ES2589132T3 - Masas de recubrimiento endurecibles por radiación de secado rápido - Google Patents
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Abstract
Masas de recubrimiento endurecibles por radiación, que contienen (A) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de no más de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cuatro, (B) al menos un (met)acrilato de alquilo monofuncional que como homopolímero presenta una temperatura de transición vítrea de no más de 0 ºC, (C) al menos un (met)acrilato de uretano que presenta al menos un grupo isocianato libre y al menos un grupo (met)acrilato, (D) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de más de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cinco, (E) opcionalmente al menos un disolvente, seleccionado del grupo constituido por hidrocarburos, cetonas, ésteres, ésteres alquílicos de ácidos alcanoicos, éteres y sus mezclas, (F) opcionalmente al menos una amina y/o alcohol, (G) opcionalmente al menos un fotoiniciador y (H) opcionalmente al menos un adyuvante de barniz,
Description
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DESCRIPCION
Masas de recubrimiento endurecibles por radiacion de secado rapido
La presente invencion describe masas de recubrimiento endurecibles por radiacion de baja viscosidad de secado a temperatura mas baja que dan recubrimientos con alta resistencia al rayado, alta flexibilidad y baja necesidad de disolvente, procedimientos para su preparation y su uso.
Para alcanzar una alta resistencia al rayado mediante masas de recubrimiento endurecibles por radiacion deberan utilizarse compuestos con una alta funcionalidad de grupos (met)acrilato. Sin embargo, estos son la mayorla muy viscosos y frecuentemente conducen a un recubrimiento quebradizo. Para reducir la viscosidad se utiliza principalmente disolvente, lo que, sin embargo, conduce a una emision de constituyentes organicos volatiles (VOC). Para ademas elevar la flexibilidad, serla deseable utilizar monomeros que dieran un recubrimiento blando, por ejemplo, (met)acrilatos de alquilo monofuncionales.
El uso de (met)acrilatos de alquilo en masas de recubrimiento endurecibles por radiacion se obstaculizo en el pasado reiteradamente porque los (met)acrilatos de alquilo de este tipo son perjudiciales para la salud y ademas presentan una alta volatilidad, de manera que en la aplicacion de aquellos (met)acrilatos de alquilo el personal esta expuesto a una exposition a estas sustancias. Sin embargo, los (met)acrilatos de alquilo de este tipo son sustancias de utilization favorables, de manera que la utilization serla deseable debido a motivos economicos. Desde el punto de vista tecnico, en favor de los (met)acrilatos de alquilo esta que en la cadena de valor anadido pueden obtenerse directamente a partir del acido (met)acrllico, mientras que los (met)acrilatos de mayor funcionalidad, por ejemplo, triacrilato de trimetilolpropano, estan mas abajo. Asl, los ultimos generalmente se preparan a partir de (met)acrilatos de alquilo, por lo que estan dos escalones mas abajo del acido (met)acrllico en la cadena de valor anadido.
Sin embargo, la utilizacion de aquellos (met)acrilatos de alquilo en masas de recubrimiento endurecibles por radiacion fracasa frecuentemente a causa de que los (met)acrilatos de alquilo no son suficientemente compatibles en muchas masas de recubrimiento endurecibles por radiacion.
El documento WO-A-2008 075806 no describe el componente (D) y el documento US-A-2004 235 977 no da a conocer una combination de componentes (A) a (D).
La presente invencion se baso en el objetivo de poner a disposition masas de recubrimiento endurecibles por radiacion con viscosidad mas baja, que ya se sequen a temperaturas bajas y proporcionen recubrimientos con al mismo tiempo alta flexibilidad y alta resistencia al rayado. El objetivo se alcanzo mediante masas de recubrimiento endurecibles por radiacion, que contienen
(A) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de no mas de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cuatro,
(B) al menos un (met)acrilato de alquilo monofuncional que como homopollmero presenta una temperatura de transition vltrea de no mas de 0 °C,
(C) al menos un (met)acrilato de uretano que presenta al menos un grupo isocianato libre y al menos un grupo (met)acrilato,
(D) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de mas de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cinco,
(E) opcionalmente al menos un disolvente, seleccionado del grupo constituido por el grupo constituido por hidrocarburos, cetonas, esteres, esteres alqullicos de acidos alcanoicos, eteres y sus mezclas,
(F) opcionalmente al menos una amina y/o alcohol,
(G) opcionalmente al menos un fotoiniciador y
(H) opcionalmente al menos un adyuvante de barniz.
Las masas de recubrimiento segun la invencion se secan a temperatura baja y muestran una alta flexibilidad, lo que, por ejemplo, tiene como consecuencia una buena capacidad de flexion o capacidad de puncion del recubrimiento, asl como una alta resistencia al rayado, lo que se muestra, por ejemplo, en una buena retention de brillo del recubrimiento.
En el caso del componente (A) se trata de al menos un (met)acrilato con funcionalidad, por ejemplo una a cuatro, preferiblemente una a tres, con especial preferencia una a dos y de manera muy especialmente preferida un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de no mas de 1000 g/mol, preferiblemente no mas de 800 y con especial preferencia no mas de 600 g/mol y una funcionalidad de al menos cuatro, por ejemplo cuatro a ocho y preferiblemente cuatro a seis.
En el caso del componente (A) se trata preferiblemente de los (met)acrilatos de los alcoholes multifuncionales correspondientes, es decir, alcoholes con una funcionalidad de al menos cuatro. Ejemplos de alcoholes
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multifuncionales de este tipo son ditrimetilolpropano, pentaeritritol, dipentaeritritol, diglicerina, as! como alcoholes de azucar como, por ejemplo, sorbitol, manitol, diglicerol, treitol, eritritol, adonitol (ribitol), arabitol (lixitol), xilitol, dulcitol (galactitol), maltitol o isomalt.
Son tambien posibles como alcoholes multifuncionales los productos de una a veinte veces y con especial preferencia de tres a diez veces etoxilados, propoxilados o etoxilados y propoxilados mixtos, y especialmente productos exclusivamente etoxilados de los ultimos alcoholes mencionados.
En una forma de realizacion preferida, el componente (A) esta seleccionado del grupo constituido por tetraacrilato de ditrimetilolpropano, tetraacrilato de pentaeritritol y hexaacrilato de dipentaeritritol, que opcionalmente pueden estar respectivamente de una a veinte veces etoxilados, propoxilados o etoxilados y propoxilados mixtos, con especial preferencia se trata de tetraacrilato de pentaeritritol.
En el caso del componente (B) se trata de al menos un (met)acrilato de alquilo, por ejemplo, de funcionalidad una a cuatro, preferiblemente una a tres, con especial preferencia una o dos y de manera muy especialmente preferida una (met)acrilato de alquilo monofuncional que como homopollmero presenta una temperatura de transicion vltrea de no mas de 0 °C.
En el caso de los (met)acrilatos de alquilo (B) se trata preferiblemente de esteres del acido (met)acrllico de alcanoles que presentan 2 a 12 atomos de carbono.
Con especial preferencia, los (met)acrilatos de alquilo (B) presentan un punto de ebullicion a presion normal de al menos 140 °C, de manera muy especialmente preferida de al menos 200 °C. Esto provoca una volatilidad baja de los (met)acrilatos de alquilo (B).
Se prefiere muy especialmente el componente (B) seleccionado del grupo constituido por acrilato de etilo, acrilato de propilo, acrilato de iso-propilo, acrilato de n-butilo, acrilato de n-hexilo, acrilato de n-octilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de 3-propilheptilo, acrilato de n-decilo, acrilato de laurilo, metacrilato de n-pentilo, metacrilato de n-octilo, metacrilato de n-decilo y metacrilato de laurilo.
En el caso del componente (B) se trata especialmente de un (met)acrilato de n-butilo, acrilato de 2-etilhexilo o acrilato de 3-propilheptilo.
A este respecto es sorprendente que, a pesar de la utilizacion de (met)acrilatos de alquilo (B) que presentan una temperatura de transicion vltrea relativamente baja, no obstante pueden obtenerse recubrimientos resistentes al rayado. Ademas, mediante el uso de los (met)acrilatos de alquilo (B) en las masas de recubrimiento segun la invencion para conseguir una viscosidad baja puede omitirse en gran medida o completamente la utilizacion de disolventes.
En el caso del componente (C) se trata de al menos un (met)acrilato de uretano, por ejemplo, uno a dos, preferiblemente uno o dos y con especial preferencia un (met)acrilato de uretano que presenta al menos un grupo isocianato libre y al menos un grupo (met)acrilato.
El componente (C) presenta al menos un grupo isocianato, preferiblemente al menos dos.
El contenido de NCO (calculado como 42 g/mol) del componente (C) debera ascender a al menos el 5 % en peso, preferiblemente del 10 al 25, con especial preferencia 12 al 23 y de manera muy especialmente preferida 14 al 16 % en peso.
La viscosidad del componente (C) (segun DIN EN ISO 3219 (tasa de cizallamiento D, 100 s'1) a 23 °C) asciende a preferiblemente 200 a 10000 mPas, con especial preferencia 400 a 5000 y de manera muy especialmente preferida 1000 a 2000 mPas.
El peso molar promedio del componente (C) asciende preferiblemente a de 284 a 2000 g/mol, con especial preferencia 350 a 1500 y de manera muy especialmente preferida de 400 a 1000 g/mol.
El componente (C) presenta al menos un grupo (met)acrilato, preferiblemente uno a tres, con especial preferencia al menos dos grupos (met)acrilato.
En una forma de realizacion preferida, en el caso del componente (C) se trata de compuestos de formula,
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n representa un numero positivo que de media estadfstica es >1, preferiblemente mas de 1 y hasta 5, con especial preferencia al menos 1,1 y hasta 3.
Los compuestos (C) son adecuados para mejorar la compatibilidad de los componentes (B) y (D) que frecuentemente tienden a una segregation, en la masa de recubrimiento segun la invention, por lo tanto, hacen de solubilizante para estos componentes.
Ademas, puede suponerse que dentro de la masa de recubrimiento los grupos isocianato libres reaccionan durante el endurecimiento en la atmosfera con humedad, por ejemplo, a partir de una imprimacion que ya se encuentra en el sustrato o a partir del aire, y se convierten en grupos amino que, por su parte, pueden a su vez reaccionar con grupos isocianato todavfa presentes, de manera que en la masa de recubrimiento, ademas del endurecimiento por radiation, todavfa esta disponible otro mecanismo de endurecimiento o reticulation posterior.
Generalmente, en el caso del componente (C) se trata del producto de reaction de
- al menos un di- o poliisocianato (ciclo)alifatico (C1)
- con al menos un compuesto (C2) con al menos un grupo reactivo con isocianato y al menos un grupo (met)acrilato, asf como
- opcionalmente con al menos un compuesto (C3) con al menos dos grupos reactivos con isocianato.
Los compuestos (C1) que se consideran son di- y poliisocianatos alifaticos o cicloalifaticos, abreviados en este documento (ciclo)-alifaticos, con una funcionalidad NCO de al menos 1,8, preferiblemente 1,8 a 5, y con especial preferencia 2 a 4, asf como sus isocianuratos, biuret, alofanatos y uretdionas, que pueden obtenerse a partir de estos diisocianatos subyacentes en forma monomerica mediante oligomerization.
El contenido de grupos isocianato, calculado como NCO = 42 g/mol, asciende generalmente a del 5 al 25 % en peso.
En el caso de los diisocianatos se trata preferiblemente de isocianatos con 4 a 20 atomos de C. Ejemplos de diisocianatos habituales son diisocianatos alifaticos como tetrametilendiisocianato, 1,6-hexametilendiisocianato (1,6- diisocianatohexano), octametilendiisocianato, decametilendiisocianato, dodecametilendiisocianato, tetradecametilendiisocianato, derivados de lisindiisocianato, tetrametilxililendiisocianato, trimetilhexanodiisocianato o tetrametilhexanodiisocianato, diisocianatos cicloalifaticos como 1,4-, 1,3- o 1,2-diisocianatociclohexano, 4,4'- o 2,4'- di(isocianatociclohexil)metano, 1 -isocianato-3,3,5-trimetil-5-(isocianatomoetil)ciclohexano (isoforondiisocianato), 1,3- o 1,4-bis(isocianatometil)ciclohexano o 2,4-, o 2,6-diisocianato-1-metilciclohexano.
Tambien pueden estar presentes mezclas de los diisocianatos mencionados.
Se prefieren hexametilendiisocianato, 1,3-bis(isocianatometil)ciclohexano, isoforondiisocianato y di(isocianatociclohexil)metano, se prefiere especialmente hexametilendiisocianato.
Como poliisocianatos se consideran poliisocianatos que presentan grupos isocianurato, uretdiondiisocianatos, poliisocianatos que presentan grupos biuret, poliisocianatos que presentan grupos uretano o alofanato, poliisocianatos que contiene grupos oxadiazintriona, poliisocianatos modificados con uretonimina de diisocianatos alifaticos con en total 6 a 20 atomos de C y/o diisocianatos cicloalifaticos con en total 6 a 20 atomos de C.
Los di- y poliisocianatos que van a utilizarse tienen preferiblemente un contenido de grupos isocianato (calculado como NCO, peso molecular = 42) del 10 al 60 % en peso referido a (la mezcla de) di- y poliisocianato,
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preferiblemente 15 al 60 % en peso y con especial preferencia 20 al 55 % en peso.
Se prefieren di- y poliisocianatos alifaticos o cicloalifaticos, por ejemplo, los diisocianatos alifaticos o cicloalifaticos previamente mencionados, o sus mezclas.
Ademas se prefieren
1) Poliisocianatos que presentan grupos isocianurato de diisocianatos alifaticos y/o cicloalifaticos. Se prefieren especialmente a este respecto los isocianato-isocianuratos alifaticos o cicloalifaticos correspondientes y especialmente los basados en hexametilendiisocianato e isoforondiisocianato. En el caso de los isocianuratos presentes a este respecto se trata especialmente de tris-isocianatoalquil- o tris-isocianatocicloalquil-isocianuratos, que representan trlmeros clclicos de los diisocianatos, o de mezclas con sus homologos superiores que presentan mas de un anillo de isocianurato. Los isocianato-isocianuratos tienen en general un contenido de NCO del 10 al 30 % en peso, especialmente 15 al 25 % en peso, y una funcionalidad NCO media de 3 a 4,5.
2) Uretdiondiisocianatos con grupos isocianato alifatica y/o cicloalifaticamente unidos, preferiblemente alifatica o cicloalifaticamente unidos, y especialmente los derivados de hexametilendiisocianato o isoforondiisocianato. En el caso de los uretdiondiisocianatos se trata de productos dimerizacion clclicos de diisocianatos. Los uretdiondiisocianatos pueden utilizarse en las preparaciones como componente individual o en mezcla con otros poliisocianatos, especialmente los mencionados en 1).
3) Poliisocianatos que presentan grupos biuret con grupos isocianato cicloalifatica o alifaticamente unidos, especialmente tris(6-isocianatohexil)biuret o sus mezclas con sus homologos superiores. Estos poliisocianatos que presentan grupos biuret presentan en general un contenido de NCO del 18 al 25 % en peso y una funcionalidad NCO media de 3 a 4,5.
4) Poliisocianatos que presentan grupos uretano y/o alofanato con grupos isocianato alifatica o cicloalifaticamente unidos, como pueden obtenerse, por ejemplo, mediante la reaccion de cantidades en exceso de hexametilendiisocianato o de isoforondiisocianato con alcoholes polihidroxllicos como, por ejemplo, trimetilolpropano, neopentilglicol, pentaeritritol, 1,4-butanodiol, 1,6-hexanodiol, 1,3-propanodiol, etilenglicol, dietilenglicol, glicerina, 1,2-dihidroxipropano o sus mezclas, o preferiblemente con al menos un compuesto (C2), preferiblemente (met)acrilato de 2-hidroxietilo. Estos poliisocianatos que presentan grupos uretano y/o alofanato tienen en general un contenido de NCO del 12 al 20 % en peso y una funcionalidad NCO media de al menos 2, preferiblemente al menos 2,1 y con especial preferencia 2,5 a 3.
5) Poliisocianatos que contienen grupos oxadiazintriona, preferiblemente derivados de hexametilendiisocianato o isoforondiisocianato. Aquellos poliisocianatos que contienen grupos oxadiazintriona pueden prepararse a partir de diisocianato y dioxido de carbono. A este respecto debe considerarse, sin embargo, dado el caso el contenido anteriormente citado de grupos oxadiazintriona.
6) Poliisocianatos modificados con uretonimina.
Los poliisocianatos 1) a 6) pueden utilizarse en mezcla, dado el caso tambien en mezcla con diisocianatos.
Los compuestos (C2) son aquellos que llevan al menos un grupo reactivo con isocianato y al menos un grupo (met)acrilato.
En una forma de realizacion preferida de la invencion, en el caso del compuesto (C1) se trata de un compuesto con exactamente un grupo reactivo con isocianato y al menos un grupo (met)acrilato, por ejemplo, uno a cinco, con especial preferencia uno a cuatro, y de manera muy especialmente preferida uno a tres grupos (met)acrilato.
Los componentes (C2) presentan preferiblemente un peso molar inferior a 2000 g/mol, con especial preferencia inferior a 1500 g/mol, de manera muy especialmente preferida inferior a 1000 g/mol y especialmente inferior a 750 g/mol. Compuestos (C2) especiales presentan un peso molar inferior a 500 o incluso inferior a 300 g/mol.
Los grupos reactivos con isocianato pueden ser, por ejemplo, -OH, -SH, -NH2 y -NHR1, en la que R1 significa hidrogeno o un grupo alquilo que contiene 1 a 4 atomos de carbono como, por ejemplo, metilo, etilo, n-propilo, iso- propilo, n-butilo, iso-butilo, sec-butilo o ferc-butilo.
Los componentes (C2) pueden ser, por ejemplo, ester monometllico del acido acrllico o acido metacrllico con di- o polioles que presentan preferiblemente 2 a 20 atomos de C y por lo menos dos grupos hidroxi, como etilenglicol, dietilenglicol, trietilenglicol, 1,2-propilenglicol, 1,3-propilenglicol, 1, 1 -dimetil-1,2-etanodiol, dipropilenglicol,
trietilenglicol, tetraetilenglicol, pentaetilenglicol, tripropilenglicol, 1,2-, 1,3- o 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, neopentilglicol, 1,6-hexanodiol, 2-metil-1,5-pentanodiol, 2-etil-1,4-butanodiol, 1,4-dimetilolciclohexano, 2,2-bis(4-
hidroxiciclohexil)propano, glicerina, trimetiloletano, trimetilolpropano, trimetilolbutano, pentaeritritol, ditrimetilolpropano, eritritol, sorbitol, poli-THF con un peso molar entre 162 y 2000, poli-1,3-propanodiol con un peso molar entre 134 y 400 o polietilenglicol con un peso molar entre 238 y 458. Ademas, tambien pueden usarse esteres o amidas del acido (met)acrllico con aminoalcoholes, por ejemplo, 2-aminoetanol, 2-(metil-amino)etanol, 3-amino-15 propanol, 1-amino-2-propanol o 2-(2-aminoetoxi)etanol, 2-mercaptoetanol o poliaminoalcanos, como etilendiamina o dietilentriamina.
Ademas, tambien son adecuados polioleteres o poliolesteres o poliolacrilatos insaturados con una funcionalidad OH promedio de 2 a 10, aunque tambien se prefiere mas pequena.
Ejemplos de amidas de acidos carboxllicos etilenicamente insaturados con aminoalcoholes son 10 hidroxialquil(met)acrilamidas como N-hidroximetilacrilamida, N-hidroximetilmetacrilamida, N-hidroxietilacrilamida, N- hidroxietilmetacrilamida, 5-hidroxi-3-oxapentil(met)acrilamida, N-hidroxialquilcrotonamidas como N- hidroximetilcrotonamida o N-hidroxialquilmaleinimidas como N-hidroxietilmaleinimida.
Preferiblemente se usan (met)acrilato de 2-hidroxietilo, (met)acrilato de 2- o 3-hidroxipropilo, mono(met)acrilato de
1.4- butanodiol, mono(met)acrilato de neopentilglicol, mono(met)acrilato de 1,5-pentanodiol, mono(met)acrilato de 15 1,6-hexanodiol, di(met)acrilato de glicerina, di(met)acrilato de trimetilolpropano, tri(met)acrilato de pentaeritritol,
(met)acrilato de 2-aminoetilo, (met)acrilato de 2-aminopropilo, (met)acrilato de 3-aminopropilo, (met)acrilato de 4- aminobutilo, (met)acrilato de 6-aminohexilo, (met)acrilato de 2-tioetilo, 2-aminoetil(met)acrilamida, 2- aminopropil(met)acrilamida, 3-aminopropil(met)acrilamida, 2-hidroxietil(met)acrilamida, 2-hidroxipropil(met)acrilamida o 3-hidroxipropil(met)acrilamida. Se prefieren especialmente acrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, 20 acrilato de 2- o 3-hidroxipropilo, monoacrilato de 1,4-butanodiol, (met)acrilato de 3-(acriloiloxi)-2-hidroxipropilo, as! como los monoacrilatos de polietilenglicol de masa molar de 106 a 238.
En una forma de realizacion preferida, el componente (C2) esta seleccionado del grupo constituido por acrilato de 2- hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2- o 3-hidroxipropilo y monoacrilato de 1,4-butanodiol, 1,2- o 1,3- diacrilato de glicerina, propanodiacrilato de trimetilol, triacrilato de pentaeritritol, propanotriacrilato de ditrimetilol y 25 pentaacrilato de dipentaeritritol, preferiblemente de acrilato de 2-hidroxietilo y metacrilato de 2-hidroxietilo.
Los compuestos (C3) son aquellos que presentan al menos dos grupos reactivos con isocianato, por ejemplo -OH, - SH, -NH2 o -NHR2, en la que R2, independientemente entre si, puede significar hidrogeno, metilo, etilo, /so-propilo, n- propilo, n-butilo, /so-butilo, sec-butilo o ferc-butilo.
Estos son preferiblemente dioles que presentan 2 a 20 atomos de carbono, por ejemplo, etilenglicol, 1,2-propanodiol, 30 1,3-propanodiol, 1, 1 -dimetiletano-1,2-diol, 2-butil-2-etil-1,3-propanodiol, 2-etil-1,3-propanodiol, 2-metil-1,3- propanodiol, neopentilglicol, ester neopentilglicolico del acido hidroxipivalico, 1,2-, 1,3- o 1,4-butanodiol, 1,6- hexanodiol, 1,10-decanodiol, bis-(4-hidroxiciclohexano)-isopropilideno, tetrametilciclobutanodiol, 1,2-, 1,3- o 1,4- ciclohexanodiol, ciclooctanodiol, norbornanodiol, pinanodiol, decalindiol, 2-etil-1,3-hexanodiol, 2,4-dietil-octano-1,3- diol, hidroquinona, bisfenol A, bisfenol F, bisfenol B, bisfenol S, 2,2-bis(4-hidroxiciclohexil)-propano, 1,1-, 1,2-, 1,3- y 35 1,4-ciclohexanodimetanol, 1,2-, 1,3- o 1,4-ciclohexanodiol, poli-THF con una masa molar entre 162 y 2000, poli-1,2- propanodiol o poli-1,3-propanodiol con una masa molar entre 134 y 1178 o polietilenglicol con una masa molar entre 106 y 2000, as! como diaminas alifaticas, como metilen- e isopropiliden-bis-(ciclohexilamina), piperazina, 1,2-, 1,3- o
1.4- diaminociclohexano, 1,2-, 1,3- o 1,4-ciclo-hexan-bis-(metilamina), etc., ditioles o alcoholes polifuncionales, aminoalcoholes secundarios o primarios, como etanolamina, monopropanolamina, etc., o tioalcoholes, como
40 tioetilenglicol.
Aqul son especialmente adecuados los dioles cicloalifaticos como, por ejemplo, bis-(4-
hidroxiciclohexano)isopropilideno, tetrametilciclobutanodiol, 1,2-, 1,3- o 1,4-ciclohexanodiol, 1,1-, 1,2-, 1,3- y 1,4- ciclohexanodimetanol, ciclooctanodiol o norbornanodiol.
Ademas, en el caso del compuesto (C3) opcional puede tratarse al menos de un compuesto con al menos tres 45 grupos reactivos con isocianato.
Por ejemplo, los componentes (C3) pueden presentar 3 a 6, preferiblemente 3 a 5, con especial preferencia 3 a 4 y de manera muy especialmente preferida 3 grupos reactivos con isocianato. El peso molecular de los componentes (C3) asciende generalmente a no mas de 2000 g/mol, preferiblemente no mas de 1500 g/mol, con especial preferencia no mas de 1000 g/mol y de manera muy especialmente preferida no mas de 500 g/mol.
50 Estos son preferiblemente polioles que presentan 2 a 20 atomos de carbono, por ejemplo, trimetilolbutano, trimetilolpropano, trimetiloletano, pentaeritritol, glicerina, ditrimetilolpropano, dipentaeritritol, sorbitol, manitol, diglicerol, treitol, eritritol, adonitol (ribitol), arabitol (lixitol), xilitol, dulcitol (galactitol), maltitol, isomalt, se prefieren especialmente trimetilolpropano, pentaeritritol y glicerina, y de manera muy especialmente preferida trimetilolpropano.
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Representa una forma de realizacion preferida de la presente invention utilizar como compuesto (C) el producto de reaction de un diisocianato (ciclo)alifatico, preferiblemente 1,6-hexametilendiisocianato, con un (met)acrilato de hidroxialquilo, preferiblemente acrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxipropilo o metacrilato de 2-hidroxipropilo, con especial preferencia acrilato de 2-hidroxietilo o acrilato de 2-hidroxipropilo, y de manera muy especialmente preferida acrilato de 2-hidroxietilo.
En una forma de realizacion especialmente preferida este producto de reaccion se obtiene bajo condiciones de reaccion bajo las cuales se forman tanto grupos uretano como tambien alofanato, de manera que los grupos (met)acrilato esten unidos al menos parcialmente mediante grupos alofanato. De esta manera se obtiene un producto, medido en el peso molecular, de viscosidad especialmente baja.
Un procedimiento para la preparation de aquellos productos (C) y productos (C) se describe en el documento WO 00/39183 A, all! especialmente la pagina 4, llnea 17 a pagina 6, llnea 6, as! como pagina 8, llnea 44 a pagina 10, llnea 26, as! como all! en los ejemplos, a los que mediante la presente se hace referencia expllcita en el marco de la presente divulgation.
Un producto de este tipo puede obtenerse en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial Laromer® LR 9000, de BASF SE, Ludwigshafen.
En el caso del componente (D) se trata de al menos un (met)acrilato con funcionalidad, por ejemplo una a tres, preferiblemente una o dos, y con especial preferencia un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de al menos 700 g/mol, preferiblemente mas de 1000 y con especial preferencia 2000 g/mol, y una funcionalidad de al menos cinco, preferiblemente cinco a ocho, con especial preferencia cinco a siete y de manera muy especialmente preferida cinco a seis. Generalmente, el peso molar del componente (D) asciende a no mas de 3000 g/mol.
Se prefiere el componente (D) seleccionado del grupo constituido por (met)acrilatos de poliester, epoxi(met)acrilatos y (met)acrilatos de uretano, preferiblemente de (met)acrilatos de poliester y (met)acrilatos de uretano y con especial preferencia se trata de un (met)acrilato de uretano.
Los (met)acrilatos de poliester son (met)acrilatos de poliolesteres con la funcionalidad deseada correspondiente.
Los poliolesteres son conocidos, por ejemplo, de Ullmanns Encyklopadie der technischen Chemie, 4a edition, tomo 19, pag. 62 a 65. Se utilizan preferiblemente poliolesteres que se obtienen mediante la reaccion de alcoholes dihidroxllicos con acidos carboxllicos dihidroxllicos. En lugar de los acidos policarboxllicos libres tambien pueden usarse los anhldridos del acido policarboxllico correspondientes o esteres de acidos policarboxllicos correspondientes de alcoholes inferiores o sus mezclas para la preparacion de los poliolesteres. Los acidos policarboxllicos pueden ser alifaticos, cicloalifaticos, aralifaticos, aromaticos o heteroclclicos y, dado el caso, por ejemplo, estar sustituidos por atomos de halogeno y/o ser insaturados. Como ejemplos de estos son de mencionar:
acido oxalico, acido maleico, acido fumarico, acido succlnico, acido glutarico, acido adlpico, acido sebacico, acido dodecanodioico, acido o-ftalico, acido isoftalico, acido tereftalico, acido trimelltico, acido azelaico, acido 1,4- ciclohexanodicarboxllico o acido tetrahidroftalico, acido suberico, acido azelaico, anhldrido del acido ftalico, anhldrido del acido tetrahidroftalico, anhldrido del acido hexahidroftalico, anhldrido del acido tetracloroftalico, anhldrido del acido endometilentetrahidroftalico, anhldrido del acido glutarico, anhldrido del acido maleico, acidos grasos dimericos, sus isomeros y productos de hidrogenacion, as! como derivados esterificables, como anhldridos o esteres de dialquilo, por ejemplo esteres de alquilo C1-C4, preferiblemente ester metllico, etllico o n-butllico, de los acidos mencionados se usan. Se prefieren acidos dicarboxllicos de formula general HOOC-(CH2)y-COOH, en la que y es un numero de 1 a 20, preferiblemente un numero entero de 2 a 20, con especial preferencia acido succlnico, acido adlpico, acido sebacico y acido dodecanodicarboxllico.
Como alcoholes polihidroxllicos se consideran para la preparacion de los poliolesteres 1,2-propanodiol, etilenglicol, 2,2-dimetil-1,2-etanodiol, 1,3-propanodiol, 1,2-butanodiol, 1,3-butanodiol, 1,4-butanodiol, 3-metilpentano-1,5-diol, 2- etilhexano-1,3-diol, 2,4-dietiloctano-1,3-diol, 1,6-hexanodiol, poli-THF con una masa molar entre 162 y 2000, poli-1,3- propanodiol con una masa molar entre 134 y 1178, poli-1,2-propanodiol con una masa molar entre 134 y 898, polietilenglicol con una masa molar entre 106 y 458, neopentilglicol, ester neopentilglicolico del acido hidroxipivalico, 2-etil-1,3-propanodiol, 2-metil-1,3-propanodiol, 2,2-bis(4-hidroxiciclohexil)propano, 1,1-, 1,2-, 1,3- y 1,4-
ciclohexanodimetanol, 1,2-, 1,3- o 1,4-ciclohexanodiol, trimetilolbutano, trimetilolpropano, trimetiloletano,
neopentilglicol, pentaeritritol, glicerina, ditrimetilolpropano, dipentaeritritol, sorbitol, manitol, diglicerol, treitol, eritritol, adonitol (ribitol), arabitol (lixitol), xilitol, dulcitol (galactitol), maltitol o isomalt, que dado el caso pueden estar alcoxilados como se ha descrito anteriormente.
Se prefieren alcoholes de formula general HO-(CH2)x-OH, en la que x es un numero de 1 a 20, preferiblemente un numero entero de 2 a 20. Se prefieren etilenglicol, butano-1,4-diol, hexano-1,6-diol, octano-1,8-diol y dodecano-1,12- diol. Ademas, se prefiere neopentilglicol.
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Tambien son adecuados polidiolesteres basados en lactona, tratandose de homo- o pollmeros mixtos de lactonas, preferiblemente de productos de adicion de lactonas que presentan grupos hidroxilo terminales a moleculas difuncionales adecuadas de iniciador. Como lactonas se consideran preferiblemente aquellas que se derivan de compuestos de formula general HO-(CH2)z-COOH, siendo z un numero de 1 a 20 y un atomo de H de una unidad de metileno tambien puede estar sustituido con un resto alquilo Ci a C4. Ejemplos son £-caprolactona, (3-propiolactona, gamma-butirolactona y/o metil-£-caprolactona, acido 4-hidroxibenzoico, acido 6-hidroxi-2-naftoico o pivalolactona, as! como sus mezclas. Componentes iniciadores adecuados son, por ejemplo, los alcoholes dihidroxllicos de bajo peso molecular previamente mencionados como componente estructural para los poliolesteres. Se prefieren especialmente los pollmeros correspondientes de £-caprolactona. Tambien pueden utilizarse polidiolesteres o polidioleteres inferiores como iniciadores para la preparacion de los pollmeros de lactona. En lugar de los pollmeros de lactona tambien pueden utilizarse los policondensados qulmicamente equivalentes de los acidos hidroxicarboxllicos correspondientes a las lactonas.
Los epoxi(met)acrilatos pueden obtenerse mediante reaccion de epoxidos con acido (met)acrllico. Como epoxidos se consideran, por ejemplo, olefinas epoxidadas, glicidil eteres aromaticos o glicidil eteres alifaticos, preferiblemente aquellos de glicidil eteres aromaticos o alifaticos.
Las olefinas epoxidadas pueden ser, por ejemplo, oxido de etileno, oxido de propileno, oxido de /so-butileno, oxido de 1-buteno, oxido de 2-buteno, viniloxirano, oxido de estireno o epiclorhidrina, se prefieren oxido de etileno, oxido de propileno, oxido de /so-butileno, viniloxirano, oxido de estireno o epiclorhidrina, con especial preferencia oxido de etileno, oxido de propileno o epiclorhidrina, y de manera muy especialmente preferida oxido de etileno y epiclorhidrina.
Glicidil eteres aromaticos son, por ejemplo, diglicidil eter de bisfenol-A, diglicidil eter de bisfenol-F, diglicidil eter de bisfenol-B, diglicidil eter de bisfenol-S, diglicidil eter de hidroquinona, productos de alquilacion de fenol/diciclopentadieno, por ejemplo, 2,5-bis[(2,3-epoxipropoxi)fenil]octahidro-4,7-metano-5H-indeno) (CAS-Nr. [13446-85-0]), isomeros de tris[4-(2,3-epoxipropoxi)fenil]metano)CAs-Nr. [66072-39-7]), novolacas de epoxi basadas en fenol (CAS-Nr. [9003-35-4]) y novolacas de epoxi basadas en cresol (CAS-Nr. [37382-79-9]).
Glicidil eteres alifaticos son, por ejemplo, diglicidil eter de 1,4-butanodiol, diglicidil eter de 1,6-hexanodiol, tridiglicidil eter de trimetilolpropano, tetraglicidil eter de pentaeritritol, 1,1,2,2-tetraquis[4-(2,3-epoxipropoxi)fenil]etano (CAS-Nr. [27043-37-4]), diglicidil eter de polipropilenglicol (a,w-bis(2,3-epoxipropoxi)poli(oxipropileno) (CAS-Nr. [16096-30-3]) y de bisfenol A hidrogenado (2,2-bis[4-(2,3-epoxipropoxi)ciclohexil]propano, CAS-Nr. [13410-58-7]).
Glicidil eteres alifaticos preferidos son los productos de reaccion formales de epiclorhidrina con polietilenglicol de masa molar 62 a 1000, polipropilenglicol de masa molar 76 a 1000, poli-THF con una masa molar de 162 a 2000, policaprolactonadioles de masa molar hasta 1000 o poliglicerina de una masa molar hasta 1000 g/mol.
Los (met)acrilatos de epoxido tienen preferiblemente un peso molar promedio en numero Mn de 200 a 20000, con especial preferencia de 200 a 10000 g/mol, y de manera muy especialmente preferida de 250 a 3000 g/mol; el contenido de grupos (met)acrilo asciende preferiblemente a 1 a 5, con especial preferencia 2 a 4 por 1000 g de (met)acrilato de epoxido o epoxido de vinil eter (determinado por cromatografla de exclusion molecular con poliestireno como patron y tetrahidrofurano como eluyente).
Los (met)acrilatos de uretano pueden obtenerse, por ejemplo, mediante la reaccion de poliisocianatos con (met)acrilatos de hidroxialquilo y dado el caso agente de alargamiento de cadena como dioles, polioles, diaminas, poliaminas o ditiolenos o politiolenos.
Los (met)acrilatos de uretano de este tipo contienen como componentes estructurales esencialmente:
(a) al menos un di- o poliisocianato alifatico, aromatico o cicloalifatico organico, preferiblemente un poliisocianato (ciclo)alifatico,
(b) al menos un compuesto con al menos un grupo reactivo con isocianato y al menos un grupo (met)acrilato y
(c) dado el caso al menos un compuesto con al menos dos grupos reactivos con isocianato.
Los componentes (a), (b) y (c) pueden ser iguales, como se ha descrito arriba en el componente (C) como componentes (C1), (C2) y (C3).
Los (met)acrilatos de uretano tienen preferiblemente un peso molar promedio en numero Mn de 500 a 20.000, especialmente de 500 a 10.000, con especial preferencia 600 a 3000 g/mol (determinado por cromatografla de exclusion molecular con tetrahidrofurano y poliestireno como patron).
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Los (met)acrilatos de uretano tienen preferiblemente un contenido de 1 a 5, con especial preferencia de 2 a 4 moles de grupos (met)acrilo por 1000 g de (met)acrilato de uretano.
En una forma de realizacion preferida, en el caso de los (met)acrilatos de uretano se trata de aquellos que se han descrito en el documento WO 2006/069690 A1, all! especialmente la pagina 1, llnea 35 a pagina 10, llnea 20 y los ejemplos.
A este respecto se trata con especial preferencia del producto de reaccion del componente (C) anteriormente mencionado con un compuesto con exactamente un grupo reactivo con isocianato y al menos dos, preferiblemente dos a cinco, con especial preferencia dos a cuatro y de manera muy especialmente preferida dos o tres grupos (met)acrilato. En el caso del compuesto (D) se trata de manera muy especialmente preferida del producto de reaccion de los compuestos (C) como se describen en el documento WO 00/39183 A, all! especialmente la pagina 4, llnea 17 a pagina 6, llnea 6, con un compuesto con exactamente un grupo reactivo con isocianato y al menos dos, preferiblemente dos a cinco, con especial preferencia dos a cuatro, y de manera muy especialmente preferida dos o tres grupos (met)acrilato.
Un producto de este tipo puede obtenerse en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial Laromer® UA 9050, de BASF SE, Ludwigshafen.
Especialmente en el caso de uso de (met)acrilatos de uretano como compuesto (D), los (met)acrilatos de uretano se forman inherentemente a su preparacion, como mezcla de los compuestos (A) y (D), de manera que estos ya pueden utilizarse como mezcla en las masas de recubrimiento segun la invention.
En el caso del componente (E) opcional se trata de al menos un disolvente, seleccionado del grupo constituido por hidrocarburos, cetonas, esteres, esteres alqullicos de acidos alcanoicos, eteres y sus mezclas.
Como mezclas de hidrocarburos aromaticos se prefieren aquellas que pueden comprender principalmente hidrocarburos C7 a C14 aromaticos y comprender un intervalo de ebullition de 110 a 300 °C, se prefieren especialmente tolueno, o-, m- o p-xileno, isomeros de trimetilbenceno, isomeros de tetrametilbenceno, etilbenceno, cumeno, tetrahidronaftaleno y mezclas que contienen a estos.
Ejemplos de estos son la marca Solvesso® de la empresa ExxonMobil Chemical, especialmente Solvesso® 100 (CAS-Nr. 64742-95-6, principalmente compuestos aromaticos C9 y C10, intervalo de ebullicion aproximadamente 154-178 °C), 150 (intervalo de ebullicion aproximadamente 182 - 207 °C) y 200 (CAS-Nr. 64742-94-5), as! como la marca Shellsol® de la empresa Shell, Caromax® (por ejemplo, Caromax® 18) de la empresa Petrochem Carless e Hydrosol de la empresa DHC (por ejemplo, como Hydrosol® A 170). Pueden obtenerse en el comercio mezclas de hidrocarburos de parafinas, cicloparafinas y compuestos aromaticos tambien con los nombres Kristallol (por ejemplo, Kristallol 30, intervalo de ebullicion aproximadamente 158-198 °C o Kristallol 60: CAS-Nr. 64742-82-1), aguarras mineral (por ejemplo, tambien CAS-Nr. 64742-82-1) o nafta disolvente (ligera: intervalo de ebullicion aproximadamente 155-180 °C, pesada: intervalo de ebullicion aproximadamente 225 - 300 °C). El contenido de compuestos aromaticos de mezclas de hidrocarburos de este tipo asciende generalmente a mas del 90 % en peso, preferiblemente mas del 95, con especial preferencia mas del 98 y de manera muy especialmente preferida mas del 99 % en peso. Puede ser util utilizar mezclas de hidrocarburos con un contenido de naftalina especialmente reducido.
Hidrocarburos (ciclo)alifaticos son, por ejemplo, decalina, decalina alquilada y mezclas de isomeros de alcanos y/o cicloalcanos lineales o ramificados.
El contenido de hidrocarburos alifaticos asciende generalmente a menos del 5, preferiblemente menos del 2,5, y con especial preferencia menos del 1 % en peso.
Los esteres son, por ejemplo, acetato de n-butilo, acetato de etilo, acetato de 1-metoxiprop-2-ilo y acetato de 2- metoxietilo.
Los eteres son, por ejemplo THF, dioxano, as! como los dimetil-, dietil- o di-n-butil eteres de etilenglicol, dietilenglicol, trietilenglicol, propilenglicol, dipropilenglicol o tripropilenglicol.
Las cetonas son, por ejemplo, acetona, dietilcetona, etilmetilcetona, isobutilmetilcetona, metilamilcetona y terc- butilmetilcetona.
Disolventes preferidos son acetato de n-butilo, acetato de etilo, acetona y acetato de metilo.
En una forma de realizacion preferida, en el caso de los disolventes (E) se trata de aquellas clases de disolventes anteriormente indicadas e individuales que presenta un Indice de evaporation segun DIN 53170, 1991-08, de hasta
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10
15
20
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30
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40
45
20, con especial preferencia de hasta 10.
En el caso del componente (F) opcional se trata de al menos una amina y/o alcohol.
Los componentes (F) pueden presentar uno o varios grupos amino y/o hidroxi, por ejemplo, uno a tres, preferiblemente uno o dos, y con especial preferencia exactamente uno.
Compuestos (F) preferidos son alcanoles y/o aminoalcanos que presentan de uno a 12 atomos de carbono, con especial preferencia alcanoles C1-C6.
Ejemplos de monoalcoholes son metanol, etanol, iso-propanol, n-propanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, terc- butanol, monometil eter de etilenglicol, monoetil eter de etilenglicol, monometil eter de 1,3-propanodiol, n-hexanol, n- heptanol, n-octanol, n-decanol, n-dodecanol (alcohol laurico) y 2-etilhexanol. Ejemplos de monoaminas son metilamina, etilamina, /so-propilamina, n-propilamina, n-butilamina, /so-butilamina, sec-butilamina, ferc-butil-amina, n- pentilamina, n-hexilamina, n-heptilamina, n-octilamina, n-decilamina, n-dodecilamina, 2-etilhexilamina, estearilamina, cetilamina o laurilamina. Aminas preferidas son bencilamina y metoxipropilamina.
En el caso del componente (G) opcional se trata de al menos un fotoiniciador, preferiblemente uno a tres, y con especial preferencia de un fotoiniciador o mezclas de dos fotoiniciadores.
Como fotoiniciadores pueden usarse fotoiniciadores conocidos para el experto, por ejemplo, aquellos mencionados en “Advances in Polymer Science”, Volume 14, Springer Berlin 1974 o en K. K. Dietliker, Chemistry and Technology of UV- and EB-formulation for Coatings, Inks and Paints, Volume 3; Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerization, P. K. T. Oldring (ed.), SITA Technology Ltd, London.
Se consideran, por ejemplo, oxidos de fosfina, benzofenonas, a-hidroxi-alquil-arilcetonas, tioxantonas, antraquinonas, acetofenonas, benzolnas y eteres de benzolnas, cetales, imidazoles o acidos fenilglioxllicos.
Se consideran aquellos fotoiniciadores, como se han descrito en el documento WO 2006/005491 A1, pagina 21, llnea 18 a pagina 22, llnea 2 (se corresponde con el documento US 2006/0009589 A1, parrafo [0150]), que por la presente es constituyente de la presente divulgacion por referencia.
Los siguientes compuestos son de mencionar a modo de ejemplo de las clases individuales:
oxidos de mono- o bisacilfosfina como, por ejemplo, Irgacure® 819 (oxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil)fenil-fosfina), como se describen, por ejemplo, en los documentos EP-A 7 508, EP-A 57 474, DE-A 196 18 720, EP-A 495 751 o EP-A 615 980, por ejemplo, oxido de 2,4,6-trimetilbenzoildifenilfosfina (Lucirin® TPO), 2,4,6-
trimetilbenzoilfenilfosfinato de etilo, oxido de bis(2,6-dimetoxibenzoil)-2,4,4-trimetilpentilfosfina,
benzofenona, 4-aminobenzofenona, 4,4'-bis(dimetilamino)benzofenona, 4-fenilbenzofenona, 4-clorobenzofenona, cetona de Michler, o-metoxibenzofenona, 2,4,6-trimetilbenzofenona, 4-metilbenzofenona, 2,4-dimetilbenzofenona, 4- isopropilbenzofenona, 2-clorobenzofenona, 2,2'-diclorobenzofenona, 4-metoxibenzofenona, 4-propoxibenzofenona o 4-butoxibenzofenona,
1- benzoilciclohexan-1-ol (1-hidroxi-ciclohexil-fenilcetona), 2-hidroxi-2,2-dimetilaceto-fenona (2-hidroxi-2-metil-1 -fenil- propan-1-ona), 1-hidroxiacetofenona, 1-[4-(2-hidroxi-etoxi)-fenil]-2-hidroxi-2-metil-1-propan-1-ona, pollmero que contiene incluido por polimerizacion 2-hidroxi-2-metil-1-(4-isopropen-2-il-fenil)-propan-1-ona (Esacure® KIP 150),
10-tioxantenona, tioxanten-9-ona, xanten-9-ona, 2,4-dimetiltioxantona, 2,4-dietiltioxantona, 2,4-di-iso- propiltioxantona, 2,4-diclorotioxantona, cloroxantenona, p-metilantraquinona, terc-butilantraquinona, esteres del acido antraquinonacarbonllico, benz[de]antracen-7-ona, benz[a]antraceno-7,12-diona, 2-metilantraquinona, 2- etilantraquinona, 2-terc-butilantraquinona, 1-cloroantraquinona, 2-amilantraquinona,
acetofenona, acetonaftoquinona, valerofenona, hexanofenona, a-fenilbutirofenona, p-morfolinopropiofenona, dibenzosuberona, 4-morfolinobenzofenona, p-diacetilbenceno, 4'-metoxiacetofenona, a-tetralona, 9-acetilfenantreno,
2- acetilfenantreno, 3-acetilfenantreno, 3-acetilindol, 9-fluorenona, 1-indanona, 1,3,4-triacetilbenceno, 1-acetonaftona, 2-acetonaftona, 2,2-dimetoxi-2-fenilacetofenona, 2,2-dietoxi-2-fenilacetofenona, 1,1-dicloroacetofenona, 1- hidroxiacetofenona, 2,2-dietoxiacetofenona, 2-metil-1-[4-(metiltio)fenil]-2-morfolinopropan-1-ona, 2,2-dimetoxi-1,2- difeniletan-2-ona, 2-bencil-2-dimetilamino-1-(4-morfolinofenil)-butan-1-ona,
4-morfolinodesoxibenzolna, benzolna, iso-butil eter de benzolna, tetrahidropiranil eter de benzolna, metil eter de benzolna, etil eter de benzolna, butil eter de benzolna, iso-propil eter de benzolna, metil eter de 7-H-benzolna,
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acetofenondimetilcetal, 2,2-dietoxiacetofenona, bencilcetal, como bencildimetilcetal,
Acidos fenilglioxalicos como se describen en los documentos DE-A 198 26 712, DE-A 199 13 353 o WO 98/33761, por ejemplo mono- y diesteres del acido fenilglioxalico de polietilenglicoles de masa molar 62 a 500 g/mol.
Benzaldehldo, metiletilcetona, 1-naftaldehldo, trifenilfosfina, tri-o-tolilfosfina, 2,3-butanodiona
Como mezcla son de mencionar especialmente 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-2-ona y 1 -hidroxi-ciclohexil- fenilcetona,
oxido de bis(2,6-dimetoxibenzoil)-2,4,4-trimetilpentilfosfina y 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-1-ona benzofenona y 1-hidroxi-ciclohexil-fenilcetona,
oxido de bis(2,6-dimetoxibenzoil)-2,4,4-trimetilpentilfosfina y 1-hidroxi-ciclohexil-fenilcetona,
oxido de 2,4,6-trimetilbenzoildifenilfosfina y 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-1-ona, 2,4,6-trimetilbenzofenona y 4- metilbenzofenona,
2.4.6- trimetilbenzofenona y 4-metilbenzofenona y oxido de 2,4,6-trimetilbenzoildifenilfosfina,
Como fotoiniciadores tambien son posibles fotoiniciadores polimericos como, por ejemplo, los diesteres de carboximetoxibenzofenona con politetrametilenglicoles de diferente peso molar, preferiblemente 200 a 250 g/mol (CAS 515136-48-8), as! como CAS 1246194-73-9, CAS 813452-37-8, CAS 71512-90-8, CAS 886463-10-1 o derivados de benzofenona polimericos adicionales, como estan disponibles en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial Omnipol® BP de la empresa IGM Resins B.V., Waalwijk, Los Palses Bajos, o Genopol® BP1 de la empresa Rahn AG, Suiza. Ademas, son tambien posibles tioxantonas polimericas, por ejemplo, los diesteres de carboximetoxitioxantonas con politetrametilenglicoles de diferente peso molar, como estan disponibles en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial Omnipol® TX de la empresa IGM Resins B.V., Waalwijk, Los Palses Bajos. Ademas, son tambien posibles a-aminocetonas polimericas, por ejemplo, los diesteres de carboxietoxitioxantonas con polietilenglicoles de diferente peso molar, como estan disponibles en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial Omnipol® 910 o Omnipol® 9210 de la empresa IGM Resins B.V., Waalwijk, Los Palses Bajos.
En una forma de realizacion preferida, como fotoiniciadores se utilizan compuestos de silsesquioxano con al menos un grupo con accion iniciadora, como se describen en el documento WO 2010/063612 A1, alli especialmente la pagina 2, linea 21 a pagina 43, linea 9, que por la presente es constituyente de la presente divulgacion por referencia, preferiblemente la pagina 2, linea 21 a pagina 30, linea 5, as! como los compuestos descritos en el documento WO 2010/063612 A1.
Como (H) adyuvantes de barniz y aditivos opcionales son de mencionar, por ejemplo, antioxidantes, estabilizadores, activadores (aceleradores), cargas, pigmentos, colorantes, secantes, agentes antiestaticos, agentes ignifugos, espesantes, auxiliares de la reologla, agentes tixotropicos, agentes tensioactivos, modificadores de la viscosidad, plastificantes o quelantes.
Ademas, pueden anadirse uno o varios iniciadores termicamente activables, por ejemplo, peroxodisulfato de potasio, peroxido de dibenzollo, peroxido de ciclohexanona, peroxido de di-terc-butilo, azobis-/so-butironitrilo, peroxido de ciclohexilsulfonilacetilo, percarbonato de di-/so-propilo, peroctoato de ferc-butilo o benzopinacol, as! como, por ejemplo, aquellos iniciadores termicamente activables que presentan una semivida a 80 °C de mas de 100 horas, como peroxido de di-t-butilo, hidroperoxido de cumeno, peroxido de dicumilo, perbenzoato de t-butilo, pinacoles sililados que pueden obtenerse en el comercio, por ejemplo, con el nombre comercial ADDID 600 de la empresa Wacker, o N-oxidos de amina que contienen grupos hidroxilo, como 2,2,6,6-tetrametilpiperidin-N-oxilo y 4-hidroxi-
2.2.6.6- tetrametilpiperidin-N-oxilo.
Ejemplos adicionales de iniciadores adecuados se describen en “Polymer Handbook”, 2a Ed., Wiley & Sons, Nueva York.
Como auxiliares de la reologla se consideran, ademas de los (co)pollmeros (co)polimerizados por radicales, espesantes organicos e inorganicos habituales como hidroximetilcelulosa, ureas polimericas o bentonita.
En el caso de los secantes puede tratarse, por ejemplo, de isocianatos monofuncionales, por ejemplo, isocianato de fenilo, u ortoesteres, por ejemplo, ester metllico del acido orto-formico o ester etllico del acido orto-formico.
Como quelantes pueden usarse, por ejemplo, acido etilendiaminoacetico y sus sales, as! como p-dicetonas.
Cargas adecuadas comprenden silicatos, por ejemplo, silicatos que pueden obtenerse mediante la hidrolisis de tetracloruro de silicio como Aerosil® de la empresa Degussa, tierra sillcea, talco, silicatos de aluminio, silicatos de magnesio y carbonatos calcicos.
Estabilizadores adecuados comprenden absorbentes de UV tlpicos como oxanilidas, triazinas y benzotriazol (el ultimo puede obtenerse como la marca Tinuvin® de Ciba-Spezialitatenchemie) y benzofenonas. Estos pueden utilizarse solos o junto con capturadores de radicales adecuados, por ejemplo, aminas estericamente impedidas como 2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 2,6-di-terc-butilpiperidina o sus derivados, por ejemplo, bis(2,2,6,6-tetra-metil-4- 5 piperidil)sebacinato. Los estabilizadores se utilizan normalmente en cantidades del 0,1 al 5,0 % en peso, referido a los componentes solidos contenidos en la preparacion.
Las masas de recubrimiento segun la invencion estan compuestas preferiblemente del siguiente modo:
(A) 2 al 50 % en peso, preferiblemente 15 al 40 % en peso
(B) 5 al 90 % en peso, preferiblemente 30 al 60 % en peso
10 (C) 2 al 50 % en peso, preferiblemente 15 al 40 % en peso, con especial preferencia 20 al 35 % en peso
(D) 1 al 40 % en peso, preferiblemente 15 al 40 % en peso
(E) 0 al 50 % en peso, preferiblemente 5 al 30 % en peso
(F) 0 al 10 % en peso, preferiblemente 0 al 4 % en peso
(G) 0 al 8 % en peso, preferiblemente 0 al 5 % en peso
15 (H) 0 al 15 % en peso, preferiblemente 0 al 10 % en peso
con la condition de que la suma siempre ascienda al 100 % en peso.
Las masas de recubrimiento segun la invencion pueden prepararse en una forma de realization preferida disponiendo los componentes (A), (C) y (D), lo que generalmente conduce a una mezcla bifasica, y dosificando a esta mezcla bifasica el componente (B) con agitation hasta que se obtenga una mezcla monofasica. La viscosidad 20 objetivo deseada se alcanza mediante la dosificacion de (B) adicional, as! como dado el caso el disolvente (E).
Las masas de recubrimiento segun la invencion pueden prepararse en otra forma de realizacion preferida disponiendo los componentes (A), (B) y (D) y dosificando a esta mezcla el componente (C) hasta que se obtenga una mezcla bifasica. Una mezcla monofasica, as! como la viscosidad objetivo deseada, se alcanza entonces de nuevo mediante la dosificacion de (B) adicional, as! como dado el caso el disolvente (E).
25 Los poliuretanos segun la invencion pueden usarse para el recubrimiento de distintos sustratos como, por ejemplo, madera, chapa de madera, papel, cartulina, carton, textil, cuero, no tejido, superficies de plastico, vidrio, ceramica, materiales de construction minerales, metales y metales recubiertos.
En el caso de un uso en agentes de recubrimiento, los poliuretanos segun la invencion pueden utilizarse especialmente en imprimaciones, cargas, barnices de cubricion pigmentados y barnices transparentes en el sector 30 del barnizado de reparation de automoviles o de grandes vehlculos. Son especialmente adecuados aquellos agentes de recubrimiento para aplicaciones en las que se requiere una seguridad de aplicacion, resistencia a la intemperie exterior, optica, resistencia a los disolventes, productos qulmicos y al agua especialmente altas, como en el barnizado de reparacion de automoviles y de grandes vehlculos.
El recubrimiento de los sustratos con las masas de recubrimiento segun la invencion se realiza segun 35 procedimientos habituales conocidos para el experto, aplicando una masa de recubrimiento segun la invencion o una formulation de barniz que la contiene sobre el sustrato que va a recubrirse en el espesor deseado y dado el caso secando. Este proceso puede repetirse segun una o varias veces se desea. La aplicacion sobre el sustrato puede realizarse de manera conocida, por ejemplo, por pulverizado, emplaste, rasqueteado, con cepillo, calandrado, con rodillos, vertido, laminado, inyeccion en la parte trasera o coextrusion. El espesor del recubrimiento se encuentra 40 generalmente en un intervalo de aproximadamente 3 a 1000 g/m2 y preferiblemente 10 a 200 g/m2.
Ademas, se da a conocer un procedimiento para recubrir sustratos en el que la aplicacion de la masa de recubrimiento segun la invencion sobre el sustrato se realiza bajo un gas inerte. Como gases inertes son adecuados preferiblemente nitrogeno, gases nobles, dioxido de carbono o gases de combustion. Esto es especialmente preferible cuando en la aplicacion se formen vapores explosivos bajo una atmosfera que contiene oxlgeno.
45 Este proceso de recubrimiento bajo gas inerte se asocia con especial preferencia a un endurecimiento con UV de la masa de recubrimiento aplicada y secada tambien bajo condiciones inertes. Esto tiene la ventaja especial de que la masa de recubrimiento en exceso, por ejemplo, la llamada neblina de pulverization, y/o los constituyentes que se encuentran en la atmosfera de la masa de recubrimiento, por ejemplo el disolvente (E) y/o el componente (B), pueden recuperarse facilmente.
50 De esta manera, la aplicacion y opcionalmente el secado y endurecimiento se realizan bajo un gas inerte, lo que normalmente esta asociado a una contenedorizacion de la instalacion, tambien es posible usar sin problemas los (met)acrilatos de alquilo (B) en la masa de recubrimiento segun la invencion, ya que las posibles emisiones de estos compuestos as! permanecen limitadas.
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Ademas, se da a conocer un procedimiento para recubrir sustratos en el que la masa de recubrimiento segun la invencion, o una formulacion de barniz que la contiene, se mezcla dado el caso con aditivos tlpicos de barnices adicionales y resinas de endurecimiento termico, qulmico o por radiacion, se aplica sobre el sustrato y dado el caso se seca, se endurece con radiacion electronica o iluminacion UV bajo atmosfera que contiene oxlgeno o preferiblemente bajo gas inerte, dado el caso a temperaturas hasta el nivel de la temperatura de secado.
El endurecimiento por radiacion se realiza con luz rica en energla, por ejemplo, luz UV o radiacion electronica. El endurecimiento por radiacion puede realizarse a mayores temperaturas. A este respecto se prefiere una temperatura por encima de la Tg del aglutinante endurecible por radiacion.
Endurecimiento por radiacion significa aqul la polimerizacion por radicales de compuestos polimerizables debido a una radiacion electromagnetica y/o corpuscular, preferiblemente luz UV en el intervalo de longitudes de onda de A=200 a 700 nm y/o radiacion electronica en el intervalo de 150 a 300 keV y con especial preferencia con una dosis de radiacion de al menos 80, preferiblemente 80 a 3000 mJ/cm2.
Ademas de un endurecimiento por radiacion todavla pueden estar implicados mecanismos de endurecimiento adicionales, por ejemplo, endurecimiento termico, por humedad, qulmico y/u oxidativo; sin embargo, esto es menos preferido.
El agente de recubrimiento puede aplicarse una o varias veces segun los mas distintos procedimientos de pulverizacion como, por ejemplo, procedimientos de pulverizacion por presion de gas, sin aire, con mezcla de aire o electrostaticos usando instalaciones de pulverizacion de uno o dos componentes, pero tambien mediante pulverizado, emplaste, rasqueteado, con cepillo, calandrado, con rodillos, vertido, laminado, inyeccion en la parte trasera o coextrusion. A este respecto pueden realizarse procedimientos accionados por presion de gas con ayuda de aire o tambien gas inerte.
El espesor del recubrimiento se encuentra generalmente en un intervalo de aproximadamente 3 a 1000 g/m2 y preferiblemente 5 a 200, preferiblemente 10 a 100 g/m2.
El secado y el endurecimiento de los recubrimientos se realizan en general bajo condiciones de temperatura normal, es decir, sin calentamiento del recubrimiento. Sin embargo, las mezclas segun la invencion tambien pueden utilizarse para la preparacion de recubrimientos que se secan y endurecen despues de la aplicacion a elevada temperatura, por ejemplo, a 40 - 250 °C, preferiblemente 40 - 150 °C y especialmente a 40 a 100 °C. Esto esta limitado por la estabilidad termica del sustrato.
Especialmente en la utilizacion de al menos un disolvente, una ventaja especial de las masas de recubrimiento segun la invencion es que pueden secarse a una temperatura de 20 a 100 °C en el transcurso de no mas de 60, preferiblemente no mas de 30, con especial preferencia no mas de 15, de manera muy especialmente preferida no mas de 10 y especialmente no mas de 5 minutos. El criterio para el secado es a este respecto la obtencion de un recubrimiento libre de burbujas despues del endurecimiento.
Ademas, se da a conocer un procedimiento para recubrir sustratos en el que la masa de recubrimiento segun la invencion o las formulaciones que la contienen se aplican, dado el caso con resinas termicamente endurecibles, sobre sustrato, se secan y a continuacion se endurecen con radiacion electronica o irradiacion UV bajo atmosfera que contiene oxlgeno o preferiblemente bajo gas inerte, dado el caso a temperaturas hasta el nivel de la temperatura de secado.
El procedimiento para recubrir sustratos tambien puede realizarse de manera que despues de la aplicacion de la masa de recubrimiento segun la invencion o formulaciones de barniz se irradie inicialmente con radiacion electronica o irradiacion UV bajo oxlgeno o preferiblemente bajo gas inerte para lograr un precalentamiento, a continuacion se trata termicamente a temperaturas de hasta 160 °C, preferiblemente entre 60 y 160 °C, y a continuacion se endurece finalmente con radiacion electronica o irradiacion UV bajo oxlgeno o preferiblemente bajo gas inerte.
Dado el caso, si se aplican varias capas del agente de recubrimiento una encima de la otra, despues de cada proceso de recubrimiento puede realizarse un secado y/o endurecimiento por radiacion.
Como fuentes de radiacion para el endurecimiento por radiacion son adecuadas, por ejemplo, emisores de presion baja, emisores de presion media de mercurio con emisores de presion alta, as! como tubos fluorescentes, emisores pulsados, emisores de haluros metalicos, dispositivos de destellos electronicos, por lo que es posible un endurecimiento por radiacion sin fotoiniciador, o emisores de exclmeros. El endurecimiento por radiacion se realiza mediante la accion de radiacion rica en energla, es decir, se irradia radiacion UV o luz natural, preferiblemente luz en el intervalo de longitudes de onda de A=200 a 700 nm, con especial preferencia de A=200 a 500 nm, y de manera muy especialmente preferida A=250 a 400 nm, o mediante irradiacion con electrones ricos en energla (irradiacion electronica; 150 a 300 keV). Como fuentes de radiacion sirven, por ejemplo, lamparas de mercurio de alta presion,
laser, lamparas pulsadas (luz de destellos), lamparas halogenas o emisores de exclmeros. La dosis de radiacion normalmente suficiente para la reticulacion en el endurecimiento por UV se encuentra en el intervalo de 80 a 3000 mJ/cm2.
Evidentemente tambien pueden utilizarse varias fuentes de radiacion para el endurecimiento, por ejemplo, dos a 5 cuatro.
Estas tambien pueden irradiar en intervalos de longitud de onda respectivamente diferentes.
El secado y/o el tratamiento termico tambien pueden realizarse adicionalmente a o en lugar del tratamiento termico mediante radiacion NIR, en la que como radiacion NIR se designa aqul la radiacion electromagnetica en el intervalo de longitudes de onda de 760 nm a 2,5 pm, preferiblemente de 900 a 1500 nm.
10 La irradiacion tambien puede realizarse dado el caso con exclusion de oxlgeno, por ejemplo, bajo atmosfera de gas inerte. Como gases inertes son adecuados preferiblemente nitrogeno, gases nobles, dioxido de carbono o gases de combustion. Ademas, la irradiacion puede realizarse cubriendo la masa de recubrimiento con medios transparentes. Medios transparentes son, por ejemplo, laminas de plastico, vidrio o llquidos, por ejemplo, agua. Se prefiere especialmente una irradiacion en la forma que se describe en el documento DE-A1 199 57 900.
15 Si tambien estan contenidos reticulantes que provocan una reticulacion termica adicional, por ejemplo, isocianatos, por ejemplo, al mismo tiempo o tambien despues del endurecimiento por radiacion, la reticulacion termica puede realizarse mediante aumento de la temperatura hasta 150 °C, preferiblemente hasta 130 °C.
En esta etapa, los datos en ppm y en peso usados se refieren, a menos que se indique de otro modo, a porcentajes en peso y ppm.
20 Los siguientes ejemplos explicaran la invencion, pero no se limita a estos ejemplos.
Ejemplos
Ejemplo 1 (comparacion)
Se mezclaron 67 partes de un acrilato de uretano alifatico de alta funcionalidad (Laromer® UA 9050, al 80 % en acetato de n-butilo de BASF SE, se corresponde con el componente (A) segun la invencion) con 33 partes de 25 acrilato de 2-etilhexilo, as! como 0,2 partes de EFKA® 2010 (antiespumante, BASF SE), 0,3 partes de EFKA® 3299 (adyuvante de nivelacion, BASF SE, Ludwigshafen), 0,5 partes de Tinuvin® 292 (capturador de radicales de HALS, BASF SE), 0,7 partes de Tinuvin® 405 (absorbente de UV, BASF SE, Ludwigshafen), 1,3 partes de Irgacure® 754 (fotoiniciador, BASF SE), 0,3 partes de Lucirin® TPO (fotoiniciador, BASF SE) y se agito intensamente 30 minutos bajo proteccion de la luz para evitar la fotopolimerizacion. La viscosidad se ajusto a 50 mPas (sistema de 30 cono/placa, tasa de cizallamiento 40000 1/s, a 23 °C) con acetato de n-butilo adicional.
Este barniz 1 se aplico mediante pulverizacion neumatica sobre un sustrato de plastico (PC/PBT Xenoy® CL101, GE Plastics, 100 x 150 x 3 mm) recubierto con un barniz al agua (espesor de pellcula 13 pm, Coating(TM) Worwag Premium Basecoat (WB), empresa Karl Worwag Lack- und Farbenfabrik GmbH & Co. KG) (espesor de pellcula del barniz transparente 35 pm).
35 Despues de 5 minutos de ventilacion a temperatura ambiente, la pellcula de barniz se irradio con una lampara de presion media de mercurio 2KW (UVASPOT® 2000, empresa Dr. Honle AG) bajo atmosfera de dioxido de carbono (contenido de oxlgeno residual 1 % en volumen) a la distancia de 60 cm durante 80 segundos y se endurecio. Despues de 3 dlas de almacenamiento a 60 °C al 100 % de humedad relativa del aire, se realizaron los ensayos del barniz.
40 Para el ensayo de la flexibilidad, la placa recubierta se doblo con el reverso sin recubrir apoyado sobre un tubo de 9 cm de diametro. A este respecto se mostro una fuerte formation de fisuras en la pellcula de barniz.
Para ensayar la resistencia a productos qulmicos, el barnizado se expuso a 1 gota en cada caso de acido sulfurico al 1 %, solution al 1 % de sosa caustica y solution acuosa al 50 % de pancreatina (empresa Merck Art. 7130) durante 30 minutos cubierto con capsulas de vidrio contra la evaporation, a 55 °C, despues se lavo y se evaluo. La superficie 45 permanecio sin cambios visibles.
Se determino que la resistencia al rayado frotando con una tela abrasiva (Scotch Brite® 7448 Typ S Ultra Fine, 3M) bajo un martillo con 500 g de peso con superficie de contacto de 5 cm2 despues de 50 pases dobles mediante la diferencia relativa de brillo (angulo de medicion 20°, micro-TRI-gloss® p (BYK-Gardner GmbH) era el 65 % del brillo
residual relativo.
Ejemplos 2-10:
Serie de mezcla para elevar la flexibilidad
Se mezclo el uretano de acrilato alifatico (Laromer® UA 9050) con cantidades crecientes de acrilato de 2-etilhexilo 5 con adicion de un uretano de acrilato alifatico con cada vez dos grupos acrilato y cada vez dos isocianato (Laromer® LR 9000, BASF SE Ludwigshafen como componente (C) segun la invencion) para la evaluacion de los llmites de compatibilidad (datos en partes en peso):
- 2 (Comparativo) 3 (Comparativo) 4 5 6 7 8 9 10
- Laromer® UA 9050
- 69 67 63 59 52 50 42 41 33
- Laromer® LR 9000
- 0 0 3 3 13 13 18 18 26
- Acrilato de etilhexilo
- 31 33 33 38 35 38 39 41 41
- Aspecto
- claro turbio claro turbio claro turbio claro turbio claro
Se preve que mediante la mezcla de Laromer® LR 9000 como componente (C) pueda aumentarse la proporcion de 10 acrilato de 2-etilhexilo en la mezcla.
Ejemplo 11:
Correspondientemente al Ejemplo 1, 100 partes de la mezcla del Ejemplo 10 se mezclaron con 0,2 partes de EFKA ®2010 (BASF SE), 0,3 partes de EFKA® 3299, 0,5 partes de Tinuvin® 292 (BASF SE), 0,7 partes de Tinuvin® 405, 1,3 partes de Irgacure® 754 (BASF SE) y 0,3 partes de Lucirin® TPO (BASF SE) y se ensayaron 15 correspondientemente a las propiedades del barniz.
La resistencia a los productos qulmicos y la resistencia al rayado (brillo residual relativo 64 %) fueron comparables al Ejemplo 1; sin embargo, en el ensayo de flexibilidad no resulto formacion de fisuras.
Se preve que, mediante el aumento de la proporcion de acrilato de etilhexilo, se obtenga un barniz con una mayor flexibilidad, la compatibilidad con el acrilato de uretano alifatico (componente (A)) se garantiza mediante la adicion 20 del componente (C). De esta manera es posible formular un barniz claro que presenta todas las propiedades del barniz del Ejemplo comparativo 1 y adicionalmente presenta una elevada flexibilidad.
Claims (13)
- 5101520253035404550REIVINDICACIONES1. Masas de recubrimiento endurecibles por radiacion, que contienen(A) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de no mas de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cuatro,(B) al menos un (met)acrilato de alquilo monofuncional que como homopollmero presenta una temperatura de transicion vltrea de no mas de 0 °C,(C) al menos un (met)acrilato de uretano que presenta al menos un grupo isocianato libre y al menos un grupo (met)acrilato,(D) al menos un (met)acrilato multifuncional con un peso molecular de mas de 1000 g/mol y una funcionalidad de al menos cinco,(E) opcionalmente al menos un disolvente, seleccionado del grupo constituido por hidrocarburos, cetonas, esteres, esteres alqullicos de acidos alcanoicos, eteres y sus mezclas,(F) opcionalmente al menos una amina y/o alcohol,(G) opcionalmente al menos un fotoiniciador y(H) opcionalmente al menos un adyuvante de barniz,
- 2. Masa de recubrimiento segun la reivindicacion 1, caracterizada porque el componente (A) se selecciona del grupo constituido por tetraacrilato de ditrimetilolpropano, tetraacrilato de pentaeritritol y hexaacrilato de dipentaeritritol.
- 3. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada porque en el caso de los (met)acrilatos de alquilo (B) se trata de esteres de acido (met)acrllico de alcanoles que presentan 2 a 12 atomos de carbono.
- 4. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada porque el componente (B) se selecciona del grupo constituido por acrilato de etilo, acrilato de propilo, acrilato de iso-propilo, acrilato de n-butilo, acrilato de n-hexilo, acrilato de n-octilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de 3-propilheptilo, acrilato de n-decilo, acrilato de laurilo, metacrilato de n-pentilo, metacrilato de n-octilo, metacrilato de n-decilo y metacrilato de laurilo.
- 5. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada porque en el caso del componente (C) se trata del producto de reaccion de- al menos un di- o poliisocianato (ciclo)alifatico (C1)- con al menos un compuesto (C2) con al menos un grupo reactivo con isocianato y al menos un grupo (met)acrilato, as! como- opcionalmente con al menos un compuesto (C3) con al menos dos grupos reactivos con isocianato.
- 6. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizada porque en el caso del componente(C) de trata de un producto de reaccion de un diisocianato (ciclo)alifatico con un (met)acrilato de hidroxialquilo que se obtuvo bajo condiciones de reaccion bajo las cuales se forman tanto grupos uretano como tambien alofanato, de manera que los grupos (met)acrilato estan unidos al menos parcialmente mediante grupos alofanato.
- 7. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada porque el componente (D) se selecciona del grupo constituido por (met)acrilatos de poliester, epoxi(met)acrilatos y (met)acrilatos de uretano.
- 8. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizada porque en el caso del componente(D) de trata de un (met)acrilato de uretano con un contenido de 1 a 5 moles de grupos (met)acrilo por 1000 g de (met)acrilato de uretano.
- 9. Masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada porque el componente (E) se selecciona del grupo constituido por acetato de n-butilo, acetato de etilo, acetona y acetato de metilo
- 10. Procedimiento para la preparation de masas de recubrimiento segun una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque se disponen los componentes (A), (C) y (D) y se dosifica el componente (B) con agitation hasta que se obtiene una mezcla monofasica.
- 11. Procedimiento de preparacion de masas de recubrimiento segun una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado porque se disponen los componentes (A), (B) y (D) y se dosifica el componente (C) con agitacion hasta que se obtiene una mezcla bifasica, seguido de dosificacion de (B) adicional, as! como dado el caso disolvente (E).
- 12. Procedimiento de recubrimiento de sustratos, caracterizado porque la aplicacion de una masa de recubrimiento segun una de las reivindicaciones 1 a 9 se realiza sobre sustrato bajo un gas inerte, a continuation se seca y se endurece bajo condiciones inertes con radiacion UV.
- 13. Uso de masas de recubrimiento segun una de las reivindicaciones 1 a 9 para el recubrimiento de madera, chapa de madera, papel, cartulina, carton, textil, cuero, no tejido, superficies de plastico, vidrio, ceramica, materiales de construccion minerales, metales y metales recubiertos.
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| DE102010006755A1 (de) * | 2010-02-04 | 2011-08-04 | BASF Coatings AG, 48165 | Kratzfestbeschichtete Kunststoffsubstrate, insbesondere Gehäuse von elektronischen Geräten, mit hoher Transparenz, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
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