ES2349337T3 - Método para la producción de materiales estructurales orgánicos porosos. - Google Patents
Método para la producción de materiales estructurales orgánicos porosos. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2349337T3 ES2349337T3 ES07712171T ES07712171T ES2349337T3 ES 2349337 T3 ES2349337 T3 ES 2349337T3 ES 07712171 T ES07712171 T ES 07712171T ES 07712171 T ES07712171 T ES 07712171T ES 2349337 T3 ES2349337 T3 ES 2349337T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- mmol
- acid
- reaction
- mof
- dmf
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 38
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 15
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- -1 alicyclic alcohols Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 7
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 5
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 5
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003463 sulfur Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- MBDNRNMVTZADMQ-UHFFFAOYSA-N sulfolene Chemical compound O=S1(=O)CC=CC1 MBDNRNMVTZADMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000013309 porous organic framework Substances 0.000 abstract 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 101
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 63
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 45
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxybenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(C(O)=O)=C1 QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 15
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 14
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N butynedioic acid Chemical compound OC(=O)C#CC(O)=O YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 8
- WHQSYGRFZMUQGQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;hydrate Chemical compound O.CN(C)C=O WHQSYGRFZMUQGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAXZWHGWYSJAEI-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;ethanol Chemical compound CCO.CN(C)C=O QAXZWHGWYSJAEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 6
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 6
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910021575 Iron(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L iron(ii) bromide Chemical compound [Fe+2].[Br-].[Br-] GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002266 Pluriol® Polymers 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HIHKYDVSWLFRAY-UHFFFAOYSA-N thiophene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=CSC=1C(O)=O HIHKYDVSWLFRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013132 MOF-5 Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- IYSNYCQLARBERC-UHFFFAOYSA-N methylsulfinylmethane;toluene Chemical compound CS(C)=O.CC1=CC=CC=C1 IYSNYCQLARBERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC=CN=C1C(O)=O ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L zinc bromide Chemical compound Br[Zn]Br VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- OYFRNYNHAZOYNF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxyterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(C(O)=O)C=C1O OYFRNYNHAZOYNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAWMOPYMZTVESL-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-carboxyphenyl)-2-adamantyl]benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1C(C=2C(=CC=CC=2)C(O)=O)(C2)CC3CC2CC1C3 CAWMOPYMZTVESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVQMUHHSWICEIH-UHFFFAOYSA-N 6-(5-carboxypyridin-2-yl)pyridine-3-carboxylic acid Chemical compound N1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=N1 KVQMUHHSWICEIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100037762 Caenorhabditis elegans rnh-2 gene Proteins 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021094 Co(NO3)2-6H2O Inorganic materials 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSRXQXXHDIAVJT-UHFFFAOYSA-N acetonitrile;n,n-dimethylformamide Chemical compound CC#N.CN(C)C=O DSRXQXXHDIAVJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000250 adipic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- CHTHALBTIRVDBM-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)O1 CHTHALBTIRVDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUTPBERGMJVRBM-UHFFFAOYSA-N methanol;methylsulfinylmethane Chemical compound OC.CS(C)=O BUTPBERGMJVRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWECJGLXBSQKRF-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;methanol Chemical compound OC.CN(C)C=O WWECJGLXBSQKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical class C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N quinolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- JBJWASZNUJCEKT-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[Na+] JBJWASZNUJCEKT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N (2E,4E)-2,4-hexadienedioic acid Natural products OC(=O)C=CC=CC(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYUWHGGWLCJJNP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dihydrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1C=CC=CC1C(O)=O OYUWHGGWLCJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSMUFXXTSUEZJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibenzyl-2-oxoimidazolidine-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1N(CC=2C=CC=CC=2)C(C(=O)O)C(C(O)=O)N1CC1=CC=CC=C1 QSMUFXXTSUEZJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZERLKNAJSFDSQ-UHFFFAOYSA-N 1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane-2,3,11,12-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1OCCOCCOC(C(O)=O)C(C(O)=O)OCCOCCOC1C(O)=O FZERLKNAJSFDSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXAWZHYWALRESW-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(carboxymethyl)piperazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CN1CCN(CC(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O HXAWZHYWALRESW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVGKVEDUHFAIMD-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-methyl-9,10-dioxoanthracene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C2C DVGKVEDUHFAIMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJGBENTLXFVFI-UHFFFAOYSA-N 1-amino-methylene Chemical compound N[CH2] XXJGBENTLXFVFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRIGHGYEGNDPEU-UHFFFAOYSA-N 1-anilinoanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1NC1=CC=CC=C1 XRIGHGYEGNDPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIDODOMERXIGRG-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CN1CC1=CC=CC=C1 JIDODOMERXIGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDOBMJUQFBURS-UHFFFAOYSA-N 1-methylnonane-1,3,5,7-tetracarboxylic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)CC(C(O)=O)CC(C(O)=O)CC(C)C(O)=O XJDOBMJUQFBURS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHWLNSGYGAWNLU-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound CN1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 RHWLNSGYGAWNLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUUNZDIGHGJBAR-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CNC(C(O)=O)=N1 ZUUNZDIGHGJBAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1N=CNC=1C(O)=O ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMVPJZBYSWOOP-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-3,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=C(C(O)=O)NN=1 YDMVPJZBYSWOOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=NNC=1C(O)=O IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLSHRJUBRUKAN-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxyterephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1O OHLSHRJUBRUKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJQZWNLKRBUEKX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dianilinoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C(C(=O)O)=CC=1NC1=CC=CC=C1 ZJQZWNLKRBUEKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMASHKIDYKFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxymethyl)propanedioic acid Chemical compound CCOCCOCC(C(O)=O)C(O)=O KFZMASHKIDYKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQWVYIRHSBXGBX-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2,3-tris(2-carboxyphenyl)-1-adamantyl]benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1(C(C(C2)(C=3C(=CC=CC=3)C(O)=O)C3)(C=4C(=CC=CC=4)C(O)=O)C=4C(=CC=CC=4)C(O)=O)CC3CC2C1 LQWVYIRHSBXGBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAMBMUOTYPLTQG-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3-bis(2-carboxyphenyl)phenyl]benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1C(O)=O PAMBMUOTYPLTQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHGGHNZZJCJQSL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxymethyl]propanedioic acid Chemical compound CCOCCOCCOCC(C(O)=O)C(O)=O ZHGGHNZZJCJQSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CABMTIJINOIHOD-UHFFFAOYSA-N 2-[4-methyl-5-oxo-4-(propan-2-yl)-4,5-dihydro-1H-imidazol-2-yl]quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound N1C(=O)C(C(C)C)(C)N=C1C1=NC2=CC=CC=C2C=C1C(O)=O CABMTIJINOIHOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIQLVLWFQUUZII-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-amino-3-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(C(O)=O)=C1 IIQLVLWFQUUZII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 2-hexadecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCYCQZSHGUXYGP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N1 DCYCQZSHGUXYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQGFRFCKVQNHEC-UHFFFAOYSA-N 2-methylquinoline-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C)=NC2=C1 BQGFRFCKVQNHEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDHJMKYIJWJQLY-UHFFFAOYSA-N 2-nonyldecanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCCCC(O)=O WDHJMKYIJWJQLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGMCTDOFLKWLPJ-UHFFFAOYSA-N 2-octylundecanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCCCCC(O)=O IGMCTDOFLKWLPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDZNOLAORJOIEA-UHFFFAOYSA-N 2-pent-4-enylhexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(C(O)=O)CCCC=C WDZNOLAORJOIEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBKVUCPCJPPVAW-UHFFFAOYSA-N 2-pentatriacontylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WBKVUCPCJPPVAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-2,3-dihydroindene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)(C(O)=O)C1C1=CC=CC=C1 XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(P(O)(O)=O)(C(O)=O)CC(O)=O SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJYWLLARWWUWLP-UHFFFAOYSA-N 3-amino-5-benzoyl-6-methylbenzene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(N)C(C(O)=O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DJYWLLARWWUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXXCIBALSKQCAE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutoxymethylbenzene Chemical compound CC(C)CCOCC1=CC=CC=C1 RXXCIBALSKQCAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRHCSNBNLAGXFU-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2-(pyrrolidin-1-ylmethyl)piperidine Chemical compound C1CCCN1CC1NCCCC1C1=CC=CC=C1 GRHCSNBNLAGXFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylphthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIIUWPYGXWLJRT-UHFFFAOYSA-N 4,5,9,10-tetrahydropyrene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC2=CC(C(=O)O)=CC3=C2C2=C1C=C(C(O)=O)C=C2CC3 JIIUWPYGXWLJRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEMRLSIYMCFQA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-carboxyphenyl)-2,3-diphenylphenyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(C(=C1C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 VXEMRLSIYMCFQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGTYZLILUXWMRP-UHFFFAOYSA-N 5-acetyl-3-amino-6-methylbenzene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound CC(=O)C1=C(C)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(N)=C1C(O)=O UGTYZLILUXWMRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAVBTGOXNGCJR-UHFFFAOYSA-N 5-ethylpyridine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1=CN=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 MTAVBTGOXNGCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNWNWQKFBPREQ-UHFFFAOYSA-N 5-methoxynaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C(OC)=CC=CC2=C1 LSNWNWQKFBPREQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBLUSQLVRKGZCD-UHFFFAOYSA-N 5-sulfonaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(S(O)(=O)=O)=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DBLUSQLVRKGZCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROKAHPRWXCFCEM-UHFFFAOYSA-N 6-chloroquinoxaline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(Cl)C=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=NC2=C1 ROKAHPRWXCFCEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWBFSTPKXBJTJO-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-3-methylquinoline-6,8-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(C(O)=O)=CC2=CC(C)=CN=C21 IWBFSTPKXBJTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIDDFBNWSBWQR-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-4-oxo-1h-quinoline-2,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(Cl)=C(C(O)=O)C2=NC(C(=O)O)=CC(O)=C21 FAIDDFBNWSBWQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXOVOXUMRLKDKF-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-8-methylquinoline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)N=C2C(C)=C(Cl)C=CC2=C1 YXOVOXUMRLKDKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQMIGZNZWWXSHF-UHFFFAOYSA-N 7-chloroquinoline-2,3,8-tricarboxylic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(C(O)=O)=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 BQMIGZNZWWXSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYIDIAPHYHJMCU-UHFFFAOYSA-N 7-chloroquinoline-3,8-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC2=CC(C(=O)O)=CN=C21 ZYIDIAPHYHJMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPJWMYCZWPHPIC-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1C2=C(C(O)=O)C=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(=O)O NPJWMYCZWPHPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910017252 AsO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017258 AsO4H Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100022533 Calcium-binding protein 39 Human genes 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910002492 Ce(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N Chelidonic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URYAFVKLYSEINW-UHFFFAOYSA-N Chlorfenethol Chemical compound C=1C=C(Cl)C=CC=1C(O)(C)C1=CC=C(Cl)C=C1 URYAFVKLYSEINW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910002538 Eu(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000264877 Hippospongia communis Species 0.000 description 1
- 101000899411 Homo sapiens Calcium-binding protein 39 Proteins 0.000 description 1
- 241001580033 Imma Species 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013118 MOF-74-type framework Substances 0.000 description 1
- 101100353526 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pca-2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006887 Ullmann reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013236 Zn4O(BTB)2 Substances 0.000 description 1
- SRCRGLMTENDDRR-UHFFFAOYSA-N [5-(4-nitrophenyl)furan-2-yl]methanol Chemical compound O1C(CO)=CC=C1C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 SRCRGLMTENDDRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150117319 aba2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- JZKNMIIVCWHHGX-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,2,2,3-tetracarboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(C(=O)O)C(C(O)=O)(C(O)=O)C2(C(O)=O)C3 JZKNMIIVCWHHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAVQGHWQOQZQEH-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(C(=O)O)CC2(C(O)=O)C3 PAVQGHWQOQZQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- GQKVCZAPFYNZHX-UHFFFAOYSA-N anthracene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C=C(C(C(=O)O)=C3)C(O)=O)C3=CC2=C1 GQKVCZAPFYNZHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- GIXWDMTZECRIJT-UHFFFAOYSA-N aurintricarboxylic acid Chemical compound C1=CC(=O)C(C(=O)O)=CC1=C(C=1C=C(C(O)=CC=1)C(O)=O)C1=CC=C(O)C(C(O)=O)=C1 GIXWDMTZECRIJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- AFYNADDZULBEJA-UHFFFAOYSA-N bicinchoninic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C=3C=C(C4=CC=CC=C4N=3)C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 AFYNADDZULBEJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- MUYSADWCWFFZKR-UHFFFAOYSA-N cinchomeronic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=NC=C1C(O)=O MUYSADWCWFFZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- PUDGCYJEHVWLAE-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid;hexadecanedioic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC1.OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O PUDGCYJEHVWLAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDKOFCUUXIAICD-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC=C1C(O)=O QDKOFCUUXIAICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- HDFFVHSMHLDSLO-UHFFFAOYSA-M dibenzyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COP(=O)([O-])OCC1=CC=CC=C1 HDFFVHSMHLDSLO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001649 dickite Inorganic materials 0.000 description 1
- KGIIQLWZRGRVOY-UHFFFAOYSA-N ethanol;1,4-xylene Chemical compound CCO.CC1=CC=C(C)C=C1 KGIIQLWZRGRVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004005 formimidoyl group Chemical group [H]\N=C(/[H])* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl Chemical compound O[CH2] CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N isocinchomeronic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)N=C1 LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Chemical class 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- NWKYZYGOSPOKDY-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;pyridine Chemical compound CN(C)C=O.C1=CC=NC=C1 NWKYZYGOSPOKDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUPKPAZSFZOLOR-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;toluene Chemical compound CN(C)C=O.CC1=CC=CC=C1 PUPKPAZSFZOLOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- QUMITRDILMWWBC-UHFFFAOYSA-N nitroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C([N+]([O-])=O)=C1 QUMITRDILMWWBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940116315 oxalic acid Drugs 0.000 description 1
- LAHAPBJSVSVFGR-UHFFFAOYSA-N oxane-4,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCOCC1 LAHAPBJSVSVFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- WSRHMJYUEZHUCM-UHFFFAOYSA-N perylene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical class C=12C3=CC=CC2=CC=CC=1C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O WSRHMJYUEZHUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIZSMODMWVZSNT-UHFFFAOYSA-N perylene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C2=C(C(C(=O)O)=CC=3C2=C2C=CC=3)C(O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KIZSMODMWVZSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- GMIOYJQLNFNGPR-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 GMIOYJQLNFNGPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- MMXZSJMASHPLLR-UHFFFAOYSA-N pyrroloquinoline quinone Chemical compound C12=C(C(O)=O)C=C(C(O)=O)N=C2C(=O)C(=O)C2=C1NC(C(=O)O)=C2 MMXZSJMASHPLLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPGZDTDZZDLVHW-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 JPGZDTDZZDLVHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXXBQGWQCRMKHR-UHFFFAOYSA-N quinoline-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CN=C21 SXXBQGWQCRMKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCHKKUMRGPRZOG-UHFFFAOYSA-N quinoline-7,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=NC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 WCHKKUMRGPRZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N quinoxaline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=NC2=C1 CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N tetradecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCCC(O)=O HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- ZWWLLYJRPKYTDF-UHFFFAOYSA-N thiophene-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CSC=C1C(O)=O ZWWLLYJRPKYTDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N trans,trans-muconic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C=C\C(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B43/00—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/003—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B45/00—Formation or introduction of functional groups containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F19/00—Metal compounds according to more than one of main groups C07F1/00 - C07F17/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F19/00—Metal compounds according to more than one of main groups C07F1/00 - C07F17/00
- C07F19/005—Metal compounds according to more than one of main groups C07F1/00 - C07F17/00 without metal-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Método para la producción de un material estructural organometálico poroso, dado el caso limitado, donde incluye el paso -reacción de una mezcla de reacción en una fase líquida de por lo menos un compuesto metálico con por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado, el cual puede estar enlazado al metal de manera coordinada, en presencia de un solvente orgánico no acuoso en presencia de y/o bajo liberación de agua, donde el compuesto orgánico exhibe por lo menos dos átomos elegidos en cada caso independientemente uno de otro de entre el grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre el cual el compuesto orgánico puede estar ligado sobre el metal de modo coordinado, caracterizado porque durante la reacción se elimina agua de la fase líquida de la mezcla de reacción.
Description
La presente invención se refiere a un método para la producción de materiales estructurales orgánicos porosos. Los materiales estructurales orgánicos porosos forman una interesante categoría de sustancias que pueden ser una alternativa a las zeolitas inorgánicas para las más diversas aplicaciones. Tales aplicaciones están por ejemplo en el campo de la retención, separación o entrega controlada de sustancias químicas, como por ejemplo de gases o en el campo de la catálisis. En particular aquí juega un papel decisivo, la porosidad del material orgánico. Mediante los poros presentes en forma definida en el material estructural orgánico, por un lado se aumenta la superficie específica del material y se hace posible una separación selectiva de mezclas. Lo mismo vale para tales materiales cuando éstos son empleados en reacciones químicas como por ejemplo en reacciones catalíticas. Un grupo especial de estos materiales estructurales orgánicos porosos son los denominados materiales estructurales organometálicos. Estos son conocidos en el estado de la técnica y típicamente contienen un compuesto orgánico por lo menos bidentado unido de manera coordinada a un ión metálico. Tales materiales estructurales organometálicos (MOF = estructurales organometálicos) son descritos por ejemplo en US-A 5,648,508, EP-A 0 790 253, M.O. Keeffe, J. Sol. State Chem., 152 (2000), 3-20; H.Li et al., Nature 402 (1999), 276; M. Eddaoudi, Topics in catalysis 9 (1999), 105-111; B. Chen et al., Science 291 (2001), 1021-1023 y DE-A 101 11 230. Como un grupo especial de estos materiales estructurales organometálicos son descritos en la literatura más reciente los así denominados materiales estructurales "limitados", en los que la estructura no se extiende infinitamente mediante la elección especial del compuesto orgánico sino que lo hace por formación de poliedros. A.C. Sudik, et al., J. Am. Chem. Soc. 127 (2005), 7110-7118, describen tales materiales estructurales especiales. Aquí se menciona esta delimitación como poliedros organometálicos (MOP = poliedros órgano metálicos). Otra modificación de tales materiales estructurales orgánicos porosos representa las así llamadas estructuras orgánicas covalentes (COF = estructuras orgánicas covalentes). Aquí son materiales estructurales, en los cuales en comparación con los materiales estructurales organometálicos el átomo central metálico ha sido reemplazado por un compuesto orgánico de boro, aquellos que preferiblemente tienen cambiados por lo menos dos grupos boro (R-B(OH)2, donde R representa un radical orgánico). A.P. Côté, et al. Science 310 (2005), 1116-1170, describen por ejemplo tales materiales estructurales. Todos estos materiales estructurales orgánicos tienen una porosidad común. Estrechamente ligada con la porosidad de tales materiales está la superficie específica, la cual influye fuertemente en sus propiedades. Como una medida de la caracterización de tales superficies se toma la superficie específica según Langmuir. De allí que para la producción de tales materiales, aparte de un buen rendimiento, también es de gran importancia la generación de altas superficies específicas así como la reproducibilidad en la producción. Esto vale en particular para la producción de grandes cantidades de material estructural. Por ejemplo, para los materiales estructurales organometálicos como MOF-5 (IRMOF-1) se describen en la literatura numerosos métodos de síntesis. Así por ejemplo H. Li, et al., Nature 402 (1999), 276-279 describen la síntesis de MOF-5 donde pudo alcanzarse una superficie Langmuir de aproximadamente 2900 m2/g.
En WO-A 02/070526 se emplearon por ejemplo solventes especiales para producir MOF-5. Con esto resultó una superficie específica de 1063 m2/g. También en WO-A 02/088148 se manifiestan diferentes métodos para la producción de IRMOF-1 (MOF-5). La producción de MOF-5, en la cual pudo alcanzarse una superficie específica particularmente alta, es descrita en WO-A 03/102000 así como de J.L.C. Rowsell, et al., J. Am. Chem. Soc. 126 (2004), 56665667. Todas estas citas de literatura muestran que a pesar de conducciones de reacción en principio iguales, se obtienen materiales estructurales orgánicos porosos que exhiben superficies específicas fuertemente diferentes y con ello pueden tener propiedades diferentes. De allí que existe una necesidad para poner a disposición métodos de producción que, en particular en la producción de grandes cantidades de materiales estructurales orgánicos porosos, eviten las desventajas arriba descritas. De allí que es un objetivo de la presente invención poner a disposición métodos de producción de materiales estructurales orgánicos porosos, que suministren cantidades suficientemente grandes de tales materiales estructurales, donde estos exhiben una superficie específica tan alta como es posible y pueden ser producidos con una alta reproducibilidad. Se logró el objetivo mediante un método para la producción de un material estructural organometálico poroso, dado el caso limitado, donde contiene la etapa:
Reacción de una mezcla de reacción en una fase líquida a partir de por lo menos un compuesto metálico con por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado, el cual puede estar ligado al metal de manera coordinada, en presencia de un solvente orgánico no acuoso en presencia y/o bajo liberación de agua, donde el compuesto orgánico exhibe por lo menos dos átomos elegidos en cada caso independientemente uno de otro de entre el grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre el que el compuesto orgánico puede estar ligado de manera coordinada sobre el metal, caracterizado porque durante la transformación se elimina el agua de la fase líquida de la mezcla de reacción.
Además el objetivo es solucionado mediante un método para la producción de un material estructural
boro-orgánico poroso, dado el caso limitado, donde contiene la etapa: Reacción de una mezcla de reacción en fase líquida de por lo menos un compuesto que exhibe por lo menos dos grupos boro con por lo menos un compuesto orgánico que tiene por lo menos dos grupos funcionales, el cual puede enlazarse de modo covalente sobre un grupo, en presencia de un solvente orgánico no acuoso, donde el compuesto orgánico que tiene por lo menos dos grupos funcionales exhibe por lo menos dos átomos elegidos en cada caso independientemente uno de otro de entre el grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre el cual el compuesto orgánico que tiene dos grupos funcionales puede estar enlazado de modo covalente sobre un grupo boro, caracterizado porque durante la transformación se elimina el agua de la fase líquida de la mezcla de reacción.
Se encontró el modo sorprendente que los materiales estructurales orgánicos porosos arriba descritos (MOF, MOP, COF), en los cuales se presenta una desviación estándar inferior a la del estado de la técnica, pueden ser materializados con superficies específicas comparativamente altas y valores con buena reproducibilidad mediante la eliminación del agua de la mezcla de reacción en la formación del material estructural orgánico poroso. En el caso de materiales estructurales organometálicos, esta agua puede estar presente en la mezcla de reacción en forma de agua de cristalización del compuesto metálico. Después de la reacción del compuesto metálico, el agua de cristalización ya no se encuentra enlazada de manera coordinada en la mezcla de reacción y puede ser eliminada de esta. Además existe la posibilidad de emplear solvente orgánico que no es totalmente anhidro. También aquí puede eliminarse el agua presente por ello en la mezcla de reacción. Por último puede también formarse agua en la reacción. Esto aplica por ejemplo entonces cuando el compuesto metálico está presente en la mezcla de reacción en forma de un hidróxido metálico o un óxido metálico y ocurre una reacción con el compuesto orgánico por lo menos bidentado, el cual puede ser por ejemplo un ácido carboxílico orgánico. Aquí se libera agua por la formación del compuesto complejo metálico. En ello tiene que evitarse añadir el compuesto metálico a la mezcla de reacción como hidróxido o como óxido. Más bien este puede también estar presente en forma de una sal metálica, donde los iones hidróxido necesarios para la formación de agua puede ser generados mediante la formación de una base, como por ejemplo soda cáustica, o mediante el solvente. En el caso de materiales estructurales orgánicos de boro, el agua se genera en particular mediante la reacción de ácido bórico con, por ejemplo, un alcohol. La eliminación del agua de la mezcla de reacción puede ocurrir en particular mediante destilación, mediante arrastre con vapor o mediante agentes de adsorción. Son agentes adecuados de adsorción por ejemplo el óxido de aluminio, gel de sílice o un tamiz molecular en particular un tamiz molecular de 3 Åo 4 Å. En el arrastre con vapor (o llamada expulsión) se eliminan desde una fase líquida componentes de esta fase, mediante la conducción de gases sobre la fase líquida y se convierten a una fase gaseosa. Esto es ventajoso, entre otras cosas, cuando la reacción puede tener lugar bajo agitación, lo cual también es ventajoso en una escalamiento. Mediante ello pueden obtenerse por reacción mayores cantidades de un material estructural orgánico poroso deseado. Se prefiere que la reacción ocurra a una presión de máximo 2 bar (absoluto). Además, sin embargo de modo preferible la presión alcanza como máximo 1200 mbar (absoluto). En particular la reacción tiene lugar preferiblemente a presión atmosférica. La reacción puede ser llevada a cabo a temperatura ambiente o temperatura elevada. Preferiblemente, la reacción ocurre sin embargo a una temperatura en el rango de 80°C a 180°C. Además se prefiere la temperatura de reacción de 100°C a 150°C. Como se explicó arriba, el compuesto metálico puede ser una sal metálica. Son ejemplos de tales sales nitratos, sulfatos, cloruros, fluoruros, cloruros, yoduros, hidróxidos, óxidos o alcoxilatos. Dependiendo del metal empleado están presentes tales compuestos como hidratos. Como ejemplo se mencionan el nitrato de zinc, el cual es obtenible comercialmente tanto en tetra como también como hexahidrato. Los materiales estructurales organometálicos según la presente invención contiene poros, en particular micro-y/o mesoporos. Se definen como microporos aquellos con un diámetro de 2 nm o menos y mesoporos se definen por un diámetro en el rango de 2 a 50 nm, correspondientes en cada caso según la definición, como se indica en Pure & Applied Chem. 57 (1985), 603 -619, en particular en la página 606 (1976). La presencia de micro-y/o mesoporos puede ser examinada con ayuda de medidas de sorción, donde estas medidas determinan la capacidad de absorción del MOF por nitrógeno a 77 kelvin según DIN 66131 y/o DIN 66134. Preferiblemente la superficie específica calculada según el modelo de Langmuir según DIN 66135 (DIN 66131, 66134) para un MOF en forma de polvo es mayor de 5 m2/g, mas preferiblemente sobre 10 m2/g, mas preferiblemente más de 50 m2/g, aún más preferiblemente más de 500 m2/g, todavía aún más preferiblemente mayor que 1000 m2/g y en particular más de 1500 m2/g.
Los cuerpos moldeados de MOF pueden poseer una superficie específica menor; sin embargo preferiblemente mayor de 10 m2/g, mas preferiblemente mayor de 50 m2/g, aún más preferiblemente mayor de 500 m2/g. El componente metálico en el material estructural es elegido preferiblemente de entre los grupos Ia, IIa, IIIa, IVa a VIIIa y Ib a Vlb. Se prefieren particularmente Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ro, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, B, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb y Bi. Son más preferidos Zn, Al, Mg, Ca, Cu, Ni, Fe, Pd, Pt, Ru, Rh, Co, Zr y Ti. En particular se prefieren Zn, Al, Ni, Cu, Mg, Ca, Fe. Respecto a estos iones de estos elementos son de mencionar Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Sc3+, Y3+, Ti4+, Zr4+, Hf4+, V4+, V3+, V2+, Nb3+, Ta3+, Cr3+, Mo3+, W3+, Mn3+, Mn2+, Re3+, Re2+, Fe3+, Fe2+, Ru3+, Ru2+, Os3+, Os2+, Co3+, Co2+, Rh2+, Rh+, Ir2+, Ir+, Ni2+, Ni+, Pd2+, Pd+, Pt2+, Pt+, Cu2+, Cu+, Ag+, Au+, Zn2+, Cd2+, Hg2+, Al3+ Ga3+, In3+, Tl3+, Si4+, Si2+ , Ge4+, Ge2+, Sn4+, Sn2+, Pb4+, Pb2+, As5+, As3+, As+, Sb5+, Sb3+, Sb+, Bi5+, Bi3+ y Bi+. Al menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado exhibe por lo menos dos átomos, que son elegidos en cada caso independientemente uno de otro del grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre los cuales el compuesto orgánico puede enlazarse al metal de manera coordinada. Estos átomos pueden ser parte de la estructura del compuesto orgánico o ser grupos funcionales. Como grupos funcionales sobre los cuales pueden formarse los mencionados enlaces coordinados, son de mencionar en particular por ejemplo los siguientes grupos funcionales: OH, SH, NH2, NH(-R-H), N(R-H)2, CH2OH, CH2SH, CH2NH2, CH2NH(-R-H), CH2N(-R-H)2, -CO2H, COSH, -CS2H, -NO2, B(OH)2, -SO3H, -Si(OH)3, -Ge(OH)3, -Sn(OH)3, -Si(SH)4, -Ge(SH)4, -Sn(SH)3, -PO3H2, -AsO3H, AsO4H, -P(SH)3, -As(SH)3, -CH(RSH)2, -C(RSH)3, -CH(RNH2)2, -C(RNH2)3, -CH(ROH)2, C(ROH)3, -CH(RCN)2, -C(RCN)3, donde R preferiblemente puede contener un grupo alquileno con 1, 2, 3, 4 o 5 átomos de carbono como por ejemplo un grupo metileno, etileno, n-propileno, ipropileno, n-butileno, i-butileno, tert-butileno o n-pentileno, o un grupo arilo que contiene 1 o 2 núcleos aromáticos como por ejemplo 2 anillos C6, los cuales dado el caso pueden ser condensados e independientemente uno de otro pueden estar sustituidos de modo adecuado con por lo menos en cada caso un sustituyente, y/o los cuales pueden contener independientemente uno de otro en cada caso por lo menos un heteroátomo como por ejemplo N, O y/o S. Según formas así mismo preferidas de operar son de mencionar grupos funcionales en los cuales el radical R arriba mencionado no está presente. De modo correspondiente son de mencionar entre otros -CH(SH)2, -C(SH)3, -CH(NH2)2, CH(NH(RH))2, CH(N(R-H)2)2, C(NH(R-H))3, C(N(R-H)2)3, -C(NH2)3, -CH(OH)2, -C(OH)3, -CH(CN)2, C(CN)3. Los al menos dos grupos funcionales pueden por principio estar enlazados en cada compuesto orgánico adecuado en tanto se garantice que los compuestos orgánicos que exhiben estos grupos funcionales son capaces de formar enlaces de manera coordinada y de producir el material estructural. Preferiblemente los compuestos orgánicos, que contienen por lo menos los por lo menos dos grupos funcionales, se derivan de un compuesto alifático saturado o insaturado o un compuesto aromático o compuesto tanto alifático como también aromático. El compuesto alifático o la parte alifática del compuesto tanto alifático como también aromático puede ser lineal y/o ramificada y/o cíclica, donde también son posibles varios ciclos por compuesto. De modo más preferido el compuesto alifático o la parte alifática del compuesto tanto alifático como también aromático contiene 1 a 18, más preferiblemente 1 a 14, más preferiblemente 1 a 13, más preferiblemente 1 a 12, más preferiblemente 1 a 11 y en particular preferiblemente 1 a 10 átomos de carbono como por ejemplo 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 o 10 átomos de carbono. Aquí se prefieren en particular entre otros metano, adamantano, acetileno, etileno o butadieno.
El compuesto aromático o la parte aromática del compuesto tanto aromático como también alifático puede exhibir uno o también varios núcleos como por ejemplo 2, 3, 4 o cinco núcleos, donde los núcleos pueden estar presentes de modo separado uno de otro y/o por lo menos dos núcleos estar presentes en forma condensada. De modo particularmente preferido el compuesto aromático o la parte aromática del compuesto tanto alifático como aromático exhibe uno, dos o tres núcleos, donde se prefieren de modo particular uno o dos núcleos. Independientemente uno de otro, además cada núcleo de los compuestos mencionados puede contener por lo menos un heteroátomo como por ejemplo N, O, S, B, P, Si, preferiblemente N, O y/o S. Además, el compuesto aromático o la parte aromática del compuesto tanto aromático como alifático contiene preferiblemente uno o dos núcleos C6, donde los dos pueden estar presentes separados uno de otro o en forma condensada. En particular son de mencionar como compuestos aromáticos benceno, naftaleno y/o bifenilo y/o bipiridilo y/o piridilo. De modo particularmente preferido el compuesto orgánico por lo menos bidentado se deriva de un ácido di-, tri-, o tetracarboxílico o sus análogos de azufre. Análogos de azufre son los grupos funcionales -C(=O)SH así como sus tautómeros y C(=S)SH, los cuales pueden ser empleados en lugar de uno o varios grupos carboxílicos. En el marco de la presente invención, el concepto "derivar" significa que el compuesto orgánico por lo menos bidentado puede estar presente en el material estructural en forma parcialmente desprotonada o totalmente desprotonada. Además el compuesto orgánico por lo menos bidentado puede contener otros sustituyentes como por ejemplo -OH, -NH2, -OCH3, -CH3, -NH(CH3), -N(CH3)2, -CN así como halogenuros. Más preferido es el compuesto orgánico por lo menos bidentado de un hidrocarburo alifático o aromático cíclico o acíclico con 1 a 18 átomos de carbono el cual además exhibe como grupos funcionales exclusivamente por lo menos dos grupos carboxi. Por ejemplo, en el marco de la presente invención se mencionan ácidos dicarboxílicos como ácido oxálico, ácido succínico, ácido tartárico, ácido 1,4-butanodicarboxílico, ácido 1,4butenodicarboxílico, ácido 4-oxo-pirano-2,6-dicarboxílico, ácido 1,6-hexanodicarboxílico, ácido decanodicarboxílico, ácido 1,8-heptadecanodicarboxílico, ácido 1,9-heptadecanodicarboxílico, ácido heptadecanodicarboxílico, ácido acetilendicarboxílico, ácido 1,2-bencenodicarboxílico, ácido 1,3bencenodicarboxílico, ácido 2,3-piridindicarboxílico, ácido piridin-2,3-dicarboxílico, ácido 1,3butadieno-1,4-dicarboxílico, ácido 1,4-bencenodicarboxílico, ácido p-bencenodicarboxílico, ácido imidazol-2,4-dicarboxílico, ácido 2-metilquinolin-3,4-dicarboxílico, ácido quinolin-2,4-dicarboxílico, ácido quinoxalin-2,3-dicarboxílico, ácido 6-cloroquinoxalin-2,3-dicarboxílico, ácido 4,4’diaminfenilmetan-3,3’-dicarboxílico, ácido quinolin-3,4-dicarboxílico, ácido 7-cloro-4hidroxiquinolin-2,8-dicarboxílico, ácido diimidodicarboxílico, ácido piridin-2,6-dicarboxílico, ácido 2-metilimidazol-4,5-dicarboxílico, ácido tiofen-3,4-dicarboxílico, ácido 2-lsopropilimidazol-4,5dicarboxílico, ácido tetrahidropiran-4,4-dicarboxílico, ácido perilen-3,9-dicarboxílico, ácido perilendicarboxílico, ácido pluriol E 200-dicarboxílico, ácido 3,6-dioxaoctanodicarboxílico, ácido 3,5ciclohexadieno-1,2-dicarboxílico, ácido octadicarboxílico, ácido pentano-3,3-carbonico, ácido 4,4’diamino-1,1’-difenil-3,3’-dicarboxílico, ácido 4,4’-diaminodifenil-3,3’-dicarboxílico, ácido benzidin3,3’-dicarboxílico, ácido 1,4-bis-(fenilamino)-benceno-2,5-dicarboxílico, ácido 1,1’dinaftildicarboxílico, ácido 7-cloro-8-metilquinolin-2,3-dicarboxílico, ácido 1-anilinoantraquinon2,4’-dicarboxílico, ácido politetrahidrofurano-250-dicarboxílico, ácido 1,4-bis-(carboximetil)piperazin-2,3-dicarboxílico, ácido 7-cloroquinolin-3,8-dicarboxílico, ácido 1-(4-carboxi)-fenil-3-(4cloro)-fenilpirazolin-4,5-dicarboxílico, ácido 1,4,5,6,7,7,-hexacloro-5-norbornen-2,3-dicarboxílico, ácido fenilindandicarboxílico, ácido 1,3-dibenzil-2-oxo-imidazolidin-4,5-dicarboxílico, ácido 1,4ciclohexandicarboxílico, ácido naftalin-1,8-dicarboxílico, ácido 2-benzoil-benceno-1,3-dicarbon-ico, ácido 1,3-dibenzil-2-oxoimidazolidin-4,5-cis-dicarboxílico, ácido 2,2’-biquinolin-4,4’-dicarboxílico, ácido piridin-3,4-dicarboxílico, ácido 3,6,9-trioxaundecanodicarboxílico, ácido hidroxibenzofenondicarboxílico, ácido pluriol E 300-dicarboxílico, ácido pluriol E 400-dicarboxílico, ácido pluriol E 600-dicarboxílico, ácido pirazol-3,4-dicarboxílico, ácido 2,3-pirazindicarboxílico, ácido 5,6-dimetil2,3-pirazindicarboxílico, ácido 4,4’-diaminodifenileterdiimidodicarboxílico, ácido 4,4’diaminodifenilmetandiimidodicarboxílico, ácido 4,4’-diaminodifenilsulfondiimidodicarboxílico, ácido 1,4-naftalindicarboxílico, ácido 2,6-naftalindicarboxílico, ácido 1,3-adamantandicarboxílico, ácido 1,8-naftalindicarboxílico, ácido 2,3-naftalindicarboxílico, ácido 8-metoxi-2,3-naftalindicarboxílico, ácido 8-nitro-2,3-naftalin-carbonico, ácido 8-sulfo-2,3-naftalindicarboxílico, ácido antracen-2,3dicarboxílico, ácido 2’,3’-difenil-p-terfenil-4,4"-dicarboxílico, ácido difenileter-4,4’-dicarboxílico, ácido imidazol-4,5-dicarboxílico, ácido 4(1H)-oxotiochromen-2,8-dicarboxílico, ácido 5-tert-butil1,3-bencenodicarboxílico, ácido 7,8-quinolindicarboxílico, ácido 4,5-imidazoldicarboxílico, ácido 4ciclohexen-1,2-dicarboxílico, ácido hexatriacontanodicarboxílico, ácido tetradecanodicarboxílico, ácido 1,7-heptadicarboxílico, ácido 5-hidroxi-1,3-bencenodicarboxílico, ácido 2,5-dihidroxi-1,4dicarboxílico, ácido pirazin-2,3-dicarboxílico, ácido furan-2,5-dicarboxílico, ácido 1-nonen-6,9dicarboxílico, ácido eicosendicarboxílico, ácido 4,4’-dihidroxidifenilmetan-3,3’-dicarboxílico, ácido 1-amino-4-metil-9,10-dioxo-9,10-dihidroantracen-2,3-dicarboxílico, ácido 2,5-piridindicarboxílico, ácido ciclohexen-2,3-dicarboxílico,2,9-diclorofluorubin-4,11-dicarboxílico, ácido 7-cloro-3metilquinolin-6,8-dicarboxílico, ácido 2,4-diclorobenzofenon-2’,5’-dicarboxílico, ácido 1,3bencenodicarboxílico, ácido 2,6-piridindicarboxílico, ácido 1-metilpirrol-3,4-dicarboxílico, ácido 1benzil-1H-pirrol-3,4-dicarboxílico, ácido antraquinon-1,5-dicarboxílico, ácido 3,5pirazoldicarboxílico, ácido 2-nitrobenceno-1,4-dicarboxílico, ácido heptan-1,7-dicarboxílico, ácido ciclobutano-1,1-dicarboxílico 1,14-tetradecanodicarboxílico, ácido 5,6-dehidronorbornan-2,3dicarboxílico, ácido 5-etil-2,3-piridindicarboxílico o ácido camferdicarboxílico, ácidos tricarboxílicos como ácido 2-hidroxi-1,2,3-propanotricarboxílico, ácido 7-cloro-2,3,8-quinolintricarboxílico, ácido 1,2,3-, ácido 1,2,4-bencenotricarboxílico, ácido 1,2,4-butanotricarboxílico, ácido 2-fosfono-1,2,4butanotricarboxílico, ácido 1,3,5-bencenotricarboxílico, ácido 1-hidroxi-1,2,3-propanotricarboxílico, ácido 4,5-dihidro-4,5-dioxo-1H-pirrolo[2,3-F]quinolin-2,7,9-tricarboxílico, ácido 5-acetil-3-amino-6metilbenceno-1,2,4-tricarboxílico, ácido 3-amino-5-benzoil-6-metilbenceno-1,2,4-tricarboxílico, ácido 1,2,3-propanotricarboxílico o ácido aurintricarboxílico,
o ácidos tetracarboxílicos como 1,1-dioxidperilo[1,12-BCD]tiofen-3,4,9,10-tetracarboxílico, ácidos perilentetracarboxílicos como ácido perilen-3,4,9,10-tetracarboxílico o ácido perilen-1,12-sulfon-3,4,9,10-tetracarboxílico, ácidos butanotetracarboxílicos como ácido 1,2,3,4-butanotetracarboxílico o ácido meso-1,2,3,4butantetracarboxílico, ácido decano-2,4,6,8-tetracarboxílico, ácido 1,4,7,10,13,16hexaoxaciclooctadecano-2,3,11,12-tetracarboxílico, ácido 1,2,4,5-bencenotetracarboxílico, ácido 1,2,11,12-dodecanotetracarboxílico, ácido 1,2,5,6-hexano-tetracarboxílico, ácido 1,2,7,8octanotetracarboxílico, ácido 1,4,5,8-naftalintetracarboxílico, ácido 1,2,9,10-decanotetracarboxílico, ácido benzofenontetracarboxílico, ácido 3,3’,4,4’-benzo-fenontetracarboxílico, ácido tetrahidrofuranotetracarboxílico o ácidos ciclopentanotetracarboxílicos como ciclopentano-1,2,3,4tetracarboxílico. De modo muy particularmente preferido se emplean, dado el caso, ácidos di-, tri-o tetracarboxílicos aromáticos mono-, di-, tri-, tetra-o polinucleares con al menos un sustituyente, donde cada uno de los
7 núcleos puede contener por lo menos un heteroátomo, donde dos o más núcleos pueden contener heteroátomo iguales o diferentes. Por ejemplo se prefieren ácidos dicarboxílicos mononucleares, ácidos tricarboxílicos mononucleares, ácidos tetracarboxílicos mononucleares, ácidos dicarboxílicos dinucleares, ácidos tricarboxílicos dinucleares, ácidos tetracarboxílicos dinucleares, ácidos 5
dicarboxílicos trinucleares, ácidos tricarboxílicos trinucleares, ácidos tetracarboxílicos trinucleares, ácidos dicarboxílicos tetranucleares, ácidos tricarboxílicos tetranucleares y/o ácidos tetracarboxílicos tetranucleares. Son por ejemplo heteroátomos adecuados N, O, S, B, P, los heteroátomos preferidos son aquí N, S y/o O. De modo correspondiente, como sustituyentes adecuados son de mencionar entre otros -OH, un grupo nitro, un grupo amino, un grupo alquilo o alcoxi.
10 En particular se prefiere emplear como compuestos orgánicos por lo menos bidentados ácido acetilendicarboxílico (ADC), ácido camferdicarboxílico, ácido fumárico, ácido succínico, ácidos bencenodicarboxílicos, ácidos naftalindicarboxílicos, ácidos bifenildicarboxílicos como por ejemplo, ácido 4,4’-bifenildicarboxílico (BPDC), ácidos pirazindicarboxílicos como ácido 2,5pirazindicarboxílico, ácidos bipiridindicarboxílicos como por ejemplo ácido 2, 2’-bipiridin
15 dicarboxílico, como por ejemplo ácido 2,2’-bipiridin-5,5’-dicarboxílico, ácidos bencenotricarboxílicos como por ejemplo ácido 1, 2, 3-, ácido 1, 2, 4-bencenotricarboxílico o ácido 1, 3, 5-bencenotricarboxílico (BTC), ácido bencenotetracarboxílico, ácido adamantantetracarboxílico (ATC), adamantandibenzoato (ADB) bencenotribenzoato (BTB), metanotetrabenzoato (MTB), adamantantetrabenzoato o ácidos dihidroxitereftálicos como por ejemplo ácido 2,5
20 dihidroxitereftálico (DHBDC). De modo muy particularmente preferido se emplean entre otros ácido isoftálico, ácido tereftálico, ácido 2,5-dihidroxitereftálico, ácido 1, 2, 3-bencenotricarboxílico, ácido 1, 3, 5-bencenotricarboxílico, ácido 2, 6-naftalindicarboxílico, ácido 1, 4-naftalindicarboxílico, ácido 1, 2, 3, 4-y 1, 2, 4, 5bencenotetracarboxílico, ácido camferdicarboxílico o ácido 2,2’-bipiridin-5, 5’-dicarboxílico.
25 Aparte de estos compuestos orgánicos por lo menos bidentados, el material estructural organometálico puede abarcar también uno o varios ligandos monodentados. A continuación se indican ejemplos materiales estructurales organometálicos conocidos en el estado de la técnica. Aparte de la caracterización del MOF, el metal así como el ligando por lo menos bidentado se indica además el solvente así como los parámetros de las celdas (ángulo α, β y γ así
30 como las distancias A, B y C en Å). Estas últimas fueron determinadas mediante difracción Röntgen.
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- MOF-0
- Zn(NO3)2·6H2O H3(BTC) Etanol 90 90 120 16.711 16.711 14.189 P6(3)/ Mcm
- MOF-2
- Zn(NO3)2·6H2O (0.246 mmol) H2(BDC) 0.241 mmol) DMF Tolueno 90 102.8 90 6.718 15.49 12.43 P2(1)/n
- MOF-3
- Zn(NO3)2·6H2O (1.89 mmol) H2(BDC) (1.93 mmol) DMF MeOH 99.72 111.11 108.4 9.726 9.911 10.45 P-1
- MOF-4
- Zn(NO3)2·6H2O (1.00 mmol) H3(BTC) (0.5 mmol) Etanol 90 90 90 14.728 14.728 14.728 P2(1)3
- MOF-5
- Zn(NO3)2·6H2O (2.22 mmol) H2(BDC) (2.17 mmol) DMF Clorobenceno 90 90 90 25.669 25.669 25.669 Fm-3m
- MOF-38
- Zn(NO3)2·6H2O (0.27 mmol) H3(BTC) (0.15 mmol) DMF Clorobenceno 90 90 90 20.657 20.657 17.84 I4cm
- MOF-31 Zn(ADC)2
- Zn(NO3)2·6H2O 0.4 mmol H2(ADC) 0.8 mmol Etanol 90 90 90 10.821 10.821 10.821 Pn(-3)m
- MOF-12 Zn2(ATC)
- Zn(NO3)2·6H2O 0.3 mmol Ha(ATC) 0.15 mmol Etanol 90 90 90 15.745 16.907 18.167 Pbca
- MOF-20 ZnNDC
- Zn(NO3)2·6H2O 0.37 mmol H2NDC DMF 90 92.13 90 8.13 16.444 12.807 P2(1)/c
- 0.36 mmol
- Clorobenceno
- MOF-37
- Zn(NO3)2·6H2O 0.2 mmol H2NDC 0.2 mmol DEF Clorobenceno 72.38 83.16 84.33 9.952 11.576 15.556 P-1
- MOF-8 Tb2(ADC)
- Tb(NO3)3·5H2O 0.10 mmol H2ADC 0.20 mmol DMSO MeOH 90 115.7 90 19.83 9.822 19.183 C2/c
- MOF-9 Tb2(ADC)
- Tb(NO3)3·5H2O 0.08 mmol H2 ADB 0.12 mmol DMSO 90 102.09 90 27.056 16.795 28.139 C2/c
- MOF-6
- Tb(NO3)3·5H2O 0.30 mmol H2 (BDC) 0.30 mmol DMF MeOH 90 91.28 90 17.599 19.996 10.545 P21/c
- MOF-7
- Tb(NO3)3·5H2O 0.15 mmol H2(BDC) 0.15 mmol H2O 102.3 91.12 101.5 6.142 10.069 10.096 P-1
- MOF-69A
- Zn(NO3)2·6H2O 0.083 mmol 4,4’BPDC 0.041 mmol DEF H2O2 MeNH2 90 111.6 90 23.12 20.92 12 C2/c
- MOF-69B
- Zn(NO3)2·6H2O 0.083 mmol 2,6NCD 0.041 mmol DEF H2O2 MeNH2 90 95.3 90 20.17 18.55 12.16 C2/c
- MOF-11 Cu2(ATC)
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.47 mmol H2ATC 0.22 mmol H2O 90 93.86 90 12.987 11.22 1.1.336 C2/c
- MOF-11
- 90 90 90 8.4671 8.4671 14.44 P42/ mmc
- Cu2(ATC)
- dehidr.
- MOF-14 Cu3 (BTB)
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.28 mmol H3BTB 0.052 mmol H2O DMF EtOH 90 90 90 26.946 26.946 26.946 Im-3
- MOF-32 Cd(ATC)
- Cd(NO3)2·4H2O 0.24 mmol H4ATC 0.10 mmol H2O NaOH 90 90 90 13.468 13.468 13.468 P(-4)3m
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- MOF-33 Zn2 (ATB)
- ZnCl2 0.15 mmol H4ATB 0.02 mmol H2O DMF EtOH 90 90 90 19.561 15.255 23.404 Imma
- MOF-34 Ni(ATC)
- Ni(NO3)2·6H2O 0.24 mmol H4 ATC 0.10 mmol H2O NaOH 90 90 90 10.066 11.163 19.201 P212121
- MOF-36 Zn2 (MTB)
- Zn(NO3)2·4H2O 0.20 mmol H4 MTB 0.04 mmol H2O DMF 90 90 90 15.745 16.907 18.167 Pbca
- MOF-39 Zn3O(HBTB)
- Zn(NO3)2 4H2O 0.27 mmol H3BTB 0.07 mmol H2O DMF EtOH 90 90 90 17.158 21.591 25.308 Pnma
- NO305
- FeCl2·4H2O 5.03 mmol ácido fórmico 86.90 mmol DMF 90 90 120 8.2692 8.2692 63.566 R-3c
- NO3O6A
- FeCl2·4H2O 5.03 mmol ácido fórmico 86.90 mmol DEF 90 90 90 9.9364 18.374 18.374 Pbcn
- NO29 similar a MOF-0
- Mn(Ac)2·4H2O 0.46 mmol H3BTC 0.69 mmol DMF 120 90 90 14.16 33.521 33.521 P-1
- BPR48 A2
- Zn(NO3)2 6H2O 0.012 mmol H2BDC 0.012 mmol DMSO Tolueno 90 90 90 14.5 17.04 18.02 Pbca
- BPR69 B1
- Cd(NO3)2 4H2O 0.0212 mmol H2BDC 0.0428 mmol DMSO 90 98.76 90 14.16 15.72 17.66 Cc
- BPR92 A2
- Co(NO3)2·6H2O 0.018 mmol H2BDC 0.018 mmol NMP 106.3 107.63 107.2 7.5308 10.942 11.025 P1
- BPR95 C5
- Cd(NO3)2 4H2O 0.012 mmol H2BDC 0.36 mmol NMP 90 112.8 90 14.460 11.085 15.829 P2(1)/n
- Cu C6H4O6
- Cu(NO3)2 · 2.5H2O 0.370 mmol H2BDC(OH)2 0.37 mmol DMF Clorobenceno 90 105.29 90 15.259 14.816 14.13 P2(1)/c
- M(BTC) similar
- Co(SO4) H2O 0.055 mmol H3BTC DMF
- a MOF-0
- 0.037 mmol
- como MOF-0
- Tb(C6H4O6)
- Tb(NO3)3·5H2O 0.370 mmol H2(C6H4O6) 0.56 mmol DMF Clorobenceno 104.6 107.9 97.147 10.491 10.981 12.541 P-1
- Zn (C2O4)
- ZnCl2 0.370 mmol Acido oxálico 0.37 mmol DMF Clorobenceno 90 120 90 9.4168 9.4168 8.464 P(-3)1m
- Co(CHO)
- Co(NO3)2·5H2O 0.043 mmol ácido fórmico 1.60 mmol DMF 90 91.32 90 11.328 10.049 14.854 P2(1)/n
- Cd(CHO)
- Cd(NO3)2·4H2O 0.185 mmol ácido fórmico 0.185 mmol DMF 90 120 90 8.5168 8.5168 22.674 R-3c
- Cu(C3H2O4)
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.043 mmol ácido malónico 0.192 mmol DMF 90 90 90 8.366 8.366 11.919 P43
- Zn6 (NDC)5
- Zn(NO3)2·6H2O 0.097 mmol 14 DMF 90 95.902 90 19.504 16.482 14.64 C2/m
- MOF-48
- NDC 0.069 mmol Clorobenceno
- H2O2
- MOF-47
- Zn(NO3)2 6H2O 0.185 mmol DMF 90 92.55 90 11.303 16.029 17.535 P2(1)/c
- H2(BDC[CH3]4) 0.185 mmol
- Clorobenceno
- H2O2
- MO25
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol BPhDC 0.085 mmol DMF 90 112.0 90 23.880 16.834 18.389 P2(1)/c
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- Cu-Tio
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol DEF 90 113.6 90 15.474 14.514 14.032 P2(1)/c
- ácido tiofendicarboxílico 0.085
- 7
- mmol
- CIBDC1
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol H2(BDCCl2) 0.085 mmol DMF 90 105.6 90 14.911 15.622 18.413 C2/c
- MOF-101
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol BrBDC 0.085 mmol DMF 90 90 90 21.607 20.607 20.073 Fm3m
- Zn3(BTC)2
- ZnCl2 0.033 mmol H3BTC0.033mmol DMF EtOH Base añadida 90 90 90 26.572 26.572 26.572 Fm-3m
- MOF-j
- Co(CH3CO2)2·4H2 O (1.65 mmol) H3(BZC) (0.95 mmol) H2O 90 112.0 90 17.482 12.963 6.559 C2
- MOF-n
- Zn(NO3)2·6H2O H3(BTC) Etanol 90 90 120 16.711 16.711 14.189 P6(3)/mcm
- PbBDC
- Pb(NO3)2 (0.181 mmol) H2(BDC) (0.181 mmol) DMF Etanol 90 102.7 90 8.3639 17.991 9.9617 P2(1)/n
- Znhex
- Zn(NO3)2·6H2O (0.171 mmol) H3BTB (0.114 mmol) DMF p-xileno Etanol 90 90 120 37.116 5 37.117 30.019 P3(1)c
- AS16
- FeBr2 0.927 mmol H2 (BDC) 0.927 mmol DMF anhidro 90 90.13 90 7.2595 8.7894 19.484 P2(1)c
- AS27-2
- FeBr2 0.927 mmol H3 (BDC) 0.464 mmol DMF anhidro 90 90 90 26.735 26.735 26.735 Fm3m
- AS32
- FeCl3 DMF 90 90 120 12.535 12.535 18.479 P6(2)c
- 1.23 mmol H2(BDC) 1.23 mmol
- etanol anhidro
- AS54-3
- FeBr2 0.927 BPDC 0.927 mmol DMF, n-Propanol anhidro 90 109.98 90 12.019 15.286 14.399 C2
- AS61-4
- FeBr2 0.927 mmol m-BDC 0.927 mmol Piridina anhidra 90 90 120 13.017 13.017 14.896 P6(2)c
- AS68-7
- FeBr2 0.927 mmol 7 m-BDC 1.204 DMF Piridina 90 90 90 18.340 10.036 18.039 Pca21
- mmol
- anhidra
- Zn(ADC)
- Zn(NO3)2·6H2O 0.37 mmol H2(ADC) 0.36 mmol DMF Clorobenceno 90 99.85 90 16.764 9.349 9.635 C2/c
- MOF-12 Zn2
- Zn(NO3)2·6H2O 0.30 mmol Etanol 90 90 90 15.745 16.907 18.167 Pbca
- (ATC)
- Ha(ATC)
- 0.15 mmol
- MOF-20 ZnNDC
- Zn(NO3)2·6H2O 0.37 mmol H2NDC 0.36 mmol DMF Clorobenceno 90 92.13 90 8.13 16.444 12.807 P2(1)/c
- MOF-37
- Zn(NO3)2·6H2O 0.20 mmol H2NDC 0.20 mmol DEF Clorobenceno 72.38 83.16 84.33 9.952 11.576 15.556 P-1
- Zn(NDC) (DMSO)
- Zn(NO3)2·6H2O H2NDC DMSO 68.08 75.33 88.31 8.631 10.207 13.114 P-1
- Zn(NDC)
- Zn(NO3)2·6H2O H2NDC 90 99.2 90 19.289 17.628 15.052 C2/c
- Zn(HPDC)
- Zn(NO3)2·4H2O 0.23 mmol DMF H2O 107.9 105.06 94.4 8.326 12.085 13.767 P-1
- H2(HPDC)
- 0.05 mmol
- Co(HPDC)
- Co(NO3)2·6H2O 0.21 mmol H2 (HPDC) 0.06 mmol DMF H2O/ Etanol 90 97.69 90 29.677 9.63 7.981 C2/c
- Zn3(PDC) 2.5
- Zn(NO3)2·4H2O 0.17 mmol H2(HPDC) 0.05 mmol DMF/ CIBz. H2O/ TEA 79.34 80.8 85.83 8.564 14.046 26.428 P-1
- Cd2
- Cd(NO3)2·4H2O Meta 70.59 72.75 87.14 10.102 14.412 14.964 P-1
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- (TPDC)2
- 0.06 mmol H2(HPDC) 0.06 mmol nol/ CHP H2O
- Tb(PDC) 1.5
- Tb(NO3)3·5H2O 0.21 mmol H2(PDC) 0.034 mmol DMF H2O/ Etanol 109.8 103.61 100.14 9.829 12.11 14.628 P-1
- ZnDBP
- Zn(NO3)2·6H2O 0.05 mmol dibencilfosfato 0.10 mmol MeOH 90 93.67 90 9.254 10.762 27.93 P2/n
- Zn3(BPDC)
- ZnBr2 0.021 mmol 4,4’BPDC 0.005 mmol DMF 90 102.76 90 11.49 14.79 19.18 P21/n
- CdBDC
- Cd(NO3)2·4H2O 0.100 mmol H2(BDC)0.401 mmol DMF Na2SiO3 (ac.) 90 95.85 90 11.2 11.11 16.71 P21/n
- Cd-mBDC
- Cd(NO3)2·4H2O 0.009 mmol H2(mBDC) 0.018 mmol DMF MeNH2 90 101.1 90 13.69 18.25 14.91 C2/c
- Zn4OBND C
- Zn(NO3)2·6H2O 0.041mmol BNDC DEF MeNH2 H2O2 90 90 90 22.35 26.05 59.56 Fmmm
- Eu(TCA)
- Eu(NO3)3·6H2O 0.14 mmol TCA 0.026 mmol DMF Clorobenceno 90 90 90 23.325 23.325 23.325 Pm-3n
- Tb(TCA)
- Tb(NO3)3·6H2O 0.069 mmol TCA 0.026 mmol DMF Clorobenceno 90 90 90 23.272 23.272 23.272 Pm-3n
- Formiato
- Ce(NO3)3·6H2O 0.138 mmol Ácido fórmico 0.43 mmol H2O 90 Etanol 90 120 10.668 10.667 4.107 R-3m
- FeCl2·4H2O 5.03 mmol Ácido fórmico 86.90 mmol
- DMF 90 90 120 8.2692 8.2692 63.566 R-3c
- FeCl2·4H2O 5.03 mmol Ácido fórmico 86.90 mmol
- DEF 90 90 90 9.9364 18.374 18.374 Pbcn
- FeCl2·4H2O 5.03 mmol Ácido fórmico 86.90 mmol
- DEF 90 90 90 8.335 8.335 13.34 P-31c
- NO330
- FeCl2·4H2O 0.50 mmol Ácido fórmico. 8.69 mmol Formamida 90 90 90 8.7749 11.655 8.3297 Pnna
- NO332
- FeCl2·4H2O 0.50 mmol Ácido fórmico 8.69 mmol DIP 90 90 90 10.031 3 18.808 18.355 Pbcn
- NO333
- FeCl2·4H2O 0.50 mmol Ácido fórmico 8.69 mmol DBF 90 90 90 45.275 4 23.861 12.441 Cmcm
- NO335
- FeCl2·4H2O 0.50 mmol Ácido fórmico 8.69 mmol CHF 90 91.372 90 11.596 4 10.187 14.945 P21/n
- NO336
- FeCl2·4H2O 0.50 mmol Ácido fórmico 8.69 mmol MFA 90 90 90 11.794 5 48.843 8.4136 Pbcm
- NO13
- Mn(Ac)2·4H2O 0.46 mmol ácido Etanol 90 90 90 18.66 11.762 9.418 Pbcn
- benzoico 0.92 mmol bipiridina 0.46
- mmol
- NO29 similar a MOF-0
- Mn(Ac)2·4H2O 0.46 mmol H3BTC 0.69 mmol DMF 120 90 90 14.16 33.521 33.521 P-1
- Mn(hfac)2 (O2CC6H5)
- Mn(Ac)2·4H2O 0.46 mmol Hfac 0.92 mmol bipiridina 0.46 mmol Eter 90 95.32 90 9.572 17.162 14.041 C2/c
- BPR43G2
- Zn(NO3)2·6H2O 0.0288 mmol H2BDC 0.0072 mmol DMF CH3CN 90 91.37 90 17.96 6.38 7.19 C2/c
- BPR48A2
- Zn(NO3)2 6H2O 0.012 mmol H2BDC 0.012 mmol DMSO Tolueno 90 90 90 14.5 17.04 18.02 Pbca
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- BPR49B1
- Zn(NO3)2 6H2O 0.024 mmol H2BDC 0.048 mmol DMSO Metanol 90 91.172 90 33.181 9.824 17.884 C2/c
- BPR56E1
- Zn(NO3)2 6H2O 0.012 mmol H2BDC 0.024 mmol DMSO n-Propanol 90 90.096 90 14.587 3 14.153 17.183 P2(1)/n
- BPR68D10
- Zn(NO3)2 6H2O 0.0016 mmol H3BTC 0.0064 mmol DMSO Benceno 90 95.316 90 10.062 7 10.17 16.413 P2(1)/c
- BPR69B1
- Cd(NO3)2 4H2O DMSO 90 98.76 90 14.16 15.72 17.66 Cc
- 0.0212 mmol H2BDC 0.0428 mmol
- BPR73E4
- Cd(NO3)2 4H2O 0.006 mmol H2BDC 0.003 mmol DMSO Tolueno 90 92.324 90 8.7231 7.0568 18.438 P2(1)/n
- BPR76D5
- Zn(NO3)2 6H2O 0.0009 mmol H2BzPDC 0.0036 mmol DMSO 90 104.17 90 14.419 1 6.2599 7.0611 Pc
- BPR80B5
- Cd(NO3)2·4H2O 0.018 mmol H2BDC 0.036 mmol DMF 90 115.11 90 28.049 9.184 17.837 C2/c
- BPR80H5
- Cd(NO3)2 4H2O 0.027 mmol H2BDC 0.027 mmol DMF 90 119.06 90 11.474 6 6.2151 17.268 P2/c
- BPR82C6
- Cd(NO3)2 4H2O 0.0068 mmol H2BDC 0.202 mmol DMF 90 90 90 9.7721 21.142 27.77 Fdd2
- BPR86C3
- Co(NO3)2 6H2O 0.0025 mmol H2BDC 0.075 mmol DMF 90 90 90 18.344 9 10.031 17.983 Pca2(1)
- BPR86H6
- Cd(NO3)2·6H2O 0.010 mmol H2BDC 0.010 mmol DMF 80.98 89.69 83.412 9.8752 10.263 15.362 P-1
- Co(NO3)2 6H2O
- NMP 106.3 107.63 107.2 7.5308 10.942 11.025 P1
- BPR95A2
- Zn(NO3)2 6H2O 0.012 mmol H2BDC 0.012 mmol NMP 90 102.9 90 7.4502 13.767 12.713 P2(1)/c
- CuC6F4O4
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.370 mmol H2BDC(OH)2 0.37 mmol DMF Clorobenceno 90 98.834 90 10.967 5 24.43 22.553 P2(1)/n
- Fe Fórmico
- FeCl2·4H2O 0.370 mmol Ácido fórmico 0.37 mmol DMF 90 91.543 90 11.495 9.963 14.48 P2(1)/n
- Mg Fórmico
- Mg(NO3)2·6H2O 0.370 mmol Ácido fórmico 0.37 mmol DMF 90 91.359 90 11.383 9.932 14.656 P2(1)/n
- MgC6H4O6
- Mg(NO3)2·6H2O DMF 90 96.624 90 17.245 9.943 9.273 C2/c
- 0.370 mmol H2BDC (OH)2 0.37
- mmol
- Zn C2H4BDC MOF-38
- ZnCl2 0.44 mmol CBBDC 0.261 mmol DMF 90 94.714 90 7.3386 16.834 12.52 P2(1)/n
- MOF-49
- ZnCl2 0.44 mmol m-BDC 0.261 mmol DMF CH3CN 90 93.459 90 13.509 11.984 27.039 P2/c
- MOF-26
- Cu(NO3)2·5H2O 0.084 mmol DCPE 0.085 mmol DMF 90 95.607 90 20.879 7 16.017 26.176 P2(1)/n
- MOF-112
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol o-Br-m-BDC 0.085 mmol DMF Etanol 90 107.49 90 29.324 1 21.297 18.069 C2/c
- MOF-109
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol KDB 0.085 mmol DMF 90 111.98 90 23.880 1 16.834 18.389 P2(1)/c
- MOF-111
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol o-BrBDC 0.085 mmol DMF Etanol 90 102.16 90 10.676 7 18.781 21.052 C2/c
- MOF-110
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol DMF 90 90 120 20.065 20.065 20.747 R-3/m
- Acido tiofendicarboxílico 0.085
- 2
- mmol
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- MOF-107
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol DEF 104.8 97.075 95.20 11.032 18.067 18.452 P-1
- Acido tiofendicarboxílico 0.085
- 6
- mmol
- MOF-108
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol DBF/ Metanol 90 113.63 90 15.474 14.514 14.032 C2/c
- Acido tiofendicarboxílico 0.085
- 7
- mmol
- MOF-102
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol H2(BDCCl2) 0.085 mmol DMF 91.63 106.24 112.01 9.3845 10.794 10.831 P-1
- Clbdc1
- Cu(NO3)2·2.5H2O 0.084 mmol H2(BDCCl2) 0.085 mmol DEF 90 105.56 90 14.911 15.622 18.413 P-1
- Cu(NMOP)
- Cu(NO3)2·2.5H2O DMF 90 102.37 90 14.923 18.727 15.529 P2(1)/m
- 0.084 mmol NBDC 0.085 mmol
- 8
- Tb(BTC)
- Tb(NO3)3·5H2O 0.033 mmol H3BTC 0.033 mmol DMF 90 106.02 90 18.698 6 11.368 19.721
- Zn3(BTC)2 Honk
- ZnCl2 0.033 mmol H3BTC 0.033 mmol DMF Etanol 90 90 90 26.572 26.572 26.572 Fm-3m
- Zn4O(NDC)
- Zn(NO3)2·4H2O 0.066 mmol 14NDC 0.066 mmol DMF Etanol 90 90 90 41.559 4 18.818 17.574 aba2
- CdTDC
- Cd(NO3)2·4H2O 0.014 mmol DMF H2O 90 90 90 12.173 10.485 7.33 Pmma
- Tiofeno 0.040 mmol DABCO
- 0.020 mmol
- IRMOF-2
- Zn(NO3)2·4H2O 0.160 mmol o-Br-BDC 0.60 mmol DEF 90 90 90 25.772 25.772 25.772 Fm-3m
- IRMOF-3
- Zn(NO3)2·4H2O 0.20 mmol H2NBDC 0.60 mmol DEF Etanol 90 90 90 25.747 25.747 25.747 Fm-3m
- IRMOF-4
- Zn(NO3)2·4H2O 0.11 mmol [C3H7O]2-BDC 0.48 mmol DEF 90 90 90 25.849 25.849 25.849 Fm-3m
- IRMOF-5
- Zn(NO3)2·4H2O 0.13 mmol [C5H11O]2-BDC 0.50 mmol DEF 90 90 90 12.882 12.882 12.882 Pm-3m
- IRMOF-6
- Zn(NO3)2·4H2O 0.20 mmol [C2H4]-BDC 0.60 mmol DEF 90 90 90 25.842 25.842 25.842 Fm-3m
- IRMOF-7
- Zn(NO3)2·4H2O 0.07 mmol 1,4NDC 0.20 mmol DEF 90 90 90 12.914 12.914 12.914 Pm-3m
- IRMOF-8
- Zn(NO3)2·4H2O 0.55 mmol DEF 90 90 90 30.092 30.092 30.092 Fm-3m
- 2,6NDC 0.42 mmol
- IRMOF-9
- Zn(NO3)2·4H2O 0.05 mmol BPDC 0.42 mmol DEF 90 90 90 17.147 23.322 25.255 Pnnm
- IRMOF-10
- Zn(NO3)2·4H2O 0.02 mmol BPDC 0.012 mmol DEF 90 90 90 34.281 34.281 34.281 Fm-3m
- IRMOF-11
- Zn(NO3)2·4H2O 0.05 mmol HPDC 0.20 mmol DEF 90 90 90 24.822 24.822 24.822 R-3m
- IRMOF-12
- Zn(NO3)2·4H2O 0.017 mmol HPDC 0.12 mmol DEF 90 90 90 34.281 34.281 34.281 Fm-3m
- IRMOF-13
- Zn(NO3)2·4H2O 0.048 mmol PDC 0.31 mmol DEF 90 90 90 24.822 24.822 56.734 R-3m
- IRMOF-14
- Zn(NO3)2·4H2O 0.17 mmol PDC 0.12 mmol DEF 90 90 90 34.381 34.381 34.381 Fm-3m
- IRMOF-15
- Zn(NO3)2·4H2O 0.063 mmol TPDC 0.025 mmol DEF 90 90 90 21.459 21.459 21.459 Im-3m
- MOF-n
- Relación molar de componentes M+L Solvente α β γ a b c Grupo espacial
- IRMOF-16
- Zn(NO3)2·4H2O 0.0126 mmol TPDC 0.05 mmol DEF NMP 90 90 90 21.49 21.49 21.49 Pm-3m
ADC Ácido acetilendicarboxílico
NDC Ácido naftalindicarboxílico
BDC Ácido bencenodicarboxílico
5 ATC Ácido adamantanotetracarboxílico
BTC Ácido bencenotricarboxílico
BTB Ácido bencenotribenzoico
MTB Ácido metanotetrabenzoico
ATB Ácido adamantanotetrabenzoico
10 ADB Ácido adamantandibenzoico Otros MOF son MOF-177, MOF-178, MOF-74, MOF-235, MOF-236, MOF-69 a 80, MOF-501, MOF-502, los cuales están descritos en la literatura. En el marco de la presente invención son muy particularmente preferidos los así denominados materiales IRMOF, en particular IRMOF-1 (= MOF-5).
15 En el caso de materiales estructurales orgánicos de boro, en lugar del ion metálico aparece un compuesto orgánico que exhibe por lo menos dos grupos boro. Así mismo, aquí puede emplearse la estructura del compuesto, como se explicó arriba para el material estructural organometálico, compuesto orgánico por lo menos bidentado. Además, sin embargo éstos tienen que exhibir por lo menos dos grupos (-B(OH)2). Como ejemplos se mencionan aquí ácidos bencenodibóricos, en
20 particular ácido benceno-1,2-dibórico. Cada uno de los grupos boro reacciona con por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bifuncional, el cual en principio puede ser empleado como el compuesto orgánico por lo menos bidentado para el material estructural organometálico. Aquí pueden emplearse las mismas estructuras así como los grupos funcionales arriba mencionados. Sin embargo, adicionalmente pueden ser también compuestos orgánicos que contienen boro, que pueden ser iguales
25 o diferentes al primer compuesto que exhibe por lo menos dos grupos boro. Preferiblemente el compuesto orgánico por lo menos bifuncional son di o polioles aromáticos o ácidos di-o bien polibóricos. Con ello los materiales COF son compuestos partir de un primer compuesto orgánico que exhibe por lo menos dos grupos boro así como un segundo compuesto orgánico con por lo menos dos grupos funcionales. Además pueden emplearse otros compuestos que no son necesariamente bi-o multifuncionales. El solvente orgánico no acuoso es preferiblemente un alcanol C1-6, dimetilsulfóxido (DMSO), N,Ndimetilformamida (DMF), N,N-dietilformamida (DEF), N,N-dimetilacetamida (DMAc), acetonitrilo, tolueno, dioxano, benceno, clorobenceno, metiletilcetona (MEK), piridina, tetrahidrofurano (THF), acetato de etilo, así mismo alcano C1-200 halogenado, sulfolano, glicol, N-metilpirrolidona (NMP), gamma-butirolactona, alcoholes alicíclicos así como ciclohexanol, cetonas, como acetona o acetilacetona, ciclocetonas, como ciclohexanona, sulfoleno o mezclas de ellos. Un alcanol C1-6 describe un alcohol con 1 a 6 átomos de carbono. Aquí son ejemplos de ello metanol, etanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, i-butanol, t-butanol, pentanol, hexanol así como mezclas de ellos. Un alcano C1-200 así mismo halogenado exhibe un alcano con 1 a 200 átomos de carbono, donde uno o varios o incluso todos los átomos de hidrógeno puede o pueden ser reemplazados por halógeno, preferiblemente cloro o flúor, en particular cloro. Son ejemplos aquí cloroformo, diclorometano, tetraclorometano, dicloroetano, hexano, heptano, octano así como mezclas de ellos. Son solventes preferidos DMF, DEF, DMAc y NMP. Se prefiere particularmente DMF. El concepto "no acuoso" se relaciona preferiblemente con un solvente que no supera un contenido máximo de agua de 10 % en peso, mas preferido 5 % en peso, aún más preferido 1 % en peso, aún preferido 0,1 % en peso, particularmente preferido 0,01 % en peso basado en peso total del solvente. Preferiblemente el contenido total máximo de agua de la fase líquida de la mezcla de reacción antes de la transformación asciende a 10 % en peso, mas preferiblemente 5 % en peso y aún más preferiblemente 1 % en peso. Además al final de la transformación el contenido máximo total de agua es a lo sumo de 3 % en peso, más preferiblemente a lo sumo 1 % en peso y por lo común preferiblemente a lo sumo 0,5 % en peso. La determinación del contenido de agua puede ser realizada mediante los métodos corrientes para los expertos. Preferiblemente se determina el contenido de agua según el método Karl Fischer (por ejemplo Römpp Chemie Lexikon vol. 3 (1995), p. 2161, editorial Georg Thieme). El concepto "solvente" se refiere a solventes puros así como mezclas de diferentes solventes. Después de la reacción pueden ocurrir varios pasos de acabado, los cuales son ejecutados preferiblemente bajo exclusión de humedad. Pueden ser pasos de filtrado, secado, lavado, secado, extracción, calcinación o conformado. Se prefiere en particular un paso de calcinación. Típicamente, la temperatura aquí ajustada es mayor a 250°C, preferiblemente 300°C a 400°C. A causa del paso de calcinación pueden liberarse los compuestos de partida que eventualmente permanecen en los poros. De modo complementario o alternativo para ello puede ocurrir la eliminación de los materiales de partida de los poros del material estructural orgánico poroso, mediante el tratamiento del material estructural formado, con un solvente no acuoso. Aquí en un tipo de "método de extracción" se lixivia el material de partida que se va a eliminar y, dado el caso, se reemplaza en el material estructural por una molécula de solvente. Este delicado método es adecuado en particular cuando los materiales de partida son compuestos de alto punto de ebullición. El tratamiento ocurre por lo menos por 30 minutos y puede ser ejecutado típicamente por hasta dos días. Esto puede tener lugar a temperatura ambiente o temperatura elevada. Preferiblemente esto ocurre a temperatura elevada, preferiblemente a por lo menos 40°C, preferiblemente 60°C. Además se prefiere la extracción a temperatura de ebullición del solvente empleado (bajo reflujo).
El tratamiento puede ocurrir en un recipiente sencillo mediante suspensión y agitación del material
estructural. También pueden emplearse equipos de extracción como equipos Soxhlet, en particular
equipos técnicos de extracción.
Como solventes adecuados pueden emplearse los arriba mencionados, como por ejemplo alcanol C1-6,
dimetilsulfóxido (DMSO), N,N-dimetilformamida (DMF), N,N-dietilformamida (DEF), acetonitrilo,
tolueno, dioxano, benceno, clorobenceno, metiletilcetona (MEK), piridina, tetrahidrofurano (THF),
acetato de etilo, dado el caso alcano C1-200 halogenado, sulfolano, glicol, N-metilpirrolidona (NMP),
gamma-butirolactona, alcoholes alicíclicos como ciclohexanol, cetonas, como acetona o acetilacetona,
ciclocetonas, como ciclohexanona o mezclas de ellos.
Se prefieren metanol, etanol, propanol, acetona, MEK y mezclas de ellos.
Un agente de extracción muy particularmente preferido es metanol.
El solvente empleado para la extracción pueden ser igual o diferente al de la reacción del por lo menos
un compuesto metálico con el por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado. En
particular, en la "extracción" no es absolutamente necesario aunque preferido que el solvente sea
anhidro.
El material orgánico estructural puede estar presente en forma de polvo o bien como aglomerado. El
material estructural puede ser empleado como tal o puede ser transformado en un cuerpo moldeado.
Aquí son métodos preferidos para la producción de cuerpos moldeados la granulación o tableteado. En
la producción de cuerpos moldeados el material estructural puede exhibir otros materiales, como por
ejemplo aglutinantes, desmoldantes y otros aditivos, los cuales pueden ser añadidos durante la
producción. Asimismo es imaginable que el material estructural exhiba otros componentes, como por
ejemplo absorbentes como carbón activado o similares.
Respecto a las posibles geometrías de los cuerpos moldeados, esencialmente no existe ninguna
limitación. Por ejemplo son de mencionar entre otros pellas como por ejemplo pellas en forma de
disco, motas, esferas, granulados, extruidos como por ejemplo cuerdas, panales, rejas o cuerpos
huecos.
Para la producción de estos cuerpos huecos son posibles fundamentalmente todos los métodos
adecuados. Se prefieren en particular las siguientes variantes del método:
-amasado/molienda del material estructural sólo o junto con por lo menos un aglutinante y/o por lo menos un material de empastado y/o por lo menos un compuesto guía para obtener una mezcla; conformado de la mezcla obtenida por medio de por lo menos un método adecuado como por ejemplo extrusión; de modo opcional lavado y/o secado y/o calcinación del extruido; de modo opcional terminado. -Tableteado junto con por lo menos un aglutinante y/u otras sustancias auxiliares. -Aplicación del material estructural sobre por lo menos un material de soporte dado el caso poroso. El material obtenido pude ser entonces reacondicionado hasta un cuerpo moldeado según el método antes descrito. -aplicación del material estructural sobre por lo menos un sustrato dado el caso poroso.
El amasado/molienda y conformado pueden ocurrir según cualquier método adecuado, como se
describe por ejemplo en Ullmanns Enzyklopädie der Technischen Chemie, 4ª. edición, volumen 2, pp.
313 y siguientes (1972).
Por ejemplo el amasado/molienda y conformado pueden ocurrir por medio de una prensa de pistón,
prensa de rodillos en presencia o ausencia de por lo menos un material ligante, composición,
peletizado, tableteado, extrusión, co-extrusión, espumado, hilado, revestido, granulado,
preferiblemente granulado por atomización, atomizado, secado por atomización o una combinación de dos o más de estos métodos. De modo muy particularmente preferido se producen pellas y/o tabletas. El amasado y/o conformado puede ocurrir a temperaturas elevadas como por ejemplo en el rango de temperatura ambiente a 300 °C y/o presión elevada como por ejemplo en el rango de presión normal hasta algunos cientos de bar y/o en una atmósfera de gas protector como por ejemplo en presencia de un gas noble, nitrógeno o una mezcla de dos o más de ellos. Según otra forma de ejecución, el amasado y/o conformado son ejecutados por adición de por lo menos un aglutinante, donde como aglutinante se emplea fundamentalmente cualquier compuesto químico que en el amasado y/o conformado garantice la viscosidad deseada de la masa que va a ser amasado y/o conformada. Además, en el sentido de la presente invención los aglutinantes pueden ser tanto compuestos que aumentan la viscosidad como que reducen la viscosidad. Como otros aglutinantes preferidos son de mencionar por ejemplo óxido de aluminio o ligantes que contienen óxido de aluminio, como se describen por ejemplo en la WO 94/29408, dióxido de silicio como se describe por ejemplo en la EP 0 592 050 A1, mezclas de dióxido de silicio y óxido de aluminio como se describen por ejemplo en la WO 94/13584, minerales de la arcilla como se describen por ejemplo en la JP 03-037156 A, por ejemplo montmorillonita, caolin, bentonita, halloisita, dickita, nacrita y anauxita, alcoxisilanos como se describen por ejemplo en la EP 0 102 544 B1, por ejemplo tetraalcoxisilanos como por ejemplo tetrametoxisilano, tetraetoxisilano, tetrapropoxisilano, tetrabutoxisilano, o por ejemplo trialcoxisilanos como por ejemplo trimetoxisilano, trietoxisilano, tripropoxisilano, tributoxisilano, alcoxititanatos, por ejemplo tetraalcoxititanatos como por ejemplo tetrametoxititanato, tetraetoxititanato, tetrapropoxititanato, tetrabutoxititanato, o por ejemplo trialcoxititanatos como por ejemplo trimetoxititanato, trietoxititanato, tripropoxititanato, tributoxititanato, alcoxicirconatos, por ejemplo tetraalcoxicirconatos como por ejemplo tetrametoxicirconato, tetraetoxicirconato, tetrapropoxicirconato, tetrabutoxicirconato, o por ejemplo trialcoxicirconatos como por ejemplo trimetoxicirconato, trietoxicirconato, tripropoxicirconato, tributoxicirconato, silicasoles, sustancias anfifílicas y/o grafito. Como compuestos que aumentan la viscosidad pueden emplearse por ejemplo también, dado el caso adicionalmente a los compuestos mencionados arriba, un compuesto orgánico y/o un polímero hidrofílico como por ejemplo celulosa o un derivado de celulosa como por ejemplo metilcelulosa y/o un poliacrilato y/o un polimetacrilato y/o un polivinilalcohol y/o una polivinilpirrolidona y/o un poliisobuteno y/o un politetrahidrofurano y/o un óxido de polietileno. Como agente de empastado pueden emplearse entre otros preferiblemente agua o por lo menos un alcohol como por ejemplo un monoalcohol con 1 a 4 átomos de carbono como por ejemplo metanol, etanol, n-propanol, iso-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-metil-1-propanol o 2-metil-2-propanol o una mezcla de agua y por lo menos uno de los alcoholes mencionados o un alcohol polivalente como por ejemplo un glicol, preferiblemente un alcohol polivalente miscible en agua, sólo o como mezcla con agua y/o por lo menos uno de los mencionados alcoholes monovalentes. Otros aditivos que pueden ser empleados para el amasado y/o conformado son entre otros aminas o derivados de aminas como por ejemplo compuestos de tetraalquilamonio o aminoalcoholes y compuestos que contienen carbonatos como por ejemplo carbonato de calcio. Esos otros aditivos son descritos en la EP 0 389 041 A1, la EP 0 200 260 A1 o la WO 95/19222. Básicamente, el orden de los aditivos como compuesto guía, ligante, agente de empastado, sustancia que aumenta la viscosidad en el conformado y amasado, no es critico.
17 Según otra forma preferida de operar, el cuerpo moldeado obtenido según amasado y/o conformado es sometido por lo menos a un secado, el cual es llevado a cabo en general a una temperatura en el rango de 25 a 500 °C, preferiblemente en el rango de 50 a 500 °C y particularmente preferido en el rango de 100 a 350 °C. Así mismo es posible secar al vacío o bajo atmósfera de gas protector o mediante 5 secado por atomización. Según una forma particularmente preferida de operar en el marco de este procedimiento de secado, se elimina del cuerpo moldeado por lo menos parcialmente por lo menos uno de los compuestos adicionados como aditivos. Ejemplos 10 Ejemplo de comparación 1: síntesis convencional de MOF-5 Se suspenden 96,7 g de Zn(NO3)2*4H2O y 20,8 g de ácido tereftálico en 2825 g de DEF (contenido de agua de 0,02% según K. Fischer). Se mantiene la mezcla de reacción (contenido total de agua de 1 % según K. Fischer) por 3,5 h a 130°C. Al final del tiempo de reacción el contenido de agua de la solución de reacción es de 1,1%. Después del enfriamiento se separa por filtración la materia seca y se 15 lava 4 x 500 ml con acetona anhidra. Primero que todo se preseca la sustancia sólida a temperatura ambiente en corriente de nitrógeno 2 a 4 días y a continuación se hace vacío en armario de secado al vacío por 16 h (≤ 1 mbar). Antes de la determinación de la superficie con N2 se hace vacío en las muestras en cada caso por más horas a 200°C. 20 Se determinaron los siguientes valores de superficie (según Langmuir):
- Muestra
- Superficie [m2/g]
- A (MH 148)
- 2674
- B (MH 150)
- 3016
- C (MH 155)
- 2904
- D (MH 158)
- 3530
- E (MH 159)
- 2279
- F (MH 160)
- 3684
- G (MH 161)
- 2038
- H (MH 164)
- 2811
- Promedio 2867 ± 561
Ejemplo 2: Síntesis de MOF-5 con eliminación de agua Se repite la síntesis del ejemplo 1. Sin embargo esta vez se separan los vapores formados durante la reacción con una suave corriente de nitrógeno sobre un puente de destilación. Después de la filtración,
25 la solución madre contiene sólo aproximadamente 0,5% de H2O. El tratamiento posterior de las muestras ocurre nuevamente de forma análoga al ejemplo 1. Se determinan los siguientes valores de superficie (según Langmuir):
- Muestra
- Superficie [m2/g]
- I (MH 166)
- 3372
- J (MH 167)
- 3545
- K (MH 170)
- 2940
- L (MH 183)
- 3511
- M (MH 184)
- 3628
- Promedio 3399 ± 273
18 Los resultados muestran que debido a la eliminación del agua de la mezcla de reacción se puede obtener un material estructural con mayor superficie específica y que en la repetición de las pruebas resulta una menor desviación estándar, lo cual indica una mayor reproducibilidad. Ejemplo 3: Síntesis de MOF-5 con eliminación del agua 5 Se repite la síntesis del ejemplo 1, sin embargo esta vez en presencia de 200 g de un tamiz molecular de 3 Å recientemente activado. Después de la filtración la solución madre contiene sólo aproximadamente 0,34 % de H2O. El tratamiento posterior de las muestras ocurre nuevamente de forma análoga al ejemplo 1. Las muestras exhibieron una superficie N2 (según Langmuir) de 3182 m2/g. 10
Claims (10)
- Reivindicaciones
- 1.
- Método para la producción de un material estructural organometálico poroso, dado el caso limitado,
donde incluye el paso -reacción de una mezcla de reacción en una fase líquida de por lo menos un compuesto metálico con por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado, el cual puede estar enlazado al metal de manera coordinada, en presencia de un solvente orgánico no acuoso en presencia de y/o bajo liberación de agua, donde el compuesto orgánico exhibe por lo menos dos átomos elegidos en cada caso independientemente uno de otro de entre el grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre el cual el compuesto orgánico puede estar ligado sobre el metal de modo coordinado, caracterizado porque durante la reacción se elimina agua de la fase líquida de la mezcla de reacción. -
- 2.
- Método según la reivindicación 1, caracterizado porque el agua es por lo menos agua de cristalización del compuesto metálico o es componente del solvente o se forma por escisión durante la reacción del por lo menos un compuesto metálico con el por lo menos un compuesto por lo menos bidentado.
-
- 3.
- Método según las reivindicaciones 1 o 2, caracterizado porque el por lo menos un compuesto orgánico por lo menos bidentado se deriva de un ácido di-, tri-o tetracarboxílico o un análogo de azufre de los mismos.
-
- 4.
- Método para la producción de un material estructural boro-orgánico poroso dado el caso limitado,
donde contiene el paso -reacción de una mezcla de reacción en una fase líquida de por lo menos un compuesto que exhibe por lo menos dos grupos boro con por lo menos un compuesto orgánico que es por lo menos bifuncional, el cual puede estar enlazado de modo covalente a un grupo boro, en presencia de un solvente orgánico no acuoso, donde el compuesto orgánico por lo menos bifuncional exhibe por lo menos dos átomos elegidos en cada caso independientemente uno de otro del grupo compuesto por oxígeno, azufre y nitrógeno, sobre el cual el compuesto orgánico bifuncional puede enlazarse de modo covalente con un grupo boro, caracterizado porque durante la transformación de la fase líquida de la mezcla de reacción se elimina agua. -
- 5.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque el agua se elimina de la mezcla de reacción mediante destilación, arrastre de vapor o con agentes de adsorción.
-
- 6.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque la reacción ocurre bajo agitación.
-
- 7.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque la reacción ocurre a una presión de 2 bar como máximo.
-
- 8.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque la reacción ocurre a una temperatura en el rango de 80°C a 180°C.
-
- 9.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque el solvente orgánico no acuoso es un alcanol C1-6, DMSO, DMF, DEF, DMAc, acetonitrilo, tolueno, dioxano, benceno, clorobenceno, MEK, piridina, THF, acetato de etilo, alcano C1-200 dado el caso halogenado, sulfolano, glicol, NMP, γ-butirolactona, alcoholes alicíclicos, cetonas, ciclocetonas, sulfoleno una mezcla de ellos.
-
- 10.
- Método según una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado porque sigue una o varias etapas de acondicionamiento, las cuales son realizadas bajo exclusión de humedad.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP06101535 | 2006-02-10 | ||
| EP06101535 | 2006-02-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2349337T3 true ES2349337T3 (es) | 2010-12-30 |
Family
ID=37969975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES07712171T Active ES2349337T3 (es) | 2006-02-10 | 2007-02-08 | Método para la producción de materiales estructurales orgánicos porosos. |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7847115B2 (es) |
| EP (1) | EP1984378B1 (es) |
| JP (1) | JP2009526019A (es) |
| KR (1) | KR20080091225A (es) |
| CN (1) | CN101379068A (es) |
| AT (1) | ATE475664T1 (es) |
| CA (1) | CA2640300A1 (es) |
| DE (1) | DE502007004558D1 (es) |
| ES (1) | ES2349337T3 (es) |
| WO (1) | WO2007090864A1 (es) |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2921660B1 (fr) * | 2007-10-01 | 2015-09-25 | Centre Nat Rech Scient | Nanoparticules hybrides organiques inorganiques a base de carboxylates de fer. |
| ES2377105T3 (es) * | 2008-01-24 | 2012-03-22 | Basf Se | Material estructural organometálico poroso como agente desecante |
| DE102008007551A1 (de) | 2008-02-05 | 2009-08-06 | Bayer Materialscience Ag | Metallorganische Gerüstverbindungen auf Basis von Triptycen |
| DE102009021479A1 (de) * | 2008-06-04 | 2010-09-16 | RUHR-UNIVERSITäT BOCHUM | Verfahren zur Herstellung von oxidbasierten metall-organischen Gerüstmaterialien mittels inverser Synthese |
| KR101563914B1 (ko) | 2009-03-04 | 2015-10-28 | 제록스 코포레이션 | 구조화 유기 필름 |
| JP5452074B2 (ja) * | 2009-05-18 | 2014-03-26 | 株式会社クラレ | 金属錯体及びその製造方法 |
| KR101130158B1 (ko) * | 2009-10-15 | 2012-04-12 | 서울대학교산학협력단 | 골격체 요소를 삽입하거나 제거하여 금속-유기 골격체의 기체 흡탈착 특성을 조절하는 방법 |
| KR101158456B1 (ko) * | 2009-11-19 | 2012-06-19 | 한국화학연구원 | 결정성의 다공성 유무기 혼성체 및 그의 제조 방법 |
| WO2011069541A1 (de) * | 2009-12-09 | 2011-06-16 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur herstellung oxidbasierter metall-organischer gerüstmaterialien durch oxideinbau unter kontrolle des wassergehaltes |
| CN101781323B (zh) * | 2010-02-10 | 2011-06-01 | 河北工业大学 | 一种发光过渡金属有机骨架结构化合物及其制备方法 |
| US8425662B2 (en) | 2010-04-02 | 2013-04-23 | Battelle Memorial Institute | Methods for associating or dissociating guest materials with a metal organic framework, systems for associating or dissociating guest materials within a series of metal organic frameworks, and gas separation assemblies |
| US8597406B2 (en) * | 2010-04-27 | 2013-12-03 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Isoreticular metal-organic framework of the formula Zn4O(FMA)3 |
| US9567425B2 (en) | 2010-06-15 | 2017-02-14 | Xerox Corporation | Periodic structured organic films |
| KR102014985B1 (ko) | 2010-07-27 | 2019-08-27 | 삼성전자주식회사 | 복합체, 이를 포함하는 전극 촉매, 그 제조방법 및 이를 이용한 연료전지 |
| US8257889B2 (en) | 2010-07-28 | 2012-09-04 | Xerox Corporation | Imaging members comprising capped structured organic film compositions |
| US8697322B2 (en) | 2010-07-28 | 2014-04-15 | Xerox Corporation | Imaging members comprising structured organic films |
| US8318892B2 (en) | 2010-07-28 | 2012-11-27 | Xerox Corporation | Capped structured organic film compositions |
| US8759473B2 (en) | 2011-03-08 | 2014-06-24 | Xerox Corporation | High mobility periodic structured organic films |
| CN102250130B (zh) * | 2011-05-20 | 2014-07-09 | 复旦大学 | 一种微孔金属-有机骨架材料及其制备方法和应用 |
| US8353574B1 (en) | 2011-06-30 | 2013-01-15 | Xerox Corporation | Ink jet faceplate coatings comprising structured organic films |
| WO2013005160A1 (en) * | 2011-07-06 | 2013-01-10 | Basf Se | Process for preparing porous metal-organic framework composed of zinc methylimidazolate |
| US9096616B2 (en) | 2011-07-06 | 2015-08-04 | Basf Se | Process for preparing a porous metal-organic framework composed of zinc methylimidazolate |
| US8900352B2 (en) * | 2011-07-06 | 2014-12-02 | Northwestern University | System and method for generating and/or screening potential metal-organic frameworks |
| US8377999B2 (en) | 2011-07-13 | 2013-02-19 | Xerox Corporation | Porous structured organic film compositions |
| US8313560B1 (en) | 2011-07-13 | 2012-11-20 | Xerox Corporation | Application of porous structured organic films for gas separation |
| US8410016B2 (en) | 2011-07-13 | 2013-04-02 | Xerox Corporation | Application of porous structured organic films for gas storage |
| US8460844B2 (en) | 2011-09-27 | 2013-06-11 | Xerox Corporation | Robust photoreceptor surface layer |
| US8372566B1 (en) | 2011-09-27 | 2013-02-12 | Xerox Corporation | Fluorinated structured organic film photoreceptor layers |
| DE102011057180A1 (de) * | 2011-12-30 | 2013-07-25 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Antireflexionsbeschichtung |
| US8529997B2 (en) | 2012-01-17 | 2013-09-10 | Xerox Corporation | Methods for preparing structured organic film micro-features by inkjet printing |
| CN102964365B (zh) * | 2012-03-16 | 2015-03-04 | 长春工业大学 | 具有孔道结构的呋喃二甲酸锌金属有机骨架材料及制备方法 |
| GB201207208D0 (en) * | 2012-04-25 | 2012-06-06 | Johnson Matthey Plc | Compound and method of manufacture |
| US8765340B2 (en) | 2012-08-10 | 2014-07-01 | Xerox Corporation | Fluorinated structured organic film photoreceptor layers containing fluorinated secondary components |
| MX368981B (es) | 2012-08-15 | 2019-10-23 | Arkema Inc | Sistemas de adsorción usando armazones metal-orgánicos. |
| CN102886249B (zh) * | 2012-10-15 | 2014-10-29 | 复旦大学 | 一种选择性吸附分离甲醇分子的自组装微孔材料及其制备方法 |
| US8906462B2 (en) | 2013-03-14 | 2014-12-09 | Xerox Corporation | Melt formulation process for preparing structured organic films |
| CN103694260B (zh) * | 2013-12-02 | 2016-04-27 | 南京工业大学 | 一种高稳定性金属有机骨架杂化材料、制备方法及其应用 |
| CN103820850B (zh) * | 2014-02-27 | 2016-04-27 | 河南理工大学 | 一种金属有机骨架mof-2多晶膜的制备方法 |
| DE102014215568A1 (de) * | 2014-08-06 | 2016-02-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines Adsorbens aus metallorganischen Gerüststrukturen (MOF) |
| KR101848797B1 (ko) | 2015-02-17 | 2018-04-13 | 주식회사 엘지화학 | 선형 무기 배위 고분자, 금속 착화합물, 이를 포함하는 금속 나노 구조체 및 촉매 조성물 |
| WO2016133341A1 (ko) * | 2015-02-17 | 2016-08-25 | 주식회사 엘지화학 | 선형 무기 배위 고분자, 금속 착화합물, 이를 포함하는 금속 나노 구조체 및 촉매 조성물 |
| CN106693601B (zh) * | 2015-11-12 | 2019-08-27 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种利用共价有机框架材料吸附碘的方法 |
| US10737239B2 (en) | 2015-11-27 | 2020-08-11 | Basf Se | Ultrafast high space-time-yield synthesis of metal-organic frameworks |
| CN105762363B (zh) * | 2015-12-11 | 2018-06-15 | 华南师范大学 | 一种基于zif配合物的锂离子电池负极材料的制备方法 |
| CN108671958B (zh) * | 2018-06-06 | 2020-11-06 | 青岛科技大学 | 双离子二维有机多孔材料及其制备方法 |
| CN109320729B (zh) * | 2018-09-19 | 2021-04-30 | 常州大学 | 基于吡嗪多羧酸配体构筑金属锰有机框架化合物的方法及应用 |
| CN111318306A (zh) * | 2018-12-14 | 2020-06-23 | 湖北大学 | 一种新型的双功能电化学高效催化剂复合材料及其制备方法 |
| CN109621911A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-16 | 烟台大学 | 一种多孔有机骨架涂层的spme萃取纤维及其制备方法 |
| CN109882336B (zh) * | 2019-03-11 | 2020-11-27 | 西华大学 | 一种冲击式水轮机 |
| US12201939B2 (en) | 2019-08-29 | 2025-01-21 | Parker-Hannifin Corporation | Metal-organic framework (MOF) materials for superior refrigerant drying performance |
| CN110726762A (zh) * | 2019-08-30 | 2020-01-24 | 南京理工大学 | 铜基三维金属有机框架材料在仿酶上的应用 |
| JPWO2021140869A1 (es) * | 2020-01-08 | 2021-07-15 | ||
| FR3113176B1 (fr) * | 2020-07-30 | 2023-04-14 | Commissariat Energie Atomique | Procédé de contrôle du stockage et de l'activité radioactive d'un gaz adsorbé par un matériau poreux, installation associée, matériau poreux hydraté et son procédé de préparation |
| CN112886024B (zh) * | 2021-03-05 | 2022-04-08 | 福州大学 | 杨梅状钴镍硼复合碳材料质子膜燃料电池催化剂的制备方法 |
| CN114436242B (zh) * | 2022-02-18 | 2023-04-28 | 辽宁科技大学 | 三维杂原子掺杂多孔碳材料及其制备方法和应用 |
| CN114632546B (zh) * | 2022-02-22 | 2023-10-17 | 新乡医学院 | 一种含硫和氮铁基金属有机框架微米球花氧还原催化剂的制备方法 |
| CN115785467B (zh) * | 2022-11-28 | 2023-08-29 | 重庆师范大学 | 三重互穿的双核Zn2-MOF材料及其制法与在制备橙黄光LED器件中的应用 |
| CN116282005B (zh) * | 2023-02-27 | 2025-11-07 | 南京农业大学 | 一种高比表面氮掺杂介孔石墨碳负极超电容材料及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5648508A (en) | 1995-11-22 | 1997-07-15 | Nalco Chemical Company | Crystalline metal-organic microporous materials |
| DE10111230A1 (de) | 2001-03-08 | 2002-09-19 | Basf Ag | Metallorganische Gerüstmaterialien und Verfahren zu deren Herstellung |
| ES2269761T3 (es) * | 2001-04-30 | 2007-04-01 | The Regents Of The University Of Michigan | Estructuras organometalicas isorreticulares, procedimiento para su formacion, y diseño sistematico del calibre de poros y funcionalidad de los mismos, con aplicacion para el almacenamiento de gases. |
| US6893564B2 (en) | 2002-05-30 | 2005-05-17 | Basf Aktiengesellschaft | Shaped bodies containing metal-organic frameworks |
-
2007
- 2007-02-08 DE DE502007004558T patent/DE502007004558D1/de active Active
- 2007-02-08 ES ES07712171T patent/ES2349337T3/es active Active
- 2007-02-08 CA CA002640300A patent/CA2640300A1/en not_active Abandoned
- 2007-02-08 CN CNA2007800049232A patent/CN101379068A/zh active Pending
- 2007-02-08 JP JP2008553761A patent/JP2009526019A/ja not_active Withdrawn
- 2007-02-08 US US12/161,024 patent/US7847115B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-08 EP EP07712171A patent/EP1984378B1/de not_active Not-in-force
- 2007-02-08 WO PCT/EP2007/051211 patent/WO2007090864A1/de not_active Ceased
- 2007-02-08 KR KR1020087019877A patent/KR20080091225A/ko not_active Withdrawn
- 2007-02-08 AT AT07712171T patent/ATE475664T1/de active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009526019A (ja) | 2009-07-16 |
| EP1984378A1 (de) | 2008-10-29 |
| KR20080091225A (ko) | 2008-10-09 |
| US7847115B2 (en) | 2010-12-07 |
| US20100160661A1 (en) | 2010-06-24 |
| WO2007090864A1 (de) | 2007-08-16 |
| EP1984378B1 (de) | 2010-07-28 |
| ATE475664T1 (de) | 2010-08-15 |
| CA2640300A1 (en) | 2007-08-16 |
| CN101379068A (zh) | 2009-03-04 |
| DE502007004558D1 (de) | 2010-09-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2349337T3 (es) | Método para la producción de materiales estructurales orgánicos porosos. | |
| ES2377105T3 (es) | Material estructural organometálico poroso como agente desecante | |
| US7534303B2 (en) | Liquid absorption by metal-organic frameworks | |
| ES2765276T3 (es) | Procedimiento de preparación de una composición de moldeo y producción de cuerpos conformados que contienen MOF | |
| ES2322497T3 (es) | Materiales de esqueleto metalorganicos dopados. | |
| US8057584B2 (en) | Pressurised gas container or storage means containing a gas pressurised container with filter means | |
| KR101422854B1 (ko) | 주족 금속 이온을 함유하는 유기금속성 골격구조 물질의제조 방법 | |
| US9561995B2 (en) | Process for the recovery of components forming a metal-organic framework material | |
| DK2230288T3 (en) | Organometallic skeleton material in cool / heat machines | |
| US7777061B2 (en) | Acid-functionalized organometallic framework materials | |
| CA2755903A1 (en) | Process for separating off acidic gases by means of metal-organic frameworks impregnated with amines | |
| MX2008013256A (es) | Materiales de estructura metalica-organica a base de zirconio. | |
| US20080300387A1 (en) | Organometallic Framework Materials of Transition Group III | |
| US8563464B2 (en) | Use of porous metal-organic framework materials for color marking of filters | |
| MX2008009086A (es) | Proceso para preparar materiales de estructura organica porosa |