfica que comprende las etapas de: - Proporcionar un precursor de forma para impresión flexográfica; - Exponer el precursor en lo que respecta a la imagen a un láser para grabar una imagen en relieve en dicho precursor; donde el precursor es obtenible; (i) proporcionando al menos una capa de una composición curable sobre un substrato; (ii) curando dicha al menos una capa; donde la composición curable que forma una capa más externa comprende al menos 0,5% en peso con respecto al peso total de la composición de un compuesto de silicio orgánico que comprende al menos un grupo polimerizable.
Description
Precursor de forma para impresión flexográfica
grabable por láser.
La presente invención se refiere a un precursor
de forma para impresión flexográfica grabable por láser para el
grabado láser. La invención también se refiere a un método para la
formación de una forma para impresión flexográfica mediante grabado
láser.
La flexografía es hoy uno de los procedimientos
más importantes para la impresión y se utiliza normalmente para
tiradas de gran volumen. La flexografía se emplea para imprimir en
una variedad de sustratos, como papel, cartonaje, cartón corrugado,
películas, hojas y laminados. Los envases de aluminio y las bolsas
de supermercado son ejemplos destacados. Las superficies ásperas y
las películas estiradas pueden ser impresas económicamente sólo por
medio de la flexografía, que de hecho la hace muy apropiada para la
impresión de material de embalaje. Se utiliza una plancha de
impresión de goma o una plancha de fotopolímero flexible que lleva
la imagen de impresión en relieve. El sistema de suministro de
tinta para la flexografía se logra a través de un rodillo de
transferencia de tinta grabado
"anilox".
"anilox".
Se preparan formas para impresión flexográfica
análogas a partir de precursores de forma para impresión que
comprenden una capa fotosensible sobre un soporte o sustrato. La
capa fotosensible comprende monómeros u oligómeros etilénicamente
insaturados, un fotoiniciador y un aglutinante elastomérico. El
soporte es preferiblemente una lámina polimérica tal como el PET o
una plancha metálica delgada. La reticulación en lo que respecta a
la imagen de la capa fotosensible por la exposición a radiación
ultravioleta y/o visible proporciona un precursor de forma para
impresión de trabajo negativo que después del revelado con un
revelador adecuado (revelado acuoso, disolvente o térmico), deja un
relieve impreso, que puede ser utilizado para la impresión
flexográfica. La formación de la imagen de la capa fotosensible del
precursor de forma para impresión con radiación ultravioleta y/o
visible se lleva a cabo típicamente a través de una máscara, la cual
tiene regiones transparentes y opacas. La reticulación tiene lugar
en las regiones de la capa fotosensible en las regiones claras de la
máscara pero no se produce en las regiones de la capa fotosensible
en las regiones opacas de la máscara. La máscara es usualmente un
negativo fotográfico de la imagen impresa deseada. La forma de
impresión flexográfica elaborada de acuerdo con el procedimiento
antes descrito tiene el inconveniente de que la producción de una
máscara lleva mucho tiempo y que la estabilidad dimensional de
estas máscaras con los cambios de temperaturas o humedades
medioambientales no es satisfactoria para la impresión y el registro
del color de alta calidad. Por otra parte, el uso de máscaras por
separado en la producción de la forma para la impresión flexográfica
significa consumibles y química adicionales, con un impacto
negativo en los aspectos económicos y ecológicos del procedimiento
de producción, que son mucho más inquietantes que el tiempo
adicional requerido para la elaboración de las máscaras. Como
cuestión de hecho, en la mayoría de los casos la exposición de la
plancha y el revelado de plancha puede llegar a consumir más tiempo
que la elaboración de las máscaras.
La formación de imágenes digitales utilizando
grabado láser de precursores de forma para impresión, que elimina
la realización de una máscara de película por separado, se está
volviendo cada vez más importante en la industria de la impresión.
El precursor de forma para impresión flexográfica se hace sensible
al láser proporcionando por ejemplo una capa sensible al IR
delgada, opaca a la radiación UV y visual en la parte superior de la
capa fotopolimerizable del precursor de forma para impresión
flexográfica. Tal forma para impresión flexográfica, también
conocida como precursor de plancha de impresión flexográfica, a
veces se denomina precursor de plancha de impresión flexográfica
"digital" o "directo a la plancha". Un ejemplo de un
precursor de plancha flexo "directo a la plancha" se describe
en el documento EP-A 1 170 121. El espesor de la
capa o las capas ablativas al IR es usualmente de sólo unos pocos
\mum. La capa ablativa al IR se inscribe en lo que respecta a la
imagen utilizando un láser de infrarrojos, es decir las partes en
las que incide el rayo láser resultan arrastradas, es decir,
eliminadas. El relieve de impresión real se produce de la manera
convencional: la exposición a luz actinica (UV, visible) a través
de la máscara, siendo dicha máscara en lo que respecta a la imagen
opaca a la luz que induce la reticulación, dando como resultado una
reticulación en la imagen de la capa fotopolimerizable, es decir,
la capa formadora de relieve. El revelado con un disolvente
orgánico, agua o calor elimina el material fotosensible de las
partes no expuestas de la capa que forma el relieve y los residuos
de la capa ablativa al IR. El revelado puede realizarse utilizando
diferentes etapas de revelado o una sola etapa de revelado. Puesto
que este método requiere todavía una etapa de revelado, la mejora de
la eficiencia para la producción de formas para impresión
flexográfica es limitada.
En la técnica de grabado láser directa para la
producción de formas de impresión flexográfica, se graba
directamente un relieve adecuado para la impresión en una capa
adecuada para este propósito. Mediante la acción de radiación
láser, los componentes de la capa o sus productos de degradación se
eliminan en forma de gases calientes, vapores, humos, gotitas o
partículas pequeñas y de este modo se producen hendiduras no
imprimibles. El grabado de cilindros de impresión de goma por medio
de rayos láser se conoce desde finales de los años 60 del siglo
pasado. Sin embargo, esta técnica ha adquirido mayor interés
comercial sólo en los últimos años con el advenimiento de sistemas
láser mejorados. Las mejoras en los sistemas láser incluyen una
mejor capacidad de enfoque del rayo láser, mayor potencia,
combinaciones de rayos láser o fuentes de láser múltiples y
orientación del rayo controlada por ordenador. El grabado directo
por láser tiene varias ventajas sobre la producción convencional de
planchas de impresión flexográfica. Se puede prescindir de una serie
de etapas del proceso que requieren mucho tiempo, tales como la
creación de una máscara negativa fotográfica o el desarrollo y el
secado de la plancha de impresión. Por otra parte, la forma lateral
de los elementos en relieve individuales se puede diseñar
individualmente en la técnica de grabado mediante
láser.
láser.
Un problema asociado con el grabado láser
directo es la formación de residuos. Se supone que dichos residuos
son productos de descomposición de la resina del precursor formados
por la acción del láser. El material arrastrado gaseoso o
particulado es, al menos parcialmente, eliminado por un extractor de
aire. Sin embargo, el material arrastrado licuado puede ser muy
difícil de eliminar. La generación de tales residuos no sólo
requiere un tratamiento que consume tiempo para eliminar los
residuos, sino que puede dar lugar a formas en relieve de borde
grueso e irregular. Por otra parte, cuando se genera una gran
cantidad de residuos líquidos durante el grabado láser, dichos
residuos pueden manchar las piezas ópticas de los aparatos de
grabado láser, que requieren un procedimiento de limpieza que lleva
tiempo o la costosa sustitución de las ópticas del láser.
El documento EP-A 1 424 210
describe una composición de resina fotosensible para un precursor
grabable por láser que comprende (1) 100 partes en peso de una
resina que es un plastómero a 20ºC donde dicha resina tiene un peso
molecular medio numérico (Mw) de 1.000 a 100.000 y tiene al menos un
número medio de 0,7 grupos polimerizables por molécula, (2) de 5 a
200 partes en peso, con respecto a 100 partes en peso de dicha
resina (1) de un compuesto orgánico que tiene un Mw de menos de
1.000 y que tiene al menos un grupo polimerizable por molécula y (3)
de 1 a 100 partes en peso, con respecto a 100 partes en peso de
dicha resina (1) de un material poroso inorgánico. Dicho material
poroso inorgánico, preferiblemente productos siliceos porosos, se
utiliza para absorber los residuos líquidos formados después del
grabado láser de dichas composiciones de resina curadas.
El documento US2005/0227165 describe una
composición de resina fotosensible de un precursor grabable mediante
láser que comprende (1) 100 partes en peso de una resina que se
encuentra en un estado sólido a 20ºC donde dicha resina tiene un
peso molecular medio numérico (Mw) de 5.000 a 300.000, (2) de 5 a
200 partes en peso, con respecto a 100 partes en peso de dicha
resina (1) de un compuesto orgánico que tiene un Mw de menos de
5.000 y que tiene al menos un grupo polimerizable por molécula y (3)
de 1 a 100 partes en peso, con respecto a 100 partes en peso de
dicha resina (1) de un material poroso inorgánico que tiene un
diámetro medio de poro de 1 nm a 1.000 nm, un volumen de poro de
0,1 ml/g a 10 ml/g y un diámetro medio de partícula numérico no
mayor de 10 \mum. Dicho material poroso inorgánico,
preferiblemente productos de sílice porosos, se utiliza para
absorber los residuos líquidos formados después del grabado láser de
dicha composición de resina curada.
El documento EP-A 1 710 093
describe una composición de resina fotosensible para un precursor
grabable mediante láser que comprende (1) una resina que tiene
grupos polimerizables y un peso molecular medio numérico (Mw) en el
intervalo de 1.000 a 200.000, (2) un compuesto orgánico que tiene un
grupo polimerizable y un Mw de menos de 1.000 y (3) un compuesto de
silicio orgánico que tiene al menos un enlace Si-O.
El compuesto de silicio orgánico no tiene grupos polimerizables
insaturados y está presente en una cantidad de 0,1 a 10% en peso con
respecto a la composición de resina fotosensible total.
El documento EP-A 539 227
describe una composición acuosa revelable adecuada para la
preparación de formas de impresión flexográfica, que comprende (1)
un material polimerizable y (b) un compuesto hidrófobo que contiene
un elemento seleccionado del grupo que consiste en flúor, cloro y
silicio, siendo el compuesto hidrófobo susceptible de
copolimerización con la composición polimerizable. La presencia de
dicho compuesto hidrófobo reduce la "obturación", es decir, la
acumulación de material foráneo tal como la tinta entre las partes
del relieve de la placa durante la impresión. La forma para
impresión flexográfica del documento EP-A 539 227 se
prepara mediante revelado acuoso después de la exposición con lo
que respecta a la imagen del precursor a través de una máscara
negativa.
El documento JP-2005/254696
describe una forma para impresión flexográfica que comprende un
sustrato cilíndrico y una composición curable proporcionada sobre
el mismo donde la composición fotocurable contiene un compuesto de
silicio orgánico o de flúor orgánico. Dicha forma de impresión tiene
una dureza Shore D de 30 a 100 haciendo la forma de impresión
adecuada para la impresión calcográfica. Una forma para impresión
flexográfica de dureza Shore D de más de 30 (equivalente a una
dureza Shore A de más de 80) está fuera del alcance de la presente
invención.
El documento EP-A 1 637 322
describe un método para elaborar una forma para impresión
flexográfica por medio de inyección de tinta, es decir, (con lo que
especta a la imagen) inyectando un líquido inyectable curable sobre
una superficie receptora de tinta. Dicha forma de impresión
comprende compuestos de silicio orgánico que comprenden al menos un
grupo polimerizable en un intervalo de concentración de 0 a 50% en
peso. Tales compuestos de silicio orgánico se utilizan como
aditivos sinergistas para mejorar la calidad de curado y para
disminuir la influencia de la inhibición del oxígeno.
Un objeto de la presente invención es
proporcionar un precursor de forma para impresión flexográfica para
grabado mediante láser en el que, después del grabado láser de dicho
precursor, se suprime la formación de residuos.
Otro objeto de la presente invención es
proporcionar un método para la preparación de dicho precursor.
Otro objeto de la presente invención es
proporcionar un método para elaborar una forma para impresión
flexográfica por medio de grabado láser directo en el que se suprime
la formación de residuos.
Se ha encontrado que los objetos de la invención
son realizados mediante un método para elaborar una forma para
impresión flexográfica que comprende las etapas de: proporcionar un
precursor de forma para impresión flexográfica; exponer en lo que
respecta a la imagen el precursor a un láser para grabar una imagen
en relieve en dicho precursor; donde el precursor se prepara (i)
proporcionando al menos una capa de una composición curable sobre
un sustrato; (ii) curando dicha al menos una capa; donde la
composición curable que forma una capa más externa incluye al menos
0,5% en peso con respecto al peso total de la composición de un
compuesto de silicio orgánico que comprende al menos un grupo
polimerizable.
Los objetos de la invención se realizan
adicionalmente mediante un precursor de forma para impresión
flexográfica para grabado láser como se especifica en la
reivindicación 13 y mediante el uso de un compuesto de silicio
orgánico para reducir la formación de residuos después del grabado
láser como se especifica en la reivindicación 15.
Las realizaciones ventajosas adicionales de la
invención se establecen en las reivindicaciones dependientes.
La Figura 1 muestra una realización del
dispositivo de revestimiento "vertical" descrito en el
documento EP-A 06 120 823, que incorpora una
plataforma de irradiación anular.
La Figura 2 muestra una vista en sección
transversal de una realización de una plataforma de irradiación
anular.
La Figura 3 muestra una vista transversal de
otra realización de una plataforma de irradiación anular.
La Figura 4 muestra fotografías al microscopio
óptico de las cavidades grabadas mediante láser de formas para
impresión flexográfica preparadas con las composiciones curables
COMP-01, INV-01,
INV-02 y COMP-07 del
Ejemplo 1.
Ejemplo 1.
La Figura 5 muestra fotografías al microscopio
óptico de las cavidades grabadas mediante láser de formas para
impresión flexográfica preparadas con las composiciones curables
COMP-13, INV-03 a
INV-06 del Ejemplo 2.
La Figura 6 muestra fotografías al microscopio
óptico de las cavidades grabadas mediante láser de formas para
impresión flexográficas COMP-14 y
INV-10 del Ejemplo 4.
El precursor de forma para impresión
flexográfica de acuerdo con presente invención se prepara:
- (i)
- proporcionando al menos una capa de una composición curable sobre un sustrato;
- (ii)
- curando dicha al menos una capa;
caracterizado porque la composición
curable que forma una capa más externa de dicho precursor comprende
al menos 0,5% en peso con respecto al peso total de dicha
composición que forma la capa más externa de un compuesto de silicio
orgánico, comprendiendo dichos compuestos de silicio orgánico al
menos un grupo polimerizable.
En una realización de la presente invención el
precursor de forma para impresión flexográfica comprende una capa
de una composición curable proporcionada sobre un substrato. Dicha
composición curable comprende (i) al menos 0,5% en peso con
respecto al peso total de dicha composición de un compuesto de
silicio orgánico, comprendiendo dicho compuesto al menos un grupo
polimerizable, (ii) uno o más monómeros y/o oligómeros
polimerizables y opcionalmente (iii) un iniciador. Dicha
composición curable puede comprender adicionalmente un elastómero,
un inhibidor, un plastificante, un compuesto absorbente de
infrarrojos, un colorante, un tensioactivo.
Un compuesto de silicio orgánico es un compuesto
orgánico, es decir, un compuesto que contiene átomos de carbono y de
hidrógeno, que comprende uno o más átomos de silicio (Si).
El compuesto de silicio orgánico según la
presente invención comprende al menos un grupo polimerizable,
preferiblemente un grupo polimerizable mediante radicales. El grupo
polimerizable mediante radicales es preferiblemente un grupo
(met)acrilato.
De acuerdo con una realización preferida, el
compuesto de silicio orgánico es un compuesto de organosilano que
comprende al menos un grupo polimerizable. Preferentemente dicho
grupo polimerizable es un grupo (met)acrilato. Un compuesto
de organosilano preferido se representa mediante la fórmula I
donde
L representa un grupo conector opcional
divalente;
R^{1}, R^{2}, R^{3} representan
independientemente un grupo alquilo, arilo o alcoxi opcionalmente
sustituidos;
R^{4} representa un hidrógeno o un grupo
alquilo o arilo opcionalmente sustituidos.
\vskip1.000000\baselineskip
Preferiblemente R^{1}, R^{2} y R^{3}
representan independientemente un grupo metilo, etilo, propilo,
butilo, metoxi, etoxi, propoxi o butoxi.
Preferiblemente R^{1} es metilo o
hidrógeno.
El grupo conector divalente L opcional de
Fórmula I es preferiblemente un grupo metileno, etileno, butileno
propileno.
Los compuestos asequibles comercialmente de
acuerdo con la Fórmula I son, por ejemplo GENIOSIL XL33, GENIOSIL
XL3 6, GENIOSIL GF31 todos asequibles de WACKER CHEMIE.
De acuerdo con una realización particularmente
preferida, el compuesto de silicio orgánico, que comprende al menos
un grupo polimerizable, es un (met)acrilato de silicio. Los
(met)acrilatos de silicio curables son conocidos en la
técnica como aditivos mejoradores del deslizamiento y la humectación
en los revestimientos de sustratos de papel o plástico. Otras
aplicaciones típicas para los (met)acrilatos de silicio
curables mediante UV son los revestimientos de liberación para
etiquetas autoadhesivas.
Los metacrilatos de silicio asequibles
comercialmente son los polisiloxanos, por ejemplo,
polidimetilsiloxanos, a los que se incorporan los grupos
(met)acrilato. Los grupos (met)acrilato se pueden
incorporar como grupos laterales sobre la cadena principal del
polisiloxano o pueden proteger terminalmente la cadena de
polisiloxano o ambos.
Los metacrilatos de silicio asequibles
comercialmente son, por ejemplo EBECRYL 350 y EBECRYL 1360 de CYTEC;
CN9800, CN990 y CNUVS 500 de SARTOMER; PC900UV/EB, DV910UV,
DV911UV, PC970UV/EB y DV980UV/EB de RHODIA, TEGO RC 902, TEGO RC
715, TEGO RC 711, TEGO RC 719, TEGO RC 1002, TEGO RC 1009, TEGO RC
1771, TEGORAD 2100, TEGORAD 2200N, TEGORAD 2300, TEGORAD 2500,
TEGORAD 2600 y TEGORAD 2700 todos de DEGUSSA GOLDSCHMIDT.
En una realización preferida de la invención el
compuesto de silicio orgánico comprende al menos dos grupos
polimerizables, preferiblemente al menos dos grupos
(met)acrilato.
En una realización aún más preferida, el
compuesto de silicio orgánico comprende al menos cuatro grupos
polimerizables, preferiblemente al menos cuatro grupos
(met)acrilato.
En una realización muy preferida, el compuesto
de silicio orgánico comprende seis grupos polimerizables,
preferiblemente seis grupos (met)acrilato.
La cantidad de dicho compuesto de silicio
orgánico en la composición de resina curable es al menos 0,5% en
peso, más preferiblemente al menos 1% en peso, más preferiblemente
al menos 2,5% en peso, muy preferiblemente al menos 5,0% en peso
con respecto al peso total de la composición curable. La cantidad de
dicho compuesto de silicio orgánico es preferiblemente menos de 20%
en peso, más preferiblemente menos de 10% en peso con respecto al
peso total de dicha composición curable.
\global\parskip0.900000\baselineskip
La composición de la resina curable de acuerdo
con la presente invención puede comprender uno o más iniciadores. El
iniciador normalmente inicia la reacción de polimerización. El
iniciador puede ser un iniciador térmico, pero es preferible un
fotoiniciador.
El iniciador o los iniciadores térmicos
adecuados para su uso en la composición de resina curable incluyen
peroxibenzoato de terc-amilo,
4,4-azobis(ácido 4-cianovalérico),
1,1'-azobis(ciclohexanocarbonitrilo),
2,2'-azobisisobutironitrilo (AIBN), peróxido de
benzoilo,
2,2-bis(terc-butilperoxi)butano,
1,1-bis(terc-butil-peroxi)ciclohexano,
1,1-Bis(terc-butilperoxi)
ciclo-hexano,
2,5-bis(terc-butilperoxi)-2,5-dimetilhexano,
2,5-bis(terc-butilperoxi)-2,5-dimetil-3-hexino,
bis(1-(terc-butilperoxi)-1-metil)benceno,
1,1-bis(terc-butilperoxi)-3,3,5-trimetilciclohexano,
hidroperóxido de terc-butilo, peracetato de
terc-butilo, peróxido de
terc-butilo, peroxibenzoato de
terc-butilo, carbonato de
terc-butilperoxiisopropilo, hidroperóxido de cumeno,
peróxido de ciclohexanona, peróxido de dicumilo, peróxido de
lauroilo, peróxido de 2,4-pentanodiona, ácido
peracético y persulfato de potasio.
Un fotoiniciador produce especies iniciadoras,
preferiblemente radicales libres, después de la absorción de la
radiación actínica. También se puede utilizar un sistema de
fotoiniciadores. En dicho sistema de fotoiniciadores, un
fotoiniciador se activa después de la absorción de la radiación
actínica y forma radicales libres mediante extracción de hidrógeno
o electrones de un segundo compuesto. Dicho segundo compuesto,
usualmente denominado co-iniciador, se convierte
después en el radical libre iniciador. Los radicales libres son
especies de alta energía que inducen la polimerización de monómeros
u oligómeros. Cuando están presentes monómeros y oligómeros
polifuncionales en la composición de resina curable, dichos
radicales libres también pueden inducir reticulación.
El curado puede ser realizado por más de un tipo
de radiación con longitud de onda diferente. En tales casos, puede
ser preferible usar más de un tipo de fotoiniciador en conjunto.
También se puede utilizar una combinación de
diferentes tipos de iniciadores, por ejemplo, un fotoiniciador y un
iniciador térmico.
Los fotoiniciadores adecuados son descritos por
ejemplo, por J. V. Crivello et al. en "Photoinitiators for
Free Radical, Cationic & Anionic Photopolymerisation 2ª
edición", Volumen III de la Wiley/SITA Series In Surface Coatings
Technology, editado por G. Bradley y publicado en 1998 por John
Wiley and Sons Ltd. Londres, páginas 276 a 294.
Los ejemplos específicos de los fotoiniciadores
pueden incluir, pero no se limitan a, los siguientes compuestos o
sus combinaciones: quinonas, benzofenona y benzofenonas sustituidas,
hidroxialquilfenilacetofenonas, dialcoxiacetofenonas,
\alpha-halogenoacetofenonas, arilcetonas tales
como 1-hidroxiciclohexilfenilcetona,
2-hidroxi-2-metil-1-fenilpropan-1-ona,
2-bencil-2-dimetilamino-(4-morfolinofenil)butan-1-ona,
tioxantonas tales como isopropiltioxantona, bencildimetilcetal,
óxido de
bis(2,6-dimetilbenzoil)-2,4,4-trimetilpentilfosfina,
derivados del óxido de trimetilbenzoilfosfina tales como óxido de
2,4,6-trimetilbenzoildifenilfosfina,
metiltiofenilmorfolinocetonas tales como
2-metil-1-[4-(metiltio)fenil]-2-morfolinopropan-1-ona,
morfolinofenilaminocetonas,
2,2-dimetoxi-1,2-difeniletan-1-ona,
5,7-diyodo-3-butoxi-6-fluorona,
fluoruro de difenilyodonio y hexafluofosfato de trifenilsulfonio,
éteres de benzoina, peróxidos, biimidazoles, aminocetonas, ésteres
oxima de benzoilo, canforquinonas, cetocumarinas y cetona de
Michler.
Los fotoiniciadores comerciales adecuados
incluyen Irgacure 127, Irgacure 184, Irgacure 500, Irgacure 907,
Irgacure 369, Irgacure 1700, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure
1000, Irgacure 1300, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Darocur 1173,
Darocur 2959, Darocur 4265 y Darocur ITX asequible de CIBA SPECIALTY
CHEMICALS, Lucerin TPO asequible de BASF AG, Esacure KK, Esacure
KT046, Esacure KT055, Esacure KIP150, Esacure KT37 y Esacure EDB
asequible de LAMBERTI, H-Nu 470 y
H-Nu 470X ASEQUIBLE de SPECTRA GROUP Ltd., Genocure
EHA y Genocure EPD de RAHN.
Puesto que el curado se realiza preferiblemente
con radiación UV, los fotoiniciadores preferidos absorben radiación
UV.
Para mejorar el curado en profundidad, puede ser
ventajoso utilizar un sistema iniciador que disminuya la absorbancia
UV a medida que avance la polimerización, como se describe en el
documento US2002/0123003 párrafo [0021].
Los fotoiniciadores preferidos concretos son
Irgacure 651 e Irgacure 127.
Los fotoiniciadores catiónicos adecuados
incluyen compuestos que forman ácidos apróticos o ácidos de Brönsted
tras exposición suficiente para iniciar la polimerización. El
foto-iniciador utilizado puede ser un solo
compuesto, una mezcla de dos o más compuestos activos, o una
combinación de dos o más compuestos diferentes, es decir,
co-iniciadores. Los ejemplos no limitantes
fotoiniciadores catiónicos adecuados son las sales de arildiazonio,
las sales de diarilyodonio, las sales de triarilsulfonio, las sales
de triarilselenonio y similares.
También se pueden utilizar agentes
sensibilizadores combinados con los iniciadores descritos
anteriormente. En general, los agentes sensibilizadores absorben
radiación a una longitud de onda diferente después del fotoiniciador
y son capaces de transferir la energía absorbida a ese iniciador,
dando como resultado la formación, por ejemplo, de radicales
libres.
\global\parskip1.000000\baselineskip
La cantidad de iniciador en la composición de
resina curable de la presente invención es preferiblemente de 1 a
10% en peso, más preferiblemente de 2 a 8% en peso, con respecto al
peso total de la composición de resina curable.
\vskip1.000000\baselineskip
La composición de resina curable comprende uno o
más compuestos curables. Estos compuestos curables pueden comprender
uno o más grupos polimerizables, preferiblemente grupos
polimerizables mediante radicales.
Se puede emplear cualquier monómero u oligómero
mono- u oligofunctional polimerizable conocido comúnmente en la
técnica. Los monómeros monofuncionales preferidos se describen en el
documento EP-A 1 637 322, párrafos [0054] a [0057].
Los monómeros u oligómeros oligofuncionales preferidos se describen
en el documento EP-A 1 637 322, párrafos [0059] a
[0064].
La selección de los compuestos curables
determina las propiedades de la composición de la resina curada, por
ejemplo, grababilidad mediante láser, transferencia de tinta,
flexibilidad, resistencia y dureza.
Un compuesto curable particularmente preferido
es un oligómero de (met)acrilato de uretano. Se ha encontrado
que la presencia de oligómeros de (met)acrilato de uretano,
preferiblemente en una cantidad de 50% en peso o más, con respecto
a la composición de resina total, proporciona una composición de
resina curada adecuada para la preparación de precursores de forma
para impresión flexográfica grabable mediante láser directa. El
oligómero de (met)acrilato de uretano puede tener uno, dos,
tres o más grupos polimerizables. Preferiblemente, los oligómeros de
(met)acrilato de uretano tienen tres grupos polimerizables o
menos.
Los (met)acrilatos de uretano asequibles
comercialmente son, por ejemplo CN9170, CN910A70, CN966H90, CN962,
CN965, CN981 y CN9290 de SARTOMER; BR-3741B,
BR-403, BR-7432,
BR-7432G, BR-3042,
BR-3071 de BOMAR SPECIALTIES CO; NK Oligo
U-15HA de SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.
Ltd.; Actilane 200, Actilane SP061, Actilane 276, Actilane SP063 de
AKZO-NOBEL; Ebecril 8462, Ebecril 270, Ebecril 8200,
Ebecril CL-1039, Ebecril 285, Ebecril 4858, Ebecril
210, Ebecril 220, Ebecril 1259 e IRR160 de CYTEC; Genomer 1122 y
Genomer 4215 de RAHN AG y VERBATIM HR50 un acrilato de uretano que
contiene fotopolímero líquido de CHEMENCE.
Para optimizar la viscosidad de la composición
de resina curable, se utilizan uno o varios monómeros y/o oligómeros
como diluyentes. Los monómeros y/o oligómeros preferidos que actúan
como diluyentes son miscibles con los oligómeros de
(met)acrilato de uretano antes descritos. Los monómeros y/o
oligómeros particularmente preferidos que actúan como diluyentes
afectan adversamente a las propiedades de la composición de resina
curada.
El monómero o monómeros y el oligómero o los
oligómeros monofuncionales utilizados como diluyentes son
preferiblemente uno o varios monómeros de acrilato de baja
viscosidad.
Los monómeros y/o oligómeros especialmente
preferidos que actúan como diluyentes en la composición de resina
curable de la presente invención son: SR344, un diacrilato de
polietilenglicol (400); SR604, un monoacrilato de polipropileno;
SR9003, un diacrilato de neopentilglicol propoxilado; SR610, un
diacrilato de polietilenglicol (600); SR531, un
formal-acrilato de trimetilolpropano cíclico; SR340,
un metacrilato de 2-fenoxietilo; acrilato de
2-fenoxietilo; acrilato de tetrahidrofurfurilo;
todos de SARTOMER; acrilato de caprolactona y Genomer 1122, un
acrilato de uretano monofuncional, de RAHN; Bisomer PEA6, un
monoacrilato de polietilenglicol de COGNIS; Ebecril 1039, un
monoacrilato de uretano de muy baja viscosidad de CYTEC y CN137, un
oligómero de acrilato aromático de baja viscosidad de CRAYNOR.
\vskip1.000000\baselineskip
Con el fin de evitar la polimerización térmica
prematura, la composición de resina curable puede contener un
inhibidor de la polimerización. Los inhibidores de la polimerización
adecuados incluyen antioxidantes de tipo fenólico, estabilizadores
a la luz de aminas estéricamente impedidas, antioxidantes de tipo
fósforo, éter monometílico de hidroquinona, hidroquinona,
t-butilcatecol o pirogalol.
Los inhibidores comerciales adecuados son, por
ejemplo, Sumilizer GA-80, Sumilizer GM y Sumilizer
GS producidos por Sumitomo Chemical Co. Ltd.; Genorad 16, Genorad
18 y Genorad 20 de Rahn AG; Irgastab UV10 e Irgastab UV22, Tinuvin
460 y CGS20 de Ciba Specialty Chemicals; Floorstab de rango
ultravioleta (UV-1, UV-2,
UV-5 y 8-UV) de Kromachem Ltd,
Additol de rango S (S100, S110, S120 y S130) de Cytec Surface
Specialties.
Puesto que la adición excesiva de estos
inhibidores de la polimerización reducirá el curado, la cantidad es
preferiblemente inferior al 2% en peso con respecto al peso total de
la composición de resina curable.
\vskip1.000000\baselineskip
Para optimizar adicionalmente las propiedades de
los precursores de forma para impresión flexográfica la composición
curable puede comprender adicionalmente uno o más compuestos
elastoméricos. Los compuestos elastoméricos adecuados incluyen
copolímeros de butadieno y estireno, copolímeros de isopreno y
estireno, copolímeros tribloque de
estireno-dieno-estireno,
polibutadieno, poliisopreno, elastómeros de nitrilo, poliisobutileno
y otros elastómeros butilados, óxidos de polialquileno,
polifosfazenos, poliuretanos y poliésteres elastoméricos, polímeros
y copolímeros elastoméricos de (met)acrilatos, polímeros y
copolímeros elastoméricos de olefinas, copolímeros elastoméricos de
acetato de vinilo y sus derivados parcialmente hidrogenados.
El tipo y la cantidad de monómeros y/o
oligómeros y, opcionalmente, los compuestos elastoméricos son
seleccionados para desarrollar las propiedades óptimas del
precursor de forma para impresión, tales como la grababilidad
mediante láser, la flexibilidad, la resistencia, la dureza, la
adherencia al sustrato y la transferencia de tinta durante la
impresión.
La dureza de un precursor de forma para
impresión flexográfica se expresa típicamente como dureza Shore A.
La dureza Shore A de una forma para impresión flexográfica de
acuerdo con la presente invención se encuentra típicamente entre 30
y 75.
La viscosidad óptima de la composición curable
depende de la técnica utilizada para proporcionar la composición
curable sobre un substrato.
\vskip1.000000\baselineskip
Los plastificantes se utilizan típicamente para
mejorar la plasticidad o para reducir la dureza del precursor de
forma para impresión flexográfica. Los plastificantes son líquidos o
sólidos, generalmente sustancias orgánicas inertes de baja presión
de vapor.
Los plastificantes adecuados incluyen aceites y
resinas naturales modificados o no modificados, ésteres alquílicos,
alquenílicos, arilalquílicos o arilalquenílicos de ácidos, tales
como ácidos alcanoicos, ácidos arilcarboxílicos o ácido fosfórico;
oligómeros o resinas sintéticos tales como oligoestireno,
copolímeros oligoméricos de estireno-butadieno,
copolímeros oligoméricos de
\alpha-metilestireno-p-metilestireno,
oligobutadienos líquidos, o copolímeros oligoméricos líquido de
acrilonitrilo-butadieno, y también politerpenos,
poliacrilatos, de poliésteres o poliuretanos, polietileno, cauchos
de etileno-propileno-dieno,
\alpha-metiloligo(óxido de metileno), aceites de
hidrocarburos alifáticos, por ejemplo, aceites nafténicos y
parafínicos; polidienos líquidos y poliisopreno líquido.
Los ejemplos de plastificantes particularmente
adecuados son los aceites minerales parafínicos, los ésteres de
ácidos dicarboxílicos, tales como el adipato de dioctilo o el
tereftalato de dioctilo; plastificantes nafténicos o polibutadienos
que tienen un peso molecular de entre 500 y 5.000 g/mol.
Los plastificantes más particularmente
preferidos son Hordaflex CL50 asequible de HOECHST, Santicizer 278
asequible de MONSANTO, TMPME disponible en PERSTORP AB y Plasthall
4141 asequible de CP Hall Co.
También es posible utilizar una mezcla de
diferentes plastificantes.
Los plastificantes preferidos son líquidos que
tienen pesos moleculares de menos de 5.000, pero pueden tener pesos
moleculares hasta 30.000.
\vskip1.000000\baselineskip
Para mejorar la sensibilidad del grabado del
precursor de forma para impresión flexográfica mediante láser, la
composición curable puede comprender adicionalmente un aditivo,
orgánico o inorgánico, que absorbe la radiación del láser del
grabado mediante láser. Preferiblemente, el aditivo es un compuesto
que absorbe infrarrojos (IR) ya que el láser utilizado para el
grabado es típicamente un láser de CO_{2}.
\vskip1.000000\baselineskip
Los colorantes, tintes y/o pigmentos, también se
pueden añadir a la composición curable para permitir una inspección
visual de la imagen grabada con láser sobre la forma para impresión
flexográfica.
\vskip1.000000\baselineskip
En otra realización de la invención el precursor
de forma para impresión flexográfica comprende más de una capa de
una composición curable proporcionada sobre un sustrato, con la
condición de que la composición curable que forma la capa más
externa de dicho precursor comprenda al menos 0,5% en peso con
respecto al peso total de dicha composición de un compuesto de
silicio orgánico descrito anteriormente.
Las más de una composiciones curables que forman
las más de una capas de acuerdo con esta realización de la
invención pueden comprender los ingredientes descritos
anteriormente, es decir, el compuesto de silicio orgánico, el
iniciador, el compuesto curable, el elastómero, el plasticante, el
inhibidor, el colorante, el compuesto absorbente de IR, el
tensioactivo. Las composiciones curables que no forman una capa más
externa preferiblemente no comprenden el compuesto de silicio
orgánico descrito anteriormente. Las más de una capas del precursor
formado proporcionando las más de una composiciones curables sobre
un sustrato pueden ser caracterizadas por diferentes propiedades,
por ejemplo la dureza, mediante la selección de diferentes
compuestos curables, elastómeros o plastificantes para las
diferentes composiciones curables.
En otra realización de la presente invención se
proporciona más de una composición curable sobre un sustrato con la
condición de que la composición curable que forma la capa más
externa consista esencialmente en el compuesto de silicio orgánico
descrito anteriormente y opcionalmente un iniciador. El espesor de
la capa más externa que consiste esencialmente en el compuesto de
silicio orgánico y opcionalmente un iniciador es preferiblemente
inferior a 0,5 mm, más preferiblemente inferior a 0,1 mm, muy
preferiblemente inferior a 0,050 mm.
Se ha encontrado, sorprendentemente que un
precursor de forma para impresión flexográfica que comprende una
capa más externa, consistiendo esencialmente dicha capa más externa
de dicho compuesto de silicio orgánico y opcionalmente un iniciador
y teniendo un espesor sustancialmente inferior a la profundidad del
grabado láser, teniendo típicamente dicha profundidad unos pocos
cientos de micrómetros, da como resultado la formación de menos
residuos después del grabado láser de dicho precursor.
\vskip1.000000\baselineskip
Las composiciones curables se pueden
proporcionar sobre un sustrato mediante cualquier método
convencional, tal como revestimiento, extrusión o moldeo mediante
vaciado. Las composiciones curables se pueden proporcionar sobre el
sustrato mientras se calienta. Un método particularmente preferido
para la fabricación de formas de impresión flexográfica para el
grabado láser directo se describe en el documento
EP-A 06 120 823 no publicado (presentado el
18-09-2006).
El sustrato puede ser cualquier material
flexible utilizado convencionalmente para preparar precursores de
forma para impresión flexográfica. Los ejemplos de materiales de
soporte adecuados se describen en el documento EP-A
1 710 093 párrafo [0051]. Un soporte preferido es una película de
poliéster.
El sustrato puede estar en forma de lámina o en
forma cilíndrica, como una manga. La manga puede formarse a partir
de una sola capa o de múltiples capas de material flexible y/o
rígido. Son particularmente preferidas las mangas sin costuras.
El sustrato, una lámina o manga, garantiza una
estabilidad dimensional al precursor de forma para impresión
flexográfica. La superficie externa del sustrato se puede tratar
químicamente (tratamiento con álcali/ácido) o físicamente (por
ejemplo, tratamiento de corona, tratamiento con chorro de arena), o
se puede proporcionar con una capa subyacente de un material
adherente o imprimador, para facilitar la adherencia de la capa o
capas curables al soporte.
El espesor total de las una o más capas de una
composición curable proporcionada sobre el sustrato es
preferiblemente de 0,4 a 7,0 mm.
\vskip1.000000\baselineskip
Después de proporcionar la capa o las capas de
la composición o composiciones curables sobre un sustrato, dicha
capa o dichas capas se curan por irradiación o calor.
El calor puede utilizarse para curar (es decir,
polimerizar) dicha composición o dichas composiciones si la capa o
las capas de la composición o las composiciones comprenden un
iniciador térmico, como se ha descrito anteriormente.
La irradiación puede ser irradiación con un haz
de electrones o irradiación actínica, preferiblemente irradiación
actínica. El curado con irradiación de haz de electrones no requiere
la presencia de un iniciador en la composición o las composiciones
curables. La idoneidad de una fuente de radiación actínica
particular se rige por la fotosensibilidad del iniciador utilizado
en la preparación del precursor de forma para impresión
flexográfica. La fotosensibilidad preferida de los precursores de
forma para impresión flexográfica más comunes se encuentra en la
región UV y UV profunda del espectro.
Ejemplos de las fuentes de radiación adecuadas
incluyen arcos de carbono, arcos de vapor de mercurio, lámparas
fluorescentes, unidades de flash electrónico, unidades de haces de
electrones, rayos láser, lámparas de flujo LED y fotográfico. Las
fuentes preferidas de radiación UV son las lámparas de vapor de
mercurio.
La radiación UV se clasifica generalmente como
UV-A, UV-B y UV-C de
la siguiente manera:
\bullet UV-A: 400 nm a 320
nm
\bullet UV-B: 320 nm a 290
nm
\bullet UV-C: 290 nm a 100
nm
\vskip1.000000\baselineskip
Puede ser ventajoso utilizar dos fuentes de
radiación para realizar el curado. Por ejemplo, la primera fuente
de UV se puede seleccionar para ser una fuente de radiación
UV-A o UV-C mientras que la segunda
fuente de UV se puede seleccionar para ser una fuente de radiación
UV-A o UV-C. La segunda etapa de
curado es referida a menudo como etapa de postcurado. Se ha
observado que la realización de una etapa de postcurado con una
fuente de radiación UV-C después de una primera
etapa de curado con radiación UV-A da como resultado
la obtención ventajosa de una superficie no adherente del elemento
de impresión.
Cuando más de una de las capas de las
composiciones curables se proporcionan sobre un sustrato, el curado
se puede realizar después de proporcionar todas las capas de
sustrato o se puede llevar a cabo el curado después de proporcionar
cada capa sobre el sustrato.
El tiempo de curado variará dependiendo de la
intensidad y la distribución de energía espectral de la radiación,
la distancia entre la fuente de luz y el elemento impresor; la
composición y el grosor de la composición o composiciones curables
del precursor de forma para impresión.
Durante el curado puede estar presente una
lámina de revestimiento separable, para minimizar la inhibición de
la polimerización por el oxígeno. La lámina de revestimiento se
retira después del curado y antes de la etapa de grabado láser.
Otro método para minimizar la inhibición por el oxígeno es
realizando el curado en atmósfera de N_{2} o CO_{2} inerte.
\vskip1.000000\baselineskip
Para obtener un precursor de forma para
impresión flexográfica de alta calidad, especialmente una manga sin
costuras, a menudo es necesario lijar y pulir el elemento de
impresión curado antes de la etapa de grabado mediante láser.
\vskip1.000000\baselineskip
Un método particularmente preferido para
elaborar mangas de impresión flexográfica para el grabado láser
directo, sin necesidad de lijado y pulido, se describe en el
documento EP-A 06 120 823 (presentado el
18-09-2006) no publicado. El
documento EP-A 06 120 823 describe un dispositivo de
revestimiento "vertical" que soporta una amplia variedad de
tipos y tamaños de manga, y es capaz de revestir una sola o una
multitud de capas "uniformes" de material grabable mediante
láser directo. La uniformidad de la capa o las capas de
revestimiento se proporciona a través de al menos el curado parcial
de la capa o las capas inmediatamente después del revestimiento.
Una realización preferida del dispositivo de
revestimiento "vertical" descrito en EP-A 06
120 823 se describe ahora con referencia a la Figura 1. El collar
de revestimiento 21 en la figura 1 comprende una escobilla de goma
anular 22 que garantiza la estanqueidad deslizable entre el fondo
del collar de revestimiento 21 y el núcleo de la manga 13, con el
fin de prevenir que una composición curable 24, también referida
como líquido de revestimiento, contenida en el collar de
revestimiento 21 se escape del collar de revestimiento 21. El
collar de revestimiento 21 está abierto en la parte superior. La
superficie líquida 25 del líquido de revestimiento 24 contenido en
el collar de revestimiento 21 forma un menisco anular 26 con la
superficie periférica de la manga 13. El collar de revestimiento 21
puede estar soportado por un carro de revestimiento que está
conectado a un mecanismo de elevación y descenso incorporado en una
columna de soporte vertical. Estas características han sido
omitidas en la figura 2. El mecanismo de elevación y descenso puede
mover la plataforma de revestimiento completa 11, es decir, el
conjunto del carro de revestimiento con el collar de revestimiento,
arriba y abajo a lo largo de un eje vertical. Cuando está montada
una manga 13, el mecanismo de elevación y descenso es capaz de
mover la plataforma de revestimiento anular 11 a lo largo de la
superficie periférica de la manga 13, proporcionando un menisco de
revestimiento 26 en la parte superior y un contacto de cierre en la
parte inferior del collar de revestimiento 21. El eje de
revestimiento 10 se refiere al eje vertical que pasa por el centro
del collar de revestimiento 21 y coincide con el eje de la manga 13
cuando se monta en el dispositivo de revestimiento. El collar de
revestimiento 21 se mueve hacia arriba y hacia abajo, centrado sobre
el eje de revestimiento 10.
En la parte superior de la plataforma de
revestimiento anular 11, está montada una plataforma de irradiación
anular 12. El propósito de la plataforma de irradiación 12 es
colocar la capa de revestimiento, recién aplicada por el collar de
revestimiento anular 21, y evitar que el líquido de revestimiento se
descargue. La descarga de la capa de revestimiento disminuye el
espesor de la capa en las localizaciones superiores y aumenta el
espesor en las localizaciones inferiores a lo largo de la manga 13,
y disminuye la uniformidad topográfica de la capa y por lo tanto la
calidad del revestimiento aplicado. Por tanto es una ventaja
"congelar" la capa de revestimiento inmediatamente después de
la aplicación en la manga 13. El término "congelar" no implica
necesariamente un ajuste completo de la capa de revestimiento; un
ajuste parcial de la capa para evitar la descarga del líquido de
revestimiento de la manga 13 es suficiente para proporcionar una
capa uniforme de material de revestimiento.
En una realización preferida, la plataforma de
irradiación 12 puede tener 360º en todos los sentidos y basarse en
el uso de LED UV y ópticas de concentración o colimación. Los LED UV
tienen varias ventajas en comparación con las lámparas de arco UV,
como su tamaño compacto, longitud de onda aceptable y estabilidad
del haz, buena uniformidad de la dosis y un gran rango de
regulación de la dosis lineal. Una desventaja de los LED UV es su
potencia de salida relativamente baja. Los LED UV sin embargo son
relativamente pequeños y se pueden agrupar de tal manera que su
potencia combinada es suficiente para cubrir el rango requerido de
curado mediante UV para diferentes tipos líquidos de revestimiento,
diferentes grosores de la capa de revestimiento, diferentes
diámetros de manga (es decir, distancia de los LED UV a la
superficie periférica de la manga), etc. Una vista transversal de
una primera realización de una plataforma de irradiación anular se
muestra en la figura 2. La plataforma de irradiación se construye
alrededor de una matriz de LED 31, una lente Fresnel 32 con
reflector 33 y un espejo de colimación 34. El papel de la óptica es
doble: en primer lugar la lente Fresnel 32 con el reflector 33
concentra la luz de la matriz de LED 31 en el punto focal del espejo
de colimación 34, y en segundo lugar el espejo de colimación 34
colima la luz de la matriz de LED 31 en haces horizontales paralelos
para la irradiación de la capa revestida sobre la manga. El giro de
esta configuración óptica 360º alrededor del eje de revestimiento
proporciona la radiación de una fuente de radiación anular, es
decir, una matriz LED anular, que está sustancialmente colimada en
la dirección horizontal y sustancialmente enfocada en el eje de
revestimiento 10, como se ilustra mediante las flechas en la parte
inferior de la figura 1. Una vista transversal de una segunda
realización de una plataforma de irradiación anular se ilustra en la
figura 3 y muestra un LED 41 situado en el punto focal de una
cavidad reflectante parabólica 44 de la base del colimador 40. Un
disipador de calor 45 para eliminar el calor del LED 41 se integra
en la base del colimador 40. El pequeño tamaño del LED 41 le
permite ser situado en el punto focal de la cavidad reflectante
parabólica 44 sin crear vacíos sustanciales en el haz de de salida
colimado. El giro de esta configuración óptica 360º alrededor del
eje de revestimiento da como resultado una fuente de radiación
anular y ópticas de colimación anular para proporcionar la
radiación anular como se explicó anteriormente. La energía de
radiación contenida en el haz colimado se puede modular fácilmente,
ajustando la intensidad de la radiación, con el fin de adaptarse a
la variación en la distancia o el diámetro de los diferentes
núcleos de la manga, así como a las variaciones en la formulación
del líquido de revestimiento.
El resultado es un haz de radiación con gran
uniformidad del haz, gran estabilidad del haz, amplio intervalo de
ajuste de la intensidad del haz (los LED pueden ser atenuados a un
pequeño porcentaje de su potencia de salida máxima o se pueden
modular en el tiempo), y preciso control de curado mediante UV a
través de la facilidad de calibración. Las ventajas son: (i) no se
requiere un ajuste mecánico adicional cuando se cambian los núcleos
de la manga o los diámetros del núcleo de la manga - cambio de manga
corta a lo largo del tiempo, (ii) potencia de irradiación adaptable
- no hay pérdida de energía, y (iii) uniformes propiedades del haz
para el curado preciso y uniforme - aspectos de calidad y velocidad
combinados.
La forma anular de la matriz de LED UV 41 y las
ópticas de colimación asociadas 44 de la plataforma de irradiación
12 permiten una irradiación uniforme anular de la capa revestida.
Además, su diseño compacto y de bajo peso permite que la plataforma
de irradiación anular 12 se monte fijamente sobre la plataforma de
revestimiento anular 11. En la operación, la plataforma de
irradiación anular 12 se desplaza junto con la plataforma de
revestimiento anular 11 y sólo se requiere un mecanismo de arrastre
para mover el conjunto de arriba a abajo del núcleo de la manga
13.
Algunas aplicaciones pueden requerir el uso de
una multitud de plataformas de irradiación 12, montadas en cascada,
para proporcionar la radiación con longitudes de onda diferentes, a
diferentes distancias de la plataforma de revestimiento 11,
proporcionando potencias de radiación diferentes, etc. La multitud
de plataformas de irradiación se pueden montar unas encima de las
otras como un grupo, que se puede montar en la plataforma de
revestimiento 11. No es obligatoria la conexión mecánica de las
plataformas entre sí. Sin embargo es preferible que las plataformas
sean movibles hacia arriba y abajo del núcleo de la manga de una
manera sincronizada.
A pesar del movimiento de la plataforma de
revestimiento 11 y las posibles distorsiones de la superficie del
líquido 25 en la capa del collar 21, los experimentos muestran
sorprendentemente que la capa de revestimiento, aplicada con un
dispositivo de revestimiento como se describió anteriormente, tiene
muy buena homogeneidad y uniformidad de la superficie.
En la realización descrita hasta ahora la fuente
de irradiación, por ejemplo, un LED individual o una matriz de LED
anular, estaba conectada a una óptica de colimación correspondiente,
por ejemplo, un reflector parabólico, respectivamente y ópticas de
colimación anulares, y era considerada un grupo. En una realización
alternativa se pueden omitir las ópticas, en cuyo caso la fuente de
radiación LED irradia directamente la superficie periférica de la
manga revestida. La rotación de la fuente de irradiación puede
proporcionar una integración adicional y promediar la energía de
radiación. En otra realización alternativa un óptica de colimación
anular no giratoria se puede combinar con una fuente de radiación
giratoria. En esta configuración, la fuente de radiación órbita
entre la superficie periférica del núcleo de la manga y la óptica de
colimación anular.
Del documento EP-A 06 120 823 se
sabe que la viscosidad de la composición curable, es decir del
líquido de revestimiento, es un parámetro importante para el
control del espesor de la capa aplicada. Es preferible por tanto
para proteger el líquido de revestimiento en el collar de
revestimiento de cualquier fuente que pueda tener un impacto
directo o indirecto sobre la viscosidad del líquido de
revestimiento. En los sistemas curables por radiación, la
viscosidad de un líquido se hace controlable a través de la
exposición a la radiación, es decir, el cambio de la viscosidad de
una capa aplicada como revestimiento con el fin de congelar, ajustar
o curar el líquido revestido es controlado a través de la
exposición a la radiación. El dispositivo de revestimiento de
acuerdo con la invención comprende por lo tanto preferiblemente un
bloqueo de la radiación situado entre la plataforma de radiación y
la plataforma de revestimiento, y movible con ellas, para cortar la
radiación directa e indirecta, por ejemplo, dispersa, de la fuente
de radiación del líquido de revestimiento contenido en el collar de
revestimiento. El bloqueo de la radiación tiene preferiblemente
forma anular y se puede realizar por ejemplo proporcionando una
cubierta para el depósito del collar de revestimiento. Un bloqueo de
la radiación más avanzado sería un diafragma iris ajustable como el
utilizado en óptica, estando ajustada la apertura del diafragma
para ser ligeramente más grande que el diámetro de la manga a
recubrir. El bloqueo de la radiación anular se puede integrar
mecánicamente en la plataforma de revestimiento, en la plataforma de
irradiación o como una unidad separada entre ambas etapas.
En las aplicaciones que utilizan líquidos
curables mediante UV de radicales libres, se sabe que el curado, en
algunos casos, se puede retrasar o incluso puede ser inexistente
debido a la presencia de oxígeno en la zona de curado. En este
caso, se puede utilizar una atmósfera inertizada para mejorar las
capacidades de curado. Cuando se relaciona con el curado mediante
UV, el término "inertizada" simplemente significa la
eliminación en situaciones ideales o, más apropiadamente, la
minimización de la cantidad de oxígeno inhibidor de la superficie
de revestimiento en la zona de curado mediante UV. En un dispositivo
de revestimiento vertical de acuerdo con la invención, la zona de
curado, se refiere al área que rodea la capa de revestimiento sobre
la superficie periférica del núcleo de la manga que se expone a la
radiación procedente de la plataforma de irradiación. Un entorno de
inertización se puede crear mediante (i) adición de un gas tal como
nitrógeno, argón o dióxido de carbono a la atmósfera en la zona de
curado, y en especial cerca o en la superficie de la capa de
revestimiento, y (ii) minimizando la posibilidad de entrada de
aire, a.o. a través de un efecto de arrastre resultante del
movimiento relativo entre la capa de revestimiento y la plataforma
de irradiación, en esa zona.
La adición de un gas de inertización, tal como
nitrógeno, argón o dióxido de carbono a la atmósfera en la zona de
curado puede llevarse a cabo mediante el uso de un colector anular,
conectado mediante un tubo flexible a una fuente de gas de
intertización ubicada en la columna de soporte vertical del
dispositivo de revestimiento. Se pueden utilizar sellos para la
holgura anular en los dos extremos de la zona de curado, es decir,
en el extremo superior e inferior de la plataforma de irradiación,
con una pequeña holgura hacia la superficie periférica de la manga
revestida para evitar que el gas de inertización salga de la zona de
curado. Estos sellos tienen preferiblemente un diámetro interno
regulable para adaptarse con una pequeña holgura a los diversos
diámetros de la manga. Los diafragmas iris pueden ser sellos
adecuados para este propósito. Se puede realizar un flujo
controlado del gas de inertización en la zona de curado utilizando
los dos colectores, es decir, un colector de entrada y de
salida.
Es probable que la entrada de aire en la zona de
curado se produzca que en el extremo inferior de la zona de curado
cuando la plataforma de revestimiento se mueve hacia abajo durante
el proceso de revestimiento, esto es, entre la plataforma de
revestimiento y la plataforma de irradiación. La neutralización de
la toma de aire se puede realizar por medio de una cuchilla de
soplado anular en la entrada inferior de la zona de curado, es
decir, entre la plataforma de irradiación y la plataforma de
revestimiento. La cuchilla de soplado anular, que se mueve entre la
plataforma de revestimiento y la plataforma de irradiación, se puede
conectar mediante un tubo flexible a una fuente de gas de
inertización ubicada en la columna de soporte vertical del
dispositivo de revestimiento.
La adición de un entorno de inertización
"cerrado" a la plataforma de irradiación, se ha descrito para
la inhibición del oxígeno en los sistemas de curado UV mediante
radicales libres. Dependiendo de la formulación de revestimiento y
la forma en la que la capa líquida revestida es sometida a curado de
la superficie, se puede pensar en otras realizaciones de un entorno
de intertización.
En lugar de proporcionar e integrar una serie de
herramientas complementarias en y alrededor de la plataforma de
irradiación móvil para crear un entorno de inertización en la zona
de curado, el dispositivo de revestimiento completo se puede
proteger para cerrar el dispositivo al entorno ambiental, en cuyo
caso la tarea de creación de un entorno de inertización dentro del
dispositivo de revestimiento es mucho más simple. Alternativamente,
el dispositivo de revestimiento completo puede ser instalado en un
entorno inerte proporcionado por el usuario final.
Se ha mencionado en una sección anterior que la
potencia de radiación puede ser ajustada como una función de la
distancia óptica de la fuente de irradiación a la superficie
periférica de la manga, de manera que se logra el curado adecuado o
"congelación" de la capa revestida sobre la superficie
periférica de la manga. Esto mejora la compatibilidad de la
plataforma de irradiación con diferentes diámetros de manga. Es
especialmente ventajoso cuando la configuración de la plataforma de
irradiación es fija y donde las unidades de irradiación se colocan
fuera de una envoltura espacial cilíndrica alrededor del eje de
revestimiento ocupado por el diámetro mayor de la manga dentro de
un intervalo de diámetros de manga diferentes. Alternativamente,
cuando la configuración de la plataforma de irradiación es
ajustable, la posición radial de las unidades de irradiación
individuales desde el eje de revestimiento, es decir, su coordenada
radial en un sistema de coordenadas polares en torno al eje de
revestimiento, y/o la velocidad de giro de estas unidades en torno
al eje revestimiento pueden de ajustarse con el fin de mantener
constante la energía de radiación recibida por unidad de área en la
superficie periférica de las mangas de diferentes diámetros de
manga.
En cuanto al funcionamiento de la plataforma de
revestimiento con núcleos de manga de diferentes tamaños, el
menisco de revestimiento y el sello anular son cuestiones
importantes. El sello anular alrededor de la superficie periférica
de la manga evita la fuga y la descarga del líquido de revestimiento
del collar de revestimiento. Cuando se cambia el diámetro de la
manga, el collar de revestimiento completo (incluyendo el sello
anular) puede ser sustituido por otro adecuado para el nuevo
diámetro de manga o sólo el sello anular puede ser sustituido o
ajustado para encajar con el nuevo diámetro de la manga. Si el sello
anular se realiza como un diafragma iris del que se puede ajustar
la abertura dentro de un intervalo, no se requieren piezas de
recambio cuando se cambia el diámetro de la manga, siempre que el
diámetro de la manga se incluya dentro del intervalo de la abertura
ajustable. Si el sello anular está unido separablemente al collar de
revestimiento, se puede utilizar un sello con un diámetro interno
diferente fijo. El intervalo de diámetros internos del sello anular
que se puede utilizar con un collar de revestimiento está
determinando el diámetro de manga máximo y mínimo que puede ser
recubierto con ese collar de revestimiento.
Preferiblemente esa plataforma de revestimiento
y la plataforma de irradiación están diseñadas para soportar el
mismo intervalo de diámetros de manga de manera que ambos módulos
pueden ser pre-ensamblados en forma de tándem e
insertados o remplazados como un grupo.
Como se describió anteriormente, la plataforma
de irradiación o multitud de plataformas de irradiación se montan
en la parte superior de la plataforma de revestimiento y se mueven
junto con la plataforma de revestimiento como un único "grupo de
revestimiento". Desde el punto de vista mecánico, esto
proporciona la ventaja de que sólo se requiere un mecanismo de
elevación y descenso para hacer funcionar el dispositivo de
revestimiento vertical, mientras que desde el punto de vista
eléctrico, todas las conexiones eléctricas del "grupo de
revestimiento" se pueden proporcionar mediante un único cable
portador entre la columna de soporte vertical estacionaria y el
"grupo de revestimiento" móvil.
La obtención de una capa de revestimiento sobre
los núcleos de la manga con un espesor controlado y uniforme,
utilizando uno de los dispositivos de revestimiento descritos
anteriormente, puede ser difícil de lograr sin ningún tipo de
retroalimentación relacionada con la dosis de irradiación y la
uniformidad de irradiación aplicada eficazmente a la capa de
revestimiento. Por lo tanto se puede añadir un sistema de control de
la dosis de energía al "grupo de revestimiento" para medir la
tasa efectiva de curado de la capa aplicada y ajustar la dosis de
energía aplicada, la velocidad de giro (si fuera aplicable) y/o la
velocidad de revestimiento en un sistema de circuito cerrado. Un
espectrómetro de infrarrojo cercano se puede utilizar por ejemplo
para medir el grado de curado UV o EB, es decir, la tasa de curado,
de la capa de revestimiento.
Sin embargo, si el propósito de la plataforma de
irradiación es ajustar sólo parcialmente la capa aplicada como
revestimiento para evitar la descarga del líquido de revestimiento
de la manga, la dosis de radiación es menos crítica y puede no
requerirse el control de la dosis de irradiación en un sistema de
circuito cerrado. Puede ser suficiente una calibración de la
plataforma de irradiación junto con el control de circuito
abierto.
Se puede proporcionar un curado completo de la
capa aplicada como revestimiento fuera de línea utilizando los
dispositivos de tratamiento con manga existentes o se puede
proporcionar en línea utilizando sistemas de radiación adicionales
como se describe en la solicitud de patente Japonesa JP
54-014630. También se puede realizar un curado
completo de la capa de revestimiento mediante la adición de
capacidad de radiación a la plataforma de irradiación existente. La
capacidad adicional puede ser proporcionada por el aumento de la
potencia de radiación (por ejemplo, matrices de LED UV
adicionales), adición de diferentes fuentes de radiación (por
ejemplo, adición de radiación de longitud de onda UVA de curado
profunda a la radiación UVC de curado superficial), óptica de
colimación especialmente adaptada que libera una intensidad de
irradiación variable como una función de la distancia vertical al
menisco de revestimiento (por ejemplo, una fuente de radiación con
una óptica de colimación que proporciona una alta intensidad de
irradiación concentrada cerca del menisco de revestimiento, para
lograr un curado superficial de la capa de revestimiento, y una
intensidad de irradiación inferior diseminada verticalmente más
hacia fuera del menisco de revestimiento, para realizar el curado en
profundidad de la capa aplicada como revestimiento), o por la simple
duplicación de las plataformas de irradiación existentes.
El dispositivo de revestimiento de acuerdo con
la invención puede ser creado y preparado para operaciones de
revestimiento sin la presencia de un núcleo de manga. Para ello, se
puede utilizar una de las bridas o cabezales de montaje, para el
montaje de la manga en el dispositivo de revestimiento para
proporcionar una posición inicial para el grupo de revestimiento.
La brida o cabezal de montaje que proporciona esta posición inicial
tiene un diámetro externo similar o un poco más pequeño que el
diámetro de los núcleos de la manga destinados a utilizarse con la
brida o cabezal de montaje. Cuando el grupo de revestimiento se
encuentra en su posición inicial, el sello anular del collar de
revestimiento se puede ajustar para encajar con el diámetro del
núcleo de la manga, incluso antes de montar el núcleo de la manga en
el dispositivo de revestimiento, y el collar de revestimiento se
puede llenar con un líquido de revestimiento, sin fugas. La
plataforma de revestimiento queda lista para las operaciones de
revestimiento. Si las bridas o cabezales de montaje se utilizan con
diámetros externos sustancialmente diferentes al diámetro de los
núcleos de la manga a revestir, la preparación del grupo de
revestimiento no se puede realizar sin la presencia de un núcleo de
la manga montado en el dispositivo de revestimiento. Después la
propia manga debe proporcionar una posición inicial para el grupo de
revestimiento. Esto no es sin embargo una situación preferida ya
que se requiere un cuidado adicional y el ajuste del collar de
revestimiento con cada cambio del núcleo de la manga.
\newpage
Después de preparar el grupo de revestimiento y
montar el núcleo de la manga en el dispositivo de revestimiento, el
mecanismo de elevación y descenso mueve el grupo de revestimiento a
una posición de partida con el menisco de revestimiento cerca de o
un poco más allá del final del núcleo de la manga, dependiendo del
tipo de brida o cabezal de montaje utilizados. El procedimiento de
revestimiento se inicia preferiblemente en el extremo superior del
núcleo de la manga y continúa en dirección descendente hacia el
extremo inferior del núcleo de la manga mientras el mecanismo de
elevación y descenso mueve hacia abajo el grupo de revestimiento.
Como el grupo de revestimiento se mueve hacia abajo, la plataforma
de irradiación sigue inmediatamente después e irradia la capa de
revestimiento recién aplicada para curar al menos la superficie de
la capa aplicada como revestimiento, lo que impide la descarga de
la capa de líquido aplicada. Si se utiliza una etapa de irradiación
giratoria, la plataforma de irradiación no sólo sigue el menisco de
revestimiento a una distancia fija, sino que además gira en torno
al núcleo de la manga para generar una irradiación de 360º uniforme
de la capa aplicada como revestimiento. Al final del proceso de
revestimiento, el mecanismo de elevación y descenso detiene el grupo
de revestimiento con el menisco de revestimiento próximo o algo más
allá del extremo inferior del núcleo de la manga, dependiendo del
tipo de brida o cabezal de montaje utilizado. Si las bridas o los
cabezales de montaje permiten el revestimiento de extremo a extremo
del núcleo de la manga, el grupo de revestimiento moverá esos tan
lejos hacia abajo como para permitir que la plataforma de
irradiación irradie la capa aplicada como revestimiento hasta el
extremo inferior del núcleo de la manga. El espesor de la capa de
revestimiento se puede controlar a través de la velocidad del grupo
de revestimiento que se mueve hacia abajo, la viscosidad del líquido
de revestimiento o el número de operaciones de revestimiento
sucesivas aplicadas (véase más adelante). Después del procedimiento
de revestimiento, el grupo de revestimiento se deja en su posición
frente a la brida o cabezal de montaje inferior o superior y la
manga revestida se puede retirar sin un cuidado especial por el
collar de revestimiento.
Alternativamente, se puede aplicar una capa de
revestimiento mientras el grupo de revestimiento se mueve hacia
arriba, en cuyo caso el mecanismo de revestimiento es un mecanismo
de revestimiento de tipo escobilla de goma, en lugar del
revestimiento de tipo inmersión durante un movimiento descendente
del grupo de revestimiento como se ha descrito anteriormente. La
aplicación de una capa de revestimiento durante el movimiento
ascendente del grupo de revestimiento, puede requerir una
plataforma de irradiación colocada por debajo de la plataforma de
revestimiento y moverse junto con la plataforma de revestimiento
para curar al menos la superficie de la capa de revestimiento
aplicada con la escobilla de goma. Las capas de revestimiento de
tipo escobilla de goma, asociadas a un movimiento ascendente del
collar de revestimiento, pueden ser más delgadas que las capas de
revestimiento de tipo inmersión, asociadas con un movimiento
descendente del collar de revestimiento. Desafortunadamente no
existe una fórmula análoga a Eq.1, conocida por los autores de la
presente invención por predecir el espesor de la capa de
revestimiento de tipo escobilla de goma. Cada una de las
alternativas por lo tanto puede tener ventajas en aplicaciones
específicas.
El dispositivo de revestimiento puede funcionar
también en un modo de pasos múltiples con el "curado"
intermedio de la superficie de cada una de las capas aplicadas. El
revestimiento puede ser principalmente bidireccional o
unidireccional como resultará evidente a partir de lo siguiente.
Un modo de funcionamiento de pasos múltiples
puede incluir las etapas de aplicar una primera capa de
revestimiento de inmersión mientras se mueve un grupo de
revestimiento hacia abajo y curar por lo menos la superficie de la
primera capa de revestimiento de inmersión con una plataforma de
irradiación superior ubicada arriba y mover con la plataforma de
revestimiento; y luego mover el grupo de revestimiento hacia arriba
mientras se aplica una primera capa de revestimiento con escobilla
de goma y opcionalmente curar al menos la superficie de la primera
capa de revestimiento aplicada con la escobilla de goma con una
plataforma de irradiación inferior colocada por debajo y mover con
la plataforma de revestimiento; después de eso aplicar una segunda
capa de revestimiento de inmersión mientras se mueve el grupo de
revestimiento hacia abajo y curar al menos la superficie de la
segunda capa de revestimiento de inmersión con la plataforma de
irradiación superior moviéndose con la plataforma de revestimiento,
etc. Puesto que la escobilla de goma anular del collar de
revestimiento está diseñada para evitar fugas de líquido del collar
de revestimiento en el contacto deslizante entre el collar de
revestimiento y la manga, el espesor de la capa aplicada a través de
un revestimiento de tipo escobilla de goma durante un movimiento
ascendente del grupo de revestimiento típicamente es
significativamente menor que el espesor de la capa aplicada por el
revestimiento de inmersión durante el movimiento descendente del
grupo de revestimiento. En este caso, hay una acción de
revestimiento principal (inmersión) durante el movimiento
descendente del grupo de revestimiento y una acción de revestimiento
fraccionaria (escobilla de goma) durante el movimiento ascendente
del mismo. El revestimiento es principalmente unidireccional. Por lo
tanto el curado intermedio de la capa de revestimiento fraccionaria
(escobilla de goma) puede no ser necesario, ya que se fusionará con
la capa de revestimiento principal subsiguiente significativamente
más gruesa (inmersión) de una acción de revestimiento posterior
durante un movimiento descendente del grupo de revestimiento. La
capa de revestimiento de inmersión es por supuesto irradiada
utilizando la plataforma de irradiación superior. Por lo tanto, un
dispositivo de revestimiento de pasos múltiples de acuerdo con la
invención no necesariamente comprende una plataforma de irradiación
superior e inferior para curar al menos la superficie de la capa de
revestimiento en ambas direcciones de revestimiento; puede servir
una sola plataforma de irradiación vinculada a una dirección
principal de revestimiento.
El funcionamiento de pasos múltiples del
dispositivo de revestimiento descrito puede ser utilizado para la
aplicación de gruesas capas uniforme de material de revestimiento
sobre los núcleos de la manga. Se puede utilizar por ejemplo en los
casos en los que los parámetros fisicoquímicos del líquido de
revestimiento, por ejemplo, viscosidad, o las limitaciones del
dispositivo de revestimiento, por ejemplo, velocidad de
revestimiento, limitarían el espesor de la capa aplicada como
revestimiento como se pronostica a partir de Eq.1 a un valor por
debajo del funcionalmente necesario para la aplicación.
Especialmente para las mangas flexográficas o matrices de
impresión, la capa formadora de relieve puede requerir un espesor de
varios milímetros, lo cual es difícil de lograr en un proceso de
revestimiento de un solo paso.
El funcionamiento de pasos múltiples del
dispositivo de revestimiento también se puede utilizar para aplicar
una multitud de capas de formulaciones líquidas de revestimiento
diferentes. Los líquidos de revestimiento pueden tener diferentes
propiedades fisicoquímicas, por ejemplo, viscosidad, o las capas de
revestimiento correspondientes pueden tener diferentes propiedades
fisicoquímicas o mecánicas tales como compresibilidad, dureza,
resistencia al desgaste, humectabilidad. Por ejemplo, para la
producción de mangas flexográficas, puede ser deseable disponer de
una base compresible (adecuada para absorber por ejemplo la
desuniformidad en el material de impresión de cartón corrugado) y
una superficie dura (para una mayor durabilidad y adecuada para
tiradas de impresión más largas). Si se desea se puede crear un
perfil de espesor fisicoquímico completo para la multicapa aplicada
como revestimiento.
Las bridas o cabezales de montaje pueden
requerir una limpieza regular para eliminar residuos del líquido de
revestimiento de los procedimientos de revestimiento de extremo a
extremo o vinculados a su utilización como posición inicial para el
collar de revestimiento. Una capa repelente del líquido
revestimiento en las bridas o los cabezales de montaje puede
facilitar esta limpieza.
Sólo si se va a revestir un tamaño diferente de
la manga, se pueden instalar bridas o cabezales de montaje
diferentes y el sello anular del collar de revestimiento se puede
cambiar o ajustar para que coincida con el diámetro de la manga
nueva. Un ejemplo de sello anular ajustable es un diafragma iris
ajustable que comprende hojas de sellado superpuestas en el que la
apertura del diafragma, es decir, la apertura, se puede ajustar
mediante el ajuste de la posición de las hojas entre sí, como se
conoce en fotografía. Cuanto mayor sea el número de hojas en el
diafragma iris, mejor será la característica de sellado del
diafragma iris alrededor de la superficie periférica de la
manga.
\vskip1.000000\baselineskip
Después del curado, el precursor de forma para
impresión se graba con radiación láser. El grabado láser implica la
absorción de la radiación láser, el calentamiento localizado y la
eliminación del material calentado y/o descompuesto. En un
procedimiento de grabado láser, la imagen deseada se convierte en
datos digitales y se forma un patrón de relieve, que corresponde a
la imagen deseada, en el elemento de impresión láser. Por lo
general los láseres de alta potencia que emiten en la región del
infrarrojo o del infrarrojo cercano como los láseres
Nd-YAG o de dióxido de carbono se utilizan para el
grabado láser. Un láser que es particularmente adecuado para grabar
precursores de forma para impresión flexográfica es un láser de
dióxido de carbono que emite a una longitud de onda de 10,6 \mum
ya que los láseres de dióxido de carbono son asequibles
comercialmente a un coste razonable. El láser de dióxido de carbono
puede operar en onda continua y/o en modo pulso. Normalmente, el
precursor de forma para impresión flexográfica se monta sobre un
tambor giratorio asociado con el láser. Mientras que el tambor gira
y se traslada con respecto al rayo láser, el precursor se expone al
rayo láser en forma espiral. El rayo láser, que está modulado con
los datos de imagen, forma de este modo una imagen en relieve sobre
el precursor de forma para impresión.
El grabado se realiza a menudo bajo un flujo de
aire para eliminar productos de descomposición gaseosos o
particulados o a vacío como se describe por ejemplo en los
documentos EP-A 1 727 674 y EP-A 1
727 672.
Una vez finalizado el grabado mediante láser,
los residuos en polvo o líquidos generados en pequeñas cantidades se
pueden eliminar mediante una solución acuosa que comprende un
tensioactivo o disolvente o vapor de agua a alta presión.
Las grabadoras láser asequibles comercialmente
son por ejemplo HELIOFLEX F1200, HELIOFLEX F1600 y HELIOFLEX 2100 de
HELL COMPANY; AGRIOS 512X, MORPHEUS 621x, HELIOS 6010 y NEOS 5010 de
STORK; FLEXOPOSE!DIRECT 250L, FLEXOPOSE!DIRECT 301, FLEXOPOSE!DIRECT
302, FLEXOPOSE!DIRECT 602 y FLEXOPOSE!DIRECT 603 de LUESCHER;
FLEXOSTAR CTP, DUOSTAR y FLEXOSTAR MINI de LEAD
LASERS.
LASERS.
\vskip1.000000\baselineskip
- \bullet
- VERBATIM HR50 un fotopolímero líquido de CHEMENCE.
- \bullet
- IRGACURE 127 un foto-iniciador de CIBA-GEIGY.
- \bullet
- IRGACURE 651 un foto-iniciador de CIBA-GEIGY.
- \bullet
- BHT = 2,6-di-t-butil-4-metilfenol, un inhibidor de Aldrich.
- \bullet
- BAYSILON LACKADDITIV PL, un aceite de silicona de Bayer AG. En los ejemplos este compuesto es referido como BAYSILON PL.
- \bullet
- SILICONE X22167B, un aceite de silicona de SHIN-ETSU CHEMICAL COMPANY.
- \bullet
- SILICON FLUID L054 un polialquilmetilaralquil-metilsiloxano de WACKER-CHEMIE.
- \bullet
- SILICON OIL AP200, un aceite de silicona de WACKER-CHEMIE.
- \bullet
- SYLYSIA 770, una sílice amorfa de QOLORTECH BV.
- \bullet
- TEGOGLIDE 450, un polisiloxano modificado con poliéter de Goldschmidt.
- \bullet
- TEGOGLIDE 410, un poli (dimetilsiloxano-co(etilenglicolpropileneglicol)) lubricante.
- \bullet
- GENIOSIL XL33, un acrilato de silicona de WACKER CHEMIE.
- \bullet
- GENIOSIL GF31, un acrilato de silicona de WACKER CHEMIE.
- \bullet
- Sartomer CN966H90, un diacrilato de uretano alifático de SARTOMER (una solución al 90% en peso de 2-(2-etoxietoxil)acrilato de etilo).
- \bullet
- EBECRYL 350, un diacrilato silicona de CYTEC.
- \bullet
- EBECRYL 1360, un hexa-acrilato de polisiloxano de CYTEC.
- \bullet
- ACTILANE 800, una resina de acrilato de polisiloxano de AKZO-NOBEL.
- \bullet
- SARTOMER SR604, un metacrilato de propilenglicol de SARTOMER.
- \bullet
- SARTOMER SR340, un fenoxietoximetacrilato de SARTOMER.
- \bullet
- AGEFLEX FM246, un metacrilato laurilo de CIBA GEIGY.
\vskip1.000000\baselineskip
Este ejemplo ilustra las superiores propiedades
de grabado láser obtenidas con las composiciones curables que
comprenden compuestos de silicio orgánico que contienen al menos un
grupo polimerizable en comparación con las composiciones curables
que comprenden compuestos de silicio orgánico sin un grupo
polimerizable o sin un compuesto de silicio orgánico.
\vskip1.000000\baselineskip
Las composiciones curables
INV-01, INV-02,
COMP-01 a COMP-12 se preparan
mezclando los ingredientes de la Tabla 1 a temperatura ambiente.
Las composiciones curables
INV-01, INV-02 y
COMP-01 a COMP-12 fueron aplicadas
como revestimientos con un espesor de 700 \mum sobre un soporte de
poliéster. La capa de revestimiento se introdujo después en una caja
de cristal de cuarzo cargada con nitrógeno.
El curado UV-A se llevó a cabo
en una caja de luz UV-A equipada con 8 lámparas
Philips TL 20W/10 UVA (\lambda_{max} = 370 nm). La distancia
entre las lámparas y la muestra fue de aproximadamente 10 cm.
El post-curado
UV-C se llevó a cabo con una caja de luz equipada
con 4 lámparas Philips TUV (\lambda_{max} = 254 nm). El
post-curado se realizó en nitrógeno. El tiempo de
curado fue de 20 minutos.
El grabado láser de las composiciones curadas se
inspeccionó con un láser de CO_{2} Synrad 57-1, un
láser de onda continua con una potencia nominal de 100 W y un tamaño
de punto de 0,2 mm. Los tiempos de permanencia de los píxeles fueron
entre 30 y 50 \mus. Se utilizaron diferentes ajustes de potencia:
85 y 100% de la potencia máxima.
Las cavidades grabadas mediante láser fueron
inspeccionadas con un microscopio óptico (Nikon), estando conectado
dicho microscopio a una cámara digital (JVC, TK1270). El nivel de
residuos, como se observó con el microscopio óptico, se ha
proporcionado como un número de calificación de 0 a 6 (0 significa
que no hay residuos líquidos, 6 significa un alto nivel de residuos
líquidos). El nivel de residuos se muestra en la Tabla 2. Las
fotografías con microscopio óptico de las muestras obtenidas con
COMP-01, INV-01,
INV-02 y COMP-07 se muestran en la
Figura 4 como ilustración de los resultados.
\vskip1.000000\baselineskip
Una copa circular (diámetro = 5,9 cm, altura =
3,9 mm) se cargó con las composiciones curables mediante UV de la
Tabla 1. El exceso de líquido se eliminó con una hoja metálica de
corte limpia. La copa se introdujo en una caja de cristal de cuarzo
cargada con nitrógeno.
El curado UV-A se realizó con
una caja de luz UV-A como se ha descrito
anteriormente. La distancia entre la luz y la muestra fue de
aproximadamente 10 cm. El tiempo de curado fue de 10 minutos.
Posteriormente, la muestra curada se sacó de la copa circular y la
parte posterior de la muestra se curó durante 5 minutos con el mismo
dispositivo de exposición.
El post-curado
UV-C se realizó con una caja de luz, como se ha
descrito anteriormente, en atmósfera de nitrógeno durante 20
minutos.
La dureza Shore A se midió con un Durómetro
Shore, empleando un indentador puntiagudo con una carga de 12,5 N.
Las lecturas de la escala oscilan de 0 (0, 254 cm de penetración) a
100 (cero penetración).
\vskip1.000000\baselineskip
Las formulaciones de la Tabla 1 se aplicaron
como revestimiento con un espesor de 290 micras sobre un soporte de
poliéster. Los post-curados UV-A y
UV-C se llevaron a cabo como se ha descrito
anteriormente. La flexibilidad se determinó curvando las muestras
180º y evaluando la presencia de fracturas en la capa curada con una
lupa.
\vskip1.000000\baselineskip
Las formulaciones de la Tabla 1 se aplicaron
como revestimiento con un espesor de 290 micras sobre una plancha
flexográfica Cyrel HIQ DuPont pre-curada y tratada.
Las capas de revestimiento se introdujeron en una caja de cristal
de cuarzo, cargada con nitrógeno, y se sometieron a curado
UV-A y UV-C como se ha descrito
anteriormente.
La impresión se llevó a cabo en una prensa de
impresión flexográfica de laboratorio RK Koater provista de un
rodillo anilox tipo 360 (volumen de celdas 7,8 cm^{3}/m^{2}) y
una cuchilla doctora de acero, todos de RK
Print-Coat Instruments Ltd., a una velocidad de
impresión de 32,5 m/minuto. La tinta de impresión utilizada fue
Aqua Base Plus Blue ET-51405, una base de tinta
flexográfica pigmentada a base de agua para etiquetas
autoadhesivas, de Royal Dutch Printing Ink Printing Factories Van
Son. Las impresiones se realizaron con papel revestido brillante
Raflagloss de Raflatac Benelux. Las densidades de impresión sobre el
papel se midieron con un densitómetro MacBeth RD918SB utilizando un
filtro SPI Red.
La dureza Shore A, las densidades de impresión y
el nivel de los residuos obtenidos con las composiciones curadas
INV-01, INV-02 y
COMP-01 a COMP-12 de la Tabla 1 se
muestran en la Tabla 2.
\vskip1.000000\baselineskip
La flexibilidad de todas las muestras fue
excelente. Tabla 2 y la Figura 4 indican claramente que con las
muestras de la invención, INV-01 y
02-INV, se forman menos residuos en comparación con
las muestras comparativas COMP-01 a
COMP-12. La Dureza Shore A y las densidades de
impresión son comparables en todas las muestras. Esto ilustra
claramente que con las composiciones de la invención, que comprende
un compuesto de silicio orgánico con al menos un grupo
polimerizable, se forman menos residuos después del grabado láser
sin afectar adversamente a la dureza Shore A, la flexibilidad y las
propiedades de impresión. Los ejemplos comparativos que tienen un
compuesto de silicio orgánico sin un grupo polimerizable
(COMP-02 a COMP-12) no dan como
resultado, o dan como resultado sólo ligeramente, menos formación
de residuos en comparación con el ejemplo comparativo sin un
compuesto de silicio orgánico (COMP-01).
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Este ejemplo ilustra las superiores propiedades
del grabado láser obtenidas con composiciones curables que
comprenden un compuesto de silicio orgánico que contiene al menos un
grupo polimerizable en comparación con las composiciones curables
sin un compuesto de silicio orgánico. Este ejemplo también muestra
que un mayor número de grupos polimerizables del compuesto de
silicio orgánico utilizado en las composiciones curables mejora
adicionalmente las propiedades de grabado láser, es decir la
formación de residuos.
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(Tabla pasa a página
siguiente)
\newpage
Las composiciones curables
INV-03 a INV-06 y
COMP-13 se prepararon mezclando los ingredientes de
la Tabla 3 a temperatura ambiente.
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Las composiciones de la Tabla 3 se aplicaron
como revestimiento con un espesor de 700 \mum sobre un soporte de
poliéster. Las capas aplicadas como revestimiento se cubrieron con
una capa protectora de Poliéster/Silicona de 23 \mum. El curado
UV-A se realizó con un caja de luz
UV-A, como se ha descrito en el Ejemplo 1, durante
2 minutos. Después del curado UV-A se separó la capa
protectora. El post-curado UV-C se
realizó con una caja de luz, como se ha descrito en el Ejemplo 1.
El post-curado se realizó bajo el agua durante 20
minutos. Para mejorar la planeidad, las muestras aplicadas como
revestimiento se fijaron sobre una lámina de polipropileno de 1 mm
de grosor con cinta adhesiva de doble cara.
El grabado láser se realizó con el láser de
CO_{2} Synrad descrito en el ejemplo 1. Las cavidades grabadas
mediante láser fueron inspeccionadas con un microscopio óptico
(Nikon), estando conectado dicho microscopio a una cámara digital
(JVC, TK1270). Al nivel de residuos, según se observó con el
microscopio óptico, se le otorgó un número de calificación de 0 a
6; 0 significa que no hay residuos líquidos, 6 significa un alto
nivel de residuos líquidos. En la tabla 4, el nivel de residuos
(N.R., una escala de 0 a 6) y el diámetro (0) de las cavidades
grabadas mediante láser, obtenidos con las diferentes composiciones
curado de la Tabla 3 (INV-03 a
INV-06 y COMP-13) se muestran para
diferentes configuraciones de potencia del láser de CO_{2} (85 y
100% de la potencia máxima) y diferentes tiempos de permanencia de
los píxeles (30 a 50 \mus). La denotación 85:30 en la Tabla 4
significa un nivel de potencia de 85% de la potencia máxima y un
tiempo de permanencia de los píxeles de 30 \mus.
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En la Figura 5 las fotografías microscópicas de
las cavidades grabadas mediante láser (configuración del láser
100:40) de las muestras COMP-13 e
INV-03 a INV-06 a se muestran a modo
de ilustración.
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Las formulaciones de la Tabla 3 se aplicaron
como revestimiento con un espesor de 290 micras sobre un soporte de
poliéster. Las capas aplicadas como revestimiento se cubrieron con
una capa protectora de poliéster/silicona de 23 \mum, antes de su
curado.
El curado UV-A, se realizó como
se ha descrito en el Ejemplo 1 durante 1 minuto, seguido por la
eliminación de la capa protectora.
El post-curado
UV-C se realizó como se ha descrito en el Ejemplo 1
durante 20 minutos.
\vskip1.000000\baselineskip
La adherencia se evaluó mediante dos métodos de
ensayo diferentes:
- Método de ensayo del Corte Cruzado según la
norma ASTM D 3359 utilizando una cinta de Permacel. Se proporciona
una calificación como una función del porcentaje de área
separada:
\newpage
- Ensayo de despegado manual. Con un cuchillo
afilado se hace una incisión a través del revestimiento curado. En
la incisión, se evaluó la separabilidad del revestimiento curado del
soporte de poliéster:
\vskip1.000000\baselineskip
La flexibilidad se evaluó como se describe en el
Ejemplo 1.
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La pegajosidad de las superficies de las capas
curadas se clasificó de 0 a 10:
Las propiedades de pegajosidad y de adherencia
obtenidas con las formulaciones curadas de la Tabla 3
(INV-03 a INV-06 y
COMP-13) se muestran en la Tabla 5, junto con la
dureza Shore A, determinada como se describe en el Ejemplo 1. La
flexibilidad de todas las muestras fue excelente.
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\vskip1.000000\baselineskip
Las formulaciones de la Tabla 3 se aplicaron
como revestimiento con un espesor de 290 micras sobre una placa
flexográfica Cyrel HIQ DuPont pre-curada y tratada.
El curado UV-A se llevó a cabo como se ha descrito
en el Ejemplo 1 durante 2 minutos, seguido por la eliminación de la
película de cubierta protectora. El post-curado
UV-C se realizó bajo el agua como se ha descrito en
el Ejemplo 1 durante 20 minutos.
La impresión se llevó a cabo en una prensa de
impresión flexográfica de laboratorio RK Koater descrita en el
Ejemplo 1. Las tintas de impresión aplicadas fueron Hydrokett 2000
Blue, una tinta pigmentada a base de agua para etiquetas
autoadhesivas de AKZO NOBEL y Aqua Base Plus Blue
ET-51405, una tinta pigmentada a base de agua para
etiquetas autoadhesivas de Royal Dutch Printing Ink Factories Van
Son. La impresión se realizó en papel Raflagloss (véase el Ejemplo
1). Las densidades de impresión en papel, medidas con un
densitómetro MacBeth RD918-SB, se muestran en la
Tabla 6 para ambas tintas. Como referencia, las densidades de
impresión obtenidas con una forma para impresión flexográfica DuPont
Cyrel HIQ también se muestran en la Tabla 6.
El Ejemplo 2 ilustra que los precursores de
forma para impresión flexográfica preparados a partir de la
composición curable que contiene un compuesto de silicio orgánico
que comprende al menos un grupo polimerizable se caracterizan por
propiedades de grabado láser mejoradas, es decir, menos formación de
residuos, mientras que las otras propiedades tales como
flexibilidad, dureza, propiedades de impresión, adherencia no
resultan afectadas negativamente. Por otra parte, el Ejemplo 2
ilustra que las propiedades de grabado láser mejoran adicionalmente
cuando aumenta el número de grupos polimerizables de los compuestos
silicio orgánico.
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Este ejemplo ilustra la influencia de la
cantidad del compuesto de silicio orgánico utilizado en las
composiciones curables para preparar el precursor de forma para
impresión flexográfica.
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Las composiciones curables
INV-07 a INV-09 y
COMP-14 se prepararon mezclando los ingredientes de
la Tabla 7 a temperatura ambiente.
Las formulaciones COMP-14 e
INV-07 a INV-09 se aplicaron como
revestimiento con un espesor de 700 \mum sobre un soporte de
poliéster. El curado UV-A se realizó, como se ha
descrito en el ejemplo 2, durante 2 minutos, seguido de un curado
UV-C, como se describe en el ejemplo 2, bajo el agua
durante 20 minutos.
El grabado con láser se realizó como se ha
descrito en el ejemplo 2.
Las cavidades grabadas mediante láser fueron
inspeccionados con un microscopio óptico (Nikon), estando conectado
dicho microscopio a una cámara digital (JVC, TK1270). Al nivel de
residuos, según se observó con el microscopio óptico, se le otorgó
un número de calificación 0 a 6 (0 significa que no hay residuos
líquidos, 6 significa un alto nivel de residuos líquidos) y se
proporciona en la Tabla 8.
De la Tabla 8 resulta evidente que todos los
precursores de forma para impresión de la invención
(INV-07 a INV-09) obtenidos con las
composiciones curables que comprenden el compuesto de silicio
orgánico se caracterizan por la menor formación de residuos después
del grabado láser en comparación con el precursor de forma para
impresión comparativo obtenido con una composición curable sin el
compuesto de silicio orgánico. De la Tabla 8 se puede concluir que
la formación de residuos disminuye cuando aumenta la cantidad de
compuesto de silicio orgánico de 1,8 a 8,6% en peso con respecto al
peso total de las composiciones curables.
\vskip1.000000\baselineskip
Este ejemplo ilustra la realización en la que la
capa más externa está formada por una composición curable que
consiste esencialmente en el compuesto de silicio orgánico y un
iniciador.
En la parte superior del ejemplo comparativo
COMP-14 del ejemplo 3, se aplicó como revestimiento
una composición curable que comprendía 30,0 g de Ebecril 1360 y 1,5
g de Irgacure 651 con un espesor de 30 \mum, seguido de curado
UV-A y UV-C como se describe en
Ejemplo 3, dando como resultado el ejemplo de la invención
INV-10.
El grabado láser fue realizado y evaluado como
se ha descrito en el ejemplo 2. Los niveles de residuos de
INV-10 y COMP-14 se muestran en la
Tabla 9. Las fotografías con el microscopio óptico de las cavidades
grabadas se muestran en la Figura 6 a modo de ilustración. De la
Tabla 9 y la Figura 6 resulta evidente que la provisión de una capa
superior, que consiste esencialmente en el silicio orgánico y un
iniciador da como resultado menos formación de residuos después del
grabado láser. Este ejemplo ilustra el sorprendente resultado de que
un precursor de forma para impresión flexográfica que comprende una
primera capa que consiste esencialmente en el compuesto de silicio
orgánico y un iniciador y con un espesor (mucho) más pequeño que la
profundidad de grabado láser, da como resultado una mejora
sustancial de la formación de residuos después del grabado láser de
dicho precursor.
Claims (15)
1. Un método para elaborar una forma para
impresión flexográfica que comprende las etapas de:
- -
- Proporcionar un precursor de forma para impresión flexográfica;
- -
- Exponer el precursor en lo que respecta a la imagen a un láser para grabar una imagen en relieve en dicho precursor;
donde el precursor es obtenible;
- (i)
- proporcionando al menos una capa de una composición curable sobre un substrato;
- (ii)
- curando dicha al menos una capa;
donde la composición curable que forma una capa
más externa comprende al menos 0,5% en peso con respecto al peso
total de la composición de un compuesto de silicio orgánico que
comprende al menos un grupo polimerizable.
\vskip1.000000\baselineskip
2. El método según la reivindicación 1, donde
dicho compuesto de silicio orgánico comprende al menos dos grupos
polimerizables.
3. El método según la reivindicación 1, donde
dicho compuesto de silicio orgánico comprende al menos cuatro grupos
polimerizables.
4. El método según la reivindicación 1, donde
dicho compuesto de silicio orgánico comprende al menos seis grupos
polimerizables.
5. El método según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, donde la cantidad del compuesto silicio
orgánico es de al menos 2,5% en peso con respecto al peso total de
la composición curable que forma la capa más externa.
6. El método según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, donde la composición curable que forma
la capa más externa comprende además un
foto-iniciador.
7. El método según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, donde la composición curable que forma
la capa más externa consiste fundamentalmente en el compuesto de
silicio orgánico y opcionalmente un
foto-iniciador.
8. El método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 6, donde la composición curable que forma la
capa más externa comprende adicionalmente al menos 50% en peso con
respecto al peso total de la composición de un oligómero de
(met)acrilato de uretano.
9. El método según la reivindicación 7, donde al
menos una capa de la composición curable comprende al menos 50% en
peso con respecto al peso total de la composición de un oligómero de
(met)acrilato de uretano.
10. El método según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, donde si se proporciona más de una capa
de una composición curable sobre el sustrato, la etapa de curado se
realiza después de que se proporcione cada capa de la composición
curable.
11. El método según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, donde el curado se realiza con
radiación ultravioleta.
12. El método según la reivindicación 11, donde
el curado se realiza en una primera y una segunda etapa con
radiación UV-A o radiación UV-C.
13. Un precursor de forma para impresión
flexográfica para grabado láser que tiene una capa más externa que
consiste esencialmente en un compuesto de silicio orgánico que
comprende al menos un grupo polimerizable y, opcionalmente, un
iniciador.
14. El precursor según la reivindicación 13,
donde la capa más externa tiene un espesor de menos de 0,5 mm.
15. El uso de un compuesto de silicio orgánico
que comprende al menos un grupo polimerizable en un precursor de
forma para impresión flexográfica para reducir la formación de
residuos después del grabado láser del precursor.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP06126593A EP1936438B1 (en) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | Flexographic printing forme precursor for laser engraving |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2340605T3 true ES2340605T3 (es) | 2010-06-07 |
Family
ID=38042700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES06126593T Active ES2340605T3 (es) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | Precursor de forma para impresion flexografica grabable por laser. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US8268533B2 (es) |
| EP (1) | EP1936438B1 (es) |
| AT (1) | ATE460686T1 (es) |
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| ES (1) | ES2340605T3 (es) |
| WO (1) | WO2008074796A1 (es) |
Families Citing this family (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009102035A1 (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | 樹脂組成物 |
| US20110108518A1 (en) * | 2008-07-10 | 2011-05-12 | Agfa Graphics Nv | Method and device for coating a peripheral surface of a sleeve core |
| JP5443968B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法 |
| EP2571691B1 (en) * | 2010-05-18 | 2016-05-11 | AGFA Graphics NV | Method of preparing a flexographic printing master |
| US8795950B2 (en) | 2010-06-30 | 2014-08-05 | Jonghan Choi | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
| EP2656144B1 (en) | 2010-12-20 | 2020-06-24 | Agfa Nv | A curable jettable fluid for making a flexographic printing master |
| EP2656145B1 (en) | 2010-12-20 | 2019-03-20 | Agfa Nv | A curable jettable fluid for making a flexographic printing master |
| ES2550469T3 (es) | 2010-12-20 | 2015-11-10 | Agfa Graphics N.V. | Método para fabricar una matriz de impresión flexográfica |
| ES2441170T3 (es) | 2011-06-21 | 2014-02-03 | Agfa Graphics N.V. | Líquido eyectable curable para fabricar una matriz de impresión flexográfica |
| WO2012175525A1 (en) | 2011-06-21 | 2012-12-27 | Agfa Graphics Nv | A curable jettable fluid for making a flexographic printing master |
| EP2574458A1 (en) | 2011-09-30 | 2013-04-03 | Agfa Graphics N.V. | Method of preparing a flexographic printing master |
| JP5466688B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2014-04-09 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法 |
| EP2617773A1 (en) * | 2012-01-19 | 2013-07-24 | Fujifilm Corporation | Resin composition for flexographic printing plate, laser-engraving type flexographic printing plate precursor and process for producing same, and flexographic printing plate and process for making same |
| US9114601B2 (en) * | 2012-03-01 | 2015-08-25 | Kyle P. Baldwin | Clean flexographic printing plate and method of making the same |
| US9096090B2 (en) * | 2012-05-09 | 2015-08-04 | Ryan W. Vest | Liquid platemaking with laser engraving |
| WO2014093828A2 (en) | 2012-12-14 | 2014-06-19 | The Procter & Gamble Company | Antiperspirant and deodorant compositions |
| ES2572002T3 (es) * | 2012-12-18 | 2016-05-27 | Agfa Graphics Nv | Método para fabricar una matriz de impresión flexográfica |
| US8803109B1 (en) | 2013-03-15 | 2014-08-12 | Shawn Crawford Mcpherson | Energy efficient multi-spectrum screen exposure system |
| WO2016049397A1 (en) | 2014-09-26 | 2016-03-31 | The Procter & Gamble Company | Freshening compositions and devices comprising same |
| US9714396B2 (en) | 2014-10-16 | 2017-07-25 | Encapsys Llc | Controlled release dual walled microcapsules |
| US10485739B2 (en) | 2014-10-16 | 2019-11-26 | Encapsys Llc | High strength microcapsules |
| US9714397B2 (en) | 2014-10-16 | 2017-07-25 | Encapsys Llc | Controlled release microcapsules |
| JP6418012B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2018-11-07 | 東レ株式会社 | レーザー彫刻用樹脂印刷版原版 |
| JP6487262B2 (ja) * | 2015-04-15 | 2019-03-20 | 旭化成株式会社 | レーザー彫刻用印刷版積層体 |
| DE102015007290A1 (de) * | 2015-06-10 | 2016-12-15 | Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung einer Flexodruckform sowie Flexodruckform |
| BR112017027600A2 (pt) | 2015-06-29 | 2018-09-04 | Takasago Int Corporation Usa | composição de fragrância, produto de consumo e método para reduzir ou inibir a resposta ao estresse em um indivíduo necessitando do mesmo |
| US12465547B2 (en) | 2015-07-30 | 2025-11-11 | Eva Medtec, Inc. | Therapeutic massage system |
| CN108697599B (zh) | 2016-03-24 | 2024-09-17 | 宝洁公司 | 包含恶臭减少组合物的毛发护理组合物 |
| WO2018114656A1 (en) | 2016-12-20 | 2018-06-28 | Agfa Nv | Flexo-platemaker and method of making a flexo-plate |
| US10576733B2 (en) | 2017-02-14 | 2020-03-03 | M&R Printing Equipment, Inc. | Tuneable flat panel UV exposure system for screen printing |
| JP6974928B2 (ja) | 2017-10-10 | 2021-12-01 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company | コンパクトなシャンプー組成物 |
| US10792384B2 (en) | 2017-12-15 | 2020-10-06 | The Procter & Gamble Company | Rolled fibrous structures comprising encapsulated malodor reduction compositions |
| US11235606B2 (en) | 2019-02-14 | 2022-02-01 | Shawn McPherson | Sensor for emulsion irradiation |
| WO2021113583A1 (en) | 2019-12-06 | 2021-06-10 | The Procter & Gamble Company | Sulfate free composition with enhanced deposition of scalp active |
| WO2021140895A1 (ja) * | 2020-01-07 | 2021-07-15 | 東洋紡株式会社 | レーザー彫刻可能なフレキソ印刷原版 |
| WO2021173203A1 (en) | 2020-02-27 | 2021-09-02 | The Procter & Gamble Company | Anti-dandruff compositions with sulfur having enhanced efficacy and aesthetics |
| US20220019145A1 (en) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | Miraclon Corporation | Flexographic printing plate precursor, imaging assembly and use |
| WO2022109094A1 (en) | 2020-11-23 | 2022-05-27 | The Procter & Gamble Company | Personal care compositions free of sulfated surfactants |
| JP7768985B2 (ja) | 2020-12-04 | 2025-11-12 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 悪臭低減物質を含むヘアケア組成物 |
| US12409125B2 (en) | 2021-05-14 | 2025-09-09 | The Procter & Gamble Company | Shampoo compositions containing a sulfate-free surfactant system and sclerotium gum thickener |
| US11986543B2 (en) | 2021-06-01 | 2024-05-21 | The Procter & Gamble Company | Rinse-off compositions with a surfactant system that is substantially free of sulfate-based surfactants |
| CA3235522A1 (en) | 2021-12-09 | 2023-06-15 | The Procter & Gamble Company | Sulfate free personal cleansing composition comprising effective preservation |
| ES3039165T3 (en) | 2023-04-07 | 2025-10-17 | Eco3 Bv | Method for making a printing plate |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH495227A (de) * | 1969-07-21 | 1970-08-31 | Sprecher & Schuh Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von gleichmässigen Überzügen auf Stangen, Rohren und dergleichen durch Tauchbeschichtung |
| US3758306A (en) * | 1971-03-25 | 1973-09-11 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements containing organosilanes |
| NL7608241A (nl) * | 1976-07-23 | 1978-01-25 | Stork Brabant Bv | Werkwijze en inrichting voor het bekleden van een dunwandige geperforeerde cilinder, alsmede een losneembaar hulpstuk toe te passen in deze inrichting. |
| US4376210A (en) * | 1981-02-02 | 1983-03-08 | Pitney Bowes Inc. | Vinyl polysiloxane polymers release compositions and methods |
| JP3290313B2 (ja) * | 1994-09-07 | 2002-06-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 湿し水不要感光性平版印刷版及びその製版方法 |
| JP2887083B2 (ja) * | 1994-12-02 | 1999-04-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 熱記録型光学素子 |
| JPH08216489A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-27 | General Kk | 印版およびその製造方法 |
| US5910370A (en) * | 1995-11-21 | 1999-06-08 | Ici Americas Inc | Polymeric film |
| DE19756327A1 (de) * | 1997-12-18 | 1999-07-01 | Polywest Kunststofftechnik | Form für das rotative Bedrucken, Beschichten oder Prägen von bahnförmigen Materialien und Verfahren zur Herstellung der Form |
| CN1099917C (zh) * | 1998-06-19 | 2003-01-29 | 住友电气工业株式会社 | 固化紫外线固化树脂的方法和设备 |
| JP2000181070A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Konica Corp | アブレーション型画像形成材料及びその製造方法 |
| IL129076A (en) * | 1999-03-21 | 2002-02-10 | Creoscitex Corp Ltd | A printing plate with a socket method for short runs and a method for using it |
| DE19942216C2 (de) * | 1999-09-03 | 2003-04-24 | Basf Drucksysteme Gmbh | Siliconkautschuk und eisenhaltige, anorganische Feststoffe und/oder Ruß enthaltendes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Reliefdruckplatten mittels Lasergravur, Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckplatten sowie damit hergestellte Reliefdruckplatte |
| EP1142709B1 (en) * | 2000-04-06 | 2004-11-24 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable planographic printing plate and method of production thereof |
| US7151122B2 (en) * | 2000-07-31 | 2006-12-19 | Pgg Industries Ohio, Inc. | UV curable polysiloxane clearcoat |
| JP2004525394A (ja) * | 2000-11-10 | 2004-08-19 | デュランド テクノロジー リミテッド | 光学記録材料 |
| US6737216B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-05-18 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element |
| US7029825B2 (en) * | 2001-09-05 | 2006-04-18 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin compositive for printing plate precursor capable of laser engraving |
| RU2327195C1 (ru) * | 2004-01-27 | 2008-06-20 | Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн | Фоточувствительная смола для гравируемой лазером печатной матрицы |
| DE102004025364A1 (de) * | 2004-05-19 | 2005-12-08 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen mittels Laser-Direktgravur |
| WO2006030537A1 (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 感光性樹脂硬化物の製造方法 |
| ATE431246T1 (de) * | 2004-09-16 | 2009-05-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer flexodruckplatte |
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