ES2603838T3 - Composiciones fotocurables catiónicas térmicamente estables - Google Patents
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Abstract
Composición fotocurable catiónica que comprende al menos un compuesto polimerizable catiónicamente, al menos un fotoiniciador de sal de onio, al menos un eliminador de humedad y al menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos estéricamente, antioxidantes fenólicos impedidos estéricamente, estabilizadores de fósforo orgánico y mezclas de los mismos.
Description
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DESCRIPCION
Composiciones fotocurables cationicas termicamente estables Description
La presente invention se refiere a composiciones fotocurables termicamente estables que comprenden fotoiniciadores cationicos estabilizados mediante un eliminador de humedad, as! como a un fotoiniciador cationico estabilizado mediante un eliminador de humedad.
Se conocen en la tecnica composiciones curables cationicamente, que comprenden compuestos fotoiniciadores correspondientes. Por ejemplo, en los documentos WO 03/008404 y WO 03/072567 se describen sales de sulfonio como fotoiniciadores, mientras que por ejemplo los documentos WO 98/02493 y US 6306555 dan a conocer compuestos fotoiniciadores de sal de yodonio.
Se sabe que los sistemas cationicos o composiciones fotocurables que comprenden fotoiniciadores cationicos tienen estabilidad en almacenamiento insuficiente. En particular, las resinas epoxldicas que contienen fotoiniciadores cationicos de sal de yodonio presentan escasa estabilidad en vida util de almacenamiento (estabilidad en la oscuridad). Tradicionalmente, se emplean bases de Lewis para potenciar la vida util de almacenamiento de estos sistemas, pero este enfoque inhibe la respuesta de fotocurado.
En el documento WO 99/35188 se sugiere por ejemplo un sistema de fotoiniciador cationico estabilizado que comprende aminas, mientras que el documento GB 2198736 da a conocer compuestos de nitroxilo como estabilizadores en formulaciones polimerizables por radicales.
En el documento WO 05/070989 se han descrito por ejemplo estrategias para mejorar la estabilidad en vida util de almacenamiento de composiciones fotocurables que comprenden fotoiniciadores cationicos. Se dan a conocer composiciones fotocurables cationicas con estabilidad en vida util de almacenamiento mejorada que comprende al menos un compuesto polimerizable cationicamente, al menos un fotoiniciador de sal de onio y al menos un compuesto seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de fosforo organico y estabilizadores de nitroxilo impedidos.
Ahora se ha encontrado que eliminadores de humedad tales como por ejemplo silicatos de aluminio cristalinos altamente porosos (zeolitas) u ortoformiato de trietilo proporcionan una estabilidad en vida util de almacenamiento excelente de sistemas cationicos fotocurables o de fotoiniciadores cationicos sin tener un efecto de inhibition sobre la velocidad de curado. Normalmente se espera que una adicion de zeolita ralentice la velocidad de curado debido a la basicidad de la zeolita.
Por consiguiente, la invention se refiere a una composition fotocurable cationica que comprende al menos un compuesto polimerizable cationicamente, al menos un fotoiniciador de sal de onio, al menos un eliminador de humedad, y
al menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos.
Los eliminadores de humedad son por ejemplo zeolitas o tamices moleculares, especialmente en su forma activada sustancialmente libre de agua. Las zeolitas estan disponibles comercialmente por ejemplo de UOP. Un ejemplo de una zeolita adecuada es polvo de Bailith L. Ademas, son muy adecuados tamices moleculares de zeolita de GRACE Davison vendidos como productos en polvo SYLOSIV®. Eliminadores de humedad adecuados adicionales son ortoesteres como ortoformiato de trietilo (TEOF). El TEOF esta disponible comercialmente de Borchers.
Eliminadores de humedad preferidos son zeolitas.
Las zeolitas son silicatos de aluminio altamente porosos y pueden definirse como un aluminosilicato con una estructura de armazon que encierra cavidades ocupadas por iones grandes y moleculas de agua, teniendo ambos libertad de movimiento considerable, permitiendo el intercambio ionico y la deshidratacion reversible. El armazon consiste en una disposition abierta de tetraedros que comparten vertices donde los SiO4 estan reemplazados parcialmente por tetraedros de AlO4, lo que requiere que suficientes cationes logren la electroneutralidad. Una formula idealizada es Mn+x/n[(AlO2)(SiO2)y]mH2O. La razon molecular de SiO2 y AhO3 es un parametro importante
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para las propiedades del compuesto tales como la resistencia a la temperatura y al acido. Las propiedades selectivas de las superficies internas cambian de comportamiento polar/hidrofilo basado en el contenido enriquecido en aluminio a no polar/hidrofobo basado en el contenido reducido en aluminio.
Por consiguiente, la invencion se refiere a una composition tal como se describio anteriormente, en la que el eliminador de humedad es una zeolita activada sustancialmente libre de agua u ortoformiato de trietilo.
El compuesto polimerizable cationicamente es por ejemplo tal como se define en el documento WO 05/070989, cuya divulgation se incorpora al presente documento como referencia. Tal como se da a conocer en el mismo, los presentes compuestos polimerizables cationicamente son aquellos que pueden polimerizarse cationicamente usando protones o cationes que contienen alquilo o arilo. Ejemplos tfpicos son eteres cfclicos, por ejemplo epoxidos, asf como compuestos que contienen vinil eter e hidroxilo.
El tipo de resina epoxidica no es crftico. Por resina epoxfdica quiere decirse cualquier molecula que contiene mas de un grupo 1,2-epoxido que puede convertirse mediante curado en una resina util. La resina epoxfdica puede contener el grupo 1,2-epoxido o bien de manera interna, de manera terminal o bien en una estructura cfclica.
Los compuestos polimerizables cationicamente usados en la composicion de la presente invencion son por ejemplo compuestos epoxfdicos cicloalifaticos, eteres de glicidilo, compuestos de oxetano, vinil eteres, resinas de melamina reticulables con acido, compuestos de hidroximetileno reticulables con acido y compuestos de alcoximetileno reticulables con acido. Los presentes compuestos polimerizables cationicamente incluyen sistemas hfbridos basados en mezclas de compuestos epoxfdicos y acrilatos tales como acrilatos epoxfdicos, acrilatos de poliester, acrilatos de poliuretano, acrilatos de polieter que se conocen bien en aplicaciones de curado con UV.
Ejemplos de estabilizadores de fosforo organico adecuados son los dados a conocer en el documento WO 05/070989 o tal como se da a conocer por ejemplo en el documento US 6444733. Se conocen estabilizadores de fosforo organico y muchos compuestos de este tipo estan disponibles comercialmente.
Ejemplos especfficos de estabilizadores de fosforo organico son fosfito de trifenilo, fosfitos de difenilalquilo, fosfitos de fenildialquilo, fosfito de tris(nonilfenilo), fosfito de trilaurilo, fosfito de trioctadecilo, difosfito de diestearilpentaeritritol, fosfito de tris(2,4-di-terc-butilfenilo), difosfito de diisodecilpentaeritritol, difosfito de bis(2,4-di- terc-butilfenil)pentaeritritol (D), difosfito de bis(2,6-di-terc-butil-4-metilfenil)pentaeritritol (E), difosfito de bisisodeciloxi- pentaeritritol, difosfito de bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)pentaeritritol, difosfito de bis(2,4,6-tri-terc- butilfenil)pentaeritritol, trifosfito de tristearilsorbitol, 4,4'-bifenilen-difosfonito de tetrakis(2,4-di-terc-butilfenilo) (H), 6- isooctiloxi-2,4,8,10-tetra-terc-butil-dibenzo[d,f][1,3,2]dioxafosfepina (C), 6-fluoro-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12-metil- dibenzo[d,g][1,3,2]dioxafosfocina (A), fosfito de bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)metilo o fosfito de bis(2,4-di-terc-butil- 6-metilfenil)etilo (G). Los estabilizadores de fosforo organico son por ejemplo fosfito de tris(2,4-di-terc-butilfenilo), fosfito de tris(nonilfenilo),
Los estabilizadores de fosforo organico son por ejemplo fosfito de tris(2,4-di-terc-butilfenilo), fosfito de bis(2,4-di-terc- 5 butil-6-metilfenil)etilo (G), difosfito de bis(2,4-di-terc-butilfenil)pentaeritritol (D), 4,4'-bifenilen-difosfonito de tetrakis(2,4-di-terc-butilfenilo) (H), 2,2',2”-nitrilo[trietiltris(3,3'5,5'-tetra-terc-butil-1,1-bifenil-2,2'-diil)fosfito] (B), el compuesto (J), el compuesto (K) o el compuesto (L).
Los ejemplos preferidos especificos son:
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Los estabilizadores de nitroxilo impedidos, o nitroxidos impedidos se conocen bien en la tecnica y se dan a conocer por ejemplo en los documentos WO 05/070989, US 6337426 o en el documento US 5254760).
Los estabilizadores de nitroxilo tipicos incluyen sebacato de bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo), 4-hidroxi-1- 15 oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 4-etoxi-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 4-propoxi-1-oxil-2,2,6,6-
tetrametilpiperidina, 4-acetamido-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 1 -oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidin-4-ona, acetato de 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo, 2-etilhexanoato de 1 -oxil-2,2,6,6-
tetrametilpiperidi n-4-ilo, estearato de 1 -oxil-2,2,6,6-tetra metilpi pe ridin-4-ilo, benzoato de 1-oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidin-4-ilo, 4-t-butil-benzoato de 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo, succinato de bis(1-oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidin-4-ilo), adipato de bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo), n-butilmalonato de bis(1-oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidi n-4-ilo), ftalato de bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo), isoftalato de bis(1-oxil-2,2,6,6- 5 tetrametilpiperidin-4-ilo), tereftalato de bis-(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo), hexahidrotereftalato de bis(1-oxil-
2.2.6.6- tetrametilpiperidin-4-ilo), N,N'-bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)adipamida, N-(1-oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidin-4-il)caprolactama, N-(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)dodecilsuccinimida, 2,4,6-tris-[N-butil-N- (1 -oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)]-s-triazina, 4,4'-etilenbis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperazin-3-ona), 2-oxil-1,1,3,3- tetrametil-2-isobenzazol, 1 -oxi l-2,2,5,5-tet ra m eti lpirrolidina y nitroxido de N,N-bis-(1,1,3,3-tetrametilbutilo).
10 Estabilizadores de nitroxilo son por ejemplo sebacato de bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo), 4-hidroxi-1 -oxil-
2.2.6.6- tetrametilpiperidina, 4-etoxi-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 4-propoxi-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 4- acetamido-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina y 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4- ona.
Una realizacion especlfica de la invencion es una composicion en la que el estabilizador es un compuesto de 15 nitroxilo impedido estericamente, en particular un sebacato de bis(1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-ilo) o 4-hidroxi- 1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina.
Los antioxidantes fenolicos impedidos estericamente se conocen bien en la tecnica y se describen en la bibliografla por ejemplo por Gaechter-Mueller en Plastic Additives, 3a edicion, paginas 40-44.
Ejemplos son esteres del acido beta(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propionico con tioles o alcoholes mono o 20 polihidroxilados.
Ejemplos especlficos de fenoles impedidos estericamente son tetrakis[3-(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenil)propionato] de pentaeritritol, tiodietilenbis[3-(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenilo)propionato], 3-(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenil)propionato de octadecilo, N,N'-hexano-1,6-diilbis[3-(3,5-di-t-but-il-4-hidroxifenil)propionamida], 3,5-bis(1,1-dimetiletil)-4- hidroxibencenopropionato de isooctilo, 2,4-dimetil-6-(1-metilpentadecil)fenol, [[3,5-bis(1,1-dimetiletil)-4- 25 hidroxifenil]metil]fosfonato de dietilo, 3,3'3”,5,5'5”-hexa-t-butil-a,a'a”-(mesitilen-2,4,6-triil)tri-p-cresol-, dietilbis[[[3,5-
bis(1,1-dimetiletil)-4-hidroxifenil]metil]fosfonato] de calcio, 4,6-bis(octiltiometil)-o-cresol, etilenbis(oxietilen)bis[3-(5-t- butil-4-hidroxi-m-tolil)-propionato], hexametilenbis[3-(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenil)propionato], 1,3,5-tris(3,5-di-t-butil-4- hidroxibencil)-1,3,5-triazina-2,4,6(1H,3H,5H)-triona, un producto de reaccion de N-fenil-bencenamina y 2,4,4- trimetilpenteno, 2,6-di-t-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol, [[3,5-bis(1,1-dimetiletil)hidroxi- 30 fenil]butilmalonato de bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidilo), 1-[2-[3-(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenil)propioniloxi]etil]-4-[3-
(3,5-di-t-butil-4-hidroxifenil)propioniloxi]-2,2,6,6-tetrametilpiperidina y 4-benzoiloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina.
Ejemplos de productos comercialmente disponibles de estos compuestos son IRGANOX® 1010, 1010FP, 1010FF, 1035, 1035FF, 1076, 1076FF, 1076FD, 1098, 1135, 1141, 1222, 1330, 1425WL, 1520L, 1520LR, 245, 245FF, 259, 3114, 5057, 565, 565FL (fabricados por Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.).
35 En una realizacion preferida de la invencion en la composicion tal como se describio anteriormente, el antioxidante fenolico se selecciona del grupo que consiste en un ester del acido beta-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propionico con un alcohol monohidroxilado o un alcohol polihidroxilado o un tiol.
Ejemplos de fotoiniciadores de sal de onio son compuestos de sal de yodonio como por ejemplo los dados a conocer en los documentos US 6306555 y US 6235807.
40 Son interesantes los fotoiniciadores de sal de yodonio de formula (I)
(R1-I-R2)+ A' (I),
en la que
R1 y R2 independientemente entre si son fenilo sustituido con alquilo C1-C24 o alcoxilo C1-C24; y
A- es un anion, por ejemplo seleccionado del grupo que consiste en SbF6-, PF6-, (B(C6F5)K y aniones sulfonato, tales 45 como por ejemplo tosilato, pentafluoroetilsulfonato, nonaflato, 4-metoxifenilsulfonato, 4-clorofenilsulfonato, 4- fluorofenilsulfonato, 2,4,6-trimetil-fenilsulfonato, 2,4,6-(tri-isopropil)-fenilsulfonato, 4-dodecilfenilsulfonato, canfor-10- sulfonato, 4-trifluoro-metilfenilsulfonato y nonafluorobutilsulfonato.
Ejemplos ilustrativos de compuestos de sal de yodonio son hexafluoroantimonato de bis(4-hexilfenil)yodonio; hexafluorofosfato de bis(4-hexilfenil)yodonio; hexafluoroantimonato de (4-hexilfenil)fenilyodonio; hexafluorofosfato de 50 (4-hexilfenil)fenil-yodonio; hexafluoroantimonato de bis(4-octilfenil)yodonio; hexafluorofosfato de (4-sec-butilfenil)-(4'-
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metilfenil)yodonio; hexafluorofosfato de (4-iso-propilfenil)-(4'-metilfenil)yodonio; hexafluoroantimonato de [4-(2- hidroxitetradeciloxi)fenil]fenilyodonio; hexafluoroantimonato de [4-(2-hidroxidodeciloxi)fenil]fenilyodonio; hexafluorofosfato de bis(4-octilfenil)yodonio; hexafluoroantimonato de (4-octilfenil)fenilyodonio; hexafluorofosfato de (4-octilfenil)fenilyodonio; hexafluoroantimonato de bis(4-decilfenil)-yodonio; hexafluorofosfato de bis(4- decilfenil)yodonio; hexafluoroantimonato de (4-decilfenil)fenilyodonio; hexafluorofosfato de (4-decilfenil)fenilyodonio; hexafluoroantimonato de (4-octiloxifenil)fenilyodonio; hexafluorofosfato de (4-octiloxifenil)-fenilyodonio;
hexafluoroantimonato de (2-hidroxidodeciloxifenil)fenilyodonio; hexafluorofosfato de (2- hidroxidodeciloxifenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de bis(4-hexilfenil)yodonio; tetrafluoroborato de (4-
hexilfenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de bis(4-octilfenil)yodonio; tetrafluoroborato de (4-octilfenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de bis(4-decilfenil)yodonio; hexafluoroantimoniato de bis(4-(alquil C8-C14 mixto)fenil)-yodonio; tetrafluoroborato de (4-decilfenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de (4-octiloxifenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de (2- hidroxidodeciloxifenil)fenilyodonio; tetrafluoroborato de bifenilenyodonio; hexafluorofosfato de bifenilenyodonio; hexafluoroantimoniato de bifenilenyodonio.
Otros ejemplos ilustrativos de fotoiniciadores de yodonio son hexafluorofosfato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenil-yodonio; pentafluoroetilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; tosilato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; nonaflato de 4-isobutilfenil-4'-metil-fenilyodonio; tosilato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4-metoxifenilsulfonato de 4- isobutilfenil-4'-metil-fenilyodonio; 4-clorofenilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4-fluorofenilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; 2,4,6-trimetilfenilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; 2,4,6-(triisopropil)- fenilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4-dodecilfenilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metil-fenilyodonio; canfor-10-sulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; tetrakis(pentafluorofenil)-borato de 4-isobutilfenil-4'- metilfenilyodonio; tetrakis(pentafluorofenil)-borato de 4-isopropilfenil-4'-metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-(2- metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; pentafluoroetilsulfonato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; tetrakis(pentafluorofenil)borato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-(2-metilbut-2-il)- fenil-4'-metilfenilyodonio; pentafluoroetilsulfonato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metil-fenilyodonio; nonaflato de 4-(2- metilbut-2-il)fenil-4'-metil-fenilyodonio; 4-trifluoro-metilfenil-sulfonato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; tosilato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; canfor-10-sulfonato de 4-(2-metilbut-2-il)-fenil-4'- metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-ciclohexil-4'-metilfenilyodonio; pentafluoroetilsulfonato de 4-ciclohexil-4'- metilfenilyodonio; canfor-10-sulfonato de 4-ciclohexil-4'-metilfenilyodonio; tetrakis(pentafluorofenil)borato de 4-
ciclohexil-4'-metilfenil-yodonio; tosilato de 4-ciclohexil-4'-metil-fenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-terc-butilfenil-4'- metilfenilyodonio; pentafluoroetilsulfonato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; canfor-10-sulfonato de 4-terc-
butilfenil-4'-metilfenilyodonio; tetrakis(pentafluorofenil)borato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4-cloro- fenilsulfonato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4-fluorofenilsulfonato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; 4- metoxifenilsulfonato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-terc-butilfenil-4'-metilfenilyodonio; nonafluorobutilsulfonato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio; hexafluoroantimonato de 4-ciclohexil-4'- metilfenilyodonio; nonafluorobutilsulfonato de 4-(2-metilbut-2-il)fenil-4'-metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-
isobutil-fenil-2'-metilfenilyodonio; hexafluorofosfato de 4-isobutilfenil-4'-etilfenil-yodonio; y hexafluorofosfato de 4-
(dodecil ramificado)-4-metilfenilyodonio.
Se prefieren hexafluorofosfato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenilyodonio y tetrakis(pentafluorofenil)-borato de 4-iso- propilfenil-4'-metilfenilyodonio.
El experto en la tecnica conoce la preparation de los compuestos fotoiniciadores de yodonio y se describe en la bibliograffa. Por ejemplo, se encuentra una divulgation correspondiente en los documentos US 5468902, US 4399071, US 4329300 y US 151175.
Fotoiniciadores de sal de onio adicionales adecuados en el contexto de la presente invention son por ejemplo compuestos de sal de sulfonio tal como se da a conocer por ejemplo en los documentos WO 03/008404 o WO 03/072567.
Ejemplos son compuestos de formula (III) o (IV)
en las que
R100, R101 y R102 independientemente entre si son fenilo no sustituido o fenilo sustituido con -S-fenilo o con
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R103 es un enlace directo, S, O, CH2, (CH2)2, CO o NR109;
R104, R105, R106 y R107 independientemente entre si son H, alquilo C1-C20, cicloalquilo C3-C8, alcoxilo C1-C20, alquenilo C2-C20, CN, OH, halogeno, alquiltio C1-C6, fenilo, naftilo, fenil-alquilo C1-C7, naftil-alquilo C1-C3, fenoxilo, naftiloxilo, fenil-alquiloxilo C1-C7, naftil-alquiloxilo C1-C3, fenil-alquenilo C2-C6, naftil-alquenilo C2-C4, S-fenilo, (CO)R109, O(CO)R109, (CO)OR109, SO2R109 o OSO2R109;
R108 es alquilo C1-C20, hidroxialquilo C1-C20,
o
R109 es H, alquilo C1-C12, hidroxialquilo C1-C12, fenilo, naftilo o bifenililo; R110 es un enlace directo, S, O o CH2;
R111, R112, R113 y R114 independientemente entre s^ tienen uno de los significados facilitados para R104; o R111 y R113 se unen para formar un sistema de anillos condensados con los anillos de benceno a los que se unen;
R115 es
y
Za es un anion, especialmente PF6, SbF6, AsF6, BF4, (C6F5)4B, Cl, Br, HSO4, CF3-SO3, F-SO3,
CH3-SO3, ClO4, PO4, NO3, SO4, CH3-SO4 o
Pueden obtenerse sales de sulfonio espedficas, por ejemplo, con los nombres comerciales Cyracure® UVI-6990, Cyracure® UVI-6974 (The DOW Chemical Company), Degacure® Kl 85 (Degussa), SP-55, SP-150, SP-170 (Asahi Denka), GE UVE 1014 (General Electric), SarCat® KI-85 (= hexafluorofosfato de triarilsulfonio; Sartomer), SarCat® CD 1010 (= hexafluoroantimoniato de triarilsulfonio mixto; Sartomer); SarCat® CD 1011 (= hexafluorofosfato de triarilsulfonio mixto; Sartomer).
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En las composiciones y composiciones de fotoiniciador de la invencion un fotoiniciador de sal de onio preferido es un compuesto de sal de yodonio, en particular hexafluorofosfato de 4-isobutilfenil-4'-metilfenil-yodonio y tetrakis- (pentafluorofenil)-borato de 4-isopropilfenil-4'-metilfenilyodonio.
Las composiciones o composiciones de fotoiniciador segun la invencion en particular comprenden un fotoiniciador de sal de onio de formula (I), (III) o (IV)
(Ri-I-R2)+ A- (I)
R100-S-R102 ZA ("')
R101
103"^TR104
+-A^R105
I — ----
R108 A (IV),
en las que
Ri y R2 independientemente entre si son fenilo sustituido con alquilo C1-C24 o alcoxilo C1-C24;
A- es un anion;
R100, R101 y R102 independientemente entre si son fenilo no sustituido o fenilo sustituido con -S-fenilo o con
R103 es un enlace directo, S, O, CH2, (CH2)2, CO o NR109;
R104, R105, R106 y R107 independientemente entre si son H, alquilo C1-C20, cicloalquilo C3-C8, alcoxilo C1-C20, alquenilo C2-C20, CN, OH, halogeno, alquiltio C1-C6, fenilo, naftilo, fenol-alquilo C1-C7, naftil-alquilo C1-C3, fenoxilo, naftiloxilo, fenil-alquiloxilo C1-C7, naftil-alquiloxilo C1-C3, fenil-alquenilo C2-C6, naftil-alquenilo C2-C4, S-fenilo, (CO)R109,
O(CO)R109, (CO)OR109, SO2R109 o OSO2R109;
R108 es alquilo C1-C20, hidroxialquilo C1-C20,
o
R109 es H, alquilo C1-C12, hidroxialquilo C1-C12, fenilo, naftilo o bifenililo; R110 es un enlace directo, S, O o CH2; R111, R112, R113 y R114 independientemente entre si tienen uno de los significados facilitados para R104;
o R111 y R113 se unen para formar un sistema de anillos condensados con los anillos de benceno a los que se unen;
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R115 es
y
Za es un anion, especialmente PF6, SbF6, AsF6, BF4, (C6F5)4B, Cl, Br, HSO4, CF3-SO3, F-SO3,
CH3-SO3, ClO4, PO4, NO3, SO4, CH3-SO4 o
Se prefieren composiciones tal como se describio anteriormente, en las que el fotoiniciador de sal de onio es de formula (I).
Aniones A- preferidos son SbF6-, PF6- y (B(C6F5))4-.
Las composiciones segun la invention pueden comprender mezclas de una o mas sales de onio diferentes, por ejemplo mezclas de una o mas sales de yodonio diferentes, mezclas de una o mas sales de sulfonio diferentes, asf como mezclas de una o mas sales de yodonio y de sulfonio diferentes.
El contenido de eliminador de humedad en las composiciones de la presente invencion es por ejemplo de desde el 0,01% en peso hasta el 10% en peso o desde el 0,1% en peso hasta el 10% en peso, preferiblemente desde el 0,5% en peso hasta el 10% en peso, especialmente desde el 0,1% en peso hasta el 5% en peso o desde el 0,5% en peso hasta el 5% en peso, basado en la composition total. (% en peso se refiere a porcentaje en peso).
El contenido de estabilizadores seleccionados del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos estericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos en las composiciones de la presente invencion es por ejemplo de desde el 10-4% en peso hasta el 2% en peso, preferiblemente desde el 10-4% en peso hasta el 1% en peso, especialmente desde el 10-4% en peso hasta el 0,5% en peso o desde el 10-4% en peso hasta el 0,1% en peso.
La razon en peso de eliminador de humedad con respecto a estabilizador es por ejemplo de desde 100-0,1 hasta 100-10.
En las composiciones de esta invencion, los fotoiniciadores de sal de onio estan presentes por ejemplo en una cantidad de desde aproximadamente el 0,05% hasta aproximadamente el 15% en peso o desde aproximadamente el 0,1% hasta aproximadamente el 10% en peso, preferiblemente desde aproximadamente el 0,5% hasta aproximadamente el 5% en peso, basado en el peso de la composicion.
La composicion fotocurable se estabiliza ademas por ejemplo mediante un estabilizador adicional seleccionado de estabilizadores de nitroxilo impedidos, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente y/o estabilizadores de fosforo organico. Las mezclas de eliminador de humedad y estabilizadores adicionales se preparan por ejemplo preparando en primer lugar una disolucion de 1-50 partes en peso de estabilizador en un disolvente libre de agua. Tras la disolucion del estabilizador solido, se anade la cantidad deseada de 10-500 partes en peso de la zeolita mientras se agita. En la siguiente etapa, se evapora el disolvente a una temperatura de 20-150°C. Este procedimiento garantiza una distribution homogenea de los estabilizadores en el polvo. El disolvente es por ejemplo acetato de butilo.
El eliminador de humedad junto con los estabilizadores se emplea para proporcionar estabilidad en vida util de almacenamiento a una composicion fotocurable formulada cationicamente, o asimismo, se anade directamente a un fotoiniciador de sal de onio, y proporciona de ese modo estabilidad en vida util de almacenamiento a una composicion curable formulada posteriormente.
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Por consiguiente, otro objeto de esta invencion es una composicion de fotoiniciador cationico que comprende al menos un fotoiniciador de sal de onio; al menos un eliminador de humedad; y
al menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos estericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos.
Opcionalmente estan presentes sensibilizadores en las composiciones de esta invencion. Ejemplos son compuestos de la clase de hidrocarburos aromaticos, normalmente antraceno y sus derivados, del grupo de las xantonas, benzofenonas y los derivados de los mismos, tal como cetona de Michler, bases de Mannich o bis(p-N,N- dimetilaminobenciliden)acetona. Tambien son adecuados la tioxantona y los derivados de la misma, normalmente isopropiltioxanantona; o colorantes, tales como acridinas, triarilmetanos, por ejemplo verde malaquita, indolinas, tiazinas, por ejemplo azul de metileno, oxazinas, fenazinas, normalmente safranina, o rodaminas. Son particularmente adecuados compuestos de carbonilo aromaticos, tales como benzofenona, tioxantona, antraquinona y derivados de 3-acil-coumarina, y tambien 3-(aroilmetilen)-tiazolinas, as! como los colorantes eosina, rodamina y eritrosina. Sensibilizadores preferidos son los seleccionados del grupo que consiste en los antracenos, xantonas, benzofenonas y tioxantonas, preferiblemente isopropiltioxantona.
Los sensibilizadores estan presentes en la composicion que va a curarse por ejemplo en una cantidad de desde aproximadamente el 0,05 hasta aproximadamente el 10% en peso, por ejemplo desde aproximadamente el 0,1 hasta el 5% en peso, preferiblemente desde aproximadamente el 0,1 hasta el 2 % en peso, basado en el peso de la composicion.
Las composiciones segun la invencion comprenden adicionalmente de manera opcional fotoiniciadores adicionales, tales como, por ejemplo, fotoiniciadores cationicos, formadores de fotoacido en cantidades de desde el 0,01 hasta el 15% en peso, por ejemplo desde el 0,1 hasta el 5% en peso, basado en el peso de la composicion.
Ademas, pueden estar presentes aditivos adicionales habituales en la tecnica en las composiciones curables de esta invencion. Tales aditivos se anaden a las composiciones en cantidades habituales en la tecnica y conocidas generalmente por el experto. Ejemplos tlpicos de tales aditivos son estabilizadores frente a la luz, tales como absorbentes de UV, normalmente los del tipo hidroxifenilbenzotriazol, hidroxil-fenilbenzofenona, amida de acido oxalico o hidroxifenil-s-triazina.
Otros aditivos habituales incluyen por ejemplo inhibidores termicos, abrillantadores opticos, cargas y pigmentos, pigmentos anticorrosivos, pigmentos conductores, as! como pigmentos blancos y de color, colorantes agentes antiestaticos, promotores de adhesion, agentes humectantes, auxiliares de flujo, lubricantes, ceras, agentes anti- adhesivos, dispersantes, emulsionantes, antioxidantes, cargas, por ejemplo talco, yeso, acido sillcico, rutilo, negro de carbono, oxido de zinc, oxidos de hierro, aceleradores de reaccion, espesantes, agentes opacificantes, antiespumantes y otros adyuvantes habituales, por ejemplo, en tecnologla de laca y recubrimiento.
Las composiciones segun la presente invencion pueden comprender tintes y/o pigmentos blancos o de color.
Las composiciones segun la presente invencion tambien pueden comprender componentes curables termicamente.
Las composiciones curables segun la presente invencion tambien pueden comprender componentes polimerizables por radicales libres tales como monomeros, oligomeros o pollmeros etilenicamente insaturados. Los materiales adecuados contienen al menos un doble enlace etilenicamente insaturado y pueden experimentar polimerizacion por adicion. Cuando se anaden componentes polimerizables por radicales libres a las composiciones de esta invencion, puede ser ventajoso anadir uno o mas fotoiniciadores de radicales libres, por ejemplo benzofenona y derivados de la misma, acetofenona y derivados de la misma u oxidos de mono- o bis-acilfosfina. Compuestos curables por radicales libres y fotoiniciadores de radicales libres que pueden usarse adicionalmente se dan a conocer por ejemplo en el documento US 6306555.
Las composiciones segun la invencion pueden usarse en numerosas aplicaciones, por ejemplo para la preparacion de composiciones de recubrimiento de superficie tales como recubrimientos industriales ilquidos, recubrimientos de bobinas, recubrimientos de latas, composiciones de recubrimiento en polvo, tintas de impresion, planchas de impresion, compuestos dentales, resinas de estereolitografla, adhesivos, recubrimientos antiadhesivos, filtros de color, materiales resistentes o materiales de registro de imagenes.
Por tanto, el objeto de la invencion tambien es el uso de la composicion tal como se describio anteriormente para la preparacion de un recubrimiento de superficie, un recubrimiento industrial llquido, un recubrimiento de bobinas, un
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recubrimiento de latas, un recubrimiento en polvo, una tinta de impresion, una plancha de impresion, una composicion dental, una resina de estereolitografla, un adhesivo, un recubrimiento antiadhesivo, un filtro de color, un material resistente o un material de registro de imagenes.
Para el uso de una formulacion en la solicitud indicada anteriormente, por ejemplo, en un recubrimiento, es crucial una estabilidad en vida util de almacenamiento suficiente de la formulacion. Una estabilidad en vida util de almacenamiento suficiente se caracteriza por ejemplo por un perfil reologico estable, velocidad de curado constante y propiedades de pellcula en seco tales como resistencia a disolventes, adhesion, estabilidad de color y estabilidad a la intemperie. Ademas es importante que la composicion mantenga una viscosidad constante antes y durante la aplicacion al sustrato y antes de la reticulacion con el fin de garantizar una fluidez constante de la composicion para la aplicacion del recubrimiento.
Intervalos de viscosidad de recubrimientos llquidos procesados (producidos o aplicados) a temperaturas de entre 0°C y 80°C son por ejemplo de desde aproximadamente 1 mPas hasta 20000 mPas, por ejemplo desde 10 mPas hasta 12000 mPas, preferiblemente desde 10 mPas hasta 8000 mPas. Independientemente del valor absoluto de la viscosidad, es necesario mantener el valor de viscosidad inicial de la composicion, lo que se logra en la composicion de la presente invencion.
El intervalo de grosor de capa incluye generalmente valores de desde aproximadamente 0,1 pm hasta mas de 100 pm, por ejemplo desde 1 pm hasta 500 pm, preferiblemente desde 0,5 micrometres hasta 50 micrometres.
Otras propiedades relevantes en aplicaciones de recubrimiento son por ejemplo el brillo y la turbidez del recubrimiento curado. La composicion reivindicada actualmente proporciona buenas propiedades de turbidez y brillo.
El recubrimiento del sustrato se efectua por ejemplo aplicando una composicion llquida, una disolucion o suspension al sustrato.
En el procedimiento de curado de las presentes composiciones, la irradiacion ultravioleta (UV) se lleva a cabo habitualmente con luz que tiene una longitud de onda en el intervalo de 200 nm a 600 nm. La radiacion adecuada incluye por ejemplo luz solar o luz de fuentes luminosas artificiales. Las fuentes luminosas que van a usarse incluyen un gran numero de una variedad de tipos muy amplia. Las fuentes luminosas adecuadas son fuentes puntuales as! como series de lamparas reflectoras (tapices de lamparas). Ejemplos tlpicos son: lamparas de arco de carbono, lamparas de arco de xenon, lamparas de mercurio (presion media, alta y baja), cuando se desea dopado con haluros metalicos (lamparas de haluros metalicos), lamparas de vapor de metal excitado por microondas, lamparas de exclmero, lamparas de neon superactlnicas, lamparas fluorescentes, lamparas de filamento de argon, lamparas de destellos, lamparas de reflectoras fotograficas, diodos emisores de luz (LED), haces de electrones y rayos X. La distancia entre la lampara y el sustrato que va a irradiarse puede variar dependiendo de la necesidad de uso final y del tipo de lampara o de la intensidad de la lampara, por ejemplo desde aproximadamente 2 cm hasta aproximadamente 150 cm. Tambien son adecuadas fuentes de luz laser, por ejemplo laser de exclmero. Tambien es posible usar laser en el intervalo visible. El tiempo de irradiacion (tiempo de exposicion) oscila habitualmente por ejemplo entre aproximadamente medio segundo hasta uno o varios minutos, por ejemplo de 0,5 s a 60 s o de 1 s a 20 s etc.
Normalmente, las composiciones segun la invencion se disuelven en un disolvente adecuado antes de la aplicacion al sustrato. Los ejemplos de tales disolventes incluyen dicloruro de etileno, ciclohexanona, ciclopentanona, 2- heptanona, g-butirolactona, metil etil cetona, monometil eter de etilenglicol, monoetil eter de etilenglicol, acetato de 2- metoxietilo, acetato de 2-etoxietilo, 2-etoxietanol, dimetil eter de dietilglicol, acetato de monoetil eter de etilenglicol, monometil eter de propilenglicol, acetato de monometil eter de propilenglicol, tolueno, acetato de etilo, lactato de metilo, lactato de etilo, propionato de metilmetoxilo, propionato de etiletoxilo, piruvato de metilo, piruvato de etilo, piruvato de propilo, N,N-dimetilformamida, dimetilsulfoxido, N-metilpirrolidona y tetrahidrofurano. Tales disolventes pueden usarse por ejemplo individualmente o en combinaciones. Los ejemplos preferidos de disolventes incluyen esteres, tales como acetato de 2-metoxietilo, acetato de monoetil eter de etilenglicol, acetato de monometil eter de propilenglicol, propionato de metilmetoxil, propionato de etiletoxio y lactato de etilo.
Opcionalmente se anade un tensioactivo al disolvente. Ejemplos de tensioactivos adecuados son tensioactivos no ionicos, tales como alquil eteres de polioxietileno, por lauril eter de polioxietileno, estearil eter de polioxietileno, acetil eter de polioxietileno y olell eter de polioxietileno; alquil-aril eteres de polioxietileno, por ejemplo octilfenol eter de polioxietileno y nonilfenol eter de polioxietileno; copollmeros de bloque de polioxietileno/polioxipropileno, esteres de sorbitol/acidos grasos, por ejemplo monolaurato de sorbitol, monopalmitato de sorbitol, monoestearato de sorbitol, monooleato de sorbitol, trioleato de sorbitol; tensioactivos fluoroqulmicos, tales como F-top EF301, EF303 y EF352 (New Akita Chemical Company, Japon), Megafac F171 y F17.3 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc,. Japon), Fluorad FC 430 y FC431 (Sumitomo #M Ltd., Japon), Asahi Guard AG710 y Surflon S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105 y SC106 (Asahi Grass Col, Ltd., Japon); pollmero de organosiloxano KP341 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Japon); y (co)pollmeros acrllicos o metacrllicos Poliflow Now.75 y NO.95 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Japon).
5
10
15
20
25
30
Generalmente, la proporcion de tensioactivo en la composicion es por ejemplo de desde aproximadamente 2 partes en peso o menos, por ejemplo 0,1 partes en peso o menos, por 100 partes en peso de contenido en solidos en la composicion. Los tensioactivos pueden usarse individualmente o en combinaciones.
La disolucion de la composicion segun la invention se aplica uniformemente a un sustrato por medio de metodos conocidos generalmente ya descritos anteriormente. Los grosores de capa adecuados tambien se han indicado ya anteriormente.
La invencion se refiere ademas a un metodo para la fotopolimerizacion o reticulation de una composicion que comprende
al menos un compuesto polimerizable cationicamente, al menos un fotoiniciador de sal de onio, al menos un eliminador de humedad, y
al menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos estericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos,
caracterizado porque la composicion se somete a radiation que tiene una longitud de onda en el intervalo de 200 nm a 600 nm; asi como a un metodo para la preparation de un recubrimiento de superficie, un recubrimiento industrial liquido, un recubrimiento de bobinas, un recubrimiento de latas, un recubrimiento en polvo, una tinta de impresion, una plancha de impresion, una composicion dental, una resina de estereolitografia, un adhesivo, un recubrimiento antiadhesivo, un filtro de color, un material resistente o un material de registro de imagenes.
Otro objeto de la invencion es un sustrato recubierto que esta recubierto sobre al menos una superficie con una composicion tal como se describio anteriormente.
Los ejemplos que siguen ilustran la invencion en mas detalle. Las partes y porcentajes son, como en el resto de la description y en las reivindicaciones, en peso, a menos que se indique otra cosa.
Los siguientes compuestos se emplean en ejemplos de trabajo.
Componentes curables cationicamente:
Fotoiniciadores:
5
10
15
20
25
Fotosensibilizador:
(isopropiltioxantona)
Estabilizadores de nitroxilo impedidos:
Antioxidantes fenolicos impedidos estericamente:
AO-1
- r h3cvch3 i
- H3CvCH,
- H3C )---\ II
- -c H>c >=\ J_o—^
- l f o X
- H3c^y
- H3 CW
- _ h3c ch3 _
- AO-2 n . h3c ch3 . _
n = 4
IRGANOX® 1010 (Ciba Specialty Chemicals)
n = 2
IRGANOX® 1035 (Ciba Specialty Chemicals)
[PI-1, PI-5 y PI-6 estan disponibles de Ciba Specialty Chemicals con los nombres comerciales IRGACURE® 250, IRGACURE® 184 y DAROCUR® ITX]
La preparation de la mezcla de estabilizador basada en las zeolitas y estabilizadores de nitroxilo impedidos o antioxidantes fenolicos impedidos estericamente en los siguientes ejemplos 1 y 2 se realiza tal como sigue:
El procedimiento se basa en una disolucion preparada de 50 partes de un disolvente organica (acetato de butilo) y 0,5 partes de estabilizadores de nitroxilo impedidos (o antioxidante fenolico respectivamente). Se anaden 50 partes de zeolita con agitation tras la disolucion de los estabilizadores solidos. En la siguiente etapa, se evapora el disolvente a una temperatura de 50°C. Este procedimiento garantiza una distribution homogenea de los estabilizadores en el polvo.
Ejemplo 1
Se prepara una composition fotocurable con una mezcla en peso de 56,5 : 36,9 de resinas R-2:R-3 y 4 pph, en peso, de fotoiniciador cationico PI-1, 2 pph en peso de fotoiniciador de radicales libres PI-5, 0,5 pph en peso de sensibilizador PI-6 y 0,1 pph de Byk 306 (proporcionado por Byk) como agente de nivelacion. La composicion recien preparada muestra una viscosidad de 600 mPas. Tras un periodo de 84 dfas a 40°C, la formulation no estabilizada muestra una viscosidad de 5000 mPas; la formulacion estabilizada con 2 pph basada en una mezcla de 99 partes de zeolita (SYLOSIV A 300 de Grace Davison) y 1 parte de estabilizador de nitroxilo NO-1 tiene una viscosidad de 790 mPas, la formulacion estabilizada con 2 pph basada en una mezcla de 95 partes de zeolita y 5 partes de antioxidante fenolico impedido estericamente AO-1 tiene una viscosidad de 840 mPas, la formulacion estabilizada
con 2 pph de zeolita tiene una viscosidad de 1200 mPas. En la tabla 1 siguiente se facilita una revision.
Tabla 1
- Muestra - Estabilizador
- Viscosidad tras 0 dlas Viscosidad tras 84 dlas (40°C)
- Sin estabilizador
- 600 mPas 5000 mPas
- 2 pph (99% de zeolita / 1% de estabilizador de nitroxilo NO-1)
- 600 mPas 790 mPas
- 2 pph (95% de zeolita / 5% de antioxidante fenolico AO-1)
- 600 mPas 840 mPas
- 2 pph de zeolita
- 600 mPas 1200 mPas
- 1,50 pph de AO-1
- 600 mPas 2730 mPas
Ejemplo 2
Se prepara una composicion fotocurable con una razon en peso a 57,9 : 37,9 de resinas R-2:R-3 y 4,1 pph, en peso, 5 de fotoiniciador cationico PI-3 y 0,1 pph de un agente de nivelacion. La composicion recien preparada muestra una viscosidad de 540 mPas. Tras un periodo de 84 dlas a 40°C, la formulacion no estabilizada muestra una viscosidad de 3800 mPas; la formulacion estabilizada con 2 pph basada en una mezcla de 99 partes de zeolita y 1 parte de estabilizador de nitroxilo NO-1 tiene una viscosidad de 660 mPas, la formulacion estabilizada con 2 pph de zeolita tiene una viscosidad de 670 mPas. En la tabla 2 se facilita una revision de los resultados.
10 Tabla 2
- Muestra - Estabilizador
- Viscosidad tras 0 dlas Viscosidad tras 84 dlas (40°C)
- Sin estabilizador
- 540 mPas 3800 mPas
- 2 pph (99% de zeolita / 1% de estabilizador de nitroxilo)
- 540 mPas 660 mPas
- 2 pph de zeolita
- 540 mPas 670 mPas
Claims (16)
- 510152025REIVINDICACIONES1. Composicion fotocurable cationica que comprende al menos un compuesto polimerizable cationicamente,al menos un fotoiniciador de sal de onio, al menos un eliminador de humedad y al menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidos estericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos.
- 2. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el eliminador de humedad es una zeolita activada sustancialmente libre de agua u ortoformiato de trietilo.
- 3. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el estabilizador es un compuesto de nitroxilo impedido estericamente.
- 4. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el antioxidante fenolico se selecciona del grupo que consiste en un ester del acido beta-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propionico con un alcohol monohidroxilado o un alcohol polihidroxilado o un tiol.
- 5. Composicion segun la reivindicacion 3, en la que el estabilizador de nitroxilo es bis(1 -oxil-2,2,6,6- tetrametilpiperidin-4-il)sebacato o 4-hidroxi-1-oxil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina.
- 6. Composicion segun la reivindicacion 3, en la que el estabilizador de fosforo organico se selecciona del grupo que consiste en
imagen1 yimagen2 - 7. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el fotoiniciador de sal de onio es de formula (I), (III) o (IV) (R1-I-R2)-+ A- (I)RlOO 'j* R-I02
imagen3 R-I08en las que R1 y R2 independientemente entre si son fenilo sustituido con alquilo C1-C24 o alcoxilo C1-C24; A- es un anion;5101520Rioo, R101 y R102 independientemente entre si son fenilo no sustituido o fenilo sustituido con -S-fenilo o conimagen4 R103 es un enlace directo, S, O, CH2, (CH2)2, CO o NR109;R104, R105, R106 y R107 independientemente entre si son H, alquilo C1-C20, cicloalquilo C3-C8, alcoxilo C1-C20, alquenilo C2-C20, CN, OH, halogeno, alquiltio C1-C6, fenilo, naftilo, fenil-alquilo C1-C7, naftil-alquilo C1-C3, fenoxilo, naftiloxilo, fenil-alquiloxilo C1-C7, naftil-alquiloxilo C1-C3, fenil-alquenilo C2-C6, naftil-alquenilo C2-C4, S-fenilo, (CO)R109, O(CO)R109, (CO)OR109, SO2R109 o OSO2R109;R108 es alquilo C1-C20, hidroxialquilo C1-C20,imagen5 oimagen6 R109 es H, alquilo C1-C12, hidroxialquilo C1-C12, fenilo, naftilo o bifenililo;R110 es un enlace directo, S, O o CH2;R111, R112, R113 y R114 independientemente entre si tienen uno de los significados facilitados para R104; o R111 y R113 se unen para formar un sistema de anillos condensados con los anillos de benceno a los que se unen;R115 esOyZa es un anion, especialmente PF6, SbF6, AsF6, BF4, (C6F5)4B, Cl, Br, HSO4, CF3-SO3, F-SO3,imagen7 imagen8 imagen9 CH3-SO3, ClO4, PO4, NO3, SO4, CH3-SO4 oimagen10 - 8. Composicion segun la reivindicacion 7, en la que el fotoiniciador de sal de onio es de formula (I).
- 9. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el contenido de eliminador de humedad es de desde el 0,0151015202530hasta el 20% en peso.
- 10. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que el contenido del estabilizador es de desde el 10-4 hasta el 1% en peso, basado en la composicion total.
- 11. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que la razon en peso del eliminador de humedad con respecto al estabilizador es de desde 100-0,1 hasta 100-10.
- 12. Composicion de fotoiniciador cationico que comprende al menos un fotoiniciador de sal de onio;al menos un eliminador de humedad; yal menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidosestericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos.
- 13. Metodo para la fotopolimerizacion o reticulacion de una composicion que comprende al menos un compuesto polimerizable cationicamente,al menos un fotoiniciador de sal de onio, al menos un eliminador de humedad, yal menos un estabilizador seleccionado del grupo que consiste en estabilizadores de nitroxilo impedidosestericamente, antioxidantes fenolicos impedidos estericamente, estabilizadores de fosforo organico y mezclas de los mismos,caracterizado porque la composicion se somete a radiacion que tiene una longitud de onda en el intervalo de 200 nm a 600 nm.
- 14. Uso de la composicion segun la reivindicacion 1 para la preparacion de un recubrimiento de superficie, un recubrimiento industrial llquido, un recubrimiento de bobinas, un recubrimiento de latas, un recubrimiento en polvo, una tinta de impresion, una plancha de impresion, una composicion dental, una resina de estereolitografla, un adhesivo, un recubrimiento antiadhesivo, un filtro de color, un material resistente o un material de registro de imagenes.
- 15. Metodo segun la reivindicacion 13 para la preparacion de un recubrimiento de superficie, un recubrimiento industrial llquido, un recubrimiento de bobinas, un recubrimiento de latas, un recubrimiento en polvo, una tinta de impresion, una plancha de impresion, una composicion dental, una resina de estereolitografla, un adhesivo, un recubrimiento antiadhesivo, un filtro de color, un material resistente o un material de registro de imagenes.
- 16. Sustrato recubierto que esta recubierto sobre al menos una superficie con una composicion segun la reivindicacion 1.
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