ES2929991T3 - Un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish - Google Patents
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 168
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 114
- 239000010439 graphite Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 46
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 34
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 12
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000005188 flotation Methods 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 claims description 8
- 210000003918 fraction a Anatomy 0.000 claims description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 6
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims description 3
- 238000002386 leaching Methods 0.000 claims description 3
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 6
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 4
- 241001579016 Nanoa Species 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 2
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002064 nanoplatelet Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000009628 steelmaking Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000012989 trithiocarbonate Substances 0.000 description 2
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- -1 alkylated aromatics Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002894 chemical waste Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000010665 pine oil Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/198—Graphene oxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D21/00—Separation of suspended solid particles from liquids by sedimentation
- B01D21/26—Separation of sediment aided by centrifugal force or centripetal force
- B01D21/262—Separation of sediment aided by centrifugal force or centripetal force by using a centrifuge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
- C01B32/19—Preparation by exfoliation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
- C01B32/19—Preparation by exfoliation
- C01B32/192—Preparation by exfoliation starting from graphitic oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/194—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/20—Graphite
- C01B32/21—After-treatment
- C01B32/23—Oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/04—Specific amount of layers or specific thickness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/20—Graphene characterized by its properties
- C01B2204/30—Purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/20—Graphene characterized by its properties
- C01B2204/32—Size or surface area
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Abstract
La presente invención se refiere a un método para la fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito de Kish que comprende el pretratamiento de grafito de Kish y la oxidación de grafito de Kish pretratado en óxido de grafeno, obteniéndose el óxido de grafeno con al menos un 45% en peso de grupos funcionales oxígeno. y el uso del óxido de grafeno. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
Description
DESCRIPCIÓN
Un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish
[0001] La presente invención se refiere a un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito Kish. En particular, el óxido de grafeno tendrá aplicaciones en industrias metálicas que incluyen acero, aluminio, acero inoxidable, cobre, hierro, aleaciones de cobre, titanio, cobalto, compuestos metálicos, industrias del níquel, por ejemplo, como recubrimiento o como reactivo de enfriamiento.
[0002] El grafito Kish es un subproducto generado en el procedimiento de fabricación de acero, especialmente durante el procedimiento de alto horno o el procedimiento de fabricación de hierro. De hecho, el grafito Kish generalmente se produce en la superficie libre del hierro fundido durante su enfriamiento. Proviene del hierro fundido a 1300-1500 °C, que se enfría a una velocidad de enfriamiento entre 0,40 °C/min y 25 °C/h cuando se transporta en el carro torpedo o a velocidades de enfriamiento más altas durante la transferencia de la cuchara. Cada año se produce un gran tonelaje de grafito Kish en una planta siderúrgica.
[0003] Dado que el grafito Kish comprende una alta cantidad de carbono, generalmente por encima del 50 % en peso, es un buen candidato para producir materiales a base de grafeno. Por lo general, los materiales a base de grafeno incluyen: grafeno, óxido de grafeno, óxido de grafeno reducido o nanografito.
[0004] El óxido de grafeno se compone de una o unas pocas capas de láminas de grafeno que contienen grupos funcionales de oxígeno. Gracias a sus interesantes propiedades como una alta conductividad térmica y una alta conductividad eléctrica, el óxido de grafeno tiene muchas aplicaciones como se mencionó anteriormente. Además, la presencia de grupos funcionales de oxígeno lo hace hidrofílico y, por lo tanto, se puede dispersar fácilmente en agua.
[0005] Por lo general, el óxido de grafeno se sintetiza en función del procedimiento de Hummer que comprende las siguientes etapas:
- la creación de una mezcla de grafito kish, nitrato de sodio (NaNOa) y ácido sulfúrico (H2SO4),
- la adición de permanganato de sodio o potasio (KMnO4) como agente oxidante para oxidar el grafito en óxido de grafito y
- la exfoliación mecánica del óxido de grafito en una monocapa o unas cuantas capas de óxido de grafeno.
[0006] La patente KR101109961 describe un procedimiento de fabricación de grafeno, que comprende:
- una etapa 
de pretratamiento de grafito Kish,
- una etapa de fabricación de óxido de grafito mediante la oxidación del grafito Kish pretratado con una solución ácida; - una etapa de fabricación de óxido de grafeno mediante la exfoliación del óxido de grafito y
- una etapa de fabricación de óxido de grafeno reducido mediante la reducción del óxido de grafeno con un agente reductor.
[0007] En esta patente coreana, el pretratamiento del grafito Kish comprende: un procedimiento de lavado, un procedimiento de purificación utilizando una composición de pretratamiento químico y un procedimiento de separación mecánica (separación por tamaño). Después del procedimiento de purificación, el grafito Kish purificado se separa por tamaño, el grafito Kish que tiene un tamaño de partícula de 40 mesh o menos, es decir, 420 pm o menos, se mantiene para la fabricación de óxido de grafeno.
[0008] Sin embargo, el pretratamiento del grafito Kish comprende 2 etapas que utilizan una composición química: la etapa de lavado y el procedimiento de la etapa de purificación. En el Ejemplo del documento KR101109961, la etapa de lavado se realiza con una solución acuosa que comprende agua, ácido clorhídrico y ácido nítrico. A continuación, el procedimiento de purificación se realiza con una composición de pretratamiento que comprende un agente quelante, un eliminador de óxido de hierro, un tensioactivo, un dispersante de polímero aniónico y no iónico y agua destilada. A escala industrial, dos tratamientos químicos son difíciles de gestionar, ya que una gran cantidad de residuos químicos tienen que ser tratados y la estabilidad de dicha composición es difícil de controlar.
[0009] Además, la composición de pretratamiento necesita una preparación prolongada. Por lo tanto, la productividad se ralentiza. Además, el pretratamiento del grafito Kish que incluye el procedimiento de purificación usando la composición de pretratamiento no es respetuoso con el medio ambiente.
[0010] Finalmente, la oxidación del grafito Kish pretratado se realiza con nitrato de sodio (NaNOa), ácido sulfúrico (H2SO4) y permanganato de potasio (KMn04). Sin embargo, el uso de nitrato de sodio da como resultado la formación de gases tóxicos como NO2, N2O4 y NHa que no son respetuosos con el medio ambiente.
[0011] La publicación llamada "Preparation and Characterization of Graphene Oxide", Journal of nanomaterials,
vol. 2014, 1 de enero de 2014, páginas 1-6, describe un procedimiento Hummer modificado para obtener óxido de grafeno (GO).
[0012] Sin embargo, con este procedimiento, solo es posible obtener óxido de grafeno con un tamaño lateral bajo, es decir, de aproximadamente 3 |jm, lo que conduce a propiedades deficientes.
[0013] La solicitud de patente WO2018/178842 describe un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish que comprende:
A. El suministro de grafito kish,
B. Una etapa de pretratamiento de dicho grafito kish que comprende las siguientes subetapas sucesivas:
i. Una etapa de tamizado donde el grafito kish se clasifica por tamaño de la siguiente manera:
a) Grafito Kish con un tamaño inferior a 50 jm,
b) Grafito kish con un tamaño superior o igual a 50 jm, eliminándose la fracción a) de grafito kish con un tamaño inferior a 50 jm,
ii. Una etapa de flotación con la fracción b) de grafito kish que tiene un tamaño superior o igual a 50 jm, iii. Una etapa de lixiviación ácida donde se añade un ácido de modo que la relación en peso (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) esté entre 0,25 y 1,0,
iv. Opcionalmente, el grafito kish se lava y seca, y
C. Una etapa de oxidación del grafito kish pretratado obtenido después de la etapa B) para obtener óxido de grafeno.
[0014] Por ejemplo, la etapa de oxidación C) comprende la preparación de una mezcla que comprende el grafito kish pretratado, un ácido y opcionalmente nitrato de sodio, la mezcla se mantiene a una temperatura inferior a 5 °C antes de la adición de un agente oxidante.
[0015] Sin embargo, cuando la etapa de oxidación se realiza con nitrato de sodio (NaNOa), se producen gases tóxicos que derivan en un procedimiento contaminante. Por otra parte, el tiempo de oxidación es muy largo al utilizar NaNOa.
[0016] La solicitud de patente WO2017027731 también describe un procedimiento de oxidación química y exfoliación de mineral de grafito utilizando agentes de tipo potasio oxidantes inorgánicos en un medio ácido.
[0017] El propósito de la invención es proporcionar un procedimiento menos contaminante para la fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish en comparación con los procedimientos convencionales. Además, el objeto es proporcionar un procedimiento industrial para obtener óxido de grafeno que tiene buena calidad en el menor tiempo posible.
[0018] Esto se logra proporcionando un procedimiento según la reivindicación 1. El procedimiento también puede comprender cualquier característica de las reivindicaciones 2 a 8, tomadas solas o en combinación.
[0019] Se definen los siguientes términos y expresiones:
- Óxido de grafeno significa una o algunas capas de grafeno que comprenden grupos funcionales de oxígeno que incluyen grupos cetona, grupos carboxilo, grupos epoxi y grupos hidroxilo y
- Una etapa de flotación significa un procedimiento para separar selectivamente el grafito Kish que es material hidrofóbico de los materiales hidrofílicos.
[0020] Otras características y ventajas de la invención se harán evidentes a partir de la siguiente descripción detallada de la invención.
[0021] Para ilustrar la invención, se describirán diversas realizaciones y ensayos de ejemplos no limitantes, en particular, con referencia a las siguientes Figuras:
La Figura 1 ilustra un ejemplo de una capa de óxido de grafeno según la presente invención.
La Figura 2 ilustra un ejemplo de unas pocas capas de óxido de grafeno según la presente invención.
[0022] La invención se refiere a un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish que comprende:
A. El suministro de grafito kish,
B. Una etapa de pretratamiento de dicho grafito kish que comprende las siguientes subetapas sucesivas:
i. Una etapa de tamizado donde el grafito kish se clasifica por tamaño de la siguiente manera: a) Grafito Kish con un tamaño inferior a 50 |jm,
b) Grafito kish con un tamaño superior o igual a 50 jm, eliminándose la fracción a) de grafito kish con un tamaño inferior a 50 jm,
ii. Una etapa de flotación con la fracción b) de grafito kish que tiene un tamaño superior o igual a 50 jm, y iii. Una etapa de lixiviación ácida en la que se añade un ácido, seleccionado de entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nítrico o una mezcla de los mismos, de modo que la relación en peso (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) esté entre 0,25 y 1,0,
C. Una etapa de oxidación del grafito kish pretratado obtenido después de la etapa B) para obtener óxido de grafeno que comprende las siguientes subetapas sucesivas:
i. La preparación de una mezcla que comprende el kish-grafito pretratado, un ácido y nitrato de amonio (NH4NO3), la mezcla se mantiene a una temperatura inferior a 5 °C, el ácido se selecciona de entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nítrico o una mezcla de los mismos,
ii. La adición de un agente oxidante, elegido de entre: permanganato de potasio (KMnO4), H2O2, O3, H2S2O8, H2SO5, KNO3, NaClO o una mezcla de los mismos, en la mezcla obtenida en la etapa C.i),
iii. Después de alcanzar el nivel objetivo de oxidación de al menos un 45 % en peso de los grupos funcionales de oxígeno, la adición de un elemento químico para detener la reacción de oxidación, siendo el elemento químico elegido de entre: un ácido, agua no desionizada, agua desionizada, H2O2 o una mezcla de los mismos, iv. la separación del óxido de grafito de la mezcla obtenida en la etapa C.iii), y
v. La exfoliación de grafito en óxido de grafeno.
[0023] Sin querer limitarse a ninguna teoría, parece que el procedimiento según la presente invención permite la producción de óxido de grafeno de buena calidad a partir de grafito Kish pretratado de alta pureza. De hecho, el grafito Kish obtenido después de la etapa B) tiene una pureza de al menos el 90 %. Además, el procedimiento que incluye el pretratamiento de grafito kish y la oxidación en óxido de grafeno es fácil de implementar a escala industrial y es menos contaminante que los procedimientos de la técnica anterior, en particular el que usa NaNO3. De hecho, por un lado, se cree que ningún gas tóxico producido durante la oxidación es N2, O2 y H2O con NH4NO3 en lugar de gases tóxicos con NaNO3. Por otro lado, la cantidad de gases producidos con NH4NO3 es mayor que la producida con NaNO3. Por lo tanto, se intercalan más gases entre las capas de grafito kish para que durante la etapa de oxidación C.ii), KMnO4 pueda navegar fácilmente entre las capas de grafito kish y oxidarlas. Esto da lugar a una reducción significativa del tiempo de oxidación en comparación con NaNO3.
[0024] Preferentemente, en la etapa A), el grafito Kish es un residuo del procedimiento de fabricación de acero. Por ejemplo, se puede encontrar en una planta de alto horno, en una planta de fabricación de hierro, en el carro torpedo y durante la transferencia de cucharas.
[0025] En la etapa B.i), la etapa de tamizado se puede realizar con una máquina de tamizado.
[0026] Después del tamizado, se elimina la fracción a) de grafito Kish que tiene un tamaño inferior a 50 jm. De hecho, sin querer limitarse a ninguna teoría, se cree que el grafito kish que tiene un tamaño inferior a 50 jm contiene una cantidad muy pequeña de grafito, por ejemplo, menos del 10 %.
[0027] Preferentemente en la etapa B.ii), la etapa de flotación se realiza con un reactivo de flotación en una solución acuosa. Por ejemplo, el reactivo de flotación es un espumador seleccionado de entre: metil isobutil carbinol (MIBC), aceite de pino, poliglicoles, xilenol, tritiocarbonato de S-bencil-S'-n-butilo, tritiocarbonato de S,S'-dimetilo y tritiocarbonato de S-etil-S'-metilo. Ventajosamente, la etapa de flotación se realiza usando un dispositivo de flotación.
[0028] Preferentemente, en la etapa B.i), se elimina la fracción a) de grafito kish que tiene un tamaño inferior a 55 jm y en la etapa B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño superior o igual a 55 jm. Más preferentemente, en la etapa B.i), se elimina la fracción a) de grafito kish que tiene un tamaño inferior a 60 jm y donde en la etapa B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño superior o igual a 60 jm.
[0029] Preferentemente, en las etapas B.i) y B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño inferior o igual a 300 jm, eliminándose cualquier fracción de grafito kish que tenga un tamaño superior a 300 jmantes de la etapa B.ii).
[0030] Más preferentemente en las etapas B.i) y B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño inferior o igual a 275 jm, eliminándose cualquier fracción de grafito kish que tenga un tamaño superior a 275 jm antes de la etapa B.ii).
[0031] Ventajosamente, en las etapas B.i) y B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño inferior o igual a 250 |jm, eliminándose cualquier fracción de grafito kish que tenga un tamaño superior a 250 |jm antes de la etapa B.ii).
[0032] En la etapa B.iii), la relación en peso (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) está entre 0,25 y 1,0, ventajosamente entre 0,25 y 0,9, más preferentemente entre 0,25 y 0,8. Por ejemplo, la relación (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) en peso está entre 0,4 y 1,0, entre 0,4 y 0,9 o entre 0,4 y 1. De hecho, sin querer limitarse a ninguna teoría, parece que si la relación (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) está por debajo del intervalo de la presente invención, existe el riesgo de que el grafito kish comprenda muchas impurezas. Además, se cree que si la relación (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) está por encima del intervalo de la presente invención, existe el riesgo de que se genere una gran cantidad de residuos químicos.
[0033] En la etapa B.iii), el ácido se selecciona de entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nítrico o una mezcla de los mismos.
[0034] A continuación, opcionalmente, el grafito kish se lava y se seca.
[0035] El grafito Kish pretratado obtenido después de la etapa B) del procedimiento según la presente invención tiene un tamaño superior o igual a 50 jm. El grafito Kish pretratado tiene una alta pureza, es decir, al menos del 90 %. Además, se mejora el grado de cristalinidad en comparación con los procedimientos convencionales, lo que permite mayores conductividades térmicas y eléctricas y, por lo tanto, mayor calidad.
[0036] En la etapa C.i), el grafito kish previamente tratado se mezcla con un ácido y nitrato de amonio (NH4NO3). El ácido
se selecciona entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nitrhídico o una mezcla de los mismos. En una realización preferida de la invención, la mezcla comprende el grafito kish pretratado, ácido sulfúrico y nitrato de amonio.
[0037] Preferentemente en la etapa C.ii), el agente oxidante se elige entre: permanganato de sodio (KMnO4), H2O2, O3, H2S2O8, H2SO5, KNO3, NaClO o una mezcla de los mismos. En una realización preferida de la invención, el agente oxidante es permanganato de potasio.
[0038] A continuación, en la etapa C.iii), cuando se alcanza el nivel objetivo de oxidación, se añade un elemento químico para detener la oxidación. El nivel de oxidación objetivo depende del grado de oxidación del óxido de grafeno, es decir, que tiene al menos un 45 % en peso de grupos oxígeno según la presente invención. El nivel de oxidación del óxido de grafeno se puede analizar mediante microscopía electrónica de barrido (SEM, por sus siglas en inglés), espectroscopía de difracción de rayos X (XRD, por sus siglas en inglés), microscopía electrónica de transmisión (TEM, por sus siglas en inglés), análisis LECO y/o espectroscopía Raman a lo largo del tiempo durante la oxidación. En la etapa C.iii), el elemento químico utilizado para detener la reacción de oxidación se elige entre: un ácido, agua no desionizada, agua desionizada, H2O2 o una mezcla de los mismos.
[0039] En una realización preferida de la invención, cuando se utilizan al menos dos elementos para detener la reacción, se utilizan sucesiva o simultáneamente. Preferentemente, se utiliza agua desionizada para detener la reacción y, a continuación, se utiliza H2O2 para eliminar el resto del agente oxidante. En otra realización preferida de la invención, se utiliza H2O2 para detener la reacción y eliminar el resto del agente oxidante. En otra realización preferida de la invención, se utiliza H2O2 para detener la reacción y eliminar el oxidante mediante la siguiente reacción:
2KMnO4 3 H2O2 = 2MnO2 302 2KOH 2 H2O.
[0040] A continuación, para eliminar MNO2, se puede usar un ácido. Por ejemplo, se añade HCI a la mezcla para que tenga lugar la siguiente reacción:
Mn02 2HCl = MnCl2 (soluble en agua) H2O.
[0041] Sin querer limitarse a ninguna teoría, parece que cuando el elemento para detener la reacción se añade a la mezcla, existe el riesgo de que esta adición sea demasiado exotérmica, lo que resulta en una explosión o salpicaduras. Por lo tanto, preferentemente en la etapa C.iii), el elemento utilizado para detener la reacción se añade lentamente a la mezcla obtenida en la etapa C.ii). Más preferentemente, la mezcla obtenida en la etapa C.ii) se bombea gradualmente en el elemento utilizado para detener la reacción de oxidación. Por ejemplo, la mezcla obtenida en la etapa C.ii) se bombea gradualmente en agua desionizada para detener la reacción.
[0042] En la etapa C.iv), el óxido de grafito se separa de la mezcla obtenida en la etapa C.iii). Preferentemente, el óxido de grafito se separa mediante centrifugación, decantación o filtración.
[0043] A continuación, opcionalmente, se lava óxido de grafito. Por ejemplo, el óxido de grafito se lava con un elemento elegido de entre: agua desionizada, agua no desionizada, un ácido o una mezcla de los mismos. Por ejemplo, el ácido se selecciona entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nitrhídico o una mezcla de los mismos.
[0044] Después, el óxido de grafito se puede secar, por ejemplo, con aire o a alta temperatura en la condición de vacío.
[0045] Preferentemente en la etapa C.v), la exfoliación se realiza mediante el uso de ultrasonido o exfoliación térmica. Preferentemente, la mezcla obtenida en la etapa C.iii) se exfolia en una o unas pocas capas de óxido de grafeno.
[0046] Al aplicar el procedimiento según la presente invención, se obtiene el óxido de grafeno que comprende al menos un 45 % en peso de grupos funcionales de oxígeno y que tiene un tamaño lateral medio entre 5 y 50 pm, preferentemente entre 10 y 40 pm y más preferentemente entre 10 y 30 pm que comprende al menos una lámina de capa.
[0047] La Figura 1 ilustra un ejemplo de una capa de óxido de grafeno según la presente invención. El tamaño lateral significa la longitud más alta de la capa a través del eje X, el espesor significa la altura de la capa a través del eje Z y el ancho de la nanoplaqueta se ilustra a través del eje Y.
[0048] La Figura 2 ilustra un ejemplo de unas pocas capas de óxido de grafeno según la presente invención. El tamaño lateral significa la longitud más alta de la capa a través del eje X, el espesor significa la altura de la capa a través del eje Z y el ancho de la nanoplaqueta se ilustra a través del eje Y.
[0049] El óxido de grafeno obtenido tiene buena calidad ya que se produce a partir del grafito Kish pretratado de la presente invención. El porcentaje de funcionalidades de oxígeno es alto. Por lo tanto, el óxido de grafeno es fácilmente dispersable en agua y otros solventes orgánicos.
[0050] Preferentemente, el óxido de grafeno se deposita en acero de sustrato metálico para mejorar algunas propiedades tales como la resistencia a la corrosión de un sustrato metálico.
[0051] En otra realización preferida de la invención, el óxido de grafeno se utiliza como reactivo de enfriamiento. De hecho, se puede añadir óxido de grafeno a un fluido de enfriamiento. Preferentemente, el fluido de enfriamiento se puede elegir de entre: agua, etilenglicol, etanol, aceite, metanol, silicona, propilenglicol, compuestos aromáticos alquilados, Ga líquido, In líquido, Sn líquido, formiato de potasio y una mezcla de los mismos. En esta realización, el fluido de enfriamiento se puede utilizar para enfriar un sustrato metálico.
[0052] Por ejemplo, el sustrato metálico se selecciona de entre: aluminio, acero inoxidable, cobre, hierro, aleaciones de cobre, titanio, cobalto, compuestos metálicos, níquel.
[0053] La invención se explicará ahora en ensayos realizados únicamente con fines informativos. No son limitantes.
Ejemplos:
[0054] Los Ensayos 1, 2 y 3 se prepararon proporcionando grafito Kish de una planta siderúrgica. A continuación, el grafito Kish se tamizó para clasificarse por tamaño de la siguiente manera:
a) Grafito Kish con un tamaño inferior a < 63 pm y
b) Grafito Kish con un tamaño superior o igual a 63 pm.
Se eliminó la fracción a) de grafito Kish que tiene un tamaño inferior a 63 pm.
[0055] Para los Ensayos 1 y 2, se realizó una etapa de flotación con la fracción b) de grafito Kish que tiene un tamaño superior o igual a 63 pm. La etapa de flotación se realizó con una máquina de flotación Humboldt Wedag con MIBC como espumador. Se aplicaron las siguientes condiciones:
- Volumen celular (I): 2,
- Velocidad del rotor (rpm): 2000,
- Concentración de sólidos (%): 5-10,
- Espumador, tipo: MIBC,
- Espumador, adición (g/T): 40,
- Tiempo(s) de acondicionamiento: 10 y
- Condiciones del agua: pH natural, temperatura ambiente.
[0056] A continuación, todos los Ensayos se lixiviaron con el ácido clorhídrico en solución acuosa. Los ensayos se lavaron a continuación con agua desionizada y se secaron al aire a 90 °C.
[0057] Después, el Ensayo 1 se mezcló con nitrato de amonio y ácido sulfúrico, mientras que los Ensayos 2 y 3 se mezclaron con nitrato de sodio y ácido sulfúrico en un baño de hielo. Se añadió lentamente permanganato de potasio a los Ensayos 1 a 3. A continuación, las mezclas se transfirieron al baño de agua y se mantuvieron a 35 °C para oxidar el grafito Kish.
[0058] Después de la oxidación, los Ensayos se bombearon gradualmente en agua desionizada.
[0059] Para el Ensayo 1, se retiró el calor y se añadió H2O2 en solución acuosa hasta que no hubo producción de gas. Se produjo MNO2. A continuación, se añadió HCl a la mezcla para eliminar MnO2.
[0060] Para los Ensayos 2 y 3, después de detener la reacción de oxidación, se retiró el calor y se añadió H2O2 en solución acuosa hasta que no hubo producción de gas y las mezclas se agitaron para eliminar el resto de H2O2.
[0061] A continuación, para todos los ensayos, el óxido de grafito se separó de la mezcla por decantación. Se exfoliaron usando ultrasonido para obtener una o dos capas de óxido de grafeno. Finalmente, el óxido de grafeno se separó de la mezcla mediante centrifugación, se lavó con agua y se secó con aire para obtener polvo de óxido de grafeno. El óxido de grafeno se analizó mediante microscopía electrónica de barrido (SEM, por sus siglas en inglés), espectroscopia de difracción de rayos X (XRD, por sus siglas en inglés), microscopía electrónica de transmisión (TEM, por sus siglas en inglés), análisis LECO y espectroscopia Raman.
[0062] Los ensayos 2 y 3 corresponden respectivamente a los ensayos 1 y 2 de WO2018/178842. La Tabla 1 muestra los resultados obtenidos.
continuación
[0063] El procedimiento del Ensayo 1 es más respetuoso con el medio ambiente que el procedimiento utilizado para los Ensayos 2 y 3. Además, el tiempo de oxidación con el procedimiento del ensayo 1 se divide entre dos. Finalmente, el óxido de grafeno obtenido con el Ensayo 1 tiene una alta calidad que comprende más grupos funcionales de oxígeno en comparación con los Ensayos 2 y 3.
Claims (8)
1. Procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish que comprende:
A. El suministro de grafito kish,
B. Una etapa de pretratamiento de dicho grafito kish que comprende las siguientes subetapas sucesivas:
i. Una etapa de tamizado donde el grafito kish se clasifica por tamaño de la siguiente manera:
a) Grafito Kish con un tamaño inferior a 50 pm,
b) Grafito kish con un tamaño superior o igual a 50 pm, eliminándose la fracción a) de grafito kish con un tamaño inferior a 50 pm,
ii. Una etapa de flotación con la fracción b) de grafito kish que tiene un tamaño superior o igual a 50 pm, y iii. Una etapa de lixiviación ácida en la que se añade un ácido, seleccionado de entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nítrico o una mezcla de los mismos, de modo que la relación en peso (cantidad de ácido)/(cantidad de grafito kish) esté entre 0,25 y 1,0,
C. Una etapa de oxidación del grafito kish pretratado obtenido después de la etapa B) para obtener óxido de grafeno que comprende las siguientes subetapas sucesivas:
i. La preparación de una mezcla que comprende el kish-grafito pretratado, un ácido y nitrato de amonio (NH4NO3), la mezcla se mantiene a una temperatura inferior a 5 °C, el ácido se selecciona de entre los siguientes elementos: ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico, ácido nítrico o una mezcla de los mismos,
ii. La adición de un agente oxidante, elegido de entre: permanganato de potasio (KMnO4), H2O2, O3, H2S2O8, H2SO5, KNO3, NaClO o una mezcla de los mismos, en la mezcla obtenida en la etapa C.i),
iii. Después de alcanzar el nivel objetivo de oxidación de al menos un 45 % en peso de los grupos funcionales de oxígeno, la adición de un elemento químico para detener la reacción de oxidación, siendo el elemento químico elegido de entre: un ácido, agua no desionizada, agua desionizada, H2O2 o una mezcla de los mismos, iv. Opcionalmente, la separación del óxido de grafito de la mezcla obtenida en la etapa C.iii), y
v. La exfoliación del óxido de grafito en óxido de grafeno.
2. Procedimiento según la reivindicación 1, donde en la etapa B.i), se elimina la fracción a) de grafito kish que tiene un tamaño inferior a 55 pm y en la etapa B.ii), la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño superior o igual a 55 pm.
3. Procedimiento según la reivindicación 2 donde en las etapas B.i) y B.ii) la fracción b) de grafito kish tiene un tamaño inferior o igual a 300 pm, eliminándose cualquier fracción de grafito kish que tenga un tamaño superior a 300 pm antes de la etapa B.ii).
4. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, donde en la etapa B.iii), la relación de cantidad de ácido/cantidad de grafito kish en peso está entre 0,25 y 0,9.
5. Procedimiento según la reivindicación 1, donde cuando se eligen al menos dos elementos para detener la reacción, se utilizan sucesiva o simultáneamente.
6. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, donde en la etapa C.iii), la mezcla obtenida en la etapa C.ii) se bombea gradualmente en el elemento utilizado para detener la reacción de oxidación.
7. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, donde en la etapa C.vii), la exfoliación se realiza mediante el uso de ultrasonido o exfoliación térmica.
8. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, donde en la etapa C.iv), el óxido de grafito se separa mediante centrifugación, decantación o filtración.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/IB2018/053415 WO2019220176A1 (en) | 2018-05-16 | 2018-05-16 | A method for the manufacture of graphene oxide from kish graphite |
| PCT/IB2019/052804 WO2019220227A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-04-05 | A method for the manufacture of graphene oxide from kish graphite |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2929991T3 true ES2929991T3 (es) | 2022-12-05 |
Family
ID=62563209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES19722693T Active ES2929991T3 (es) | 2018-05-16 | 2019-04-05 | Un procedimiento de fabricación de óxido de grafeno a partir de grafito kish |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12103852B2 (es) |
| EP (1) | EP3793942B1 (es) |
| JP (1) | JP7217757B2 (es) |
| KR (1) | KR102469124B1 (es) |
| CN (1) | CN112218825B (es) |
| CA (1) | CA3097304A1 (es) |
| ES (1) | ES2929991T3 (es) |
| WO (2) | WO2019220176A1 (es) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019220177A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Arcelormittal | A method for the manufacture of reduced graphene oxide from kish graphite |
| WO2019220174A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Arcelormittal | A method for the manufacture of pristine graphene from kish graphite |
| WO2019224578A1 (en) | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Arcelormittal | A method for the manufacture of graphene oxide from electrode graphite scrap |
| WO2019224579A1 (en) | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Arcelormittal | A method for the manufacture of reduced graphene oxide from electrode graphite scrap |
| WO2020229882A1 (en) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | Arcelormittal | A method for the manufacture of reduced graphene oxide from expanded kish graphite |
| JP7752819B2 (ja) | 2019-07-08 | 2025-10-14 | アルター ビオタ インコーポレイテッド | コンクリート混和剤として使用するための水性酸化グラフェンの製造 |
Family Cites Families (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5344917B2 (es) | 1973-01-31 | 1978-12-02 | ||
| JPS5318992B2 (es) | 1973-02-28 | 1978-06-17 | ||
| JPS5425913B2 (es) | 1975-03-24 | 1979-08-31 | ||
| JPS6369705A (ja) | 1986-09-12 | 1988-03-29 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 膨張黒鉛の製造方法 |
| JPH064482B2 (ja) | 1988-06-08 | 1994-01-19 | 三井鉱山株式会社 | 葉片状黒鉛粉末及びその製造方法 |
| JPH0647315A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-02-22 | Kobe Steel Ltd | キッシュ・グラファイトの選鉱方法 |
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| CN102292285B (zh) | 2009-01-26 | 2014-05-28 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 用于制备氧化石墨的硝酸盐基方法 |
| KR101109961B1 (ko) | 2010-11-29 | 2012-02-15 | 주식회사 오리엔트정공 | 그래핀 제조방법 |
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| CN102431998A (zh) | 2011-09-20 | 2012-05-02 | 深圳市长宜景鑫投资有限公司 | 化学法插层剥离石墨大量制备高质量石墨烯的方法 |
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| CN105948033B (zh) | 2016-07-11 | 2018-04-27 | 黑龙江碳时代石墨烯科技有限公司 | 湿法微波剥离制备石墨烯的方法 |
| US20180072573A1 (en) | 2016-09-14 | 2018-03-15 | Alpha Metals, Inc. | Production of Graphene |
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| US11702341B2 (en) * | 2017-03-31 | 2023-07-18 | Arcelormittal | Method for the manufacture of graphene oxide from Kish graphite |
| CN107572511A (zh) | 2017-09-15 | 2018-01-12 | 兰州大学 | 一种绿色规模化生产石墨烯的方法 |
| CN107673338B (zh) | 2017-11-13 | 2020-06-23 | 中南大学 | 一种利用废弃石墨电极制备石墨烯的方法 |
| WO2019220177A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Arcelormittal | A method for the manufacture of reduced graphene oxide from kish graphite |
| WO2019220174A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Arcelormittal | A method for the manufacture of pristine graphene from kish graphite |
| WO2019224578A1 (en) | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Arcelormittal | A method for the manufacture of graphene oxide from electrode graphite scrap |
| WO2019224579A1 (en) | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Arcelormittal | A method for the manufacture of reduced graphene oxide from electrode graphite scrap |
-
2018
- 2018-05-16 WO PCT/IB2018/053415 patent/WO2019220176A1/en not_active Ceased
-
2019
- 2019-04-05 CN CN201980032353.0A patent/CN112218825B/zh active Active
- 2019-04-05 JP JP2020564144A patent/JP7217757B2/ja active Active
- 2019-04-05 KR KR1020207032367A patent/KR102469124B1/ko active Active
- 2019-04-05 WO PCT/IB2019/052804 patent/WO2019220227A1/en not_active Ceased
- 2019-04-05 CA CA3097304A patent/CA3097304A1/en not_active Abandoned
- 2019-04-05 ES ES19722693T patent/ES2929991T3/es active Active
- 2019-04-05 EP EP19722693.9A patent/EP3793942B1/en active Active
- 2019-04-05 US US17/051,615 patent/US12103852B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2019220227A1 (en) | 2019-11-21 |
| KR20200141486A (ko) | 2020-12-18 |
| EP3793942A1 (en) | 2021-03-24 |
| CN112218825A (zh) | 2021-01-12 |
| CN112218825B (zh) | 2023-09-26 |
| EP3793942B1 (en) | 2022-10-12 |
| US20210221687A1 (en) | 2021-07-22 |
| WO2019220176A1 (en) | 2019-11-21 |
| CA3097304A1 (en) | 2019-11-21 |
| US12103852B2 (en) | 2024-10-01 |
| BR112020021745A2 (pt) | 2021-01-26 |
| JP7217757B2 (ja) | 2023-02-03 |
| KR102469124B1 (ko) | 2022-11-18 |
| JP2021523087A (ja) | 2021-09-02 |
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