ES2347440T3

ES2347440T3 - Sustrato, particularmente sustrato de vidrio, que tiene una capa con propiedades fotocataliticas revestida de una capa protectora delgada.

Info

Publication number: ES2347440T3
Application number: ES04805774T
Authority: ES
Inventors: Laurent Labrousse; Nicolas Nadaud
Original assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Current assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date: 2003-10-23
Filing date: 2004-10-22
Publication date: 2010-10-29
Anticipated expiration: 2024-10-22
Also published as: BRPI0415700A; PL1678093T3; FR2861386B1; AU2004283938A1; JP2007512154A; ZA200604042B; CA2543156A1; CN1898172B; DE602004027751D1; AU2004283938B2; EP1678093A2; WO2005040056A2; ATE471303T1; CN1898172A; US7884047B2; WO2005040056A3; PT1678093E; FR2861386A1; KR101131157B1; US20070148064A1

Abstract

Estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), revestida con una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO2, caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO2, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en forma anatasa de la capa superior a base de TiO2.

Description

Sustrato, particularmente sustrato de vidrio, que tiene una capa con propiedades fotocatalíticas revestida de una capa protectora delgada.

La presente invención se refiere a sustratos tales como sustratos de vidrio, de material vitrocerámico o de material plástico a los que se ha proporcionado un revestimiento con propiedades fotocatalíticas para conferirles una función denominada antimanchas o antisuciedad o de autolimpieza.

Una aplicación importante de estos sustratos tiene que ver con acristalamientos, que pueden ser para aplicaciones muy diversas, desde acristalamientos funcionales a los acristalamientos utilizados en los electrodomésticos, desde cristales para vehículos a acristalamientos para edificios.

Asimismo, se aplica también a los cristales reflectantes de tipo espejo (espejos para viviendas o retrovisores de vehículos) y a los cristales opacificados de tipo aligerado.

De forma similar, la invención se aplica también a sustratos no transparentes, como sustratos cerámicos o cualquier otro sustrato que puede, en especial, utilizarse como material arquitectónico (metal, baldosas de alicatado,...). Preferentemente se aplica, con independencia de la naturaleza del sustrato, a sustratos sensiblemente planos o ligeramente abombados.

Los revestimientos fotocatalíticos ya han sido estudiados, en especial aquellos basados en óxido de titanio cristalizado en forma de anatasa. Su capacidad de degradar la suciedad y las manchas de origen orgánico o los microorganismos bajo el efecto de la radiación UV es muy interesante. A menudo, tienen también un carácter hidrófilo, que permite la evacuación de la suciedad de origen mineral por proyecciión de agua o, para los cristales exteriores, por la lluvia.

Este tipo de revestimiento con propiedades antisuciedad, bactericidas, alguicidas, ya ha sido descrito, en especial en el documento de la patente WO 97/10186, que describe varios modos de obtención del mismo.

Si no está protegida, la capa con propiedades fotocatalíticas sufre, con el transcurso del tiempo, un desgaste que se manifiesta por una pérdida de su actividad, una pérdida de las cualidades ópticas de la estructura (aparición de un halo borroso, de una coloración), incluso por una deslaminación de la capa.

Si se disminuye el espesor de la capa con propiedades fotocatalícas, la coloración que puede aparecer cuando se altere parcialmente esta última será menos intensa y la variación de color será menor a lo largo del tiempo. Sin embargo, esta disminución del espesor será en detrimento del rendimiento de la capa.

Por lo tanto, es necesario asegurar una protección mecánica y química de la capa, debiendo ser fina la capa protectora, a fin de que la capa con propiedades fotocatalíticas conserve plenamente su función.

Por el documento de la solicitud de patente europea EP-A-0 820 967 se conoce un elemento anti-vaho que comprende un sustrato transparente, una película transparente de un fotocatalizador formada sobre el sustrato transparente y una película de óxido mineral poroso transparente formada sobre la película de fotocatalizador y que tiene una superficie que presenta propiedades hidrófilas.

Asimismo, por el documento de la patente japonesa JP 2002 047 032 se conoce un procedimiento de fabricación de un sustrato revestido con una membrana fotocatalítica que comprende las etapas que sonsisten en extender nanopartículas de TiO_{2} de estructura cristalina de anatasa y de 5-10 nm con ayuda de una pistola de pulverización y calentar y depositar por pulverización catódica una membrana de SiO_{2} que recubre las partículas de TiO_{2}.

Ninguna de estas estructuras resulta satisfactoria; la primera, debido a la naturaleza porosa del revestimiento protector, el cual, debido a la presencia de los poros, no asegura una protección suficiente de la capa con propiedades catalíticas y la segunda, debido a una tasa insuficiente de material fotocatalítico, el cual no forma una capa continua.

La solicitud JP 2000-289134 describe una estructura que comprende una capa de TiO_{2} fotocatalítica recubierta por una capa que comprende partículas de óxido metálico hidrófilo en un ligante de óxido metálico hidrófilo. Esta capa es porosa o presenta una estructura en islotes.

También se conoce a partir de la solicitud EP 1 074 525 una estructura que comprende una capa fotocatalítica de TiO_{2} rematada por una capa hidrófila de SiO_{2} de 10 nm de espesor.

En primer lugar, la invención tiene por objeto una estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, anti-suciedad, a base de dióxido de titanio (TiO_{2}), caracterizada porque dicha capa con propiedades fotocatalíticas está revestida por una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, con poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO_{2}. La estructura según la presente invención se caracteriza porque tiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en la forma anatasa de la capa superior a base de TiO_{2}, constituida en especial por ATiO_{3}, designando A bario o estroncio.

Las condiciones de preparación de la capa a base de dióxido de titanio, tales como la naturaleza y pureza de los productos de partida, el eventual disolvente, el tratamiento térmico,...se deberán adaptar de manera conocida con vistas a la obtención de las propiedades fotocatalíticas y antisuciedad.

Preferentemente, dicha capa delgada que contiene silicio y oxígeno está presente en forma de una película continua. En particular, dicha capa delgada se presenta, de manera ventajosa, en forma de una película que se adapta a las rugosidades de la superficie de la capa con propiedades fotocatalíticas subyacente.

La capa delgada que contiene silicio y oxígeno es, en especial, una capa de al menos un compuesto de silicio y de oxígeno escogido entre SiO_{2}, SiOC, SiON, SiOx con x<2 y SiOCH, siendo especialmente preferido el SiO_{2}.

Según una variante interesante de la estructura según la presente invención, la capa delgada que contiene silicio y oxígeno, es una capa de al menos un compuesto de silicio y de oxígeno al cual está asociado al menos un compuesto escogido entre Al_{2}O_{3} y ZrO_{2}, aportando tal compuesto inercia química y reforzando la resistencia a la hidrólisis. Se puede subrayar el papel del Al_{2}O_{3}, conocido óxido inerte que aumenta la resistencia química del conjunto.

La relación atómica (Al y/o Zr)/Si no es generalmente superior a 1, estando comprendida la proporción Al/Si de forma ventajosa entre 0,03 y 0,5, en particular entre 0,05 y 0,1 y la relación Zr/Si, entre 0,05 y 0,4.

La capa delgada que contiene silicio y oxígeno puede tener un espesor de como máximo 15 nm, en especial de como máximo 10 nm, en particular de como máximo 8 nm, siendo, preferentemente de como máximo 5 nm y en particular de 2 a 3 nm.

Dicha cada delgada aporta un efecto lubricante y tiene un papel mecánico. Mejora la resistencia al rayado y a la abrasión.

Esta mayor resistencia mecánica y esta mejor resistencia química no se obtienen, sin embargo, en detrimento de una disminución de la actividad fotocatalítica. En efecto, si bien se podría esperar que la actividad catalítica de la capa a base de TiO_{2} obtenida finalmente disminuyera debido al enmascaramiento de ella por la sobrecapa de SiO_{2}, esta actividad fotocatalítica se conserva e incluso mejora; en efecto, la suciedad, diluida en una película uniforme de SiO_{2} debido al carácter hidrófilo de este último, es destruida más fácilmente por el TiO_{2}.

La capa a base de dióxido de titanio está constituida por TiO_{2} solo o por TiO_{2} dopado con al menos un dopante escogido en especial entre N; cationes pentavalentes como Nb, Ta, V; Fe y Zr. Esta capa a base de TiO_{2} puede haber sido depositada por un procedimiento sol-gel o por un procedimiento de pirólisis en especial en fase gaseosa, o por pulverización catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, si es necesario asistida por campo magnético y/o por haz de iones, con utilización de un blanco metálico o de TiO_{x} con x<2 y de una atmósfera oxidante, o con utilización de un blanco de TiO_{2} y de una atmósfera inerte, pudiendo haber sido sometido el TiO_{2} producido por la pulverización catódica a continuación sometido a un tratamiento térmico con el fin de presentarse en estado cristalizado en una forma fotocatalíticamente activa.

La capa delgada que contiene silicio y oxígeno ha sido depositada, en particular, por pulverización catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o por haz de iones, con utilización de un blanco de Si dopado con Al (8% atómico) bajo atmósfera de Ar + O_{2} a una presión de 0,2 Pa.

La estructura según la presente invención tiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en la forma anatasa de la capa superior a base de TiO_{2}, especialmente constituida por ATiO_{3}, designando A bario o estroncio. El espesor de esta subcapa no es crítico; puede estar comprendido, por ejemplo, entre 10 nm y
100 nm.

El sustrato está constituido, por ejemplo, por una placa, plana o de caras curvas o combadas, de vidrio monolítico o laminado, de material vitrocerámico o de un material termoplástico duro, tal como el policarbonato, o incluso por fibras de vidrio o de vitrocerámica, habiendo recibido dichas placas o dichas fibras, si es necesario, al menos otra capa funcional antes de la aplicación de la capa a base de TiO_{2} o de una capa de asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial de esta última. (En el caso de más de una capa, se puede hablar también de apilamiento o de
capas).

Las aplicaciones de las placas se han recordado previamente. En cuanto a las fibras, se puede citar su aplicación en la filtración del aire o del agua, así como aplicaciones bactericidas.

La otra o las otras capas funcionales se escogen entre capas con funcionalidad óptica, capas de control térmico, capas conductoras, así como, en el caso en que el sustrato sea de vidrio o de material vitrocerámico, capas que hacen barrera a la migración de los alcalinos del vidrio o del material vitrocerámico.

Las capas con funcionalidad óptica son, en especial, capas antireflejo, de filtración de los rayos luminosos, de coloración, difusora, etc. Se pueden citar capas de SiO_{2}, Si_{3}N_{4}, TiO_{2}, SnO_{2}, ZnO.

Las capas de control térmico son, en especial, capas de control solar o capas denominadas de baja emisividad.

Las capas conductoras son, en especial, capas calefactoras, de antena o antiestáticas; entre estas capas se pueden contar las redes de hilos conductores.

En el caso en que el sustrato sea de vidrio o de material vitrocerámico, se puede disponer al menos una capa funcional que hace barrera a los alcalinos del vidrio o del material vitrocerámico por debajo de la subcapa de asistencia a la cristalización de la capa con propiedades fotocatalíticas.

Las otras capas funcionales (con funcionalidad óptica, de control térmico, capas conductoras) se encuentran, cuando están presentes, por encima de la capa o de las capas de barrera.

La migración de los alcalinos es susceptible de resultar de la aplicación de temperaturas que sobrepasen los 600ºC. Se conocen tales capas que forman barrera a los alcalinos durante los tratamientos térmicos ulteriores y pueden citarse capas de SiO_{2}, SiOC, SiO_{x}N_{y}, Si_{3}N_{4}, de espesor por ejemplo de al menos 5 o 10 nm, en numerosos casos de al menos 50 nm, como se describe en el documento de la solicitud internacional PCT WO 02/24971.

Como ejemplo, se pueden mencionar sustratos de vidrio o de material vitrocerámico, en especial de tipo placas, que han recibido una capa que hace barrera a la migración de los alcalinos del vidrio o del material vitrocerámico y luego una mono, bi o tricapa con funcionalidad óptica.

La presente invención tiene también por objeto un procedimiento de fabricación de una estructura tal como la definida previamente, según la reivindicación 16.

En particular, se efectúa sucesivamente el depósito de una capa de TiO_{2} y el de la capa delgada que contiene silicio y oxígeno a temperatura ambiente, por pulverización catódica bajo vacío, asistida, si es preciso, por campo magnético y/o haz de iones, en el mismo recinto, siendo las condiciones las siguientes:

- para el depósito de la capa a base de TiO_{2}, alimentación en modo de corriente continua o de corriente alterna bajo una presión de 1-3 mbar y bajo atmósfera de oxígeno + gas inerte (argón), a partir de un blanco de Ti o TiO_{x}, con x = 1,5 a 2;

- pare el depósito de la capa que contiene silicio y oxígeno, una alimentación en modo de corriente alterna bajo una presión de 0,1 a 1 Pa y una atmósfera de Ar + O_{2} a partir de un blanco con fuerte contenido de silicio, siendo precedido el depósito de la capa de TiO_{2} por el depósito de una subcapa de asistencia a la cristalización por crecimiento epitaxial en la forma anatasa de la capa de TiO_{2}.

Las condiciones de un depósito de una capa que contiene silicio y oxígeno que no es porosa son conocidas por el persona del oficio, siendo, en especial, condiciones de baja presión y de fuerte potencia (diagrama de Thornton).

En el caso en el que se realiza el revestimiento de un sustrato de vidrio o de material vitrocerámico, se puede prever que antes de la aplicación de la subcapa asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita sobre el sustrato al menos una capa que forma barrera a la migración de los alcalinos presentes en el vidrio o en el material vitrocerámico, pudiendo entonces llevarse a cabo un recocido o un templado que se puede entonces efectuar después del depósito de la capa de TiO_{2} y de la capa delgada a base de silicio que la recubre a una temperatura comprendida entre 250ºC y 550ºC, preferentemente entre 350ºC y 500ºC para el recocido y a una temperatura de al menos 600ºC para el templado.

Asimismo, se puede prever según la invención que después de la aplicación eventual de al menos una capa que forma barrera a la migración de los alcalinos y que antes de la aplicación de la subcapa asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita al menos una capa funcional escogida entre capas con funcionalidad óptica, capas de control térmico y capas conductoras, siendo depositadas, de manera ventajosa dichas capas funcionales por pulverización catódica, bajo vacío, asistido, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de iones.

La presente invención trata también de un acristalamiento simple o múltiple en particular para el automóvil o la construcción que comprende, sobre al menos una cara, una estructura según la invención tal como la definida previamente, estando en especial dicha cara hacia el exterior, pero pudiendo también estar orientada hacia el interior.

Las caras de estos acristalamientos que no presentan la estructura de la presente invención pueden tener al menos otra capa funcional.

Tales acristalamientos encuentran aplicación como: acristalamientos "autolimpiantes", principalmente anti-vaho, antimanchas y anti-condensación, principalmente para los edificios de tipo doble acristalamiento; acristalamiento para vehículos de tipo parabrisas, luneta trasera, ventanas laterales del automóvil; retrovisores; acristalamiento para trenes, aviones, barcos; acristalamiento utilitario tal como vidrio de acuario, de escaparates, de invernaderos, de mobiliario interior, de mobiliario urbano, (marquesinas para autobuses, paneles publicitarios,...), de espejos, de pantallas de sistemas de visualización de tipo ordenador, televisión o teléfono; acristalamiento con control electrónico tal como acristalamiento electrocrómico, con cristales líquidos, electroluminiscente, acristalamiento fotovoltaico.

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Ejemplos 1a y 1b (fuera de la invención)

Apilamiento vidrio/SiO_{2} :Al/TiO_{2}/SiO_{2}:Al

Sobre una placa de vidrio de un espesor de 4 mm, se ha efectuado el depósito de las siguientes capas sucesivas:

- una subcapa de SiO_{2} dopada con Al de 150 nm de espesor;

- una capa de TiO_{2} de 100 nm de espesor (Ejemplo 1a) o de 20 nm de espesor (Ejemplo 1b); y

- una sobrecapa de SiO_{2} dopada con Al de 2 nm de espesor.

La subcapa de SiO_{2}:Al se deposita a partir de un blanco Si:Al (8% atómico de aluminio) con una potencia de 2000 W, con los caudales gaseosos siguientes: 15 centímetros cúbicos normales por minuto (sccm, por sus siglas en inglés) Ar y 15 sccm O_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3} mbar.

La capa de TiO_{2} se deposita a partir de un blanco TiO_{x} con una potencia de 2000 W, con los siguientes caudales gaseosos: 200 sccm Ar y 2 sccm O_{2} y bajo una presión de 23 x 10^{-3} mbar.

La sobrecapa de SiO_{2}:Al se deposita a partir de un blanco Si:Al (8% atómico de aluminio) con una potencia de 1000 W, con los caudales gaseosos siguientes: 15 sccm Ar y 15 sccm O_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3} mbar.

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Ejemplos 2a y 2b (comparativos)

Apilamiento vidrio/SiO_{2}:Al/TiO_{2}

Se han fabricado los mismos apilamientos que en los ejemplos 1a y 1b, excepto que se ha omitido la sobrecapa de SiO_{2}:Al.

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Ejemplo 3 (comparativo)

Apilamiento vidrio/SiO2:Al/TiO_{2}/SiO_{2}:Al

Se ha fabricado el mismo apilamiento que en el ejemplo 1a, excepto que en lugar de la sobrecapa de SiO_{2}:Al, se ha depositado una sobrecapa de Si_{3}N_{4}:Al de un espesor igualmente de 2 nm a partir de un blanco Si:Al (8% atómico de Al) con una potencia de 1000 W, con los siguientes caudales gaseosos: 18 sccm Ar y 12 sccm N_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3} mbar.

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Ejemplo 4

Resistencia al ensayo Opel

Se ha observado una fuerte mejora de la resistencia al ensayo Opel (frotamiento en seco de la superficie del apilamiento con ayuda de un tampón de fieltro) cuando se pasa del apilamiento del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 1a.

No se observa ningún cambio cuando se pasa del apilamiento del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 3.

Además, antes y después del ensayo Opel previamente mencionado, se ha evaluado la actividad fotocatalítica de la capa de TiO_{2} de cada uno de los apilamientos de los ejemplos 1a, 2a y 3, según el test de fotodegradación del ácido esteárico, seguido por transmisión infrarroja, descrito en la solicitud internacional PCT WO 00/75087.

Los resultados se muestran juntos en la tabla I. En esta tabla también figuran la variación colorimétrica en reflexión por el lado de la capa debida al ensayo Opel ()E), el halo borroso ("flou") inducido por el ensayo Opel y la observación de la capa en cuanto a su deslaminación después del ensayo Opel.

TABLA I

1

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Ejemplo 5 Test Taber

Se ha observado una mejora de la resistencia al ensayo Taber (resistencia a la abrasión = resistencia al paso de una muela abrasiva) cuando se pasa del apilamiento del ejemplo 2b al apilamiento del ejemplo 1b.

La capa del ejemplo 2b se deslamina después de 500 pasadas en el test Taber. Para el apilamiento del ejemplo 1b, se observa 0,8% de halo borroso después de 200 pasadas en el test Taber y 2% de halo borroso después de 500 pasadas en el test Taber.

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Ejemplo 6 Test BSN

Se ha observado una mejora de la resistencia al ensayo BSN (niebla salina neutra) cuando se pasa del apilamiento del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 1a.

Claims

1. Estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO_{2}), revestida con una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO_{2}, caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en forma anatasa de la capa superior a base de TiO_{2}.

2. Estructura según la reivindicación 1, caracterizada porque dicha subcapa está constituida por ATiO_{3}, donde A designa bario o estroncio.

3. Estructura según las reivindicaciones 1 o 2, caracterizada porque dicha capa delgada que contiene silicio y oxígeno está presente en forma de película continua.

4. Estructura según las reivindicaciones 1 a 3, caracterizada porque dicha capa delgada que contiene silicio y oxígeno se presenta en forma de una película que se adapta a las rugosidades de la superficie de la capa con propiedades fotocatalíticas subyacente.

5. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizada porque la capa delgada que contiene silicio y oxígeno es una capa de al menos un compuesto de silicio y de oxígeno escogido entre SiO_{2}, SiOC, SiON, SiO_{x} con x<2 y SiOCH.

6. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizada porque la capa delgada que contiene silicio y oxígeno es una capa de al menos un compuesto de silicio y de oxígeno a la cual está asociado al menos un compuesto escogido entre_{ }Al_{2}O_{3} y ZrO_{2}.

7. Estructura según la reivindicación 6, caracterizada porque la relación atómica (Al y/o Zr)/Si no es superior a 1.

8. Estructura según una de las reivindicaciones 6 y 7, caracterizada porque la relación Al/Si está comprendida entre 0,03 y 0,5, en particular entre 0,05 y 0,1.

9. Estructura según una de las reivindicaciones 6 a 8, caracterizada porque la relación Zr/Si está comprendida entre 0,05 y 0,4.

10. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque la capa delgada que contiene silicio y oxígeno tiene un espesor de como máximo 15 nm, en especial de como máximo 10 nm y en particular de como máximo 8 nm, siendo preferentemente de como mucho 5 nm o aproximadamente 5 nm, en particular de 2 a 3 nm.

11. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque la capa a base de dióxido de titanio está constituida por TiO_{2} solo o por TiO_{2} dopado por al menos un dopante escogido en especial entre N; cationes pentavalentes como Nb, Ta, V; Fe; y Zr.

12. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 11, caracterizada porque la capa a base de TiO_{2} se ha depositado mediante un procedimiento sol-gel, o por un procedimiento de pirólisis, en especial en fase gaseosa, o por pulverización catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de iones, con utilización de un blanco metálico o de TiO_{x} con x<2 y de una atmósfera oxidante, o con utilización de un blanco TiO_{2} y de una atmósfera inerte, pudiendo haber sido sometido el TiO_{2} producido por la pulverización catódica a continuación a un tratamiento térmico a fin de presentarse en estado cristalino en una forma catalíticamente activa.

13. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 12, caracterizada porque la capa delgada que contiene silicio y oxígeno se ha depositado por pulverización catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de iones, con utilización de un blanco de Si dopado Al (8% atómico) bajo atmósfera de Ar + O_{2} a una presión de 0,2 Pa.

14. Estructura según una de las reivindicaciones 1 a 13, caracterizada porque el sustrato está constituido por una placa, plana o de caras curvas o combadas, de vidrio monolitico o laminado, de material vitrocerámico o de un material termoplástico duro, tal como policarbonato, o incluso por fibras de vidrio o de vitrocerámica, habiendo recibido dichas placas o dichas fibras, llegado el caso, al menos otra capa funcional antes de la aplicación de la capa de asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial de la capa a base de TiO_{2}.

15. Estructura según la reivindicación 14, caracterizada porque la capa u otras capas funcionales se escogen entre capas de funcionalidad óptica, capas de control térmico, capas conductoras, así como en el caso en el que el sustrato sea de vidrio o de material vitrocerámico, capas que hacen barrera a la migración de los alcalinos del vidrio o del material vitrocerámico.

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16. Procedimiento de fabricación de una estructura tal como se ha definido en una de las reivindicaciones 1 a 15, en la cual:

- se deposita sobre un sustrato de vidrio o de material vitrocerámico o de material plástico duro de tipo policarbonato, de tipo placa, o sobre fibras de vidrio o de vitrocerámica, una capa de TiO_{2} eventualmente dopada que se somete a un tratamiento térmico para conferirle propiedades catalíticas en el caso en que ésta no sea aportada por las condiciones utilizadas para su depósito;

- después se deposita sobre dicha capa con propiedades fotocatalíticas una capa delgada que contiene silicio y oxígeno tal como la definida en una de las reivindicaciones 1 a 10,

Estando dicho procedimiento caracterizado porque se deposita, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en la forma anatasa de la capa superior a base de TiO_{2}.

17. Procedimiento según la reivindicación 16, caracterizado porque se efectúa sucesivamente el depósito de una capa de TiO_{2} y el de la capa delgada que contiene silicio y oxígeno a temperatura ambiente, por pulverización catódica bajo vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de iones, en el mismo recinto, siendo las condiciones las siguientes:

- para el depósito de la capa que contiene silicio y oxígeno, una alimentación en modo de corriente alterna bajo una presión de 0,1 a 1,0 Pa y una atmósfera de Ar + O_{2} a partir de un blanco que tiene un alto contenido de silicio;

siendo precedido el depósito de la capa de TiO_{2} por el depósito de una subcapa de asistencia a la cristalización por crecimiento epitaxial en la forma anatasa de la capa de TiO_{2}.

18. Procedimiento según una de las reivindicaciones 16 y 17, en el cual se realiza el revestimiento de un sustrato en vidrio o en material vitrocerámico, caracterizado porque antes de la aplicación de la subcapa asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita sobre el sustrato al menos una capa que forma barrera frente a la migración de los alcalinos presentes en el vidrio o en el material vitrocerámico, pudiendo entonces efectuarse un recocido o un templado después del depósito de la capa de TiO_{2} y de la capa delgada a base de silicio que la recubre a una temperatura comprendida entre 250ºC y 550ºC, preferentemente entre 350ºC y 500ºC para el recocido y a una temperatura de al menos 600ºC para el templado.

19. Procedimiento según una de las reivindicaciones 16 a 18, caracterizado porque después de la eventual aplicación de al menos una capa que hace barrera frente a la migración de los alcalinos y porque antes de la subcapa asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita al menos una capa funcional escogida entre capas de funcionalidad óptica, capas de control térmico y capas conductoras, siendo depositadas dichas capas funcionales de forma ventajosa por pulverización catódica, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de iones.

20. Acristalamiento simple o múltiple, en particular para el automóvil o la edificación, que comprende sobre al menos una cara, respectivamente, una estructura tal como la definida en una de las reivindicaciones 1 a 15, siendo dicha cara en especial la orientada hacia el exterior, pero pudiendo ser igualmente la orientada hacia el interior.