ES2587009T3 - Sistema de planchado - Google Patents

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ES2587009T3
ES2587009T3 ES08171841.3T ES08171841T ES2587009T3 ES 2587009 T3 ES2587009 T3 ES 2587009T3 ES 08171841 T ES08171841 T ES 08171841T ES 2587009 T3 ES2587009 T3 ES 2587009T3
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Daniele De Rossi
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Candy Hoover Group SRL
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    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06F—LAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F75/00—Hand irons
    • D06F75/08—Hand irons internally heated by electricity
    • D06F75/10—Hand irons internally heated by electricity with means for supplying steam to the article being ironed
    • D06F75/12—Hand irons internally heated by electricity with means for supplying steam to the article being ironed the steam being produced from water supplied to the iron from an external source

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Abstract

Un sistema de planchado que comprende una caldera (2) para la producción de vapor, una placa (4) conectada a dicha caldera (2) para dispensar dicho vapor; comprendiendo dicha placa (4) una pared inferior (8) que define una superficie (9) de planchado y una resistencia (13) dispuesta dentro de la placa (4); comprendiendo adicionalmente dicho sistema de planchado una cámara (25) de dispensación dispuesta en dicha placa (4) y una pluralidad de agujeros (26) formados en dicha placa (4) y en comunicación de fluido con dicha cámara (25) de dispensación para dispensar dicho vapor; comprendiendo adicionalmente dicho sistema de planchado una cámara (24) de expansión conectada a dicha caldera (2) y en comunicación de fluido con dicha cámara (25) de dispensación, caracterizado porque dicha cámara (24) de expansión está dispuesta fuera de dicha placa (4) para reducir la temperatura y la presión del vapor dispensado.

Description

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DESCRIPCION
Sistema de planchado
La presente invencion tiene por objeto un sistema de planchado. En particular, la presente invencion tiene como objeto un sistema de planchado destinado a una aplicacion domestica (vease el documento GB-A-819577).
Los sistemas de planchado son conocidos, comprendiendo una caldera necesaria para la produccion de vapor de agua y, en algunos casos, un tanque para contencion de agua.
El vapor producido por la caldera se transporta hasta una placa de dispensacion que comprende una camara especial para recoger y dispensar el mismo vapor. Los sistemas de planchado conocidos comprenden, adicionalmente, una resistencia asociada a la placa con el fin de calentarla de acuerdo a una temperatura predeterminada.
La dispensacion de vapor tiene lugar a traves de una pluralidad de agujeros pasantes obtenidos a traves de una pared inferior de la placa. En detalle, los agujeros tienen una seccion de entrada de vapor orientada a dicha camara, y una seccion de salida obtenida en una superficie exterior de la pared inferior. Dicha superficie exterior define una superficie de planchado.
El vapor de este modo dispensado se caracteriza por una velocidad alta y una temperatura alta, ya que, antes de escapar, se expone a las altas temperaturas inducidas por la resistencia.
En detalle, la camara de expansion hace que el vapor sea introducido en la placa para seguir una trayectoria larga que permita que el vapor toque las paredes calientes de la placa por el tiempo requerido para sobrecalentar el vapor, aumentando por ello la presion y la velocidad del mismo, ademas de la temperatura (vease la figura 4).
La placa esta provista adicionalmente de un mango aislado termicamente que le permite al usuario maniobrar la misma placa durante las operaciones de planchado. Existen elementos de control adecuados asociados a la placa que permiten al usuario seleccionar, por ejemplo, la temperatura de la placa y/o la cantidad dispensada de vapor.
A modo de ejemplo, los elementos de control comprenden un termostato para el ajuste de la temperatura de la placa, y un grifo dispuesto aguas arriba de dicha camara para ajustar el flujo de vapor.
En los sistemas conocidos, la caldera y el tanque son distintos de la placa, y estan fijados. Se conocen sistemas adicionalmente en los que el tanque y la caldera estan integrados con la placa.
De manera desventajosa, cuando las telas son particularmente fuertes para planchar, tales como por ejemplo pantalones vaqueros, telas de algodon o similares, los sistemas de planchado conocidos no garantizan que se alcancen las condiciones adecuadas para estas telas.
De hecho, independientemente de cuanto flujo de vapor se puede maximizar, el vapor dispensado se caracteriza por una elevada temperatura pero baja humedad. Esta caracteristica reduce la energia que se transfiere desde la placa a la tela y la eficacia de planchado tambien se reduce.
De hecho, cuando la tela es particularmente gruesa, requiere ser humedecida adecuadamente de modo que el calor se pueda transferir eficazmente a la tela con el fin de estirar facilmente las fibras de la misma.
Un ejemplo de plancha de la tecnica anterior se da a conocer, por ejemplo, en el documento GB 819577.
En este contexto, el cometido tecnico de la presente invencion es proponer un sistema de planchado que esta libre de los inconvenientes citados.
En particular, es el objeto de la presente invencion proponer un sistema de planchado que permite planchar tambien telas particularmente fuertes de una manera eficaz.
De acuerdo con la presente invencion, el cometido tecnico y el objeto descritos en este documento se consiguen mediante un sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 1.
Las caracteristicas y ventajas adicionales de la presente invencion se entenderan mas claramente a partir de la descripcion indicativa, y por lo tanto no limitativa, de una realizacion preferida pero no exclusiva de un sistema de planchado, como se ilustra en los dibujos adjuntos, en los que:
- la figura 1 ilustra una vista en perspectiva de un sistema de planchado de acuerdo con la presente invencion con algunos detalles retirados con el fin de destacar mejor otros;
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- la figura 2 ilustra una vista en despiece ordenado del sistema de planchado de la figura 1;
- la figura 3 ilustra un primer componente del sistema de planchado de la figura 1 en una primera vista en planta;
- la figura 4 ilustra el primer componente de la figura 3 en una segunda vista en planta;
- la figura 5 ilustra una vista en corte lateral de un segundo componente del sistema de planchado de la figura 1;
- la figura 6 ilustra una vista en perspectiva de un tercer componente del sistema de planchado de la figura 1;
- la figura 7 ilustra una vista en perspectiva de un detalle del primer componente de las figuras 3 y 4; y
- la figura 8 ilustra una vista en corte de un detalle de la figura 7.
Con referencia a las figuras adjuntas, se ha indicado en general con el numero 1 el sistema de planchado de acuerdo con la presente invencion.
El sistema 1 de planchado comprende una caldera 2, necesaria para producir vapor de agua, que retira el agua necesaria de un tanque (no mostrado) integrado en la caldera 2 y accesible a traves de un tapon 3.
El sistema 1 de planchado comprende adicionalmente una placa 4 de planchado conectada a la caldera 2 para dispensar el vapor producido.
En la realizacion descrita, la caldera 2 y la placa 4 estan desprendidas y son distintas. Una manguera especial 5 conecta la caldera 2 a la placa 4 para llevar el vapor producido a esta ultima.
Sin embargo, se debe observar que la presente invencion encuentra una aplicacion ventajosa tambien en relacion con esos sistemas de planchado en los que la caldera 2 esta integrada con la placa 4.
La placa 4 comprende un cuerpo principal 6 que esta fabricado mediante, a modo de ejemplo, fusion, y una tapa 7 que puede estar colocada sobre el cuerpo principal 6.
La placa 4 comprende adicionalmente una pared inferior 8 que tiene una superficie exterior 8a que define una superficie 9 de planchado de la placa 4.
La pared inferior 8 de la placa 4 tiene un diseno de forma esencialmente de triangulo isosceles con los lados mayores redondeados y confluentes en un vertice 10 dispuesto en una porcion delantera 4a de la placa 4.
Un lado menor es opuesto con relacion al vertice citado 10 y esta dispuesto en una porcion trasera 4b de la placa 4.
Ademas, la placa 4 comprende dos paredes laterales 11 conectadas a la pared inferior 8 y que, de manera adicional, son convergentes en el vertice 10 de la pared inferior 8. Una pared trasera 12 esta conectada a las paredes laterales 11 y a la pared inferior 8 en la porcion trasera 4b de la placa 4.
La pared inferior 8, las paredes laterales 11 y la pared trasera 12 estan formadas en el cuerpo principal 6 de la placa 4.
La placa 4 comprende adicionalmente una resistencia 13 dispuesta dentro de la placa 4. En particular, la resistencia 13 esta dispuesta simetricamente en la pared inferior 8 con respecto a un plano medio "P" de la placa 4. Aun mas precisamente, en la realizacion descrita, la resistencia 13 se extiende sobre la pared inferior 8 de la placa 4 a lo largo de una trayectoria esencialmente en forma "U".
Unos conectores electricos 14 adecuados permiten la alimentacion electrica de la resistencia 13. En mayor detalle, los conectores electricos 14 citados estan dispuestos en los extremos libres de la resistencia 13 de la porcion trasera 4b de la placa 4.
El suministro se lleva a la placa 4 gracias a un cable electrico 15 asociado a la manguera 5.
La resistencia 13 calienta la placa 4 de acuerdo con una temperatura predeterminada seleccionada por el usuario.
Unos medios de control adecuados permiten la seleccion y mantenimiento de dicha temperatura predeterminada. A modo de ejemplo, los medios de control comprenden un termostato (no mostrado).
En la realizacion descrita, la placa 4 se proporciona con un mango 16 para permitir que el usuario maniobre la placa 4, permitiendo de este modo la funcion de planchado.
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El mango 16 esta soportado a la placa 4 mediante un soporte 17 conectado rigidamente a la misma placa 4. Una cubierta 18 hecha de material termo-aislante envuelve el mango 16 a fin de evitar quemaduras en el usuario y para aumentar las condiciones de seguridad del sistema 1 de planchado.
Ademas, la placa 4 comprende un revestimiento de cobertura que no se ilustra en las figuras adjuntas.
El sistema de planchado comprende una camara 19 de sobrecalentamiento conectada a la caldera 2 para aumentar la temperatura del vapor que va a ser dispensado (vease la figura 4).
Mas precisamente, la camara 19 de sobrecalentamiento se obtiene en la placa 4. En todavia mas detalle, la camara 19 de sobrecalentamiento se obtiene en el cuerpo principal 6 de la placa 4 y se define en cooperacion con la tapa 7.
La camara 19 de sobrecalentamiento comprende un conector 20 de entrada que permite la conexion a un conducto 21 de suministro que introduce el vapor procedente de la caldera 2 en la misma camara 19 de sobrecalentamiento. En concreto, el conector 20 de entrada se obtiene en la tapa 7 de la placa 4.
La camara 19 de sobrecalentamiento comprende una pluralidad de paredes divisorias 22 que definen una trayectoria en forma de laberinto dentro de la misma camara 19 de sobrecalentamiento. De esta manera, el vapor introducido en la camara 19 de sobrecalentamiento recorre una larga trayectoria 25 antes de ser dispensado.
La camara 19 de sobrecalentamiento se obtiene en proximidad a la resistencia 13. De esta manera, durante el funcionamiento, la pared inferior 8 de la placa 4 y las paredes divisorias 22 de la camara 19 de sobrecalentamiento se calientan, y el vapor, al tocar superficies muy calientes, aumenta su propia temperatura, asi como su propia presion y velocidad, quedandose sobrecalentado. Tipicamente, en estas condiciones, el vapor esta a una temperatura que oscila entre 200 °C y 220 °C.
Ventajosamente, la trayectoria del laberinto impuesta al vapor por la camara 19 de sobrecalentamiento hace tal proceso de sobrecalentamiento rapido y eficiente.
La camara 19 de sobrecalentamiento comprende una porcion 19a de extremo de dispensacion. Dicha porcion de extremo 19a esta dispuesta en proximidad a la porcion 4a de la placa frontal 4.
Una pluralidad de boquillas 23 de dispensacion se obtienen a traves de la pared inferior 8 de la placa 4 para permitir la expulsion del vapor sobrecalentado. Las boquillas 23 de dispensacion estan en comunicacion de fluido con la camara 19 de sobrecalentamiento. Mas concretamente, las boquillas 23 estan en comunicacion de fluido con la porcion 19a de extremo de la camara 19 de sobrecalentamiento.
Las citadas boquillas 23 de dispensacion tienen un diametro que es constante y que oscila entre 1,5 y 3 mm. Preferiblemente, el diametro de las boquillas 23 oscila entre 2 y 2,5 mm.
Las boquillas 23 de dispensacion estan dispuestas en la placa 4 en una configuracion en "V" con el vertice orientandose hacia la porcion frontal 4 de la placa 4. Correspondientemente, la porcion 19a de extremo de la camara 19 de sobrecalentamiento tiene tambien esencialmente forma de "V".
En realizaciones alternativas, las boquillas 23 de dispensacion estan dispuestas de acuerdo con diferentes configuraciones, tales como, por ejemplo, configuraciones arqueadas.
Las boquillas 23 de dispensacion tienen respectivos ejes de desarrollo que son paralelos mutuamente y ortogonales a la superficie 9 de planchado.
Alternativamente, los ejes de desarrollo de las boquillas 23 de dispensacion tienen una pendiente tal que define un angulo agudo con la superficie 9 de planchado. En otras palabras, en esta realizacion, el eje de desarrollo de las boquillas 23 se orienta de modo que el vapor sobrecalentado se escapa siendo dirigido hacia el vertice 10 de la placa 4. Ventajosamente, en esta configuracion, el vapor escapado interactua con una superficie importante de la tela a planchar, haciendo la operacion de planchado mas eficiente.
El sistema 1 de planchado comprende adicionalmente una camara de expansion conectada a la caldera 2, que esta adaptada para reducir al menos la temperatura y la presion del vapor antes de que se dispense.
La camara 24 de expansion esta dispuesta en comunicacion de fluido con una camara 25 de dispensacion para permitir el paso y la dispensacion del vapor enfriado en la camara 24 de expansion.
Con tal objetivo, una pluralidad de agujeros pasantes 26 estan formados en la placa 4 y dispuestos en comunicacion de fluido directa con la camara 25 de dispensacion para permitir el escape del vapor enfriado. Mas concretamente, los agujeros 26 se obtienen en la pared inferior 8 de la placa 4.
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Los agujeros 26 tienen una seccion creciente desde la camara 25 de dispensacion hacia la superficie 9 de planchado. Tales agujeros 26 tienen un diametro medio que oscila entre 2 y 3,5 mm, preferiblemente entre 2,5 y 3 mm.
Se observara que la camara 24 de expansion y la camara 25 de dispensacion son distintas de la camara 19 de sobrecalentamiento descrita. De manera similar, los agujeros 26 son distintos de las boquillas 23 de dispensacion.
La camara 25 de dispensacion se obtiene de manera integral en la placa 4. Mas precisamente, la camara 25 de dispensacion se define por sus propias paredes 27 de definicion obtenidas en el cuerpo principal 6 de la placa 4 y por la tapa 7 citada.
Por el contrario, la camara 24 de expansion esta dispuesta fuera de la placa 4. Mas concretamente, la camara 24 de expansion esta dispuesta por encima de la placa 4. Con todavia mayor concrecion, la camara 24 de expansion descansa en la tapa 7 de la placa 4 mediante una pluralidad 28 de patas adaptadas para mantener la camara 24 de expansion levantada de la tapa 7 (veanse las figuras 5 y 6).
Ventajosamente, la camara 24 de expansion esta dispuesta fuera de la placa 4, la temperatura de la misma es inferior a la del resto de la placa 4. Por otra parte, las patas 28 mantienen la camara 24 de expansion separada de la tapa 7 de la placa 4, concurriendo para limitar el calentamiento de la camara 24 de expansion.
Ventajosamente, la camara 24 de expansion se superpone a la camara 25 de dispensacion a fin de permitir una transferencia rapida de la camara 24 de expansion a la camara 25 de dispensacion sin que ocurran cambios significativos en las caracteristicas del vapor enfriado. Para este objetivo, la camara 24 de expansion esta conectada directamente a la camara 25 de dispensacion por una lumbrera 29 de paso.
En mayor detalle, la camara 24 de expansion comprende dos conchas 30 mutuamente acopladas.
El sistema 1 de planchado comprende ademas una camara previa 31 obtenida dentro de la placa 4. Tal camara previa 31 esta conectada a la caldera 2 para recibir el vapor desde esta ultima, y esta en comunicacion de fluido con la camara 24 de expansion con el fin de introducir el vapor en esta ultima.
Tal como se comprendera mas claramente a continuacion, la camara previa 31 citada impide ventajosamente que el agua en estado liquido se introduzca en la camara 24 de expansion.
La camara previa 31 se obtiene en la porcion trasera 4b de la placa 4. En particular, la camara previa 31 esta definida por las paredes laterales 11 y la pared trasera 12 de la placa 4, asi como por un diafragma 32 de division en desarrollo esencialmente paralelo a la pared trasera 12 de la placa 4.
Por lo tanto, la camara previa 31 esta dispuesto en proximidad a la resistencia 13, pero no esta dispuesta en contacto directo con esta ultima. En otras palabras, la temperatura de la camara previa 31 es menor en relacion con la de la zona que contacta directamente con la resistencia 13.
La camara previa 31 comprende un acoplamiento 33 de entrada para conectar un tubo 34 de suministro del vapor procedente de la caldera 2 y un acoplamiento 35 de salida para conectar la misma camara previa 31 a la camara 24 de expansion mediante un tubo 36 de conexion adecuado.
En uso, el vapor procedente de la caldera 2 se introduce en la camara previa 31. Esta ultima, que se calienta al menos en parte mediante la resistencia 13, permite que el vapor se mantenga a una temperatura minima con el fin de evitar condensaciones no deseadas durante la transferencia del mismo vapor de la camara previa 31 a la camara 24 de expansion.
Ademas, la camara previa 31 permite interceptar fracciones opcionales de agua - en estado liquido procedentes de la caldera 2. Tales fracciones de agua, permaneciendo dentro de la camara previa 31, pueden evaporarse antes de ser introducidas en la camara 24 de expansion.
Cuando el vapor entra en la camara 24 de expansion, el volumen que puede ser tomado por la misma aumenta; en consecuencia, el vapor se somete a una expansion. Ademas, la camara 24 de expansion esta a una temperatura relativamente baja: tambien se enfria el vapor. Esto reduce la temperatura del vapor y la presion. El vapor esta entonces proximo a la condicion de condensacion, debido a la alta humedad del mismo. Tipicamente, el segundo vapor esta a una temperatura que oscila entre 100 °C y 110 °C.
El vapor expandido se transfiere entonces a la camara 25 de dispensacion a traves de la lumbrera 29 de paso. Con el fin de mejorar la expansion, en la realizacion descrita, un filtro 37 ocluye la lumbrera 29 de paso de modo que se induzca una difusion adicional del vapor. Una junta 38 esta dispuesta en el filtro 37 entre la camara 24 de expansion y la camara 25 de dispensacion.
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Por lo tanto, el vapor expandido y enfriado se expulsa de la camara 25 de dispensacion a traves de los agujeros 26.
De manera ventajosa, ya que los agujeros 26 tienen una seccion cada vez mayor, el vapor se expande aun mas durante su dispensacion.
El sistema 1 de planchado comprende, ademas, unas pluralidades primera y segunda de conductos 39 de dispensacion dispuestos a lo largo de dos filas distintas en cada pared lateral 11 de la placa 4 (veanse las figuras 4 y 7).
Mas concretamente, los conductos 39 de dispensacion estan dispuestos en proximidad a la porcion frontal 4a de la placa 4.
Los conductos 39 de dispensacion tienen una seccion 39a de salida dispuesta a una altura mas alta que la superficie 9 de planchado.
Ademas, en la realizacion descrita, los conductos 39 de dispensacion tienen respectivos ejes "A" de desarrollo que estan inclinados hacia la superficie 9 de planchado, a fin de dispensar el vapor hacia esta ultima (vease la figura 8). De esta manera, el vapor dispensado por los conductos 39 de dispensacion toca la superficie de la tela que se va a planchar, sin pasar a traves de ella.
Cada eje "A" de desarrollo resulta estar inclinado con respecto a la superficie de planchado. Tal pendiente 9 puede tener ventajosamente un angulo comprendido entre 25° y 55°, preferiblemente entre 35° y 45°. Ademas, los ejes de desarrollo "A" de los conductos 39 de dispensacion estan dispuestos preferiblemente en paralelo entre si. En particular, los ejes "A" de desarrollo son paralelos a un plano "P" medio de la placa 4.
De esta manera, el flujo de vapor dispensado por los conductos 39 de dispensacion siempre se dirige hacia la direccion del vertice 10 de la placa 4, evitando que el flujo de vapor pueda golpear al usuario durante la operacion de planchado.
En la realizacion descrita, la placa 4 tiene rebajes 40 obtenidos respectivamente en las paredes laterales 11 de la misma placa 4 (vease la figura 7). Los conductos 39 de dispensacion se obtienen en dichos rebajes 40. Mas concretamente, las secciones 39a de salida de los conductos 39 de dispensacion estan dispuestas en los rebajes 40.
Mas concretamente todavia, cada rebaje 40 tiene una porcion 40a de superficie, por ejemplo, plana o con la forma adecuada, hacia la que se orientan los conductos 39 de dispensacion.
Con particular referencia a la realizacion descrita, las porciones 40a de superficie de cada rebaje 40 estan dispuestas esencialmente paralelas a la superficie 9 de planchado, pero tambien podrian estar dispuestas inclinadas.
El sistema 1 de planchado comprende adicionalmente un par de camaras laterales 41 de vapor para recoger el vapor producido por la caldera 2 y para dispensarlo a traves de los conductos 39 de dispensacion descritos.
Las camaras laterales 41 de vapor se obtienen en la placa 4 en proximidad a las paredes laterales 11. Las camaras laterales 41 de vapor estan definidas por una respectiva lamina 42 de separacion obtenida en el cuerpo principal 6 de la placa 4.
Cada camara lateral 41 de vapor comprende una porcion 41a de recogida en la que el vapor procedente de la caldera 2 entra, y una porcion 41b de dispensacion conectada a la porcion 41a de recogida y directamente en comunicacion de fluido con los conductos 39 de dispensacion.
En particular, la porcion 41a de recogida puede ser, por ejemplo, una individual para las dos camaras laterales 41 de vapor y dispuesta en la placa en punta, o puede ser doble, y dispuesta en los lados de la placa, como en el ejemplo ilustrado.
Un tabique 43 esta dispuesto entre cada porcion 41a de recogida y la respectiva porcion 41b de dispensacion para dividir parcialmente dichas porciones.
Mas concretamente, el tabique 43 se obtiene en el cuerpo principal 6 de la placa 4 a partir de la pared inferior 8. Sin embargo, el tabique 43 no alcanza la tapa 7 de la placa 4, dejando, de esta manera, una lumbrera de paso que permite el paso de vapor desde la porcion 41a de recogida a la porcion 41b de dispensacion, al tiempo que evita el paso de una fraccion opcional de agua liquida. De hecho, permanece atrapada por gravedad en la porcion 41a de recogida, hasta su evaporacion.
Se observara que, en la realizacion descrita, cada camara lateral 41 de vapor tiene una conformacion interna
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esencialmente lineal. Sin embargo, en una realizacion alternativa (y no mostrada), las camaras laterales 41 de vapor estan formadas como para definir en ellas una trayectoria en forma de laberinto para ejercer un proceso de sobrecalentamiento en el vapor contenido en las mismas, que es similar al descrito en relacion con la camara 19 de sobrecalentamiento.
Cada camara lateral 41 de vapor esta conectada a la caldera a traves de un conducto 44 de conexion conectado a respectivos conectores 45 de las mismas camaras laterales 41 de vapor.
El sistema 1 de planchado comprende adicionalmente un deflector adaptado para dirigir selectivamente el vapor producido procedente de la caldera 2 al menos a los conductos 39 de dispensacion y/o a la camara 24 de expansion.
En la realizacion preferida, el deflector 46 esta adaptado para dirigir selectivamente el vapor a los conductos 39 de dispensacion y/o a la camara 24 de expansion y/o a la camara 19 de sobrecalentamiento.
En concreto, el deflector 46 esta asociado a la placa 4 en el soporte 17 descrito anteriormente.
El deflector 46 comprende un conducto 47 de entrada al que la manguera 5 citada, procedente de la caldera 2 y que lleva el mismo vapor alli producido, esta conectada.
El deflector 46 comprende adicionalmente un primer conducto 48 de salida al que el conducto 21 de suministro esta conectado con el fin de llevar vapor a la camara 19 de sobrecalentamiento, un segundo conducto 49 de salida al que el tubo 34 de suministro esta conectado con el fin de llevar vapor a la camara previa 31 y, sucesivamente, a la camara 24 de expansion, y un tercer conducto 50 de salida al que el conducto 44 de conexion esta conectado con el fin de llevar el vapor a la camara lateral 41 de vapor.
El deflector 46 tambien comprende un mango 51 de control para seleccionar el modo de dispensacion de vapor.
La invencion consigue el objeto pretendido e introduce ventajas importantes.
Debido a la camara 24 de expansion, el vapor producido a partir de la caldera 2 se expande y se enfria. Por ello, el vapor de este modo obtenido y dispensado a traves de la camara 25 de dispensacion tiene una velocidad baja de salida y una humedad marcadamente mas alta. De hecho, en estas condiciones, el vapor esta proximo a la condicion de condensacion.
Por ello, el vapor que se esta dispensando desde los agujeros 26 es capaz de transferir calor a la tela que se va a planchar de una manera mucho mas eficaz.
Esta caracteristica aplica particularmente cuando las telas que se planchan son particularmente fuertes y/o dificiles de planchar.
De nuevo, en el sistema 1 de planchado de acuerdo con la presente invencion es posible seleccionar diferentes modos de dispensacion de vapor. Esto hace particularmente flexible el presente sistema 1 de planchado.

Claims (30)

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    REIVINDICACIONES
    1. Un sistema de planchado que comprende una caldera (2) para la produccion de vapor, una placa (4) conectada a dicha caldera (2) para dispensar dicho vapor; comprendiendo dicha placa (4) una pared inferior (8) que define una superficie (9) de planchado y una resistencia (13) dispuesta dentro de la placa (4); comprendiendo adicionalmente dicho sistema de planchado una camara (25) de dispensacion dispuesta en dicha placa (4) y una pluralidad de agujeros (26) formados en dicha placa (4) y en comunicacion de fluido con dicha camara (25) de dispensacion para dispensar dicho vapor; comprendiendo adicionalmente dicho sistema de planchado una camara (24) de expansion conectada a dicha caldera (2) y en comunicacion de fluido con dicha camara (25) de dispensacion, caracterizado porque dicha camara (24) de expansion esta dispuesta fuera de dicha placa (4) para reducir la temperatura y la presion del vapor dispensado.
  2. 2. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 1, caracterizado porque dicha camara (24) de expansion esta colocada por encima de dicha placa (4).
  3. 3. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 2, caracterizado porque la camara (24) de expansion descansa en una tapa (7) de la placa (4) mediante una pluralidad de patas (28) adaptadas para mantener la camara (24) de expansion levantada de la tapa (7).
  4. 4. El sistema de planchado de acuerdo con las reivindicaciones 2 o 3, caracterizado porque dicha camara (24) de expansion esta colocada por encima de dicha camara (25) de dispensacion.
  5. 5. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion anterior, caracterizado porque dicha camara (24) de expansion esta directamente conectada a dicha camara (25) de dispensacion a traves de una lumbrera (29) de paso.
  6. 6. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion anterior, caracterizado porque comprende adicionalmente una camara previa (31) dispuesta dentro de dicha placa (4), estando dicha camara previa (31) conectada a dicha caldera (2) y estando en comunicacion de fluido con dicha camara (24) de expansion para impedir la entrada de una porcion de agua en dicha camara (24) de expansion.
  7. 7. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 6, caracterizado porque dicha camara previa (31) esta obtenida en una porcion trasera (4b) de dicha placa (4).
  8. 8. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 6 o 7, caracterizado porque dicha camara previa (31) esta conectada directamente a dicha camara (24) de expansion a traves de un tubo (36) de conexion.
  9. 9. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion anterior, caracterizado porque dichos agujeros (26) tienen un diametro que oscila entre 2 y 3,5 mm, preferiblemente entre 2,5 y 3 mm.
  10. 10. El sistema de planchado de acuerdo cualquier reivindicacion anterior, caracterizado porque comprende adicionalmente al menos una primera pluralidad de conductos (39) de dispensacion de vapor dispuestos en al menos una pared lateral (11) de dicha placa.
  11. 11. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque comprende adicionalmente al menos una segunda pluralidad de conductos (39) de dispensacion de vapor, estando dichas primera y segunda pluralidades de conductos de dispensacion dispuestos a lo largo de dos filas distintas obtenidas en cada pared lateral (11) de dicha placa (4).
  12. 12. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque dichos conductos (39) de dispensacion tienen respectivos ejes (A) de desarrollo inclinados con respecto a dicha superficie (9) de planchado; estando dichos ejes (A) de desarrollo inclinados con respecto a dicha superficie (9) de planchado un angulo comprendido entre 25° y 55°, preferiblemente entre 35 ° y 45°.
  13. 13. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 12, caracterizado porque dichos conductos (39) de dispensacion tienen respectivos ejes (A) de desarrollo dispuestos en paralelo entre si; estando dichos ejes (A) de desarrollo paralelos a un plano medio (P) que es ortogonal a dicha placa (4).
  14. 14. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 13, caracterizado porque dichos conductos (39) de dispensacion tienen respectivos ejes (A) de desarrollo tan inclinados como para dispensar el vapor hacia la porcion frontal de placa.
  15. 15. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 14, caracterizado porque dichos conductos (39) de dispensacion tienen respectivas secciones (39a) de salida dispuestas a un nivel elevado con respecto a dicha superficie (9) de planchado.
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    55
  16. 16. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 12, caracterizado porque dicha placa (4) tiene rebajes (40) obtenidos en dichas respectivas paredes laterales (11); estando dichos conductos (39) de dispensacion obtenidos en dichos rebajes (40).
  17. 17. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque cada rebaje (40) tiene una porcion de superficie (40a); teniendo dichos conductos (39) de dispensacion respectivas secciones (39a) de salida que se encuentran en dicha porcion (40a) de superficie.
  18. 18. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque cada porcion (40a) de superficie es esencialmente paralela a dicha superficie (9) de planchado.
  19. 19. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 18, caracterizado porque comprende al menos una camara lateral (41) de vapor, para la recogida y dispensacion de dicho vapor, obtenida en dicha placa (4); comprendiendo dicha camara lateral (41) de vapor una porcion (41a) de recogida y una porcion (41b) de dispensacion conectada a dicha porcion (41a) de recogida y directamente en comunicacion de fluido con dichos conductos (39) de dispensacion.
  20. 20. El sistema de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque comprende un par de dichas camaras laterales (41) de vapor, cada una dispuesta en proximidad a dichas paredes laterales (11).
  21. 21. El sistema de acuerdo con la reivindicacion 19 o 20, caracterizado porque cada camara lateral (41) de vapor comprende un tabique (43) para dividir parcialmente dicha porcion (41a) de recogida de dicha porcion (41b) de dispensacion; desarrollandose dicho tabique (43) a partir de dicha pared inferior (8) para reducir el paso de agua liquida desde dicha porcion (41 a) de recogida a dicha porcion (41 b) de dispensacion.
  22. 22. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 19 a 21, caracterizado porque dichas camaras laterales (41) de vapor estan en comunicacion de fluido con dicha caldera (2) a traves de un conducto (44) de conexion.
  23. 23. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion anterior, caracterizado porque comprende adicionalmente una camara (19) de sobrecalentamiento conectada a dicha caldera (2) para aumentar la temperatura del vapor que se produce y para dispensar dicho primer vapor.
  24. 24. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque dicha camara (19) de sobrecalentamiento esta obtenida en dicha placa (4); comprendiendo dicha camara (19) de sobrecalentamiento una pluralidad de paredes divisorias (22) para definir una trayectoria en forma de laberinto para dicho vapor.
  25. 25. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 21 o 24, caracterizado porque comprende adicionalmente una resistencia (13) para calentar dicha placa (4); estando obtenida dicha camara (19) de sobrecalentamiento en dicha resistencia (13).
  26. 26. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 23 a 25, caracterizado porque comprende una pluralidad de boquillas (23) de dispensacion obtenidas a traves de dicha pared inferior (8); estando dichas boquillas (23) en comunicacion de fluido con dicha camara (19) de sobrecalentamiento .
  27. 27. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion anterior, caracterizado porque dicha camara (19) de sobrecalentamiento comprende una porcion (19a) de extremo de dispensacion directamente conectada a dichas boquillas (23).
  28. 28. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicacion 26 o 27, caracterizado porque dichas boquillas (23) tienen un diametro que oscila entre 1,5 y 3 mm, preferiblemente entre 2 y 2,5 mm.
  29. 29. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicacion 10 a 28, caracterizado porque comprende adicionalmente un deflector (46) para dirigir selectivamente dicho vapor al interior de dichos conductos (39) de dispensacion y/o al interior de dicha camara (24) de expansion.
  30. 30. El sistema de planchado de acuerdo con las reivindicaciones 23 y 29, caracterizado porque dicho deflector (46) esta adaptado para dirigir dicho vapor al interior de dichos conductos (39) de dispensacion y/o al interior de dicha camara de expansion (24) y/o al interior de dicha camara (19) de sobrecalentamiento.
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