ES2603192T3 - Revestimiento antirreflexivo - Google Patents

Abstract

Una composición para la producción de un revestimiento antirreflexivo, caracterizada por que la composición abarca los siguientes componentes a) por lo menos un compuesto de silano hidrolizable; b) por lo menos un compuesto metálico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto también parcialmente hidrolizado y/o condensado; c) por lo menos un compuesto orgánico con por lo menos dos grupos de coordinación funcionales o unos compuestos precursores de éstos; y d) por lo menos un disolvente, pudiendo formar los componentes a), b) y c) por lo menos parcialmente un polímero de coordinación.

Description

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descripcion

Revestimiento antirreflexivo Sector del invento

El invento se refiere a un revestimiento antirreflexivo, en particular a un revestimiento antirreflexivo de una sola capa, as^ como a un procedimiento para la produccion de un tal revestimiento y a su utilizacion.

Estado de la tecnica

La deposicion ffsica desde la fase de vapor (PVD, acronimo del ingles "Physical vapour deposition") y la deposicion qmmica desde la fase de vapor (CVD, acronimo del ingles "chemical vapour deposition") son unos usuales procedimientos para la produccion de revestimientos antirreflexivos. No obstante, las instalaciones de vado que se requieren para estos procedimientos dan lugar a que la produccion de estos revestimientos sea muy cara, en particular para grandes superficies. Los metodos qmmicos en humedo, tales como el metodo de sol-gel, son en este contexto unos procedimientos baratos para la produccion de revestimientos antirreflexivos tambien para grandes superficies. Por regla general, unos revestimientos antirreflexivos de alto valor se consiguen mediante revestimientos de multiples capas. Esto es no solo costoso cronologicamente, sino tambien caro, en particular a causa del endurecimiento Termico, que es mas costoso. Se ha puesto de manifiesto que la industria requiere por lo tanto unos revestimientos de una sola capa para grandes superficies y grandes numeros de unidades, tal como por ejemplo para celdas solares. Tales revestimientos de una sola capa muestran una transmision en banda ancha del espectro solar, que es necesaria precisamente para celdas solares.

Segun los procedimientos usuales hasta ahora, tales capas antirreflexivas de una sola capa o de un solo estrato se producen a parTir de un SO2 poroso en el procedimiento de sol-gel.

La porosidad de los revestimientos, en particular por medio del aire encerrado, reduce en este caso el mdice de refraccion del revestimiento desde en teona 1,5 (del Si02 puro) a 1,1 - 1,45, en dependencia de la porosidad y del procedimiento de produccion de la matriz de SO2 (1, 2, 3, 4, 5). La porosidad tiene que ser controlada exactamente, con el fin de obtener unos revestimientos de alto valor. Una conocida clase de compuestos, que constituyen unas estructuras porosas, son los pohmeros de coordinacion, en particular los denominados armazones organometalicos (MOFS, acronimo del ingles "metal-organic frameworks") (6, 7, 8, 9, 10). Estos son unos compuestos, que se componen de unos centros organometalicos puenteados a traves de ligandos. Mediante la eleccion apropiada de los ligandos y de los centros organometalicos, es posible en estos compuestos ajustar la porosidad de la estructura obtenida. En este caso, tambien el disolvente 0 la mezcla de disolventes que se utiliza pueden desempenar un cierto cometido. Estos compuestos se emplean sobre todo en el sector de la catalisis, puesto que los centros metalicos contenidos tienen frecuentemente tambien un efecto catalttico. Por lo tanto, por regla general los compuestos no son tampoco tratados termicamente, puesto que entonces se perdenan estas capacidades. No se conocen revestimientos antirreflexivos con MOFs.

El documento de patente china CN 10206112a divulga una composicion para revestimientos opticos, que comprende un sol y un polfmero de coordinacion.

Por lo tanto, la mision del invento es poner a disposicion un revestimiento antirreflexivo, que permita un mejor control de la porosidad del revestimiento.

El problema planteado por esta mision se resuelve mediante los inventos con las caractensticas de las reivindicaciones independientes. Unos perfeccionamientos ventajosos de los inventos son caracterizados en las reivindicaciones subordinadas. Los terminos de todas las reivindicaciones son convertidos expresamente mediante su referenda en el contenido de esta descripcion. Los inventos comprenden tambien todas las combinaciones convenientes y en particular todas las combinaciones mencionadas de las reivindicaciones independientes y/o dependientes.

El problema planteado por esta mision se resuelve mediante una composicion de revestimiento, que comprende por lo menos un compuesto de silano hidrolizable, por lo menos un compuesto metalico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto tambien parcialmente hidrolizado y/o condensado, por lo menos un compuesto organico con por lo menos dos grupos de coordinacion funcionales 0 unos compuestos precursores de estos y por lo menos un disolvente, formando el por lo menos un compuesto de silano hidrolizable, el por lo menos un compuesto metalico hidrolizable y el por lo menos un compuesto organico por lo menos parcialmente un polfmero de coordinacion.

El concepto de "por lo menos un compuesto organico con por lo menos dos grupos de coordinacion funcionales" designa a un compuesto organico, que contiene por lo menos dos grupos funcionales, que esta en la situacion de constituir enlaces de coordinacion con un ion metalico preestablecido. Se prefieren en este caso unos grupos organicos, que pueden constituir dos 0 mas enlaces funcionales. Se prefieren en este caso unos compuestos organicos, que a traves de los grupos funcionales pueden formar enlaces de coordinacion con dos 0 mas, de manera preferida con dos atomos de metales. Tales compuestos preferidos son especialmente apropiados para la constitucion de unos pohmeros de coordinacion.

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Sin estar vinculado a una teona determinada, se supone que en la composicion se forman unos poUmeros de coordinacion, en particular unos MOFs. Para esto sirven en particular el compuesto metalico hidrolizable y el compuesto organico. No obstante, tambien el compuesto de silano participara en la formacion del MOF. En conjunto, la constitucion de un tal poKmero de coordinacion tiene la ventaja de que en la composicion se forma un armazon definido, que conduce a una definida formacion de poros.

Los enlaces de coordinacion no deben de estar estructurados en este caso para formar un compuesto individual. Tambien es posible que el compuesto organico una a unos condensados del compuesto metalico y/o del compuesto de silano. Naturalmente, tambien es posible que una parte de los compuestos, que no participan en el mOf, se deposite dentro de los poros.

La estructura definida dentro de la composicion es tambien de gran importancia para el revestimiento antirreflexivo producido. Para la produccion del revestimiento antirreflexivo, la composicion aplicada se trata termicamente. En este caso, se elimina el disolvente y los componentes organicos, es decir tambien los compuestos organicos, se consumen totalmente por combustion por regla general. No obstante, la estructura que se ha formado en la composicion tiene una influencia sobre la estructura de la posterior capa antirreflexiva, en particular sobre su estructura porosa, que es importante para el mdice de refraccion obtenido. De esta manera, mediante una estructura definida en la composicion, es posible influir sobre la estructura del posterior revestimiento antirreflexivo.

La composicion contiene por lo menos un compuesto de silano hidrolizable. Este es de manera preferida un compuesto de la formula

imagen1

representando X uno o mas radicales hidrolizables, que pueden ser iguales o diferentes.

Unos apropiados ejemplos de radicales hidrolizables X de las formulas antes mencionadas son hidrogeno, un halogeno (F, Cl, Br o I, en particular Cl o Br), un alcoxi (p.ej. un alcoxi de Ci-6, tal como p.ej. metoxi, etoxi, n-propoxi, i-propoxi y n-, i-, sec.- o terc.-butoxi), un ariloxi (de manera preferida un ariloxi de C6-io, tal como p.ej. fenoxi), un alcariloxi, p.ej. benzoMoxi, aciloxi, (p.ej. un aciloxi de Ci-6, de manera preferida un aciloxi de C1-4, tal como p.ej. acetoxi o propioniloxi) y un alquil-carbonilo (p.ej. un (alquil de C2-7)-carbonilo, tal como acetilo). Asimismo, son apropiados NH2, un amino mono- 0 disustituido con alquilo, arilo y/o aralquilo, siendo unos ejemplos de los radicales alquilo, arilo y/o aralquilo los que se indican seguidamente para R1, amido, tal como benzamido 0 grupos de aldoxima 0 cetoxima. Dos 0 tres grupos X pueden estar unidos tambien unos con otros, p.ej. en el caso de unos compuestos complejos de Si y polioles con glicol, glicerol 0 pirocatecol. Los grupos mencionados pueden contener eventualmente ciertos sustituyentes, tales como halogeno, hidroxi, alcoxi, amino 0 epoxi. Unos preferidos radicales X separables hidroltticamente son halogeno, unos grupos alcoxi y unos grupos aciloxi. Unos radicales separables hidrolfticamente, especialmente preferidos son unos grupos alcoxi de C1-4, en particular metoxi y etoxi.

En este caso, ”a” puede adoptar el valor 0, 1 0 2, se prefieren unos silanos con “a” igual a 0 o 1, de manera especialmente preferida “a” es igual a 0. Estos son unos silanos con cuatro radicales hidrolizables, que de manera preferida son todos identicos.

R1 representa uno 0 mas radicales no hidrolizables. Estos son p.ej. un alquilo (un alquilo de C1-20, en particular un alquilo de C1-4, tal como metilo, etilo, n-propilo, i-propilo, n-butilo, i-butilo, sec.-butilo y terc.-butilo), un alquenilo (p.ej. un alquenilo de C2-20, en particular un alquenilo de C2-4, tal como vinilo, 1-propenilo, 2-propenilo y butenilo), un alquinilo (p.ej. un alquinilo de C2-20, en particular un alquinilo de C2-4, tal como etinilo 0 propargilo), un arilo (en particular un arilo de C6-10, tal como fenilo y naftilo) y unos correspondientes grupos aralquilo y alcarilo, tales como tolilo y bencilo, y unos grupos alquilo y alquenilo de C3-12 dclicos tales como ciclopropilo, ciclopentenilo y ciclohexilo.

Los radicales R1 pueden tener unos sustituyentes usuales, en cuyos casos se puede tratar de unos grupos funcionales, a traves de los cuales, segun sea necesario, tambien es posible realizar una reticulacion. Unos sustituyentes usuales son p.ej. un halogeno (p.ej. cloro 0 fluor), un epoxido (p.ej. glicidilo 0 glicidiloxi), hidroxi, un eter, un ester, un amino, un monoalquil-amino, un dialquil-amino, eventualmente un anilino sustituido, un amido, carboxi, un alquenilo, un alquinilo, acrilo, acriloxi, metacrilo, metacriloxi, mercapto, ciano, un alcoxi, un isocianato, un aldehndo, un ceto, un alquil-carbonilo, un anhndrido de acido y un acido fosforico. Estos sustituyentes estan unidos al atomo de silicio a traves de unos grupos de puenteo divalentes, en particular, unos grupos de puenteo alquileno, alquenileno 0 arileno, que pueden estar interrumpidos por atomos de ox^geno 0 grupos NH. Los grupos de puenteo contienen p.ej. de 1 a 18, de manera preferida de 1 a 8 y en particular de 1 a 6 atomos de carbono. Los mencionados grupos de puenteo divalentes se derivan p.ej. de los radicales alquilo, alquenilo 0 arilo monovalentes mas arriba mencionados. Naturalmente, el radical R1 puede tener tambien mas de un grupo funcional.

Ejemplos preferidos de unos radicales R1 no hidrolizables con grupos funcionales, a traves de los cuales es posible realizar una reticulacion, son un radical glicidilo 0 glicidiloxi-alquileno de (C1-20), tal como p-glicidiloxietilo, Y-glicidiloxi-propilo, 6-glicidiloxi-butilo, £-glicidiloxi-pentilo, w-glicidiloxi-hexilo, y 2-(3,4-epoxi-ciclohexil)etilo, un radical (met)acriloxi-alquileno de (Ci-6), p.ej. (met)acriloximetilo, (met)acriloxietilo, (met)acriloxipropilo 0 (met)acriloxibutilo, y

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un radical 3-isocianato-propilo. Unos radicales especialmente preferidos son Y-glicidiloxipropilo y (met)acriloxipropilo. En este caso, (met)acrilo representa acrilo y metacrilo.

Unos preferidos radicales R1, que se emplean, son unos radicales sin sustituyentes o unos grupos funcionales, en particular unos grupos alquilo, de manera preferida con 1 hasta 4 atomos de carbono, en particular metilo y etilo, as^ como unos radicales arilo, tales como fenilo.

EJemplos de compuestos de silano de la formula (I) son metil-trimetoxi-silano, metil-trietoxi-silano, etil-trietoxi-silano, isobutil-trimetoxi-silano, isobutil-trietoxi-silano, octil-trietoxi-silano, octil-trimetoxi-silano, (3-glicidiloxi-propil)-metil- dietoxi-silano, (3-glicidiloxi-propil)-trimetoxi-silano, fenil-trimetoxi-silano o fenil-trietoxi-silano, unos tetraalcoxi-silanos tales como tetrametoxi-silano (Si(OCH3)4, tetraetoxi-silano (Si(OC2Hs)4), tetrapropoxi-silano Si(0-n- o i-C3H7)4, Si(OC4Hg)4, as^ como SiCl4, HSiCh, Si(OOCCH3)4 o unas mezclas de tales compuestos de silano, siendo preferidos unos tetraalcoxi-silanos tales como tetrametoxi-silano (Si(OCH3)4), tetraetoxi-silano (Si(OC2Hs)4), tetrapropoxi-silano Si(0-n- o i-C3H7)4, Si(OC4Hg)4, asf como SiCl4, HSiCl3 (SiOOCCH3)4 o unas mezclas de estos. Se prefieren especialmente unos tetraalcoxi-silanos tales como tetrametoxi-silano o tetraetoxi-silano o sus mezclas.

La composicion contiene, ademas de ello, un compuesto metalico hidrolizable.

El compuesto metalico es un compuesto metalico hidrolizable, es decir que contiene por lo menos un grupo, que puede ser intercambiado por reaccion con agua, a saber que es separable por hidrolisis.

Tales compuestos son, por ejemplo, unos halogenuros, tales como unos fluoruros, cloruros, bromuros o yoduros, unos alcoxidos, unos compuestos de acidos carbox^Iicos, unos cianuros o unos sulfuros.

En un perfeccionamiento del invento, el compuesto es un compuesto de la formula (II):

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escogiendose M entre los grupos la, lla, Ilia, IVa hasta Via y lb hasta Vlllb. Se prefieren especialmente Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ro, Os, Co, Rh, ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, B, Al, Ga, in, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb y Bi. Son especialmente preferidos Zn, Al, Mg, Ca, Ti, Zr, Cu, Ni, Fe, Pd, Pt, Ru, Rh y Co. Se prefieren en particular Zn, Al, Ti, Zr, Ni, Cu, Mg, Ca, Fe. En lo que respecta a los iones de estos elementos se han de mencionar en particular Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Sc3+, Y3+, Ti4+, Zr4+, Hf4+, V4+, V3+, V2+, Nb3++ Ta3+, Cr3+, Mo3+, W3+, Mn3+, Mn2+, Re3+, Re2+, Fe, Fe2+, Ru3+, Ru2+, Os3+, Os2+, Co3+, Co2+, Rh2+, Rh+, lr2+, lr+, Ni2+, Ni+, Pd2+,

Sn4+, Sn2+, Pb4+, Pb2+,

Pd+, Pt2+, Pt+, Cu2+, Cu+,Ag+, Au+,Zn2+, Cd2+, Hg2+, Al3+, Ga

As5+, As3+, As+.

ln3+, Tl3+, Si4+,

Si2+, Ge4+, Ge2+,

Sb , Sb , Sb , Bi , Bi y Bi . En este caso n corresponde a la Valencia del metal.

Asimismo son empleables p.ej. unos compuestos hidrolizables de elementos de los grupos principales l y ll del sistema periodico (p.ej. Na, K, Ca y Mg) y de los grupos secundarios V hasta Vlll del sistema periodico (p.ej. Mn, Cr, Fe y Ni). Tambien se pueden utilizar unos compuestos hidrolizables de los lantanoides tales como Ce. Se prefieren unos compuestos metalicos, siendo M igual a Al, B, Sn, Fe, Ti, Zr, V o Zn, de manera preferida Al, Fe, Ti o Zr, siendo especialmente preferido Ti. Tambien se pueden emplear unas mezclas de varios compuestos metalicos.

X es un radical hidrolizable, que esta definido de manera preferida tal como en la formula (l), pudiendo ser reemplazados dos grupos X por un grupo oxo.

Unos compuestos metalicos preferidos son p.ej. los alcoxidos o halogenuros de B, Al, Zr y en particular Ti. Unos apropiados compuestos metalicos hidrolizables son p.ej. Al (OCH3)3, Al (OC2Hs)3, Al (0-n-C3H7)3, Al (0-i-C3Hs)3, Al (0-n-C4Hg)3, Al (0-sec.-C4H9)3) AICI3, AlCl (OH)2, Al (OC2H4OC4H9H TiCl4, Ti(OC2Hg)4, Ti(0-n-C3H7)4,

Ti(0-i-C3H7)4, Ti (OC4H9K Ti(2-etiIhexoxi)4, ZrCl4, Zr(OC2Hg)4, Zr(0-n-C3H7)4, Zr(0-i-C3H7)4, Zr(OC4H9)4, ZrOCl2, Zr(2-etiIhexoxi)4, asf como unos compuestos de Zr 0 Ti, que tienen unos radicales que forman complejos, tales como p.ej. una p-dicetona y unos radicales de (met)acrilo, acido borico, BCI3, B(OCH3)3, B(OC2Hs)3, SnCu, Sn(OCH3)4, Sn(oC2H5)4, VOCI3 y VO(OCH3)3. Los compuestos metalicos pueden presentarse tambien parcial 0 totalmente hidrolizados, p.ej. el TiOCl2. Esto se puede conseguir mediante el recurso de que estos compuestos, antes de ser anadidos a la composicion, se hacen reaccionar con agua de manera preferida con un exceso de agua, p.ej. en un exceso de 2 a 10 veces, referido a los grupos hidrolizables del compuesto, es decir de 2 a 10 moles de agua por cada mol del grupo hidrolizable. La hidrolisis se puede efectuar sin embargo tambien con unas cantidades estequiometricas 0 subestequiometricas de agua.

Como grupos funcionales del por lo menos un compuesto organico, a traves de los cuales se pueden constituir los mencionados enlaces de coordinacion, se han de mencionar en particular, por ejemplo, los siguientes grupos funcionales: -CO2H, -NH2, -OH, -SH, -CS2H, -NO2, -B(OH)2, -SO3H, -Ge(OH)3, -Sn(OH)3, -Si(SH)4, -Ge(SH)4, -Sn(SH)3, -PO3H, -ASO3H, -ASO4H, -P(SH)3, -As(SH)3, -CH(RSH)2, -C(RSH)3, -CH(RNH2)2, -C(RNH2)3, -CH(ROH)2, -C(ROH)3, -CH(RCN)2, -C(RCN)3, siendo R por ejemplo de manera preferida un grupo alquileno con 1, 2, 3, 4 0 5 atomos de carbono, tal como, por ejemplo, metileno, etileno, n-propileno, i-propileno, n-butileno, i-butileno, terc.-butileno 0 n-pentileno, 0 un grupo arilo, que contiene 1 0 2 nucleos aromaticos tales como, por ejemplo, 2 anillos de C6, que eventualmente pueden estar condensados, y que, independientemente uno de otro, pueden estar

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sustituidos de manera apropiada con por Io menos en cada caso un sustituyente, y/o que, independientemente uno de otro, pueden contener en cada caso por Io menos un heteroatomo tal como, por ejemplo, N, O y/o S. De acuerdo con unas formas de realizacion asimismo preferidas, se han de mencionar unos grupos funcionales, en Ios cuales no esta presente el radical R mas arriba mencionado. En este contexto se han de mencionar, entre otros, Ios grupos -ch(sh)2, -C(SH)3, -CH(NH2)2, -C(NH2)3, - CH(OH)2, -C(OH)3, -CH(CN)2 o -C(CN)3.

Unos grupos preferidos son un grupo amino, unos grupos de acidos carboxflicos, unos grupos hidroxilo y unos tioles o unos grupos precursores de tales grupos, prefiriendose Ios acidos carboxflicos.

Unos grupos precursores para grupos de acidos carboxflicos son, por ejemplo, unos grupos de antudridos, esteres o amidas. El compuesto puede contener tambien varios diferentes de tales grupos y/o grupos precursores.

Los por Io menos dos grupos funcionales pueden estar unidos fundamentalmente a cualquier compuesto organico apropiado, siempre y cuando que se garantice que el compuesto organico que contiene estos grupos funcionales este capacitado para la formacion del enlace de coordinacion y para la produccion del material de armazon, es decir para el enlace de coordinacion con por Io menos uno de Ios compuestos metalicos y/o por Io menos un compuesto de silano.

De manera preferida, Ios compuestos organicos, que contienen Ios por Io menos dos grupos funcionales, se derivan de un compuesto alifatico saturado o insaturado, o de un compuesto aromatico o de un compuesto tanto alifatico como tambien aromatico.

El compuesto alifatico o la parte alifatica del compuesto tanto alifatico como tambien aromatico puede ser lineal y/o ramificado/a y/o dclico/a, siendo posibles tambien varios anillos por cada compuesto. De manera mas preferida, el compuesto alifatico o la parte alifatica del compuesto tanto alifatico como tambien aromatico, contiene de 1 a 15, de manera mas preferida de 1 a 14, de manera mas preferida de 1 a 13, de manera mas preferida de 1 a 12, de manera mas preferida de 1 a 11 y de manera particularmente preferida de 1 a 10 atomos de C, tal como, por ejemplo, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 o 10 atomos de C. Se prefieren particularmente en este caso, entre otros, metano, adamantano, acetileno, etileno o butadieno.

El compuesto aromatico o la parte aromatica del compuesto tanto aromatico como tambien alifatico puede contener uno o tambien varios nucleos, tales como, por ejemplo, dos, tres, cuatro o cinco nucleos, pudiendo presentarse Ios nucleos por separado unos de otros y/o por Io menos dos nucleos en una forma condensada. De manera especialmente preferida, el compuesto aromatico o la parte aromatica del compuesto tanto aromatico como tambien alifatico tiene uno, dos o tres nucleos, prefiriendose especialmente uno o dos nucleo(s). Independientemente unos de otros, cada nucleo del mencionado compuesto puede contener ademas por Io menos un heteroatomo tal como, por ejemplo, N, O, S, B, P, Si, Al, de manera preferida N, O y/o S. De manera mas preferida, el compuesto aromatico o la parte aromatica del compuesto aromatico como tambien alifatico contiene uno o dos nucleos de C6, pudiendo presentarse Ios dos tanto separados uno de otro o en una forma condensada. En particular, como compuestos aromaticos se han de mencionar benceno, naftaleno y/o bifenilo y/o bipiridilo y/o piridilo.

Por ejemplo, se han de mencionar, entre otros, acido trans-muconico o acido fumarico o acido fenilen-bis-acnlico.

Por ejemplo, dentro del marco del presente invento se han de mencionar unos acidos dicarboxflicos, tales como, por ejemplo, acido oxalico, acido sucdnico, acido tartarico, acido 1,4-butano-dicarbox^lico, acido 4-oxo-pirano-2,6- dicarboxflico, acido 1,6-hexano-dicarbox^lico, acido decano-dicarbox^lico, acido 1,8-heptadecano-dicarboxflico, acido 1,9-heptadecano-dicarbox^lico, acido heptadecano-dicarboxflico, acido acetilen-dicarbox^lico, acido 1,2-benceno- dicarboxflico, acido 2,3-piridina-dicarbox^lico, acido piridina-2,3-dicarbox^lico, acido 1,3-butadieno-1,4-dicarboxflico, acido 1,4-benceno-dicarbox^lico, acido p-benceno-dicarboxflico, acido imidazol-2,4-dicarbox^lico, acido 2-metil- quinolina-3,4-dicarboxflico, acido quinolina-2,4-dicarbox^lico, acido quinoxalina-2,3-dicarbox^lico, acido 6-cloro- quinoxalina-2,3-dicarbox^lico, acido 4,4'-diamino-fenilmetano-3,3'-dicarbox^lico, acido quinolina-3,4-dicarboxflico, acido 7-cloro-4-hidroxiquinolina-2,8-dicarbox^lico, acido diimida-dicarboxflico, acido piridina-2,6-dicarbox^lico, acido 2- metil-imidazol-4,5-dicarboxflico, acido tiofeno-3,4-dicarbox^lico, acido 2-isopropil-imidazol-4,5-dicarbox^lico, acido tetrahidropirano-4,4-dicarboxflico, acido perileno-3,9-dicarbox^lico, acido perileno-dicarboxflico, acido Pluriol E 200- dicarboxflico, acido 3,6-dioxa-octano-dicarbox^lico, acido 3,5-ciclohexadieno-1,2-dicarbox^lico, acido octadicarboxfiico, acido pentano-3,3-carbox^lico, acido 4,4'-diamino-1,1'-difenil-3,3'-dicarboxflico, acido 4,4'-diamino- difenil-3,3'-dicarbox^lico, acido bencidina-3,3'-dicarboxflico, acido 1,4-bis-(fenilamino)-benceno-2,5-dicarbox^lico, acido 1,1 '-dinaftil-dicarbox^lico, acido 7-cloro-8-metil-quinolina-2,3-dicarboxflico, acido 1-anilino-antraquinona-2,4'- dicarboxflico, acido poli-tetrahidrofurano-250-dicarboxflico, acido 1,4-bis-(carboximetil)-piperazina-2,3-dicarbox^lico, acido 7-cloro-quinolina-3,8-dicarboxflico, acido 1-(4-carboxi)-fenil-3-(4-cloro)-fenilpirazolina-4,5-dicarbox^lico, acido 1,4,5,6,7,7,-hexacloro-5-norborneno-2,3-dicarboxflico, acido fenilindano-dicarbox^lico, acido 1,3-dibencil-2-oxo- imidazolidina-4,5-dicarboxflico, acido 1,4-ciclohexano-dicarbox^lico, acido na1taleno-1,8-dicarbox^lico, acido 2- benzo^l-benceno-1,3-dicarbox^lico, acido 1,3-dibencil-2-oxo-imidazolidina-4,5-cis-dicarbox^lico, acido 2,2'-biquinolina- 4,4'-dicarbox^lico, acido piridina-3,4-dicarbox^lico, acido 3,6,9-trioxaundecano-dicarboxflico, acido hidroxibenzofenona-dicarbox^lico, acido Pluriol E 300-dicarbox^lico, acido Pluriol E 400-dicarbox^lico, acido Pluriol E 600-dicarboxflico, acido pirazol-3,4-dicarbox^lico, acido 2,3-pirazina-dicarbox^lico, acido 5,6-dimetil-2,3-pirazina- dicarbox^lico, acido 4,4'-diamino-difenileter-diimida-dicarbox^lico, acido 4,4'-diamino-difenil-metano-diimida-

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dicarbox^lico, acido 4,4'-diamino-difenilsulfona-diimida-dicarbox^lico, acido 2,6-naftaleno-dicarbox^lico, acido 1,3- adamantano-dicarbox^lico, acido 1,8-naftaleno-dicarbox^lico, acido 2,3-naftaleno-dicarboxflico, acido 8-metoxi-2,3- na1:taleno-dicarbox^lico, acido 8-nitro-2,3-naftaleno-carboxflico, acido 8-sulfo-2,3-naftaleno-dicarbox^lico, acido antraceno-2,3-dicarbox^lico, acido 2',3'-difenil-p-terfenil-4,4"-dicarboxflico, acido difenileter-4,4'-dicarbox^lico, acido imidazol-4,5-dicarboxflico, acido 4-(1H)-oxotiocromeno-2,8-dicarbox^lico, acido 5-terc.-butil-1,3-benceno- dicarboxflico, acido 7,8-quinolina-dicarbox^lico, acido 4,5-imidazol-dicarbox^lico, acido 4-ciclohexeno-1,2- dicarbox^lico, acido hexatriacontano-dicarbox^lico, acido tetradecano-dicarboxflico, acido 1,7-heptadicarbox^lico, acido 5-hidroxi-1,3-benceno-dicarboxflico, acido pirazina-2,3-dicarbox^lico, acido furano-2,5-dicarbox^lico, acido 1- noneno-6,9-dicarbox^lico, acido eicoseno-dicarbox^lico, acido 4,4'-dihidroxidifenilmetano-3,3'-dicarboxflico, acido 1- amino-4-metil-9,10-dioxo-9,10-dihidroantraceno-2,3-dicarbox^lico, acido 2,5-piridina-dicarboxflico, acido ciclohexeno- 2,3-dicarbox^lico, acido 2,9-diclorofluorrubina-4,11-dicarboxflico, acido 7-cloro-3-metil-quinolina-6,8-dicarbox^lico, acido 2,4-dicloro-benzofenona-2',5'-dicarboxflico, acido 1,3-benceno-dicarbox^lico, acido 2,6-piridina-dicarbox^lico, acido 1-metil-pirrol-3,4-dicarboxflico, acido 1-bencil-1H-pirrol-3,4-dicarbox^lico, acido antraquinona-1,5-dicarboxflico, acido 3,5-pirazol-dicarbox^lico, acido 2-nitro-benceno-1,4-dicarbox^lico, acido heptano-1,7-dicarboxflico, acido ciclobutano-1,1-dicarbox^lico, acido 1,14-tetradecano-dicarboxflico, acido 5,6-deshidronorbornano-2,3-dicarbox^lico, o acido 5-etil-2,3-piridina-dicarboxflico, acidos tricarbox^licos tales como, por ejemplo, acido 2-hidroxi-1,2,3-propano- tricarbox^lico, acido 7-cloro-2,3,8-quinolina-tricarboxflico, acido 1,2,4-benceno-tricarbox^lico, acido 1,2,4-butano- tricarbox^lico, acido 2-fosfono-1,2,4-butano-tricarbox^lico, acido 1,3,5-benceno-tricarboxflico, acido 1-hidroxi-1,2,3- propano-tricarbox^lico, acido 4,5-dihidro-4,5-dioxo-1H-pirrolo[2,3-F]quinolina-2,7,9-tricarboxfNco, acido 5-acetil-3- amino-6-metil-benceno-1,2,4-tricarbox^lico, acido 3-amino-5-benzon-6-metil-benceno-1,2,4-tricarboxflico, acido 1,2,3- propano-tricarbox^lico o acido aurina-tricarboxflico o unos acidos tetracarboxflicos tales como, por ejemplo, 1,1- di6xido-perilo[1,12-BCD]tiofeno-3,4,9,10-tetracarbox^lico, unos acidos perileno-tetracarbox^licos tales como acido perileno-3,4,9,10-tetracarboxflico o acido perileno-1,12-sulfona-3,4,9,10-tetracarboxflico, unos acidos butano- tetracarboxflicos tales como por, ejemplo, acido 1,2,3,4-butano-tetracarboxflico o acido meso-1,2,3,4-butano- tetracarboxflico, acido decano-2,4,6,8-tetracarbox^lico, acido 1,4,7,10,13,16-hexaoxaciclooctadecano-2,3,11,12- tetracarboxflico, acido 1,2,4,5-benceno-tetracarbox^lico, acido 1,2,11,12-dodecano-tetracarbox^lico, acido 1,2,5,6- hexano-tetracarbox^lico, acido 1,2,7,8-octano-tetracarbox^lico, acido 1,4,5,8-naftaleno-tetracarboxflico, acido 1,2,9,10-decano-tetracarbox^lico, acido benzofenona-tetracarboxflico, acido 3,3',4,4'-benzofenona-tetracarbox^lico, acido tetrahidrofurano-tetracarbox^lico o unos acidos ciclopentano-tetracarbox^licos tales como acido ciclopentano- 1,2,3,4-tetracarbox^lico.

Se prefieren muy especialmente unos acidos di-, tri- o tetracarbox^licos aromaticos, mono-, di-, tri-, tetra- o plurinuclearares, sustituidos eventualmente por lo menos una vez, pudiendo contener cada uno uno de los nucleos por lo menos un heteroatomo, pudiendo contener dos o mas nucleos unos heteroatomos iguales o diferentes. Por ejemplo, se prefieren unos acidos dicarboxflicos mononucleares, unos acidos tricarboxflicos mononucleares, unos acidos tetracarboxflicos mononucleares, unos acidos dicarboxflicos dinucleares, unos acidos tricarbox^licos dinucleares, unos acidos tetracarbox^licos dinucleares, unos acidos dicarboxflicos trinucleares, unos acidos tricarboxflicos trinucleares, unos acidos tetracarboxflicos trinucleares, unos acidos dicarbox^licos tetranucleares, unos acidos tricarbox^licos tetranucleares y/o unos acidos tetracarbox^licos tetranucleares. Unos heteroatomos apropiados son, por ejemplo, N, O, S, B, P, Si, Al, unos heteroatomos preferidos son en este caso N, S y/u O. Como un sustituyente apropiado se han de mencionar a este respecto, entre otros, -OH, un grupo nitro, un grupo amino o un grupo alquilo o alcoxi.

De manera particularmente preferida, como unos compuestos organicos por lo menos bidentados se emplean el acido acetileno-dicarboxflico (ADC), unos acidos benceno-dicarboxflicos, unos acidos naftaleno-dicarbox^licos, unos acidos bifenil-dicarboxflicos tales como, por ejemplo el acido 4,4'-bifenil-dicarboxflico (BPDC), unos acidos bipiridina- dicarbox^licos tales como por ejemplo unos acidos 2,2'-bipiridina-dicarboxflicos tales como por ejemplo el acido 2,2'- bipiridina-5,5'-dicarboxflico, unos acidos benceno-tricarboxflicos tales como por ejemplo el acido 1,2,3-benceno- tricarbox^lico o el acido 1,3,5-benceno-tricarbox^lico (BTC), el acido 1,3,5,7-adamantano-tetracarboxflico (ATC), adamantano-dibenzoato (ADB) benceno-tribenzoato (BTB), metano-tetrabenzoato (MTB), adamantano- tetrabenzoato, acido 1,2,4,5-benceno-tetracarbox^lico o unos acidos dihidroxitereftalicos tales como por ejemplo el acido 2,5-dihidroxi-tereftalico (DHBDC), el acido 1,2,4,5-benceno-tetracarbox^lico (= acido piromelttico), acido 3,3'- 4,4'-bifenil-tetracarbox^lico, el acido 3,3'-4,4'-benzofenona-tetracarboxflico (= acido 3,3'-4,4'-benzofl-benceno- tetracarbox^lico), el acido 3,3'-4,4'-isopropilideno-diftalico, el acido 3,3'-4,4'-oxi-diftalico y el acido (hexafluoroisopropilideno)diftalico.

De manera muy especialmente preferida, se emplean, entre otros, acido isoftalico, acido tereftalico, acido 2,5- dihidroxi-tereftalico, acido 1,2,3-benceno-tricarboxflico, acido 1,3,5-benceno-tricarboxflico, acido 1,2,4,5-benceno- tetracarbox^lico o acido 2,2'-bipiridina-5,5'-dicarbox^lico.

Junto a los compuestos precedentemente mencionados se pueden emplear tambien ciertos compuestos precursores o ciertas variantes de estos acidos, tales como p.ej. sus anhudridos, esteres o amidas. En el caso de que se empleen unos disolventes con grupos hidroxilo, tales como p.ej. unos alcoholes inferiores tales como metanol, etanol, isopropanol o terc.-butanol, en la composicion se pueden formar tambien los correspondientes esteres. En el caso del empleo de unos anhfdridos, a traves de la adicion de agua se puede ajustar el numero de los grupos de acidos libres. Los anhfdridos se prefieren en particular cuando los grupos de acidos carboxfiicos que estan presentes en el

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compuesto organico pueden formar un anhndrido dclico dentro del compuesto. Para Ios compuestos especialmente preferidos, un tal correspondiente anhndrido es el dianhndrido 1,2:4,5 1,2,4,5-benceno-tetracarbox^lico.

Junto a estos compuestos organicos que son por Io menos bidentados, el MOF puede comprender tambien uno o varios ligandos monodentados.

Unos disolventes apropiados para la preparacion de Ios MOFs son, entre otros, agua, unos alcoholes, de manera preferida unos alcoholes alifaticos inferiores (alcoholes de Ci-C8), tales como metanol, etanol, 1-propanol, isopropanol y 1-butanol, unas cetonas, de manera preferida unas dialquil-cetonas inferiores, tales como acetona y metil-isobutil-cetona, unos eteres, de manera preferida unos dialquil-eteres inferiores, tales como el dietil-eter, o unos monoeteres de dioles, tales como el etilenglicol o propilenglicol, con unos alcoholes de Ci-C6, unas amidas, tales como dimetil-formamida, tetrahidrofurano, dioxano, sulfoxidos tales como dimetil-sulfoxido, sulfonas, acetonitrilo o butil-glicol y sus mezclas. De manera preferida se utilizan agua y ciertos alcoholes. Tambien se pueden emplear unos disolventes de alto punto de ebullicion, p.ej. unos polieteres tales como tri(etilenglicol), di(etilenglicol)-dietil-eter y tetra(etilenglicol)-dimetil-eter. En ciertos casos encuentran utilizacion tambien otros disolventes, p.ej. unas parafinas ligeras (eter de petroleo, alcanos y cicloalcanos), tambien unos compuestos aromaticos, tolueno, unos compuestos heteroaromaticos y unos hidrocarburos halogenados, tales como clorobenceno. Tambien se pueden utilizar esteres de acidos dicarbox^licos tales como el ester dimetilico de acido succmico, el ester dimetflico de acido ad^pico, el ester dimetflico de acido glutarico y sus mezclas, asf como unos esteres de acidos carboxflicos dclicos, tales como carbonato de propileno y carbonato de glicerol.

Unos disolventes preferidos son ciertos alcoholes y eteres, de manera especialmente preferida unos alcoholes alifaticos inferiores tales como metanol, etanol, 1-propanol, isopropanol y 1-butanol, asf como etilenglicol o tetrahidrofurano. Se prefieren el tetrahidrofurano o una mezcla a base de isopropanol y 1-butanol, de manera especialmente preferida en la relacion de 10:1 a 1:10, de manera muy especialmente preferida de 2:1 a 1:2.

Es importante que el polfmero de coordinacion formado este disuelto en la composicion obtenida. Puede ser necesario centrifugar o filtrar la composicion antes de la aplicacion. Por esto, se prefieren unos polfmeros de coordinacion, que son solubles en el disolvente escogido.

Simultaneamente es posible influir sobre la estructura del polfmero de coordinacion obtenido mediante la eleccion del disolvente.

Mediante la autoorganizacion del poUmero de coordinacion, la relacion del compuesto de silano y del compuesto metalico al compuesto organico es variable dentro de amplios intervalos. Por ejemplo, ella se puede situar entre 100:1 y 1:100, medida en mmol de silicio al ion metalico. Usualmente, Ios compuestos de silanos y Ios compuestos metalicos se emplean en un exceso con respecto al compuesto organico, de manera preferida en la relacion de 100:1 a 1:1, medida en mmol (la suma del silicio y de Ios iones metalicos en relacion con el compuesto organico), de manera preferida entre 50:1 hasta 1:1. La relacion puede ser dependiente de cuantos enlaces de coordinacion pueda formar el compuesto organico, o respectivamente de con cuantos diferentes centros metalicos o de silicio pueda formar el compuesto organico por Io menos un enlace de coordinacion. Esta relacion esta entonces de manera preferida entre 50:n y n:1, de manera preferida entre 10:n y n:1. Cuando el compuesto organico puede constituir enlaces de coordinacion por ejemplo con dos iones metalicos, la relacion molar preferida esta situada entre 50:1 y 2:1, de manera preferida entre 30:1 y 2:1, de manera muy especialmente preferida entre 10:1 y 2:1.

Otra magnitud importante es la relacion entre el compuesto de silano y el compuesto metalico. Mediante la constitucion del polfmero de coordinacion es posible, al contrario que Ios revestimientos antirreflexivos puros que se basan en silanos, integrar un alto contenido del compuesto metalico en la estructura del Si02 resultante, sin que la transmision del revestimiento obtenido se haga significativamente peor. Medida en mmol, la relacion entre el silicio en el compuesto de silano y el ion metalico en el compuesto metalico se situa de manera preferida entre 100:1 y 1:2, de manera especialmente preferida entre 100:1 y 1:1, de manera muy especialmente preferida entre 50:1 y 1:1. Ella puede situarse tambien entre 30:1 y 1:1 o entre 20:1 y 1:1.

A traves del alto contenido del compuesto metalico no solo se puede influir sobre el mdice de refraccion de la capa antirreflexiva. El compuesto metalico puede conferir al revestimiento tambien todavfa otras propiedades adicionales, tales como una dureza aumentada.

En un perfeccionamiento preferido, el compuesto metalico es un compuesto de titanio. De esta manera, la capa antirreflexiva contiene una cierta proporcion de dioxido de titanio, que tiene unas propiedades fotocataitticas. De esta manera, al revestimiento antirreflexivo se le pueden conferir tambien unas propiedades autolimpiadoras. En este caso, no se forman partfculas separadas de dioxido de titanio, sino que el dioxido de titanio se integra en la estructura a causa del polfmero de coordinacion.

El contenido de disolvente se puede variar en dependencia de la elaboracion ulterior de la composicion. En un perfeccionamiento preferido del invento el contenido de compuesto(s) de silano y de compuesto(s) metalicos en la composicion se situa entre 0,001 mol/l y 10 mol/l, de manera preferida entre 0,01 mol/l y 1 mol/l, de manera especialmente preferida entre 0,1 y 0,8 mol/l.

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En dependencia de la utilizacion ulterior de la composicion, el contenldo de materiales solidos de la composicion antes de la aplicacion sobre un substrato esta situada de manera preferida entre 1 y 20 % en peso, de manera especialmente preferida entre 2 y 5 % en peso.

La composicion puede contener todav^a otros componentes. Estos pueden ser unos aditivos usuales para sistemas opticos. EJemplos de ellos son agentes plastificantes, agentes sensibilizantes, agentes auxiliares de la humectacion, agentes mediadores de adhesion, agentes de igualacion, agentes antioxidantes, agentes estabilizadores, materiales colorantes y compuestos fotocromicos o termocromicos.

En un perfeccionamiento del invento, la composicion puede contener todavfa otras sustancias opticamente activas, p.eJ. para influir sobre el valor de refraccion. As^ por ejemplo, es posible anadir todavfa otras nanopartfculas con un diametro situado por debajo de 500 nm (medido con TeM = microscop^a electronica de transmision). Estas pueden ser, por ejemplo, unas partfculas de Si02, Zr02 y/o Ti02.

El invento se refiere ademas de ello a un procedimiento para la produccion de un revestimiento antirreflexivo.

En lo sucesivo se describiran mas detalladamente las etapas individuales del procedimiento. Las etapas no tienen que llevarse a cabo obligatoriamente en el orden de sucesion indicado, y el procedimiento que se va a exponer puede contener tambien otras etapas que no se mencionan.

En una primera etapa, se prepara en este caso una composicion precedentemente descrita. Puede ser necesario adaptar la viscosidad y la concentracion de la composicion al procedimiento de revestimiento utilizado.

En una siguiente etapa, la composicion se aplica sobre un substrato. El proceso de revestimiento se puede efectuar segun unos metodos usuales, p.ej. mediante inmersion, inundacion, aplicacion con rasqueta, moldeo por colada, lanzamiento por centrifugacion, inyeccion, extension con brocha, revestimiento por ranura, revestimiento por menisco, moldeo por colada de laminas, hilatura o rociadura. La viscosidad necesaria se puede ajustar en este caso mediante adicion o retirada de un disolvente. Unos espesores de capa preferidos (en el estado endurecido) se situan en 0,01 hasta 1 pm. De manera preferida, la cantidad aplicada se escoge por lo general en dependencia del mdice de refraccion deseado y del sector de uso de tal manera que se alcancen unos espesores de capa situados en el intervalo de 50 a 200 nm, de manera preferida de 100 a 150 nm.

Para el revestimiento se escogen de manera preferida unos substratos apropiados para usos opticos, tales como, por ejemplo, un vidrio, un material ceramico, silicio, un metal, unos materiales semiconductores o unos materiales sinteticos (de manera preferida transparentes), tales como un PET, un PE y un PP, siempre y cuando que estos sean apropiados para el tratamiento termico.

Tambien son posibles unos materiales cristalinos. En este caso se puede emplear cualquier material cristalino conocido, que sea apropiado para la respectiva finalidad. Unos ejemplos de substratos cristalinos preferidos son unos substratos constituidos a base de silicio, niobato de litio, tantalato de litio, cuarzo, zafiro, otras piedras preciosas o semipreciosas, y otros cristales opticos, detectores cristalinos, p.ej. para la radiacion electromagnetica, tales como PbS o selenio, y filtros opticos (para radiaciones UV, IR, NIR y VIS), prefiriendose entre los substratos cristalinos especialmente el zafiro. En el caso del substrato cristalino se trata de manera preferida de un substrato transparente. El substrato puede presentarse p.ej. tambien como una capa superficial sobre un soporte constituido a base de otro material.

El substrato puede tener cualquier estructura deseada. El puede ser p.ej. aplanado o abombado, p.ej. concavo o convexo. El substrato puede estar provisto, por un lado o por ambos lados, de un sistema optico de multiples capas. El substrato puede presentarse p.ej. en forma de un disco rectangular o circular o de una lente o en cualquier otra forma. En una forma de realizacion preferida, en el caso del substrato se trata de una oblea, una pantalla de imagen, un portaobjetos para instrumentos, un detector cristalino, un filtro optico o un cristal de reloj a base de un material cristalino. En el caso de algunos sectores de empleo, es usual en el comercio o en la tecnica, para algunas formas de realizacion la designacion de "vidrios" para los substratos cristalinos utilizados, p.ej. cuando se pueden utilizar tambien unos vidrios autenticos para el uso.

En una siguiente etapa, la composicion aplicada se trata termicamente. En este caso, el revestimiento se calienta de manera preferida a unas temperaturas de 400 hasta 800 °C, de manera preferida de 400 hasta 600 °C y en particular de 400 hasta 500 °C, y por ejemplo se mantiene a esta temperatura durante 1 minuto hasta 1 hora. En este caso se efectua una consumicion total por combustion de los componentes organicos (que contienen carbono). De esta manera se obtiene una capa antirreflexiva inorganica.

En particular, el procedimiento hace posible obtener ya en una sola etapa, es decir con solamente un revestimiento de un solo estrato, una capa antirreflexiva eficaz con una transmision de mas que 94 %, de manera preferida de mas que 98 %.

Las capas producidas mediante el procedimiento tienen un espesor de capa situado entre 0,01 y 1 pm, de manera preferida en el intervalo de 50 a 200 nm, de manera especialmente preferida de 100 a 150 nm.

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Ellas contlenen ademas dloxldo de sIIIcIo y por Io menos un oxldo metallco correspondlentemente a las relaclones Indlcadas para la composlclon. Los oxldos metallcos son unos oxldos metallcos de Ios compuestos que se han descrlto para la composlclon.

Referldo a las relaclones molares del Sl en el dloxldo de sIIIcIo y del lon metallco en el oxldo metallco, Ios revestlmlentos obtenldos tlenen una proporclon especlalmente alta del oxldo metallco medlando slmultanea conservaclon de las propledades antlrreflexlvas. La relaclon molar se sltua entre 100:1 y 1:2, de manera especlalmente preferlda entre 100:1 y 1:1, de manera muy especlalmente preferlda entre 50:1 y 1:1. Ella puede sltuarse tamblen entre 30:1 y 1:1 o entre 20:1 y 1:1.

Las capas obtenldas se dlstlnguen en particular por su porosldad unlforme. Esta puede ser controlada, tal como se ha descrlto, a traves de la eleccion del compuesto organlco. De esta manera se obtienen unos revestlmlentos con una varlaclon solo pequena del mdlce de refracclon.

La superflcle puede ser caracterizada tamblen por su superflcle espedflca segun BET.

Los revestlmlentos opticos conformes al invento son apropiados p.ej. como unos slstemas de interferencia y antlrreflexlvos para Ios siguientes usos:

Flltros opticos: filtros antlrreflexlvos y reflexlvos en el sector de la industria de las gafas, de Ios presentadores vlsuales, de las pantallas de imagen, de Ios laseres semiconductores, del revestlmlento de mlcrolentes, de las celdas solares, de las capas de laser resistentes a Ios danos (en ingles "damage- resistant"), de Ios flltros de paso de banda, de Ios flltros antlrreflexlvos, de Ios flltros de absorcion y de Ios divisores de rayos.

Capas holograficas: slstemas de dlrecclon de la Iuz, almacenamlento de informaclon, acopladores de rayos laser, conductores de ondas, decoraclon y arqultectura.

Capas repujables: slstemas de ellmlnaclon de reflejos, enfocamlento en campos de detectores, ilumlnaclon de pantallas de imagen planas, generaclon de imagenes en fotocopladoras, slstemas opticos de fibras (acoplamlento de la Iuz).

Lltograffa: producclon de elementos microopticos tales como conductores de Iuz, rejillas, agujeros de alfller opticos, rejillas de dlfracclon (rejillas de puntos) as^ como en el sector de la tecnica de presentadores vlsuales, del acoplamlento de chips de fibras y de la optica de reproduccion graflca.

No obstante, tamblen son posibles unos revestlmlentos para usos solares, tales como Ios colectores solares o las celdas solares.

Otros/as detalles y caractensticas adlclonales resultan de la siguiente descrlpclon de unos ejemplos de reallzaclon preferidos en vlnculaclon con las reivindicaciones subordlnadas. En este caso, las respectivas caractenstlcas se pueden realizar por si solas o varias a la vez en combinacion entre ellas. Las poslbllldades para resolver el problema planteado por la mision, no estan restringidas a Ios ejemplos de reallzaclon. Asf, por ejemplo Ios datos acerca de intervalos comprenden siempre todos Ios valores intermedlos - no mencionados - y todos Ios intervalos parclales conceblbles.

Fig. 1 Espectros de transmlslon de las muestras de Ios Ejemplos 5, 6 y 7 en la region visible. Como

comparacion se midio un soporte de vidrio no revestldo;

Fig. 2 Espectros de reflexion de las muestras de Ios Ejemplos 5, 6 y 7 en la region visible;

Fig. 3 Espectros de transmlslon de las muestras de Ios Ejemplos 8 hasta 11. Como comparacion se

midio un portaobjetos de vidrio no revestldo;

Fig. 4 Fotograffa con un microscopio optico de la superflcle del Ejemplo 5 despues de un ensayo de la

resistencia a Ios aranazos con un lapiz de dureza 1H;

Fig. 5 Fotograffa con un microscopio optico de la superflcle del Ejemplo 6 despues de un ensayo de la

resistencia a Ios aranazos con un lapiz de dureza 8H;

Fig. 6 Fotograffa con un microscopio optico de la superflcle del Ejemplo 7 despues de un ensayo de la

resistencia a Ios aranazos con un lapiz de dureza 8H;

Fig. 7 Fotograffa con un microscopio optico de la superflcle investigada del Ejemplo 5 despues del

ensayo con una cinta adhesiva;

Fig. 8 Fotograffa con un microscopio optico de la superflcle investigada del Ejemplo 6 despues del

ensayo con una cinta adhesiva;

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Fig. 9 Fotografta con un microscopio optico de la superficie investigada del Ejemplo 7 despues del

ensayo con una cinta adhesiva;

Fig. 10 Fotografta con un microscopio electronico de barrido (REM, acronimo del aleman

Rasterelektronenmikroskop) de la superficie del Ejemplo 5 con un aumento de 10.000x;

Fig. 11 Fotografta con un microscopio electronico de barrido de la superficie del Ejemplo 6 con un

aumento de 10.000x;

Fig. 12

Fotografta con un microscopio electronico de aumento de 10.000x;

barrido

de la superficie del

Ejemplo 7 con un

Fig. 13 Fig. 14 Fig. 15 Fig. 16

Fotografta con un microscopio

electronico de barrido de la superficie del Ejemplo 5 con un

aumento de 50.000x;

Fotografta con un microscopio

electronico de barrido de la superficie del Ejemplo 6 con un

aumento de 50.000x;

Fotografta con un microscopio

electronico de barrido de la superficie del Ejemplo 7 con un

aumento de 50.000x;

Investigacion de la actividad fotocatalftica del revestimiento del Ejemplo 11 con ayuda de la descomposicion del violeta de metilo.

Materiales y metodos Sustancias qmmicas

Dianfftdrido de acido piromelftico (dianfftdrido 1,2:4,5 de acido 1,2,4,5-bencenotetracarboxflico; de Merck Suchardt OHG); cloruro de titanio(IV) (TiCl4) (de Fluka Analytical, Sigma-Aldrich Chemie GmbH); tetraetoxi-silano (de TEOS ABcR GmbH & Co. kG); tetrahidrofurano (THF de Alfa-Aesar GmbH & Co KG), isopropanol (iPrOH de CWR International S.A.S.); n-butanol (n-BuOH de Merck Schuchardt OHG). Como agua se utilizo un agua ultrapura (de Millipore).

Produccion de los revestimientos

Las composiciones de revestimiento producidas se aplicaron sobre unos substratos de vidrio (de Marienfeld). Para esto, se utilizo una maquina de revestimiento por inmersion (en ingles "dip coating"). Los revestimientos se produjeron a unas velocidades de 1, 2, 3 y 4 mm/s. Despues de esto, todos los revestimientos fueron tratados termicamente a 500 °C durante 2 horas.

Ejemplo 1

6,67 ml de TiCU se anadieron a 25 ml de agua y se agitaron durante 30 minutos.

Ejemplo 2

2.73 g (12,5 mmol) de dianfftdrido de acido piromelftico y 225 mg (12, mmol) de agua se anadieron a una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1: v/v; segun el volumen) y se agitaron durante 48 horas.

Ejemplo 3

2,18 g (0,01 moles) de dianfftdrido de acido piromelftico y 0,36 g (0,02 moles) de agua se anadieron a 22,5 ml de THF y se agitaron durante 48 h.

Ejemplo 4

2.73 g (12,5 mmol) de dianfftdrido de acido piromelftico y 0,90 g (0,05 moles) de agua se anadieron a 50,0 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1: v/v) y se agitaron durante 48 h.

Ejemplo 5

A 25,0 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) se les anadieron mediante agitacion 5,0 ml del Ejemplo 2,

1.30 g (6,25 mmol) de TEOS y 0,16 ml del Ejemplo 1 y la mezcla se agito durante 6 horas.

Ejemplo 6

A 25,0 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) se les anadieron mediante agitacion 2,82 g del Ejemplo 3,

1.30 g (6,25 mmol) de TEOS y 0,16 ml del Ejemplo 1 y la mezcla se agito durante 6 horas.

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Ejemplo 7

Al Ejemplo 4 se le anadieron mediando agitacion 6,50 g (31,3 mmol) de TEOS y 0,8 ml del Ejemplo 1 (gota a gota) y la mezcla se agito durante 6 horas.

Ejemplo 8

A 50 ml del Ejemplo 4 se les anadieron mediando agitacion 3,12 g (14,98 mmol) de TEOS, 5,26 ml del Ejemplo 1 (gota a gota) y 9,00 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) y la solucion obtenida se agito durante 6 horas.

Ejemplo 9

A 50 ml del Ejemplo 4 se les anadieron mediando agitacion 3,73 g (17,90 mmol) de TEOS, 4,10 ml del Ejemplo 1 (gota a gota) y 9,00 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) y la solucion obtenida se agito durante 6 horas.

Ejemplo 10

A 50 ml del Ejemplo 4 se les anadieron mediando agitacion 4,36 g (20,93 mmol) de TEOS, 2,10 ml del Ejemplo 1 (gota a gota) y 7,00 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) y la solucion obtenida se agito durante 6 horas.

Ejemplo 11

A 50 ml del Ejemplo 4 se les anadieron mediando agitacion 4,98 g (23,90 mmol) de TEOS, 2,10 ml del Ejemplo 1 (gota a gota) y 7,00 ml de una mezcla de iPrOH y n-BuOH (1:1 v/v) y la solucion obtenida se agito durante 6 horas.

Las soluciones de todos los Ejemplos se filtraron con unos filtros de 0,2 pm antes de la dilucion.

Caracterizacion de los revestimientos

Propiedades opticas

Para todos los revestimientos producidos se pudo reconocer el efecto antirreflexivo ya directamente mediante observacion visual.

Tanto los espectros de reflexion como tambien los de transmision se midieron con un espectrometro Carry 5000. Los espectros de transmision y los espectros de reflexion de los Ejemplos 5 hasta 7 se muestran en las Figuras 1 y 2.

Medicion de la estabilidad mecanica

La resistencia a los aranazos de los revestimientos se investigo con un ensayo de aranazos con un lapiz segun la norma ASTM D3363 y se comprobo con un microscopio optico. Para la investigacion de la resistencia a los aranazos se utilizaron diferentes durezas de lapiz. Los resultados se muestran en las Figuras 4 hasta 6.

Investigaciones de la adhesion

La calidad de la adhesion de los revestimientos se investigo con un ensayo de corte con rejilla y mediante un ensayo con cinta adhesiva segun la norma ASTM D3359. Los valores de adhesion medidos son de 5/5 (esto significa 100 % de adhesion en el caso del ensayo de corte con rejilla y 100 % de adhesion de acuerdo con el ensayo con cinta adhesiva sobre la superficie de ensayo cortada) para los Ejemplos 6 y 7 asf como de 4/4 para el Ejemplo 5. Los resultados de los ensayos se han representado tambien en las Figuras 7 hasta 9 y se han recopilado en la Tabla 1.

indices de refraccion (n) y espesores de los revestimientos

Los indices de refraccion y el espesor de los revestimientos se midieron con una elipsometna (J. a. Woollan Co, Ic. M-2000 Dl, Spectroscopic Ellipsometer). Los resultados se indican en la Tabla 2.

Investigaciones de la morfologfa y microestructura

La morfologfa y la microestructura de las estructuras se investigaron con ayuda de un microscopio electronico de barrido (REM). Las ilustraciones de los revestimientos de los Ejemplos 5, 6 y 7 se han representado en las Figuras 10 hasta 15.

Actividad fotocalftica

En la Figura 16 se muestra una medicion de la actividad fotocatalftica del revestimiento del Ejemplo 11.

La medicion se llevo a cabo en un Heraeus Suntest CPS con un radiador de xenon, para esto se cubrio el portaobjetos revestido con 150 g de una solucion de 10 mg/l de violeta de metilo en agua y se irradio durante 10 h. El agua evaporada se completo regularmente (cada 30 min.). La medicion se efectuo despues de la finalizacion del ensayo tras de 10 horas.

Experimentos comparativos

Sin el compuesto metalico, es decir que en el Ejemplo 1 no se obtuvieron capas utiles Tabla 1

Ensayo de resistencia a los aranazos (dureza de lapiz) Adhesion (ensayo de corte con rejilla / ensayo con cinta adhesiva)

Ejemplo 5

ih 4/4

Ejemplo 6

8H 5/5

Ejemplo 7

8H 5/5

5 Tabla 2

Espesor (nm) indice de refraccion (n)

Ejemplo 5

96 1.3189

Ejemplo 6

88 1.4090

Ejemplo 7

104 1.4588

Bibliograffa citada:

1 F. Guillemot, A. Brunet-Bruneau, E. Bourgeat-Lami, T. Gacoin, E. Barthel y J.-P. Boilot, Chem. Mater. 2010,

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10 2 M. C. Bautista y A. Morales, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 80, 217-225.

3 B. B. Troitskii, Yu. a. Mamaev, A. a. Babin, M.A. Lopatin, V. N. Denisova, M. a. Novikova, L. V. Khokhlova y T. I. Lopatina, Glass Physics and Chemistry, 2010, 36 (5), 609-616.

4 P. Falcaro, L. Malfatti, T. Kidchob, G. Giannini, A. Falqui, M. F. Casula, H. Amenitsch, B. Marmiroli, G. Grenci y P. Innocenzi, Chem. Mater. 2009, 21,2055-2061.

15 5 K. Biswas, S. Gangopadhyay, H.-C. Kim y R. D. Miller, Thin Solid Films 2006, 514, 350-354.

6 O. M. Yaghi y H. Li, J. Am. Chem. Soc. 1995,117, 10401-10402.

7 C. Janiak, Dalton Trans., 2003, 2781-2804.

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9 J. D. Figueroa; T. Fout; S. Plasynski; H. Mcllyried; R. D. Srivastava, Int. J. Greenhouse Gas Contr. 2008, 2, 9-20.

20 10 Corma, H. Garca y F. X. Llabres i Xamena, Chem. Rev. 2010, 110, 4606-4655.

Claims (13)

1. 5

   10

   15

   20

   25

   30

   35

   reivindicaciones

   1. Una composicion para la produccion de un revestimiento antirreflexivo, caracterizada por que la composicion abarca los siguientes componentes

   a) por lo menos un compuesto de silano hidrolizable;

   b) por lo menos un compuesto metalico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto tambien parcialmente hidrolizado y/o condensado;

   c) por lo menos un compuesto organico con por lo menos dos grupos de coordinacion funcionales o unos compuestos precursores de estos; y

   d) por lo menos un disolvente, pudiendo formar los componentes a), b) y c) por lo menos parcialmente un polfmero de coordinacion.
2. 2. La composicion de acuerdo con la reivindicacion 1, caracterizada por que el compuesto organico tiene por lo menos dos grupos funcionales o unos compuestos precursores de estos, que se escogen entre el conjunto formado por un grupo amino, unos grupos de acidos carbox^licos, unos grupos hidroxilo y tioles.
3. 3. La composicion de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 o 2, caracterizada por que el compuesto organico es un acido di-, tri- o tetracarbox^lico, un ester de acido di-, tri- o tetracarbox^lico y/o un anhfdrido y/o un ester de tal compuesto.
4. 4. La composicion de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 3, caracterizada por que el compuesto metalico hidrolizable es un compuesto de la formula MXn, siendo X un radical hidrolizable y escogiendose M entre los grupos la, lla, Ilia, IVa hasta Via y lb hasta Vlllb y correspondiendo n a la Valencia del metal.
5. 5. La composicion de acuerdo con la reivindicacion 4, caracterizada por que M se escoge entre el conjunto formado por Al, B, Sn, Fe, Ti, Zr, V o Zn.
6. 6. La composicion de acuerdo con la reivindicacion 5, caracterizada por M se escoge entre Ti o Zr.
7. 7. La composicion de acuerdo una de las reivindicaciones 2 hasta 6, caracterizada por que el grupo funcional es un grupo de acido carboxflico o un compuesto precursor de este.
8. 8. La composicion de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 7, caracterizada por que el por lo menos un compuesto metalico se hace reaccionar con agua.
9. 9. La composicion de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 8, caracterizada por que la relacion molar del silicio y el ion metalico de los compuestos a) y b) se situa entre 100:1 y 1:2.
10. 10. Un procedimiento para la preparacion de un revestimiento antirreflexivo que comprende las siguientes etapas

    a) preparacion de una composicion de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 9

    b) aplicacion de la composicion sobre un substrato;

    c) tratamiento termico del revestimiento.
11. 11. Un revestimiento antirreflexivo que se ha obtenido de acuerdo con el procedimiento segun la reivindicacion 10.
12. 12. Un substrato revestido con un revestimiento de acuerdo con la reivindicacion 11.
13. 13. Una utilizacion de un revestimiento antirreflexivo en elementos opticos.