ES2939138T3 - Procesos para producir capas de efecto óptico que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas orientadas - Google Patents
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Abstract
La presente invención se refiere al campo de los ensamblajes magnéticos y los procesos para producir capas de efectos ópticos (OEL) que comprenden partículas de pigmento magnetizables o magnéticas no esféricas orientadas magnéticamente sobre un sustrato. En particular, la presente invención se refiere a ensamblajes y procesos magnéticos para producir dichos OEL como medios antifalsificación en documentos de seguridad o artículos de seguridad o con fines decorativos. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
Description
DESCRIPCIÓN
Procesos para producir capas de efecto óptico que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas orientadas
Campo de la invención
La presente invención se refiere al campo de la protección de documentos de valor y bienes comerciales de valor contra falsificación y reproducción ilegal. En particular, la presente invención se refiere a capas de efecto óptico (OEL) que muestran un efecto óptico dependiente del ángulo de visión con forma en bucle, conjuntos magnéticos y procesos para producir dichas OEL, así como los usos de dichas capas de efecto óptico como medios anti falsificación en documentos.
Antecedentes de la invención
El uso de tintas, composiciones de recubrimiento, recubrimientos o capas, que contienen partículas de pigmento magnéticas o magnetizables, en particular partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables, para la producción de elementos de seguridad y documentos de seguridad es conocido en la técnica.
Las características de seguridad, por ejemplo para documentos de seguridad, pueden clasificarse en características de seguridad "encubiertas" y "evidentes". La protección proporcionada por las características de seguridad encubiertas se basa en el concepto de que dichas características están ocultas, requiriendo típicamente equipo especializado y conocimiento para su detección, mientras que las características de seguridad "evidentes" son fácilmente detectables con los sentidos humanos sin ayuda, por ejemplo dichas características pueden ser visibles y/o detectables a través de los sentidos táctiles en tanto que aún son difíciles de producir y/o copiar. Sin embargo, la efectividad de las características de seguridad evidentes depende en gran medida de su fácil reconocimiento como característica de seguridad, debido a que entonces los usuarios solo realizarán realmente una comprobación de seguridad basándose en dicha característica de seguridad si son conscientes de su existencia y naturaleza.
Los recubrimientos o capas que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables orientadas se divulgan por ejemplo en los documentos US 2.570.856; US 3.676.273; US 3.791.864; US 5.630.877 y US 5.364.689. Las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables en recubrimientos permiten la producción de imágenes, diseños y/o patrones magnéticamente inducidos, a través de la aplicación de un campo magnético correspondiente, que provoca una orientación local de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables en el recubrimiento sin endurecer, seguido por el endurecimiento de este último. Esto da como resultado efectos ópticos específicos, es decir imágenes, diseños o patrones fijos magnéticamente inducidos, que son altamente resistentes a la falsificación. Los elementos de seguridad basados en partículas de pigmento magnéticas o magnetizables orientadas solo pueden producirse teniendo acceso tanto a partículas de pigmento magnéticas o magnetizables o a una tinta o composición correspondiente que comprenda dichas partículas como a la tecnología particular empleada para aplicar dicha tinta o composición y para orientar dichas partículas de pigmento en la tinta o composición aplicada. Los efectos de movimiento en anillo se han desarrollado como eficientes elementos de seguridad. Los efectos de movimiento en anillo consisten en imágenes ópticamente ilusorias de objetos tales como embudos, conos, cuencos, círculos, elipses y semiesferas que parecen moverse en cualquier dirección x-y dependiendo del ángulo de inclinación de dicha capa de efecto óptico. Los métodos para producir efectos ópticos móviles se divulgan por ejemplo en los documentos EP 1 710 756 A1, US 8.343.615, EP 2 306 222 A1, EP 2 325 677 A2, y US 2013/084411.
El documento WO 2011/092502 A2 divulga un aparato para producir imágenes en anillos móviles que visualizan un anillo aparentemente móvil con el ángulo de visión cambiante. Las imágenes en anillo móvil divulgadas podían obtenerse o producirse mediante el uso de un dispositivo que permite la orientación de partículas magnéticas o magnetizables con la ayuda de un campo magnético producido por la combinación de una lámina magnetizable lisa y un imán esférico que tiene su eje Norte-Sur perpendicular al plano de la capa de recubrimiento y dispuesto por debajo de dicha lámina magnetizable lisa.
Las imágenes en anillos en movimiento de la técnica anterior se producen generalmente mediante la alineación de partículas magnéticas o magnetizables de acuerdo con el campo magnético de un único imán rotativo o estático. Dado que las líneas de campo de un único imán se doblan en general de modo relativamente suave, es decir tienen una baja curvatura, también el cambio en la orientación de las partículas magnéticas o magnetizables es relativamente suave sobre la superficie de la OEL. Además, la intensidad del campo magnético disminuye rápidamente con el incremento de la distancia desde el imán cuando solo se usa un único imán. Esto hace difícil obtener una característica altamente dinámica y bien definida a través de la orientación de las partículas magnéticas o magnetizables y puede dar como resultado efectos visuales que presenten bordes en anillo difusos.
El documento WO 2014/108404 A2 divulga capas de efecto óptico (OEL) que comprenden una pluralidad de
partículas magnéticas o magnetizables no esféricas magnéticamente orientadas, que se dispersan en un recubrimiento. El patrón de orientación magnético específico de las OEL divulgadas proporciona a un observador el efecto óptico o impresión de un cuerpo con forma en bucle que se mueve con la inclinación de la OEL. Más aún, el documento WO 2014/108404 A2 divulga unas OEL que presentan adicionalmente un efecto óptico o impresión de un resalte en el área central del cuerpo con forma en bucle, siendo producido dicho resalte por una zona de reflexión en el área central rodeada por el cuerpo con forma en bucle. El resalte divulgado proporciona la impresión de un objeto tridimensional, tal como una semiesfera, presente en el área central rodeada por un cuerpo con forma en bucle. El documento WO 2014/108303 A1 divulga capas de efecto óptico (OEL) que comprenden una pluralidad de partículas magnéticas o magnetizables no esféricas magnéticamente orientadas, que se dispersan en un recubrimiento. El patrón de orientación magnética específica de las OEL divulgadas proporciona a un observador el efecto óptico o impresión de una pluralidad de cuerpos con forma en bucle anidados rodeando un área central común, en la que dichos cuerpos presentan un ángulo de visión dependiente del movimiento aparente. Más aún, el documento WO 2014/108303 A1 divulga unas OEL que comprenden adicionalmente un resalte que está rodeado por el cuerpo con forma en bucle más interior y por consiguiente llena parcialmente el área central definida. El resalte divulgado proporciona la ilusión de un objeto tridimensional, tal como una semiesfera, presente en el área central. Los documentos WO 2017/064052 A1, WO 20170/80698 A1 y WO 2017/148789 A1 divulgan conjuntos y procesos magnéticos para producir capas de efecto óptico (OEL) que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas magnéticamente orientadas sobre un sustrato, en el que dichas capas de efecto óptico proporcionan una impresión óptica de uno o más cuerpos con forma en bucle que tienen un tamaño que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico.
El documento US 2012/205905 A1 divulga un dispositivo para la protección contra la falsificación de un billete, un documento de valor o un artículo. El dispositivo incluye un sustrato, y sobre el sustrato una pluralidad de zonas conjuntamente visibles del primer y de segundo recubrimientos endurecidos que incluyen partículas pigmentarias orientadas en un aglutinante transparente, el primer recubrimiento endurecido tiene una orientación de los pigmentos que imita una primera superficie curvada y el segundo recubrimiento endurecido tiene una orientación de los pigmentos que imita una segunda superficie curvada diferente de la primera superficie curvada. El dispositivo se caracteriza porque, a lo largo de una sección lineal a través del dispositivo, al menos una zona del segundo recubrimiento endurecido está situada contiguamente entre dos zonas del primer recubrimiento endurecido
El documento US 2018/111406 A1 se refiere al campo de la protección de documentos de seguridad como, por ejemplo, billetes de banco y documentos de identidad contra la falsificación y la reproducción ilegal. En particular, el documento US 2018/111406 A1 se refiere a procesos para producir capas de efecto óptico (OEL) que comprenden un motivo formado por al menos dos áreas de una única capa endurecida sobre un sustrato que comprende una fotomáscara.
Continúa existiendo la necesidad de características de seguridad que visualicen una dinámica de captura por el ojo de un efecto con forma en bucle que cambie su apariencia sobre un sustrato de buena calidad, que pueda verificarse fácilmente independientemente de la orientación del documento de seguridad, sea difícil de producir a escala masiva con los equipos disponibles para un falsificador y que pueda proporcionarse en gran número de contornos y formas posibles.
Sumario de la invención
Por consiguiente, es un objeto de la presente invención superar las deficiencias de la técnica anterior tal como se han analizado anteriormente.
En un primer aspecto, la presente invención proporciona un proceso para producir una capa de efecto óptico (OEL) (x20) sobre un sustrato (x10) y capas de efecto óptico (OEL) obtenidas del mismo, comprendiendo dicho proceso las etapas de:
a) aplicar sobre un superficie del sustrato (x10) de una primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen uno o más primeros patrones de una primera capa de recubrimiento (x21), estando dicha primera composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado,
b) exponer la primera composición de recubrimiento curable por radiación
a un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es o bien un único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o una combinación de dos o más dipolos magnéticos en una disposición con forma en bucle y que tiene un eje magnético resultante sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), opcionalmente una o más piezas polares (x33) y/u opcionalmente una matriz de soporte (x34) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene
un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) que tienen un eje magnético resultante sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10); o
a un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende una matriz de soporte (x34), un dispositivo de generación de campo magnético (x31) con forma en bucle que es o bien un único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección del campo magnético, un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32) que tienen un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y que tienen la misma dirección de campo magnético y/o una o más piezas polares (x33) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético; o
a un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende una matriz de soporte (x34), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que o bien es un único imán con forma en bucle o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial, un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético,
de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, y
c) curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa b) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más primeros patrones al menos parcialmente curados,
d) aplicar al menos parcialmente sobre uno o más de los primeros patrones al menos parcialmente curados de la etapa c) una segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen uno o más segundos patrones de una segunda capa de recubrimiento (x22), estando dicha segunda composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado,
e) exponer la segunda composición de recubrimiento curable por radiación a un campo magnético de un segundo conjunto magnético (x00-b), siendo seleccionado dicho segundo conjunto magnético (x00-b) de entre el primer conjunto magnético (x00-a) de la etapa b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) es diferente del primer conjunto magnético (x00-a) usado en la etapa b) y en el que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) de dicho conjunto magnético (x00-b) es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer conjunto magnético (x00-a) dentro del marco de referencia del sustrato (x10); y
f) curar al menos parcialmente la segunda composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa e) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más segundos patrones al menos parcialmente curados, en el que la capa de efecto óptico proporciona una impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y un contorno, que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico
en el que la capa de efecto óptico proporciona una impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y forma que varían con la inclinación de la capa de efecto óptico.
En un aspecto adicional, la presente invención proporciona capas de efecto óptico (OEL) (x20) preparadas mediante el proceso enumerado anteriormente.
En un aspecto adicional, se proporciona un uso de la capa de efecto óptico (OEL) (x20) para la protección de un documento de seguridad contra falsificación o fraude o para una aplicación decorativa.
En un aspecto adicional, la presente invención proporciona un documento de seguridad o un elemento decorativo u objeto que comprende una o más capas de efecto óptico tales como las descritas en el presente documento.
Breve descripción de los dibujos
La Fig. 1A ilustra ejemplos de un proceso adecuado para producir capas de efecto óptico (OEL) (120) que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas sobre un sustrato (110) de acuerdo con la presente invención. El proceso comprende las etapas de a) aplicar sobre la superficie del sustrato (110) la primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen un primer patrón de una primera capa de recubrimiento (121), b) exponer la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (100-a) de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, c) curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa b) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen un primer patrón al menos parcialmente curado, d), aplicar al menos parcialmente sobre el primer patrón al menos parcialmente curado de la etapa c) la segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que forme un segundo patrón de la segunda capa de recubrimiento (122), e) exponer la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (100-b) y f) curar al menos parcialmente la segunda composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa d) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y formando así el segundo patrón al menos parcialmente curado. La Fig. 1A (izquierda) ilustra esquemáticamente un proceso en el que la primera capa de recubrimiento (121) tiene el mismo tamaño que la segunda capa de recubrimiento (122) y en el que la segunda capa de recubrimiento (122) cubre totalmente la primera capa de recubrimiento (121), es decir la segunda capa de recubrimiento (122) se superpone totalmente a la primera capa de recubrimiento (121). La Fig. 1A (media) y 1A (derecha) ilustran esquemáticamente procesos en los que la primera capa de recubrimiento (121) tiene un tamaño diferente que la segunda capa de recubrimiento (122), en particular la segunda capa de recubrimiento (122) tiene un tamaño más pequeño que la primera capa de recubrimiento (121) y en el que la segunda capa de recubrimiento (122) cubre parcialmente la primera capa de recubrimiento (121), es decir la segunda capa de recubrimiento (122) se superpone parcialmente a la primera capa de recubrimiento (121).
La Fig. 1B ilustra un ejemplo de un proceso adecuado para producir capas de efecto óptico (OEL) (120) que comprenden partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas sobre un sustrato (110) de acuerdo con la presente invención. El proceso comprende las etapas de a) aplicar sobre la superficie del sustrato (110) la primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen dos primeros patrones, en particular dos primeros patrones separados, de una primera capa de recubrimiento (121), b) exponer la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (100-a) de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, c) curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa b) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen dos primeros patrones al menos parcialmente curados, d), aplicar al menos parcialmente sobre los dos primeros patrones al menos parcialmente curados de la etapa c) la segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que forme un segundo patrón de la segunda capa de recubrimiento (122), e) exponer la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (100-b) y f) curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa b) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y formando así el segundo patrón al menos parcialmente curado. La Fig. 1B ilustra esquemáticamente un proceso en el que la primera capa de recubrimiento (121) tiene un tamaño diferente que la segunda capa de recubrimiento (122) y en el que la segunda capa de recubrimiento (122) cubre parcialmente la primera capa de recubrimiento (121).
La Fig. 2-5 ilustra esquemáticamente primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x100-b) adecuados para el proceso de acuerdo con la presente invención, en el que dicho proceso usa dos de dichos conjuntos magnéticos, siendo usado uno durante la etapa b) con el primer conjunto magnético (x00-a) de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y siendo usado el otro durante la etapa e) con el segundo conjunto magnético (x00-b) de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22), en el que el segundo conjunto magnético (x00-b) es diferente del primer conjunto magnético (x00-a) y en el que la dirección magnética del
dispositivo de generación de campo magnético (x40) de dicho conjunto magnético (x00-b) es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer conjunto magnético (x00-a) dentro del marco de referencia del sustrato (x10).
La Fig. 2A ilustra esquemáticamente un primer/segundo conjunto magnético (200-a, 200-b) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (230) que comprende una matriz de soporte (234), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (231), en particular un dipolo magnético con forma en anillo, que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (210) y una pieza polar con forma en bucle (233), en particular una pieza polar con forma en anillo (233); y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (240) que comprende dos o más, en particular siete dipolos magnéticos (241) que tienen un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (210) y seis separadores (242).
La Fig. 2B1 ilustra esquemáticamente una vista inferior del dispositivo de generación de campo magnético (230) de la Fig. 2A.
La Fig. 2B2 ilustra esquemáticamente una sección transversal de la matriz de soporte (234) de la Fig. 2A.
La Fig. 3A ilustra esquemáticamente un primer/segundo conjunto magnético (300-a, 300-b) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (330) que comprende una matriz de soporte (334), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (331), en particular una combinación de cuatro dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una forma cuadrada, disposición que tiene una magnetización radial y dos o más dipolos magnéticos (332), en particular ocho dipolos magnéticos, teniendo cada uno un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (310); i) un dispositivo de generación de campo magnético (340), en particular un único dipolo magnético en barra, que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (310).
La Fig. 3B1 ilustra esquemáticamente una vista superior del dispositivo de generación de campo magnético (330) de la Fig. 3A.
La Fig. 3B2 ilustra esquemáticamente una sección transversal a lo largo de la línea (D-D') de la matriz de soporte (334) de la Fig. 3A.
La Fig. 4A ilustra esquemáticamente un primer/segundo conjunto magnético (400-a, 400-b) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (430), comprendiendo dicho conjunto magnético una matriz de soporte (434), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (431), en particular una combinación de cuatro dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una forma cuadrada, disposición que tiene una magnetización radial y dos o más dipolos magnéticos (432), en particular diecinueve dipolos magnéticos, teniendo cada uno un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (410); b) un dispositivo de generación de campo magnético (440), en particular un único dipolo magnético en barra, que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (410); y c) una o más piezas polares (450), en particular una pieza polar con forma de disco (450).
La Fig. 4B1 ilustra esquemáticamente una vista superior del dispositivo de generación de campo magnético (430) de la Fig. 4A.
La Fig. 4B2 ilustra esquemáticamente una sección transversal a lo largo de la línea (D-D') de la matriz de soporte (434) de la Fig. 4A.
La Fig. 5A ilustra esquemáticamente un primer/segundo conjunto magnético (500-a, 500-b) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (530) que comprende una matriz de soporte (534), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (531), en particular un dipolo magnético con forma en anillo, que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (510) y una pieza polar con forma en bucle (533), en particular una pieza polar con forma en anillo (533); y i) un dispositivo de generación de campo magnético (540) que comprende dos o más, en particular siete, dipolos magnéticos (541) que tienen un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (510) y seis separadores (542).
La Fig. 5B1 ilustra esquemáticamente una vista inferior del dispositivo de generación de campo magnético (530) de la Fig. 5A.
La Fig. 5B2 ilustra esquemáticamente una sección transversal de la matriz de soporte (534) de la Fig. 5A.
La Fig. 6A-C muestra imágenes de las OEL (620) tal como se ven bajo diferentes ángulos de visión y obtenidas mediante el proceso de acuerdo con la presente invención, en la que dicho proceso usa en secuencia dos diferentes primer o segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) representados en la Fig. 2-4. La Fig. 6A muestra imágenes de las OEL (620) tal como se ven bajo diferentes ángulos de visión y obtenidas mediante el proceso que usa el primer conjunto magnético (200-a) representado en la Fig. 2A-B2 y el segundo conjunto magnético (300-b) representado en la Fig. 3A-B2. Las Figs. 6B y 6C muestran imágenes de las OEL (620) tal como se ven bajo diferentes ángulos de visión y obtenidas mediante el proceso que usa el primer conjunto magnético (200-a) representado en la Fig. 2A-B2 y el segundo conjunto magnético (400-b) representado en la Fig. 4A-B2.
La Fig. 7 muestra imágenes de una OEL comparativa tal como se ve bajo diferentes ángulos de visión obtenida mediante un proceso que usa el primer conjunto magnético (500-a) representado en la Fig. 5A-B2 y el segundo conjunto magnético (400-b) representado en la Fig. 4A-B, en el que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (540) usado en la primera etapa de orientación es la misma que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (440) usado en la segunda etapa de orientación.
Definiciones
Las siguientes definiciones han de usarse para interpretar el significado de los términos analizados en la descripción y enumerados en las reivindicaciones.
Tal y como se usa en el presente documento, el artículo indefinido "un/una" indica uno así como más de uno y no necesariamente limita su nombre al singular.
Tal y como se usa en el presente documento, el término "aproximadamente" significa que la cantidad o valor en cuestión puede ser el valor específico designado o algún otro valor en su proximidad. Generalmente, el término "aproximadamente" indicando un cierto valor se pretende que indique un intervalo dentro de ± 5 % del valor. Como ejemplo, la frase "aproximadamente 100" indica un intervalo de 100 ± 5, es decir el intervalo desde 95 a 105. Generalmente, cuando se usa el término "aproximadamente", puede esperarse que puedan obtenerse resultados o efectos similares de acuerdo con la invención dentro de un intervalo de ± 5 % del valor indicado.
El término "sustancialmente paralelo" se refiere a desviarse no más de 10° respecto a la alineación paralela y el término "sustancialmente perpendicular" se refiere a desviarse no más de 10° respecto a la alineación perpendicular. Tal y como se usa en el presente documento, el término "y/o" significa que pueden estar presentes o bien todos o bien solamente uno de los elementos de dicho grupo. Por ejemplo, "A y/o B" debe indicar "solamente A, o solamente B o tanto A como B". En el caso de "solamente A", el término también cubre la posibilidad de que B esté ausente, es decir "solamente A, pero no B".
El término "comprendiendo" tal como se usa en el presente documento se pretende que sea no exclusivo y de final abierto. Así, por ejemplo una solución fuente que comprende un compuesto A puede incluir otros compuestos junto a A. Sin embargo, el término "comprendiendo" también cubre, como una realización particular del mismo, los significados más restrictivos de "consistiendo esencialmente en" y "consistiendo en", de modo que por ejemplo "una solución fuente que comprende A, B y opcionalmente C" puede consistir también (esencialmente) en A y en B o (esencialmente) consistir en A, B y C.
La expresión "composición de recubrimiento" se refiere a cualquier composición que sea capaz de formar una capa de efecto óptico (OEL) de la presente invención sobre un sustrato sólido y que pueda aplicarse preferentemente pero no exclusivamente mediante un método de impresión. La composición de recubrimiento comprende al menos una pluralidad de partículas magnéticas o magnetizables no esféricas y un aglomerante.
El término "capa de efecto óptico (OEL)" tal como se usa en el presente documento indica una combinación de dos capas que comprende al menos una pluralidad de partículas magnéticas o magnetizables no esféricas magnéticamente orientadas y un aglomerante, en el que la orientación de las partículas magnéticas o magnetizables no esféricas está fija o congelada (fijada/congelada) dentro del aglomerante.
La expresión "eje magnético" indica una línea teórica que conecta los polos Norte y Sur correspondientes de un imán y que se extiende a través de dichos polos. Este término no incluye ninguna dirección del campo magnético específica.
La expresión "dirección de campo magnético" indica la dirección del vector de campo magnético a lo largo de una línea de campo magnético que apunta desde el polo Norte en el exterior de un imán al polo Sur (véase Handbook of Physics, Springer 2002, páginas 463-464).
El término "curado" se usa para indicar un proceso en el que se incrementa una viscosidad de una composición de recubrimiento con relación a un estímulo para convertir un material a un estado, es decir un estado endurecido o sólido, en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas se fijan/congelan en sus posiciones y orientaciones actuales y ya no pueden moverse ni girar.
Donde la presente descripción se refiere a realizaciones/características "preferidas", las combinaciones de estas realizaciones/características "preferidas" también deberán considerarse como divulgadas siempre que esta combinación de realizaciones/características "preferidas" tenga significado técnicamente.
Tal y como se usa en el presente documento, la expresión "al menos" indica que se define uno o más de uno, por ejemplo uno o dos o tres.
La expresión "documento de seguridad" se refiere a un documento que se protege normalmente contra falsificación o fraude mediante al menos una característica de seguridad. Ejemplos de documentos de seguridad incluyen sin limitación documentos de valor y bienes comerciales de valor.
El término "característica de seguridad" se usa para indicar una imagen, patrón o elemento gráfico que puede usarse para finalidades de autenticación.
El término "cuerpo con forma en bucle" indica que las partículas magnéticas o magnetizables no esféricas se
proporcionan de modo que la OEL confiere al observador la impresión visual de un cuerpo cerrado recombinándose consigo mismo, formando un cuerpo con forma en bucle cerrado rodeando un área central oscura. El "cuerpo con forma en bucle" puede ser redondo, oval, elipsoide, cuadrado, triangular, rectangular o de cualquier forma poligonal. Ejemplos de formas en bucle incluyen un anillo o círculo, un rectángulo o cuadrado (con o sin esquinas redondeadas), un triángulo (con o sin esquinas redondeadas), un pentágono (regular o irregular) (con o sin esquinas redondeadas), un hexágono (regular o irregular) (con o sin esquinas redondeadas), un heptágono (regular o irregular) (con o sin esquinas redondeadas), un octágono (regular o irregular) (con o sin esquinas redondeadas), cualquier forma poligonal (con o sin esquinas redondeadas), etc. En la presente invención, la impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle se forma mediante la orientación de las partículas magnéticas o magnetizables no esféricas.
La presente invención proporciona procesos para producir capas de efecto óptico (OEL) (x20) sobre sustratos (x10) y capas de efecto óptico (OEL) (x20) obtenidas de la misma, en el que las capas de efecto óptico (OEL) (x20) así obtenidas proporcionan a un observador la impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y forma tal que varía con la inclinación del sustrato que comprende las capas de efecto óptico.
El campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respectivamente, interactúan de modo que el campo magnético resultante del conjunto magnético sea capaz de orientar partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en una composición de recubrimiento curable por radiación aún no curada, que se dispone en el campo magnético del conjunto magnético para producir una impresión óptica de la capa de efecto óptico de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico. La combinación de las dos capas de recubrimiento (x21, x22) de la OEL (x20) así obtenida, cada una teniendo una impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle diferente (por ejemplo uno es un círculo y el otro es un cuadrado) que tienen un tamaño que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico sobre un substrato (x10) proporciona ventajosamente la impresión óptica final de la OEL que presenta el cuerpo en forma en bucle que tiene un tamaño y forma que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico. Por un lado, la impresión óptica de las OEL así obtenidas es tal que un primer cuerpo con forma en bucle que tiene una primera forma es percibido como reduciendo su tamaño con la inclinación del sustrato en una primera dirección, mientras que una segunda forma en bucle que tiene una segunda forma es percibida como incrementando su tamaño tras la inclinación en la misma primera dirección y viceversa, cuando se inclina el sustrato en la dirección opuesta. La percepción del efecto combinado es tal que el primer cuerpo con forma en bucle es percibido como transformándose en el segundo cuerpo con forma en bucle (y viceversa) con la inclinación del sustrato en la primera dirección (respectivamente, en la dirección opuesta). La impresión óptica de la OEL así obtenida es tal que cuando el sustrato se inclina en una dirección respecto a un ángulo de visión perpendicular, el cuerpo con forma en bucle que tiene una primera forma reduce su tamaño a otra segunda forma que amplía su tamaño o el cuerpo con forma en bucle que tiene una primera forma incrementa su tamaño a otra segunda forma que reduce su tamaño. La Fig. 6A-C proporciona ejemplos de las OEL obtenidas de acuerdo con el proceso de la invención y que presentan la impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y forma que varían con la inclinación de la capa de efecto óptico tal como se ha descrito anteriormente en el presente documento.
La capa de efecto óptico (OEL) (x20) descrita en el presente documento se forma mediante al menos la primera capa de recubrimiento (x21) al menos parcialmente curada y la segunda capa de recubrimiento (x22) al menos parcialmente curada, en el que la segunda capa de recubrimiento (x22) al menos parcialmente curada está al menos parcialmente presente en la parte superior de la primera capa de recubrimiento (x21) al menos parcialmente curada. La primera capa de recubrimiento (x21) tiene la forma de uno o más primeros patrones y la segunda capa de recubrimiento (x22) tiene la forma de uno o más segundos patrones. La primera capa de recubrimiento (x21) al menos parcialmente curada tiene la misma forma que la forma de los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y la segunda capa de recubrimiento (x22) al menos parcialmente curada tiene la misma forma que la forma de uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22).
La forma de los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) puede ser la misma que la forma de los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) o puede ser diferente. Los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) descritos en el presente documento pueden ser independientemente continuos o discontinuos. Preferentemente, la forma de los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y la forma de los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) representan independientemente una o más marcas, puntos y/o líneas. Tal y como se usa en el presente documento, el término "marcas" quiere indicar diseños y patrones, incluyendo sin limitación símbolos, símbolos alfanuméricos, motivos, letras, palabras, números, logotipos y dibujos. Cuando más de unos primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y más de unos segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) están presentes sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, dichos más de un primeros/segundos patrones pueden consistir independientemente en líneas, puntos y/o marcas que están separadas entre sí mediante una área de la primera capa de recubrimiento (x21), un área libre de la segunda capa de recubrimiento (x22), respectivamente.
Tal como se muestra en la Fig. 1A-B, el tamaño de la primera capa de recubrimiento (x21) y el tamaño de uno o más primeros patrones de dicha primera capa de recubrimiento (x21) pueden ser el mismo que el tamaño de la segunda capa de recubrimiento (x22) y el tamaño de los uno o más segundos patrones de dicha segunda capa de recubrimiento (x22) o pueden ser diferentes.
Tal como se muestra en la Fig. 1A-B, la segunda capa de recubrimiento (x22) está presente en la parte superior de la primera capa de recubrimiento (x21), en el que dicha segunda capa de recubrimiento (x22) puede estar totalmente cubierta por la primera capa de recubrimiento (x21) (véase la Fig. 1A-izquierda) o puede estar parcialmente cubierta por la primera capa de recubrimiento (x21) (véase la Fig. 1A-media y derecha y la Fig. 1B).
Como se muestra por ejemplo en la Fig. 1A-B, la presente invención proporciona métodos y procesos para producir la capa de efecto óptico (OEL) (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento y capas de efecto óptico (OEL) (x20) obtenidas de la misma, en el que dichos métodos y procesos comprenden dos etapas independientes (es decir etapas a) y d) de aplicación de una composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, estando dicha composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado, dos etapas independientes (es decir etapas b) y e)) de exposición de la composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético de los conjuntos magnéticos (100-a, 100-b) de modo que orienten al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas y dos etapas independientes (es decir etapas d) y f)) de curado al menos parcialmente de las composiciones de recubrimiento curables por radiación a un segundo estado de modo que fijen las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas.
Los procesos descritos en el presente documento pueden llevarse a cabo en dos fases de un aparato que comprende a) una unidad de aplicación, preferentemente una unidad de impresión, b) una unidad de orientación magnética y c) una unidad de curado, en el que la unidad de orientación magnética comprende durante el primer pase el primer conjunto magnético (x00-a) y comprende durante el segundo pase el segundo conjunto magnético (x00.b). Como alternativa, el proceso descrito en el presente documento puede llevarse a cabo en un único paso en un aparato que comprende a) una primera unidad de aplicación, preferentemente una primera unidad de impresión, b) una primera unidad de orientación magnética que comprende el primer conjunto magnético (x00-a), c) una primera unidad de curado, d) una segunda unidad de aplicación, preferentemente una segunda unidad de impresión, e) una segunda unidad de orientación magnética que comprende el segundo conjunto magnético (x00-b) y f) una segunda unidad de curado. Las unidades de orientación magnética descritas en el presente documento pueden consistir en un cilindro magnético rotativo que comprende uno o más del primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento, en el que dichos uno o más primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento se montan sobre ranuras circunferenciales del cilindro magnético rotativo o pueden consistir en una unidad de plancha de impresión que comprende uno o más del primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento, en el que dichos uno o más primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento se montan en rebajes de la unidad de impresión de plancha. El cilindro magnético rotativo descrito en el presente documento está indicado para ser usado en, o en conjunto con, o ser parte de una unidad de aplicación tal como una unidad de impresión o recubrimiento. El cilindro magnético rotativo puede ser parte de una prensa de impresión industrial de alimentación por hojas o alimentación por bobina, rotativa que funciona con alta velocidad de impresión de forma continua. La unidad de impresión de plancha puede ser parte de una prensa de impresión industrial de alimentación por hojas que funciona de forma discontinua.
El proceso descrito en el presente documento comprende una etapa a) y una etapa d) de aplicación de la composición de recubrimiento curable por radiación descrita en el presente documento que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, estando dicha composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado. La etapa a) de aplicación sobre la superficie del sustrato (x10) de la primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descrita en el presente documento de modo que forme los uno o más primeros patrones descritos en el presente documento de la primera capa de recubrimiento (x21) descrita en el presente documento y/o la etapa d) de aplicar sobre la superficie del sustrato (x10) la segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descrita en el presente documento de modo que formen los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) descrita en el presente documento se llevan a cabo preferentemente de modo independiente mediante un proceso de impresión seleccionado preferentemente entre el grupo que consiste en serigrafía, huecograbado, flexografía, impresión por chorro de tinta e impresión calcográfica (también denominada en la técnica como impresión en placa de cobre grabada e impresión en troquel de acero grabado), más preferentemente seleccionadas de entre el grupo que consiste en serigrafiado, huecograbado y flexografía.
Posteriormente, de modo parcialmente simultáneo con o simultáneamente con la aplicación de la primera composición de recubrimiento curable por radiación descrita en el presente documento (etapa a)) y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación (etapa d)) descritas en el presente documento, respectivamente, sobre la superficie del sustrato (x10) descrita en el presente documento o al menos parcialmente sobre los uno o
más de los primeros patrones al menos parcialmente curados, respectivamente, al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas independientemente se orientan mediante la exposición de la composición de recubrimiento curable por radiación, la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación respectivamente, al campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) y al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), respectivamente, de modo que se alineen al menos parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas a lo largo de las líneas del campo magnético generado por el conjunto magnético respectivo.
Posteriormente a o parcialmente de modo simultáneo con las etapas de orientación/alineación de al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas mediante la aplicación del campo magnético descrito en el presente documento (etapa b) y etapa e)), se fija o congela la orientación de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas. La primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación deben tener así significativamente un primer estado, es decir un estado líquido o pastoso, en el que las composiciones de recubrimiento curables por radiación están suficientemente húmedas o blandas, de modo que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas dispersas en las composiciones de recubrimiento curables por radiación son libremente móviles, giratorias y/u orientables tras la exposición al campo magnético, y un segundo estado curado (por ejemplo sólido), en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas se fijan o congelan en sus posiciones y orientaciones respectivas.
Por consiguiente, los procesos para producir la capa de efecto óptico (OEL) (x20) descritos en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento independientemente comprende una etapa c) y una etapa f) de curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa a) y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa d) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas. La etapa de curar al menos parcialmente la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación (etapas a) y d)) puede llevarse a cabo de modo independiente posteriormente a, o parcialmente simultáneamente con, la etapa de orientación/alineación de al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas mediante la aplicación del campo magnético descrito en el presente documento (etapa b) y etapa e)). Preferentemente, la etapa de curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación hasta un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más de primeros patrones al menos parcialmente curados (etapa c)) se lleva a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a) descrito en el presente documento (etapa b)). Preferentemente, la etapa de curar al menos parcialmente la segunda composición de recubrimiento curable por radiación hasta un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más de segundos patrones al menos parcialmente curados (etapa e)) se lleva a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) descrito en el presente documento (etapa e)). Preferentemente, el proceso para producir la capa de efecto óptico (OEL) (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento comprende la etapa c) llevada a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa b) y la etapa f) que se llevan a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa e). Por "parcialmente de modo simultáneo", se quiere indicar que ambas etapas se realizan parcialmente de modo simultáneo, es decir los tiempos de realización de cada una de las etapas se solapan parcialmente. En el contexto descrito en el presente documento, cuando el curado se realiza parcialmente de modo simultáneo con la etapa b) de orientación y la etapa e) de orientación, respectivamente, debe entenderse que el curado se hace efectivo después de la orientación de modo que las partículas de pigmento se orienten antes del endurecimiento completo o parcial de la OEL.
El primer y segundo estados de la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación se proporcionan mediante el uso de un cierto tipo de composición de recubrimiento curable por radiación. Por ejemplo, los componentes de la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación distintas de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas pueden tomar la forma de una tinta o composición de recubrimiento curable por radiación tales como las que se usan en aplicaciones de seguridad, por ejemplo para impresión de billetes de banco. El primer y segundo estados anteriormente mencionados se proporcionan mediante el uso de un material que muestra un incremento en la viscosidad en reacción a una exposición a una radiación electromagnética. Es decir, Cuando el material aglomerante fluido se cura o solidifica, dicho material aglomerante se convierte al segundo estado en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas se fijan en sus posiciones y orientaciones actuales y ya no pueden moverse ni girar dentro del material aglomerante.
Como es conocido para los expertos en la materia, los ingredientes comprendidos en una composición de recubrimiento curable por radiación a ser aplicada sobre una superficie tal como un sustrato y las propiedades físicas de dicha composición de recubrimiento curable por radiación deben cumplir con los requisitos del proceso usado para transferir la composición de recubrimiento curable por radiación a la superficie del sustrato. Por consiguiente, el material aglomerante comprendido en la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento se eligen típicamente entre los conocidos en la técnica y dependen del proceso
de recubrimiento o impresión usado para aplicar la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación y el proceso de curado por radiación elegido.
En las capas de efecto óptico (OEL) (x20) descritas en el presente documento, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento se dispersan respectivamente en la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación que comprende un material aglomerante curado que fija/congela la orientación de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas. El material aglomerante curado es al menos parcialmente transparente a la radiación electromagnética de un intervalo de longitudes de onda comprendidas entre 200 nm y 2500 nm. El material aglomerante es así, al menos en su estado curado o sólido (también denominado como el segundo estado en el presente documento), al menos parcialmente transparente a la radiación electromagnética de un intervalo de longitudes de onda comprendidas entre 200 nm y 2500 nm, es decir dentro del intervalo de longitudes de onda que se denomina típicamente como el "espectro óptico" y que comprende partes de infrarrojo, visible y UV del espectro electromagnético, de modo que las partículas contenidas en el material aglomerante en su estado curado o sólido y su reflectividad dependiente de la orientación puedan ser percibidas a través del material aglomerante. Preferentemente, el material aglomerante curado es al menos parcialmente transparente a la radiación electromagnética de un intervalo de longitudes de onda comprendidas entre 200 nm y 800 nm, más preferentemente comprendido entre 400 nm y 700 nm. En este caso, el término "transparente" indica que la transmisión de la radiación electromagnética través de una capa de 20 |jm del material aglomerante curado tal como está presente en la OEL (x20) (sin incluir las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta, sino todos los otros componentes opcionales de la OEL en caso de que dichos componentes están presentes) sea al menos el 50 %, más preferentemente al menos el 60 %, incluso más preferentemente al menos el 70 %, de la(s) longitud(es) de onda considerada(s). Esto puede determinarse por ejemplo mediante la medición de la transmitancia de una pieza de ensayo del material aglomerante curado (sin incluir las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas) de acuerdo con métodos de ensayo bien establecidos, por ejemplo DIN 5036-3 (1979-11). Si la OEL (x20) sirve como una característica de seguridad encubierta, entonces típicamente serán necesarios medios técnicos para detectar el efecto óptico (completo) generado por la OEL (x20) bajo las condiciones de iluminación respectivas que comprenden la longitud de onda no visible seleccionada; requiriendo dicha detección que la longitud de onda de la radiación incidente se seleccione fuera del intervalo visible, por ejemplo en el intervalo del UV cercano. En este caso, es preferible que la OEL (x20) comprenda partículas de pigmento luminiscentes que muestran luminiscencia en respuesta a la longitud de onda seleccionada fuera del espectro visible contenido en la radiación incidente. Las partes infrarrojas, visibles y UV del espectro electromagnético corresponden aproximadamente a intervalos de longitud de onda entre 700-2500 nm, 400-700 nm y 200-400 nm respectivamente.
Como se ha mencionado anteriormente en el presente documento, la primera y segunda composiciones de recubrimiento por radiación descritas en el presente documento dependen del proceso de recubrimiento o impresión usado para aplicar dichas composiciones de recubrimiento curables por radiación y el proceso de curado elegido. Preferentemente, el curado de la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación implica una reacción química que no se invierte mediante un simple incremento de temperatura (por ejemplo hasta 80 °C) que puede tener lugar durante un uso típico de un artículo que comprenda la OEL (x20) descrita en el presente documento. El término "curado" o "curable" se refiere a procesos que incluyen la reacción química, la reticulación o polimerización de al menos un componente en la composición de recubrimiento curable por radiación aplicada de tal manera que se convierte en un material polimérico que tiene un peso molecular mayor que las sustancias de inicio. El curado por radiación conduce ventajosamente a un incremento instantáneo en la viscosidad de la composición de recubrimiento curable por radiación después de la exposición a la irradiación de curado, impidiendo así cualquier movimiento adicional de las partículas de pigmento y en consecuencia cualquier pérdida de información después de la etapa de orientación magnética. Preferentemente, la etapa de curado (etapa c)) se lleva a cabo mediante el curado por radiación incluyendo radiación de luz UV-visible o mediante curado por radiación por haz-E, más preferentemente mediante curado por radiación con luz UV-visible.
Por lo tanto, la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación adecuadas para la presente invención incluyen composiciones curables por radiación que pueden curarse mediante una radiación por luz UV-visible (de aquí en adelante denominadas como radiación curable UV-Vis) o mediante radiación por haz-E (de aquí en adelante denominado como EB). Las composiciones curables por radiación son conocidas en la técnica y pueden hallarse en libros de texto estándar tal como las series "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints", Volumen IV, Formulación, por C. Lowe, G. Webster, S. Kessel e I. McDonald, 1996 por John Wiley & Sons en asociación con SITA Technology Limited. De acuerdo con una realización particularmente preferida de la presente invención, la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento son composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis.
Preferentemente, la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis comprenden independientemente uno o más compuestos seleccionados de entre el grupo que consiste en compuestos curables radicalmente y compuestos curables catiónicamente. La primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis descritas en el presente documento pueden ser independientemente sistemas híbridos y comprender una mezcla de uno o más compuestos curables catiónicamente y uno o más compuestos curables radicalmente. Los compuestos curables catiónicamente se curan mediante mecanismos catiónicos que
incluyen típicamente la activación por radiación de uno o más fotoiniciadores que liberan especies catiónicas, tales como ácidos, lo que a su vez inicia el curado de modo que reaccionan y/o reticulan los monómeros y/u oligómeros para por consiguiente curar la composición de recubrimiento curable por radiación. Los compuestos curables radicalmente se curan mediante mecanismos de radical libre que incluyen típicamente la activación por radiación de uno o más fotoiniciadores, generando por consiguiente radicales que a su vez inician la polimerización de modo que se cure la composición de recubrimiento curable por radiación. Dependiendo de los monómeros, oligómeros o prepolímeros usados para preparar el aglomerante comprendido en la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis descritas en el presente documento, podrían usarse diferentes fotoiniciadores. Ejemplos adecuados de fotoiniciadores radicales libres son conocidos por los expertos en la materia e incluyen sin limitación acetofenonas, benzofenonas, benzil dimetil cetales, alfa-aminocetonas, alfa-hidroxicetonas, óxidos de fosfina y derivados del óxido de fosfina, así como muestras de dos o más de los mismos. Ejemplos adecuados de fotoiniciadores catiónicos son conocidos por los expertos en la materia e incluyen sin limitación sales de onio tales como sales orgánicas de yodonio (por ejemplo, sales de yodonio diarilo), oxonio (por ejemplo, sales de triarilo oxonio) y sabes de sulfonio (por ejemplo sales de triarilo sulfonio), así como muestras de dos o más de los mismos. Otros ejemplos de fotoiniciadores útiles pueden hallarse en libros de texto estándar tales como "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints", Volumen III, "Photoinitiators for Free Radical Cationic and Anionic Polymerization", 2a edición, por J. V. Crivello y K. Dietliker, editado por G. Bradley y publicado en 1998 por John Wiley & Sons en asociación con SITA Technology Limited. Puede ser también ventajoso incluir un sensibilizante en conjunto con los uno o más fotoiniciadores para conseguir un curado eficiente. Ejemplos típicos de fotosensibilizadores incluyen sin limitación isopropil-tioxantona (ITX), 1-cloro-2-propoxi-tioxantona (CPTX), 2-clorotioxantona (CTX) y 2,4-dietil-tioxantona (DETx ) y mezclas de dos o más de los mismos. Los uno o más fotoiniciadores comprendidos en las composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis están preferentemente presentes en una cantidad total desde aproximadamente 0,1 % en peso a aproximadamente 20 % en peso, más preferentemente de aproximadamente 1 % en peso a aproximadamente 15 % en peso, basándose los porcentajes en peso en el peso total de las composiciones de recubrimiento curables por radiación UV-Vis.
La primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento pueden comprender además independientemente una o más sustancias marcadoras o indicadores y/o uno o más materiales legibles por máquina seleccionados de entre un grupo que consiste en materiales magnéticos (diferentes de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta descritas en el presente documento), materiales luminiscentes, materiales eléctricamente conductores y materiales absorbentes del infrarrojo. Tal y como se usa en el presente documento, la expresión "material legible por máquina" se refiere a un material que presenta al menos una propiedad distinguible que no es perceptible por el ojo desnudo y que puede estar comprendida en una capa de modo que le confiera una forma de autenticar dicha capa o artículo que comprende dicha capa mediante el uso de un equipo particular para su autenticación.
La primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento pueden comprender además independientemente uno o más componentes colorantes seleccionados de entre el grupo que consiste en partículas de pigmento orgánicas, partículas de pigmento inorgánicas y tintes orgánicos y/o uno o más aditivos. Estos últimos incluyen sin limitación compuestos y materiales que se usan para ajuste de parámetros físicos, reológicos y químicos de la composición de recubrimiento curable por radiación tales como la viscosidad (por ejemplo disolventes, espesantes y tensioactivos), la consistencia (por ejemplo, agentes anti decantación, rellenos y plastificantes), las propiedades espumantes (por ejemplo agentes antiespuma), las propiedades lubricantes (ceras, aceites), estabilidad al UV (fotoestabilizadores), las propiedades de adhesión, las propiedades antiestáticas, la estabilidad de almacenamiento (inhibidores de la polimerización), etc. Los aditivos descritos en el presente documento pueden estar presentes en la composición de recubrimiento curable por radiación en cantidades y formas conocidas en la técnica, incluidos los llamados nano-materiales en los que al menos una de las dimensiones del aditivo está en el intervalo de 1 a 1000 nm.
El (los) aglomerante(s), el (los) fotoiniciador(es), la(s) sustancia(s) marcadora(s), el (los) indicadores, el (los) material(es) legible(s) por máquina, el (los) componente(s) colorante(s) y aditivo(s) de la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento pueden ser independientemente los mismos o pueden ser independientemente diferentes.
La primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación descritas en el presente documento comprenden independientemente las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento. Preferentemente, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso, más preferentemente desde aproximadamente el 4 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso, basándose los porcentajes en peso en el peso total de la primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende el material aglomerante, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas y otros componentes opcionales de la primera composición de recubrimiento curable por radiación, respectivamente. Preferentemente, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso, más preferentemente desde aproximadamente el 4 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso, basándose los porcentajes en peso en el peso total de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende el material
aglomerante, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas y otros componentes opcionales de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación, respectivamente.
De acuerdo con una realización de la presente invención, la primera composición de recubrimiento curable por radiación y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación descritas en el presente documento comprenden una cantidad diferente de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento, en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están preferentemente presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso, más preferentemente de aproximadamente el 4 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso en la primera composición de recubrimiento curable por radiación y en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están preferentemente presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso, más preferentemente desde aproximadamente el 4 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso en la segunda composición de recubrimiento curable por radiación. De acuerdo con otra realización de la presente invención, la primera composición de recubrimiento curable por radiación y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación descritas en el presente documento comprenden aproximadamente la misma cantidad de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento en la primera y composiciones de recubrimiento curables por radiación, preferentemente en una cantidad de aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso, más preferentemente de aproximadamente el 4 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso.
Las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento se definen teniendo, debido a su forma no esférica, reflectividad no isotrópica con respecto a una radiación electromagnética incidente para la que el material aglomerante endurecido es al menos parcialmente transparente. Tal y como se usa en el presente documento, la expresión "reflectividad no isotrópica" indica que la proporción de radiación incidente desde un primer ángulo que se refleja por una partícula en una cierta dirección (visión) (un segundo ángulo) es función de la orientación de las partículas, es decir que un cambio de orientación de la partícula con respecto al primer ángulo puede conducir a una magnitud diferente de la reflexión hacia la dirección de visión. Preferentemente, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento tienen una reflectividad no isotrópica con respecto a la radiación electromagnética incidente en algunas partes o en todo el intervalo de longitudes de onda de desde aproximadamente 200 a aproximadamente 2500 nm, más preferentemente desde aproximadamente 400 a aproximadamente 700 nm, de modo que un cambio en la orientación de las partículas da como resultado un cambio de la reflexión por esa partícula en una cierta dirección. Como es conocido para el experto en la materia, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables descritas en el presente documento son diferentes de los pigmentos convencionales, mostrando dichas partículas de pigmento convencionales el mismo color para todos los ángulos de visión, mientras que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables descritas en el presente documento presentan reflectividad no isotrópica como se ha descrito anteriormente en el presente documento.
Las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no isotrópicas tienen preferentemente en forma de elipsoide esférico o alargado, forma de plaquetas o partículas con forma de aguja o una mezcla de dos o más de los mismos y más preferentemente partículas con forma de plaqueta.
Ejemplos adecuados de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento incluyen sin limitación partículas de pigmento que comprenden un metal magnético seleccionado de entre el grupo que consiste en cobalto (Co), hierro (Fe), gadolinio (Gd) y níquel (Ni); aleaciones magnéticas de hierro, manganeso, cobalto, níquel y mezclas de dos o más de los mismos; óxidos magnéticos de cromo, manganeso, cobalto, hierro, níquel y mezclas de dos o más de los mismos; y mezclas de dos o más de los mismos. El término "magnético" con referencia a los metales, aleaciones y óxidos se dirige a metales, aleaciones y óxidos ferromagnéticos o ferrimagnéticos. Los óxidos magnéticos de cromo, manganeso, cobalto, hierro, níquel o una mezcla de dos o más de los mismos pueden ser óxidos puros o mezclados. Ejemplos de óxidos magnéticos incluyen sin limitación óxidos de hierro tales como hematita (Fe2O3), magnetita (Fe3O4), dióxido de cromo (CrO2), ferritas magnéticas (MFe2O4), espinelas magnéticas (MR2O4), hexaferritas magnéticas (MFe-^O-ig ), ortoferritas magnéticas (RFeO3), granates magnéticos M3R2(AO4)3 , en las que M indica metal bivalente, R indica metal trivalente y A indica metal tetravalente.
Ejemplos de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento incluyen sin limitación partículas de pigmento que comprenden una capa magnética M fabricada de uno o más metales magnéticos tales como cobalto (Co), hierro (Fe), gadolinio (Gd) o níquel (Ni); y una aleación magnética de hierro, cobalto o níquel, en la que dichas partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta pueden ser estructuras multicapa que comprenden una o más capas adicionales. Preferentemente, las una o más capas adicionales son capas A independientemente fabricadas de uno o más materiales seleccionados de entre el grupo que consiste en fluoruros metálicos tales como fluoruro de magnesio (MgF2), óxido de silicio (SiO), dióxido de silicio (SiO2), óxido de titanio (TiO2), sulfuro de zinc (ZnS) y óxido de aluminio (AhO3), más preferentemente dióxido de silicio (SiO2); o capas B fabricadas independientemente de uno o más materiales seleccionados de entre el grupo que consiste en metales y aleaciones metálicas, preferentemente seleccionados de entre el grupo que consiste en metales reflectores y aleaciones metálicas reflectoras y más preferentemente seleccionadas entre el grupo que
consiste en aluminio (Al), cromo (Cr) y níquel (Ni) y aún más preferentemente aluminio (Al); o una combinación de una o más capas A tal como las descritas anteriormente y una o más capas B tal como las descritas anteriormente. Ejemplos típicos de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta que son de estructuras multicapa descritas anteriormente incluyen sin limitación estructuras multicapa A/M, estructuras multicapa A/M/A, estructuras multicapa A/M/B, estructuras multicapa A/B/M/A, estructuras multicapa A/B/M/B, estructuras multicapa A/B/M/B/A, estructuras multicapa B/M, estructuras multicapa B/M/B, estructuras multicapa B/A/M/A, estructuras multicapa B/A/M/B, estructuras multicapa B/A/M/B/A, en el que las capas A, las capas magnéticas M y las capas B se eligen de entre las descritas anteriormente.
Al menos parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento pueden estar constituidas por partículas de pigmento magnéticas o magnetizables ópticamente variables no esféricas y/o partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas que tienen propiedades ópticamente no variables. Preferentemente, al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento está constituida por partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables. Además de la seguridad evidente proporcionada por la propiedad de cambio de color de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables, lo que permite una fácil detección, reconocimiento y/o discriminación de un artículo o documento de seguridad que lleve una tinta, composición de recubrimiento curable por radiación, recubrimiento o capa que comprenda las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables descritas en el presente documento frente a sus posibles falsificaciones usando los sentidos humanos sin ayuda, las propiedades ópticas de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta ópticamente variables pueden usarse también como una herramienta legible por máquina para el reconocimiento de la OEL. Así, las propiedades ópticas de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables pueden usarse simultáneamente como una característica de seguridad encubierta o semi-encubierta en un proceso de autenticación en el que se analizan las propiedades ópticas (por ejemplo espectrales) de las partículas de pigmento. El uso de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables en composiciones de recubrimiento curables por radiación para producir la OEL (x20) mejora la significancia de dicha OEL como una característica de seguridad en aplicaciones de documentos de seguridad, debido a que dichos materiales (es decir las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables) están reservadas a la industria de impresión de documentos de seguridad y no están disponibles comercialmente para el público.
Más aún, y debido a sus características magnéticas, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento son legibles por máquina y por lo tanto las composiciones de recubrimiento curables por radiación que comprenden esas partículas de pigmento pueden detectarse por ejemplo con detectores magnéticos específicos. Las composiciones de recubrimiento curables por radiación que comprenden las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento pueden usarse por lo tanto como un elemento de seguridad (herramienta de autenticación) encubierta o semi-encubierta para documentos de seguridad.
Como se ha mencionado anteriormente, preferentemente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas está constituida por partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables. Estas pueden seleccionarse más preferentemente de entre el grupo que consiste en partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada no esféricas, partículas de pigmento magnéticas de cristal líquido colesterólicas no esféricas, partículas de pigmento de interferencia recubiertas no esféricas que comprenden un material magnético y mezclas de dos o más de los mismos.
Las partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada son conocidas por los expertos en la materia y se divulgan, por ejemplo en los documentos US 4.838.648; WO 2002/073250 A2; Ep 0686675 B1; WO 2003/000801 A2; US 6.838.166; WO 2007/131833 A1; EP 2402401 A1 y en los documentos citados en el presente documento. Preferentemente, las partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada comprenden partículas de pigmento que tienen una estructura multicapa Fabry-Perot de cinco capas y/o partículas de pigmento que tienen una estructura multicapa Fabry-Perot de seis capas y/o partículas de pigmento que tienen una estructura multicapa Fabry-Perot de siete capas.
Las estructuras multicapa Fabry-Perot de cinco capas preferidas consisten en estructuras multicapa de absorbente/dieléctrico/reflector/dieléctrico/absorbente en el que el reflector y/o el absorbente es también una capa magnética, preferentemente el reflector y/o el absorbente es una capa magnética que comprende níquel, hierro y/o cobalto y/o una aleación magnética que comprende níquel, hierro y/o cobalto y/o un óxido magnético que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co).
Las estructuras multicapa Fabry-Perot de seis capas preferidas consisten en estructuras multicapa de absorbente/dieléctrico/reflector/magnético/dieléctrico/absorbente.
Las estructuras multicapa Fabry-Perot de siete capas preferidas consisten en estructuras multicapa absorbente/dieléctrico/reflector/magnético/reflector/dieléctrico/absorbente tal como se divulga en el documento US
4.838.648.
Preferentemente, las capas reflectoras descritas en el presente documento se fabrican independientemente de uno o más materiales seleccionados de entre el grupo que consiste en metales y aleaciones metálicas, seleccionados preferentemente de entre el grupo que consiste en metales reflectores y aleaciones metálicas reflectoras, más preferentemente seleccionados de entre el grupo que consiste en aluminio (Al), plata (Ag), cobre (Cu), oro (Au), platino (Pt), estaño (Sn), titanio (Ti), paladio (Pd), rodio (Rh), niobio (Nb), cromo (Cr), níquel (Ni) y aleaciones de los mismos, incluso más preferentemente seleccionados de entre el grupo que consiste en aluminio (Al), cromo (Cr), níquel (Ni) y aleaciones de los mismos y más preferentemente aluminio (Al). Preferentemente, las capas dieléctricas se fabrican independientemente fabricadas de uno o más materiales seleccionados de entre el grupo que consiste en fluoruros metálicos tales como fluoruro de magnesio (MgF2), fluoruro de aluminio (AlF3), fluoruro de cerio (CeF3), fluoruro de lantano (LaF3), fluoruros de aluminio sodio (por ejemplo Na3AlF6), fluoruro de neodimio (NdF3), fluoruro de samario (SmF3), fluoruro de bario (BaF2), fluoruro de calcio (CaF2), fluoruro de litio (LiF) y óxidos metálicos tales como óxido de silicio (SiO), dióxido de silicio (SiO2), óxido de titanio (TiO2), óxido de aluminio (AhO3), más preferentemente seleccionado de entre el grupo que consiste en fluoruro de magnesio (MgF2) y dióxido de silicio (SiO2) y aún más preferentemente fluoruro de magnesio (MgF2). Preferentemente, las capas absorbentes se fabrican independientemente de uno o más materiales seleccionados de entre el grupo que consiste en aluminio (Al), plata (Ag), cobre (Cu), paladio (Pd), platino (Pt), titanio (Ti), vanadio (V), hierro (Fe), estaño (Sn), tungsteno (W), molibdeno (Mo), rodio (Rh), niobio (Nb), cromo (Cr), níquel (Ni), óxidos metálicos de los mismos, sulfuros metálicos de los mismos, carburos metálicos de los mismos y aleaciones metálicas de los mismos, más preferentemente seleccionadas de entre un grupo que consiste en cromo (Cr), níquel (Ni), óxidos metálicos de los mismos y aleaciones metálicas de los mismos y aún más preferentemente seleccionados de entre el grupo que consiste en cromo (Cr), níquel (Ni) y aleaciones metálicas de los mismos. Preferentemente, la capa magnética comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co); y/o una aleación magnética que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co); y/o un óxido magnético que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co). Cuando se prefieren partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada que comprenden una estructura Fabry-Perot de siete capas, es particularmente preferido que las partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada comprendan una estructura multicapa de Fabry-Perot de siete capas de absorbente/dieléctrico/reflector/magnético/reflector/dieléctrico/absorbente consistente en una estructura multicapa Cr/MgF2/Al/M/Al/MgF2/Cr, en la que M es una capa magnética que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co); y/o una aleación magnética que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co); y/o un óxido magnético que comprende níquel (Ni), hierro (Fe) y/o cobalto (Co).
Las partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada descritas en el presente documento pueden ser partículas de pigmento multicapa que se consideran como seguras para la salud humana y el ambiente y que se basan por ejemplo en las estructuras multicapa Fabry-Perot de cinco capas, estructuras multicapa Fabry-Perot de seis capas y estructuras multicapa Fabry-Perot de siete capas, en las que dichas partículas de pigmento incluyen una o más capas magnéticas que comprenden una aleación magnética que tiene una composición sustancialmente libre de níquel que incluye aproximadamente del 40 % en peso a aproximadamente el 90 % en peso de hierro, aproximadamente del 10 % en peso a aproximadamente el 50 % en peso de cromo y de aproximadamente el 0 % en peso a aproximadamente el 30 % en peso de aluminio. Ejemplos típicos de partículas de pigmento multicapa que se consideran como seguras para la salud humana y el ambiente pueden hallarse en el documento EP 2402401 A1.
Las partículas de pigmento magnéticas de interferencia de película delgada descritas en el presente documento se fabrican típicamente mediante una técnica de deposición convencional para las diferentes capas requeridas sobre una malla. Después de la deposición del número de capas deseado, por ejemplo mediante deposición física por vapor (PVD), deposición química por vapor (CVD) o deposición electrolítica, la pila de capas se retira de la malla, bien mediante la disolución de una capa de liberación en un disolvente adecuado o mediante la retirada del material de la malla. El material así obtenido se rompe a continuación en partículas de pigmento con forma de plaqueta que tienen que ser procesadas adicionalmente mediante triturado, molido (tal como por ejemplo procesos de molido en chorro) o cualquier método adecuado de modo que se obtengan partículas de pigmento del tamaño requerido. El producto resultante consiste en partículas de pigmento con forma de plaqueta plana con bordes rotos, formas irregulares y diferentes relaciones de aspecto. Puede hallarse información adicional sobre la preparación de partículas de pigmento magnéticas de interferencia por película delgada con forma de plaquetas adecuadas por ejemplo en los documentos EP 1710756 A1 y EP 1666546 A1.
Partículas de pigmento magnéticas de cristal líquido colestérico que presentan características ópticamente variables incluyen sin limitación partículas de pigmento magnético de cristal líquido colestérico monocapa y partículas de pigmento magnético de cristal líquido colestérico multicapa. Dichas partículas de pigmento se divulgan por ejemplo en los documentos WO 2006/063926 A1, US 6.582.781 y US 6.531.221. El documento WO 2006/063926 A1 divulga monocapas y partículas de pigmento obtenidas a partir de las mismas con propiedades de alto brillo y desviación de color con propiedades particulares adicionales tales como capacidad magnética. Las monocapas y partículas de pigmento divulgadas, que se obtienen a partir de las mismas mediante desmenuzamiento de dichas monocapas, incluyen una mezcla de cristal líquido colestérico reticulado tridimensionalmente y nanopartículas magnéticas. Los documentos US 6.582.781 y US 6.410.130 divulgan partículas de pigmento multicapa colesterólicas que comprende
la secuencia A1/B/A2, en la que A1 y A2 pueden ser idénticas o diferentes y cada una comprende al menos una capa colesterólica y B es una capa intermedia absorbente de toda o parte de la luz transmitida por las capas A1 y A2 y que imparte propiedades magnéticas a dicha capa intermedia. El documento US 6.531.221 divulga partículas de pigmento multicapa colesterólicas con forma de plaqueta que comprenden la secuencia A/B y opcionalmente C, en la que A y C son capas absorbentes que comprenden partículas de pigmento que imparten propiedades magnéticas y B es una capa colesterólica.
Pigmentos de interferencia recubiertos adecuados que comprenden uno o más materiales magnéticos incluyen sin limitación estructuras que consisten en un sustrato seleccionado de entre el grupo que consiste en un núcleo recubierto con una o más capas, en el que al menos uno de entre el núcleo o las una o más capas tienen propiedades magnéticas. Por ejemplo, los pigmentos de interferencia recubiertos adecuados comprenden un núcleo fabricado de material magnético tal como el descrito anteriormente en el presente documento, estando recubierto dicho núcleo con una o más capas fabricadas de uno o más óxidos metálicos o tienen una estructura que consiste en un núcleo fabricado de micas sintéticas o naturales, silicatos en capa (por ejemplo talco, caolina y sericita), vidrios (por ejemplo borosilicato), dióxidos de silicio (SiO2), óxidos de aluminio (AhOa), óxidos de titanio (TiO2), grafitos y mezclas de dos o más de los mismos. Adicionalmente, pueden estar presentes una o más capas adicionales tales como capas colorantes.
Las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento pueden tratarse superficialmente de modo que se las proteja contra cualquier deterioro que pueda tener lugar en la composición de recubrimiento curable por radiación y/o para facilitar su incorporación en la composición de recubrimiento curable por radiación; típicamente pueden usarse materiales inhibidores de la corrosión y/o agentes humectantes.
De acuerdo con una realización de la presente invención, la primera composición de recubrimiento curable por radiación y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación descritas en el presente documento comprenden diferentes partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento en términos de propiedades de tamaño y/o de color que incluyen por ejemplo propiedades ópticamente variables. De acuerdo con otra realización de la presente invención, la primera composición de recubrimiento curable por radiación y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación descritas en el presente documento comprenden las mismas partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas descritas en el presente documento en términos de propiedades de tamaño y/o de color que incluyen por ejemplo propiedades ópticamente variables. De acuerdo con una realización de la presente invención, la primera composición de recubrimiento curable por radiación y la segunda composición de recubrimiento curable por radiación descritas en el presente documento son la misma.
De acuerdo con una realización y suponiendo que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas son partículas de pigmento con forma de plaqueta, el proceso para producir la capa de efecto óptico descrita en el presente documento puede comprender además una o dos etapas de exposición de la composición de recubrimiento curable por radiación descrita en el presente documento a un campo magnético dinámico de un dispositivo de generación de campo magnético de modo que oriente biaxialmente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta. De acuerdo con una realización, el proceso comprende además una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación a un campo magnético dinámico de un dispositivo de generación de campo magnético de modo que oriente biaxialmente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta, llevándose a cabo dicha etapa después de la etapa a) y antes de la etapa b) y/o el proceso comprende además una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación a un campo magnético dinámico de un dispositivo de generación de campo magnético de modo que oriente biaxialmente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta, siendo llevada a cabo dicha etapa después de la etapa d) y antes de la etapa e).
Procesos que comprenden dichas etapas de exposición de una composición de recubrimiento a un campo magnético dinámico de un primer dispositivo de generación de campo magnético de modo que oriente biaxialmente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta antes de una etapa de exposición adicional de la composición de recubrimiento a un segundo dispositivo de generación de campo magnético, se divulgan en el documento WO 2015/ 086257 A1. Posteriormente a la exposición de la composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético dinámico del primer dispositivo de generación de campo magnético descrito en el presente documento y mientras la composición de recubrimiento curable por radiación está aún suficientemente húmeda o blanda de modo que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta en ella puedan moverse y girarse adicionalmente, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta se reorientan adicionalmente mediante el uso del campo magnético del primer/segundo conjunto magnético (x00-a, x00-b) descrito en el presente documento.
Llevar a cabo una orientación biaxial significa que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta se fabrican para orientarse de tal manera que sus dos ejes principales estén restringidos. Es decir, cada partícula de pigmento magnética o magnetizable con forma de plaqueta puede considerarse que tiene un eje
principal en el plano de la partícula de pigmento y un eje menor ortogonal en el plano de la partícula de pigmento. Se hace que cada uno de los ejes principal y menor de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta se oriente de acuerdo con el campo magnético dinámico. Efectivamente, esto da como resultado que partículas de pigmento magnéticas con forma de plaqueta contiguas que están próximas entre sí en el espacio estén esencialmente paralelas entre ellas. Para realizar una orientación biaxial, las partículas de pigmento magnéticas con forma de plaqueta deben someterse a un campo magnético externo fuertemente dependiente del tiempo. Dicho de otra forma, la orientación biaxial alinea los planos de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta de modo que los planos de dichas partículas de pigmento se orienten para quedar esencialmente paralelos con relación a los planos de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta contiguas (en todas las direcciones). En una realización, tanto el eje principal como el eje menor perpendicular al eje principal descritos anteriormente de los planos de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaquetas se orientan mediante el campo magnético dinámico de modo que las partículas de pigmento contiguas (en todas las direcciones) tienen sus ejes principal y menor alineados entre ellas.
De acuerdo con una realización, la etapa de llevar a cabo una orientación biaxial de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta conduce a una orientación magnética en la que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta tiene sus dos ejes principales sustancialmente paralelos a la superficie del sustrato. Para dicha alineación, las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta se aplanan dentro de la composición de recubrimiento curable por radiación sobre el sustrato y se orientan con ambos de sus ejes X e Y (mostrados en la Figura 1 del documento WO 2015/086257 A1) paralelos con la superficie del sustrato.
De acuerdo con otra realización, la etapa de llevar a cabo una orientación biaxial de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta conduce a una orientación magnética en la que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta tienen un primer eje dentro del plano X-Y sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato y un segundo eje que es perpendicular a dicho primer eje en un ángulo de elevación sustancialmente no cero respecto a la superficie del sustrato.
De acuerdo con otra realización, la etapa de llevar a cabo una orientación biaxial de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta conduce a una orientación magnética en la que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta tienen su plano X-Y paralelo a una superficie de esferoide imaginaria.
Dispositivos de generación de campo magnético particularmente preferidos para orientar biaxialmente las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta se divulgan en el documento EP 2157141 A1. El dispositivo de generación de campo magnético divulgado en el documento EP 2157 141 A1 proporciona un campo magnético dinámico que cambia su dirección forzando a las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta a oscilar rápidamente hasta que ambos ejes principales, el eje X y el eje Y, quedan paralelos a la superficie del sustrato, es decir las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta rotan hasta que llegan a una formación similar a una lámina estable con sus ejes X e Y paralelos a la superficie del sustrato y se aplanan en dichas dos dimensiones.
Otros dispositivos de generación de campo magnético particularmente preferidos para orientar biaxialmente las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta comprenden matrices de Halbach de imanes permanentes lineales, es decir conjuntos que comprenden una pluralidad de imanes con diferentes direcciones de magnetización. Una descripción detallada de los imanes permanentes de Halbach fue dada por Z.Q. Zhu y D. Howe (Halbach permanent magnet machines and applications: a review, IEE. Proc. Electric Power Appl., 2001, 148, páginas 299-308). El campo magnético producido por dicha matriz de Halbach tiene las propiedades de que se concentra en un lado mientras se debilita casi a cero sobre el otro lado. La solicitud Ep 14195159.0 pendiente junto con la presente divulga dispositivos adecuados para orientar biaxialmente partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta, en el que dichos dispositivos comprenden un conjunto de cilindro de Halbach. Otros dispositivos de generación de campo magnético particularmente preferidos para orientación biaxialmente de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta son imanes giratorios, dichos imanes comprenden imanes o conjuntos de imanes giratorios con forma de disco que se magnetizan esencialmente a lo largo de su diámetro. Imanes o conjuntos de imanes giratorios se describen en el documento US 2007/0172261 A1, dichos imanes o conjuntos de imanes giratorios generan campos magnéticos radialmente simétricos variables en el tiempo, permitiendo la bi-orientación de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta de una composición de recubrimiento aún no endurecida. Estos imanes o conjuntos de imanes son accionados mediante un eje (o husillo) conectado a un motor externo. El documento CN 102529326 B divulga ejemplos de dispositivos de generación de campo magnético que comprenden imanes giratorios que podrían ser adecuados para la orientación biaxialmente de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta. En una realización preferente, dispositivos de generación de campo magnético adecuados para la orientación biaxialmente de partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta son imanes o conjuntos de imanes giratorios con forma de disco de árbol libre forzado en una carcasa fabricada de materiales no magnéticos, preferentemente no conductores, y son accionados mediante una o más bobinas de hilo de imán bobinadas alrededor de la carcasa. Ejemplos de dichos imanes o conjuntos de imanes
giratorios con forma de disco de árbol libre se divulgan en el documento WO 2015/082344 A1 y en WO 2016/026896 A1.
El sustrato (x10) descrito en el presente documento se selecciona preferentemente de entre un grupo que consiste en papeles u otros materiales fibrosos, tales como celulosa, materiales que contienen papel, vidrios, metales, cerámica, plásticos y polímeros, plásticos o polímeros metalizados, materiales compuestos y mezclas o combinaciones de los mismos. El papel típico, similar a papel u otros materiales diversos se fabrican a partir de una variedad de fibras que incluyen sin limitación abacá, algodón, lino, pulpa de madera y mezclas de los mismos. Como es conocido para los expertos en la materia, el algodón y las mezclas de algodón/lino son preferidos para billetes de banco, mientras que la pulpa de madera se usa comúnmente en documentos de seguridad que no son billetes. Ejemplos típicos de plásticos y polímeros incluyen las poliolefinas tales como polietileno (PE) y polipropileno (PP), poliamidas, poliésteres tales como poli(etileno tereftalato) (PET), poli(1,4-butileno tereftalato) (PBT), poli(etileno 2,6-naftoato) (PEN) y cloruro de polivinilo (PVC). Fibras de olefina Spunbond tales como las vendidas bajo la marca comercial Tyvek® pueden usarse también como sustrato (x10). Ejemplos típicos de plásticos o polímeros metalizados incluyen los materiales plásticos o polímeros descritos anteriormente que tienen un metal dispuesto continuamente o discontinuamente sobre su superficie. Ejemplos típicos de metales incluyen sin limitación aluminio (Al), cromo (Cr), cobre (Cu), oro (Au), hierro (Fe), níquel (Ni), plata (Ag), combinaciones de los mismos o aleaciones de dos o más de los metales anteriormente mencionados. La metalización de los materiales plásticos o polímeros descritos anteriormente puede realizarse mediante un proceso de electrodeposición, un proceso de recubrimiento en alto vacío o mediante un proceso de pulverización. Ejemplos típicos de materiales compuestos incluyen sin limitación estructuras o laminados de papel multicapa y al menos un material plástico o polímero tal como los descritos anteriormente en el presente documento así como plásticos y/o fibras de polímero incorporadas en un material similar a papel o fibroso tal como los descritos anteriormente en el presente documento. Por supuesto, el sustrato (x10) puede comprender aditivos adicionales que son conocidos para los expertos en la materia, tales como agentes de apresto, blanqueantes, ayudas al procesamiento, agentes de refuerzo o de endurecimiento húmedo, etc. El sustrato (x10 descrito en el presente documento puede proporcionarse bajo la forma de una malla (por ejemplo una lámina continua de los materiales descritos anteriormente) o en forma de láminas. Si la OEL (x20) producida de acuerdo con la presente invención está sobre un documento de seguridad y con la intención de incrementar adicionalmente el nivel de seguridad y la resistencia contra falsificación y reproducción ilegal de dicho documento de seguridad, el sustrato (x10) puede comprender marcas impresas, recubiertas o grabadas por láser o perforados por láser, marcas de agua, hilos de seguridad, fibras, planchas, compuestos luminiscentes, ventanas, láminas, calcomanías y combinaciones de dos o más de los mismos. Con la misma intención de incrementar adicionalmente el nivel de seguridad y la resistencia contra falsificación y reproducción ilegal de documentos de seguridad, el sustrato (x10) puede comprender una o más sustancias marcadoras o indicadores y/o sustancias legibles por máquina (por ejemplo sustancias luminiscentes, sustancias absorbentes de la luz UV/visible/IR, sustancias magnéticas y combinaciones de los mismos).
También se describen en el presente documento el primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre los sustratos (x10) descritos en el presente, comprendiendo dichas OEL (x20) las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas que se orientan en la primera composición de recubrimiento curable por radiación curada y las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas que se orientan en la segunda composición de recubrimiento curable por radiación curada tal como se describe en el presente documento.
Para cada uno del primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), el campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x40) interactúan de modo que el campo magnético resultante del primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respectivamente, son capaces de modo independiente de orientar al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en la primera y segunda composiciones de recubrimiento curables por radiación aún no curadas, que se disponen en el campo magnético del primer/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respectivamente, para producir una impresión óptica de uno o más cuerpos con forma en bucle que tienen un tamaño que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico (x10).
Conjuntos magnéticos adecuados (x00-a, x00-b) se divulgan en los documentos WO 2017/064052 A1, WO 20170/80698 A1 y WO 2017/148789 A1.
Las Figs. 2-5 ilustran ejemplos de conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) adecuados para producir las capas de efecto óptico (OEL) (x20) descritas en el presente documento cuando se usan en dos etapas de orientación independientes (etapas b) y e)), en los que dichos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) comprenden el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descritos en el presente documento.
Los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento comprenden el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento, comprendiendo dicho dispositivo de generación de campo magnético (x30) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es o bien un único dipolo magnético con forma en bucle o una combinación de dos o más dipolos magnéticos
dispuestos en una disposición con forma en bucle. Ejemplos típicos de combinaciones de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle incluyen sin limitación una combinación de dos dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle circular, tres dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle triangular o una combinación de cuatro dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle cuadrado o rectangular.
De acuerdo con algunas realizaciones, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento comprenden el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento, comprendiendo además dicho dispositivo de generación de campo magnético (x30) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento. La matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento contiene conjuntamente todas las partes comprendidas en el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento, es decir el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) cuando están presentes y las una o más piezas polares (x33) cuando están presentes. En particular, la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento contiene el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) dentro del bucle definido por, y separado en relación con, el único dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o dentro del bucle definido por, y separado en relación con, los dos o más dipolos magnéticos en la disposición con forma en bucle. El dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) puede disponerse simétricamente dentro de la matriz de soporte (x34) o puede disponerse no simétricamente dentro de la matriz de soporte (x34). La matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento comprende una o más hendiduras o ranuras para recibir el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento, el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) descritos en el presente documento cuando están presentes y las una o más piezas polares (x33) cuando están presentes.
La matriz de soporte (x34) del dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento se fabrican de uno o más materiales no magnéticos. Los materiales no magnéticos se seleccionan preferentemente dentro grupo que consiste en materiales de baja conducción, materiales no conductores y mezclas de los mismos, tales como por ejemplo plásticos de diseño y polímeros, aluminio, aleaciones de aluminio, titanio, aleaciones de titanio y aceros austeníticos (es decir aceros no magnéticos). Los plásticos técnicos y los polímeros incluyen sin limitación poliariletercetonas (PAEK) y sus derivados polieteretercetonas (PEEK), polietercetonacetonas (PEKK), polieteretercetonacetonas (PEEKK) y polietercetonaetercetonacetona (PEKEKK); poliacetales, poliamidas, poliésteres, poliéteres, copoliéteresteres, poliimidas, poliéterimidas, polietileno de alta densidad (HDPE), polietileno de peso molecular ultra alto (UHMWPE), polibutileno tereftalato (PBT), polipropileno, copolímero de acrilonitrilo butadieno estireno (ABS), polietilenos fluorados y perfluorados, poliestirenos, policarbonatos, sulfuro de polifenileno (PPS) y polímeros de cristal líquido. Los materiales preferidos son PEEK (polieteretercetona), POM (polioximetileno), PTFE (politetrafluoroetileno), Nilón® (poliamida) y PPS.
Los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos en el presente documento comprenden el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento, siendo dicho dispositivo de generación de campo magnético (x40) o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) descritos en el presente documento. Cuando el dispositivo de generación de campo magnético (x40) es una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), dichos dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) pueden separarse mediante una o más piezas separadoras (x42) fabricadas de material no magnético o pueden estar comprendidos en una matriz de soporte fabricada de un material no magnético. Los materiales no magnéticos se seleccionan preferentemente de entre los materiales proporcionados para la matriz de soporte (x34).
Durante la primera etapa de orientación (etapa b)) y la segunda etapa de la orientación e), la distancia (h) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30) o la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40), (es decir la parte que está más próxima a la superficie del sustrato (x10)) y la superficie del sustrato (x10) que mira a dicho dispositivo de generación de campo magnético (x30) o a dicho dispositivo de generación de campo magnético (x40) está de modo independiente preferentemente entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 10 mm y más preferentemente entre aproximadamente 0,2 y aproximadamente 5 mm.
Durante la primera etapa de orientación (etapa b)) y la segunda etapa de la orientación e), la distancia (d) entre el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede estar de modo independiente comprendida en el intervalo comprendido entre aproximadamente 0 y aproximadamente 10 mm, preferentemente entre aproximadamente 0 y aproximadamente 3 mm.
Primera realización de los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
De acuerdo con una primera realización, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento comprenden:
i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es o bien el único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle y que tienen un eje magnético resultante sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento, en el que dicho dispositivo de generación de campo magnético (x30) puede comprender adicionalmente una matriz de soporte (x34) tal como las descritas en el presente documento y puede comprender adicionalmente una o más piezas polares (x33) tales como las descritas en el presente documento y
ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) que tienen un eje magnético resultante sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento. Cuando el dispositivo de generación de campo magnético (x40) es una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) que tienen un eje magnético resultante sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10), dichos dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) pueden disponerse en una configuración simétrica o en una configuración asimétrica. Preferentemente, todos los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) tienen la misma dirección magnética, es decir todos ellos tiene su polo Norte mirando en la misma dirección.
El dispositivo de generación de campo magnético (x30) puede colocarse en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40) o alternativamente, el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede colocarse en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30). La distancia (d) entre el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede estar comprendida en el intervalo comprendido entre aproximadamente 0 y aproximadamente 10 mm, preferentemente entre aproximadamente 0 y aproximadamente 3 mm.
De acuerdo con una realización mostrada en la Fig. 2A-B y la Fig. 5A-B, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre los sustratos (x10) descritos en el presente documento comprenden i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento y que comprende i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) siendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) el único dipolo magnético con forma en bucle, en particular con forma en anillo, descrito en el presente documento y que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento y i-3) las una o más piezas polares (x33), en particular las una o más piezas polares con forma en bucle, descritas en el presente documento, en el que dichas una o más piezas polares con forma en bucle, en particular con forma en anillo, las piezas polares se disponen simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) descritos en el presente documento, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético, en el que los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) pueden estar separados por las una o más piezas separadoras (x42) descritas en el presente documento y en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x30) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40).
La Fig. 2A-B y la Fig. 5A-B ilustran ejemplos de conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) adecuados para la primera etapa de orientación (etapa b)) o para la segunda etapa de orientación (etapa e)) descritas en el presente documento, comprendiendo dichos conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) un dispositivo de generación de campo magnético (230/530) y un dispositivo de generación de campo magnético (240/540).
Los conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) de las Figs. 2A y 5A comprenden un dispositivo de generación de campo magnético (240/540) que es una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (241/641) descritos en el presente documento, disponiéndose dicho dispositivo de generación de campo magnético (240/540) por debajo del dispositivo de generación de campo magnético (230/630), en el que cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (241/541) tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (210/510) y su polo Norte mirando en la misma dirección.
El dispositivo de generación de campo magnético (240/540) es una combinación de dos o más, siete dipolos magnéticos en barra en las Figs. 2A y 5A, dipolos magnéticos en barra (241/541) y una o más, seis en las Figs. 2A y 5A, piezas separadoras (242/542), fabricadas de un material no magnético tal como los descritos en el presente documento para la matriz de soporte (x34). Como se muestra en las Figs. 2A y 5A, la disposición de los dos o más dipolos magnéticos en barra (241/541) y las piezas separadoras (242/542) puede ser no simétrica.
Cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (241) puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (B1), un ancho (B2) y un grosor (B3) tal como se muestra en la Fig. 2A. Cada una de las piezas separadoras (242) puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (B4), un ancho (B5) y un grosor (B6). Cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (541) puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (L1), un ancho (L2a) y un grosor (L3) tal como se muestra en la Fig. 5A. Cada una de las piezas separadoras (542) puede ser un
paralelepípedo que tiene una longitud, un ancho (L2b) y un grosor (L3).
El dispositivo de generación de campo magnético (230) comprende la matriz de soporte (234) que puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (A6), un ancho (A7) y un grosor (A8) tal como se muestra en la Fig. 2A. El dispositivo de generación de campo magnético (530) comprende una matriz de soporte (534) que puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (L4), un ancho (L5) y un grosor (L6) tal como se muestra en la Fig. 5A.
El dispositivo de generación de campo magnético (230/530) de las Figs. 2A y 5A comprende la matriz de soporte (234/534), siendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle un dipolo magnético con forma en anillo (231/531) y las una o más piezas polares con forma en bucle (233/533), en particular una pieza polar con forma en anillo como se muestra en las Figs. 2A y 5A tal como las descritas en el presente documento. El dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle que es un dipolo magnético con forma en anillo (231) tiene un diámetro externo (A1), un diámetro interno (A2) y un grosor (A5). El dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle que es un dipolo magnético con forma en anillo (531) tiene un diámetro externo (L7), un diámetro interno (L8) y un grosor (L9). El eje magnético del dipolo magnético con forma en anillo (231/531) es sustancialmente perpendicular al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (240/540), es decir sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (210/510) con el polo Sur mirando al sustrato (210/510).
Las una o más, en particular una, piezas polares con forma en bucle (233) que son una pieza polar con forma en anillo (233) tienen un diámetro externo (A3), un diámetro interno (A4) y un grosor (A5). Las una o más, en particular una, piezas polares con forma en bucle (533) que son una pieza polar con forma en anillo (533) tienen un diámetro externo (L10), un diámetro interno (L11) y un grosor (L9).
El dispositivo de generación de campo magnético (230/530) y el dispositivo de generación de campo magnético (240/540) están preferentemente en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie inferior de la matriz de soporte (234/534) y la superficie superior del dipolo magnético en barra (240/540) es de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en las Figs. 2A y 5A por claridad de los dibujos). La distancia entre la superficie superior de la matriz de soporte (234/534) y la superficie del sustrato (210/510) que mira a dicha matriz de soporte (234/534) se ilustra por la distancia (h). Preferentemente, la distancia (h) está entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 10 mm y más preferentemente entre aproximadamente 0,2 y aproximadamente 6 mm.
Segunda realización de los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
De acuerdo con una segunda realización, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento comprenden
i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético (x31) con forma en bucle que es o bien el único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección del campo magnético tal como se describe en el presente documento, i-3) el único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) que tienen un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y que tienen una misma dirección del campo magnético tal como se ha descrito en el presente documento y/o las una o más piezas polares (x33) descritas en el presente documento y
ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y que tiene una misma dirección de campo magnético como se describe en el presente documento.
Preferentemente, las una o más piezas polares (x33) descritas en el presente documento son piezas polares con forma en bucle (x33). Preferentemente, las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle (x33), se disponen dentro del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle. Las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle (x33), pueden disponerse simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) (tal como se muestra en las Figs. 2A y 6A) o puede disponerse no simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31). Una pieza polar indica una estructura compuesta de un material magnético blando. Los materiales magnéticos blandos tienen una baja coercitividad y alta saturación. Los materiales de baja coercitividad, alta saturación adecuados tienen una coercitividad menor que 1000 Am-1, para permitir una rápida magnetización y desmagnetización y su saturación es preferentemente al menos de 0,1 teslas, más preferentemente al menos 1,0 teslas e incluso más preferentemente al menos 2 teslas. Los
materiales de baja coercitividad, alta saturación descritos en el presente documento incluyen sin limitación hierro dulce magnético (de hierro recocido y hierro carbonilado), níquel, cobalto, ferritas dulces como ferrita de manganesocinc o ferrita de níquel-cinc, aleaciones níquel-hierro (como los materiales de tipo permalloy), aleaciones cobaltohierro, hierro silicio y aleaciones de metal amorfo como Metglas® (aleación de hierro-boro), preferentemente hierro puro y hierro al silicio (acero eléctrico), así como aleaciones cobalto-hierro y níquel-hierro (materiales tipo permalloy). Las piezas polares sirven para dirigir el campo magnético producido por un imán.
De acuerdo con una realización, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento y el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) descritos en el presente documento. El único dipolo magnético o los dos o más dipolos magnéticos (x32) se disponen dentro del dipolo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle. El único dipolo magnético (x32) o dos o más dipolos magnéticos (x32) pueden disponerse simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o pueden disponerse no simétricamente dentro del bucle del dipolo magnético con forma en bucle (x31).
De acuerdo con otra realización, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento y las una o más piezas polares (x33), preferentemente una o más piezas polares con forma en bucle (x33), descritas en el presente documento. Las una o más piezas polares (x33), preferentemente una o más piezas polares con forma en bucle (x33), se disponen preferentemente de modo independiente dentro del dipolo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle.
De acuerdo con otra realización, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento, el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) descritos en el presente documento y las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle (x33), descritas en el presente documento. El único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) así como las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle (x33), descritas en el presente documento se disponen de modo independiente dentro del dipolo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle. El único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) y las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle (x33), descritas en el presente documento, pueden disponerse de modo independiente simétricamente o no simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31).
El dispositivo de generación de campo magnético (x30) puede colocarse en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40) o alternativamente, el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede colocarse en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x30). Preferentemente, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40).
La distancia (d) entre el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede estar comprendida en el intervalo comprendido entre aproximadamente 0 y aproximadamente 10 mm, preferentemente entre aproximadamente 0 y aproximadamente 3 mm.
Tercera realización de los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
De acuerdo con una tercera realización, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre los sustratos (x10) descritos en el presente documento comprenden i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que o bien es el único imán con forma en bucle o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial y i-3) teniendo el único dipolo magnético (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o teniendo el único dipolo magnético (x32) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la
superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento,
ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y que tiene una misma dirección de campo magnético descrito en el presente documento.
De acuerdo con una realización, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) comprenden el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento, el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento y las una o más piezas polares (x50) descritas en el presente documento, fabricadas preferentemente de los materiales descritos en el presente documento para las una o más piezas polares (x33). Las una o más piezas polares (x50) pueden ser piezas polares con forma en bucle o piezas polares con forma sólida (es decir piezas polares que no comprenden un área central que carece del material de dichas piezas polares), preferentemente piezas polares con forma sólida y más preferentemente piezas polares con forma de disco.
De acuerdo con una realización, el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) es un único imán con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y que tiene una dirección radial, es decir que tienen su eje magnético dirigido desde el área central del bucle del imán con forma en bucle a la periferia cuando se ve desde la parte superior (es decir desde el lado del sustrato (x10)) o en otras palabras teniendo su polo Norte o su polo Sur apuntando radialmente hacia el área central del bucle del dipolo magnético con forma en bucle. Según una realización preferente, el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) es una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle tal como se describe en el presente documento, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial, es decir teniendo cada dipolo magnético su eje magnético dirigido desde el área central del bucle del imán con forma en bucle a la periferia cuando se ve desde la parte superior (es decir desde el lado del sustrato (x10)) o en otras palabras teniendo su polo Norte o su polo Sur apuntando radialmente hacia el área central del bucle del dipolo magnético con forma en bucle.
Preferentemente, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento comprende el único dipolo magnético (x32), en el que dicho único dipolo magnético tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y tiene su polo Norte apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) están apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o que tiene su polo Sur apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) están apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o comprende los dos o más dipolos magnéticos (x32), en el que dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) tienen un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y en el que el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) como se describe en el presente documento.
De acuerdo con una realización, el dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento y el único dipolo magnético (x32) o dos o más dipolos magnéticos (x32) descritos en el presente documento. El único dipolo magnético o los dos o más dipolos magnéticos (x32) se disponen dentro del dipolo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle. El único dipolo magnético (x32) o dos o más dipolos magnéticos (x32) pueden disponerse simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o pueden disponerse no simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31).
El dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) pueden disponerse uno encima del otro. Preferentemente, la generación de campo magnético (x40) se coloca en la parte superior de la generación de campo magnético (x30). Cuando las una o más piezas polares (x50) descritas en el presente documento están comprendidas en los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), la generación de campo
magnético (x30) se dispone preferentemente en la parte superior de las una o más piezas polares (x50) (véase por ejemplo la Fig. 4). La distancia (e) entre la superficie del fondo de la generación de campo magnético (x30) y la superficie superior de una o más piezas polares (x50) puede estar comprendida en el intervalo comprendido entre aproximadamente 0 y aproximadamente 5 mm, preferentemente entre aproximadamente 0 y aproximadamente 1 mm.
La matriz de soporte (x34) puede contener el único dipolo magnético (x32) o los dos o más dipolos magnéticos (x32) dentro del bucle definido por, y separado en relación con, el único dipolo magnético con forma en bucle o dentro del bucle definido por, y separado en relación con, los dos o más dipolos magnéticos en la disposición con forma en bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31).
La distancia (d) entre el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede estar comprendida en el intervalo comprendido entre aproximadamente 0 y aproximadamente 10 mm, preferentemente entre aproximadamente 0 y aproximadamente 3 mm.
De acuerdo con una realización mostrada en la Fig. 3A-B, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento en los sustratos (x10) descritos en el presente documento comprenden i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es la combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una disposición en forma cuadrada, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento; y i-3) dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) como se describe en el presente documento y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone preferentemente en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30).
La Fig. 3A-B que ilustra un ejemplo de un conjunto magnético (300-a, 300-b) adecuado para la primera etapa de orientación (etapa b)) o la segunda etapa de orientación (etapa e)) descritas en el presente documento, comprendiendo dicho conjunto magnético (300-a, 300-b) un dispositivo de generación de campo magnético (330) y un dispositivo de generación de campo magnético (340).
El conjunto magnético (300-a, 300-b) de la Fig. 3A comprende un dispositivo de generación de campo magnético (340) que es el único dipolo magnético en barra, disponiéndose dicho dispositivo de generación de campo magnético (340) en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (330). El dispositivo de generación de campo magnético (340) puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (B1), un ancho (B2) y un grosor (B3) tal como se muestra en la Fig. 3A. El eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (340) es sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (310).
El dispositivo de generación de campo magnético (330) de la Fig. 3A comprende la matriz de soporte (334) que puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (A4), un ancho (A5) y un grosor (A6) tal como se muestra en la Fig. 3A.
El dispositivo de generación de campo magnético (330) de la Fig. 3A comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (331) que es una combinación de cuatro dipolos magnéticos dispuestos en una disposición de forma cuadrada y una combinación de dos o más, en particular ocho, dipolos magnéticos (332). Cada uno de los cuatro dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (331) que es un dispositivo magnético de forma cuadrada puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (A1), un ancho (A2) y un grosor (A3) tal como se muestra en la Fig. 3A. Cada uno de dichos cuatro dipolos magnéticos tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (310) y cada uno tiene su polo Norte apuntando radialmente hacia el área central del bucle de la disposición de forma cuadrada (331 y su polo Sur apuntando hacia el exterior de la matriz de soporte (334).
Cada uno de los dos o más, en particular ocho, dipolos magnéticos (332) de la combinación tiene un diámetro (A7) y un grosor (A8) y tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular al eje magnético del dispositivo de
generación de campo magnético (340), es decir sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (310) con el polo Sur mirando al sustrato (310).
El dispositivo de generación de campo magnético (330) y el dispositivo de generación de campo magnético (340) que es un dipolo magnético en barra único están preferentemente en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (330) y la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (340) es de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 3A por claridad de los dibujos). La distancia entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (340) y la superficie del sustrato (310) que mira a dicho dispositivo de generación de campo magnético (340) se ilustra por la distancia (h). Preferentemente, la distancia (h) está entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 10 mm y más preferentemente entre aproximadamente 0,2 y aproximadamente 5 mm.
De acuerdo con otra realización mostrada en la Fig. 4A-B, los conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para producir las OEL (x20) descritas en el presente documento sobre los sustratos (x10) descritos en el presente documento comprenden i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es una combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una disposición en forma cuadrada, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento; los dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) como se describe en el presente documento, ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) descrito en el presente documento y iii) las una o más piezas polares (x50) descritas en el presente documento, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone en la parte superior de la generación de campo magnético (x30) y en el que la generación de campo magnético (x30) se dispone en la parte superior de las una o más piezas polares (x50).
La Fig. 4A-B que ilustra un ejemplo de un conjunto magnético (400-a, 400-b) adecuado para la primera etapa de orientación (etapa b)) o la segunda etapa de orientación (etapa e)) descritas en el presente documento, comprendiendo dicho conjunto magnético (400-a, 400-b) un dispositivo de generación de campo magnético (430), un dispositivo de generación de campo magnético (440) y una o más piezas polares (450).
El conjunto magnético (400-a, 400-b) de la Fig. 4A comprende un dispositivo de generación de campo magnético (440) que es el único dipolo magnético en barra, disponiéndose dicho dispositivo de generación de campo magnético (440) en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (430). El dispositivo de generación de campo magnético (440) puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (B1), un ancho (B2) y un grosor (B3) tal como se muestra en la Fig. 4A. El eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (440) es sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (410).
El dispositivo de generación de campo magnético (430) de la Fig. 4A comprende la matriz de soporte (434) que puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (A4), un ancho (A5) y un grosor (A6) tal como se muestra en la Fig. 4A.
El dispositivo de generación de campo magnético (430) de la Fig. 4A comprende el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (431) que es una combinación de cuatro dipolos magnéticos dispuestos en una disposición de forma cuadrada y una combinación de dos o más, en particular diecinueve, dipolos magnéticos (432).
Cada uno de los cuatro dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (431) que es un dispositivo magnético de forma cuadrada puede ser un paralelepípedo que tiene una longitud (A1), un ancho (A2) y un grosor (A3) tal como se muestra en la Fig. 4A. Cada uno de dichos cuatro dipolos magnéticos tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (410) y cada uno tiene su polo Norte apuntando radialmente hacia el área central del bucle de la disposición de forma cuadrada (431 y su polo Sur apuntando hacia el exterior de la matriz de soporte (434).
Cada uno de los dos o más, en particular diecinueve, dipolos magnéticos (432) de la combinación tiene una longitud (A8) y un diámetro (A7) y tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (440), es decir sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (410) con
el polo Sur mirando al sustrato (410).
El conjunto magnético (400-a, 400-b) de la Fig. 4A comprende las una o más piezas polares (450), en particular una pieza polar con forma de disco (450), que tiene un diámetro (C1) y un grosor (C2), en el que el dispositivo de generación de campo magnético (430) se dispone en la parte superior de las una o más piezas polares (450).
El dispositivo de generación de campo magnético (430) y el dispositivo de generación de campo magnético (440) que es el único dipolo magnético en barra están preferentemente en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (430) y la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (440) es de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 4A por claridad de los dibujos). La distancia entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (440) y la superficie del sustrato (410) que mira a dicho dispositivo de generación de campo magnético (440) se ilustra por la distancia (h). Preferentemente, la distancia (h) está entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 10 mm y más preferentemente entre aproximadamente 0,2 y aproximadamente 5 mm.
El dispositivo de generación de campo magnético (430) y las una o más piezas polares (450), en particular una pieza polar con forma de disco (450) están preferentemente en contacto directo, es decir la distancia (e) entre la superficie del fondo de la matriz de soporte (434) del dispositivo de generación de campo magnético (430) y la superficie superior de la pieza polar con forma de disco (450) es de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 4A por la claridad de los dibujos).
Los dispositivos de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y los dos o más dipolos magnéticos (x31) dispuestos en una disposición con forma en bucle y comprendido en los dispositivos de generación de campo magnético (x30) se fabrican preferentemente de modo independiente de materiales de alta coercitividad (también conocidos como materiales magnéticos fuertes). Los materiales de alta coercitividad son materiales que tienen un valor máximo de producto de energía (BH)máx de al menos 20 kJ/m3, preferentemente al menos 50 kJ/m3 , más preferentemente al menos 100 kJ/m3 , incluso más preferentemente al menos 200 kJ/m3. Se fabrican preferentemente de uno o más materiales magnéticos sinterizados o de enlace polímero seleccionados de entre el grupo que consiste en Alnicos tales como por ejemplo Alnico 5 (R1-1-1), Alnico 5 DG (R1-1-2), Alnico 5-7 (R1-1-3), Alnico 6 (R1-1-4), Alnico 8 (R1-1-5), Alnico 8 HC (R1-1-7) y Alnico 9 (R1-1-6); hexaferritas de fórmula MFe12019, (por ejemplo hexaferrita de estroncio (SrO*6Fe203) o hexaferrita de bario (BaO*6Fe203)), ferritas duras de fórmula MFe204 (por ejemplo como ferrita de cobalto (CoFe204) o magnetita (Fe3O4)), en la que M es un ion metálico bivalente), cerámica 8 (SI-1-5); materiales magnéticos de tierras raras seleccionados de entre el grupo que comprende RECo5 (siendo RE = Sm o Pr), RE2TM17 (siendo RE = Sm, TM = Fe, Cu, Co, Zr, Hf), RE2TM14B (siendo RE = Nd, Pr, Dy, TM = Fe, Co); aleaciones anisotrópicas de Fe Cr Co; materiales seleccionados de entre el grupo de PtCo, MnAlC, RE cobalto 5/16, RE cobalto 14. Preferentemente, los materiales de alta coercitividad de las barras magnéticas se selecciona de entre los grupos que consisten en materiales magnéticos de tierras raras y más preferentemente de entre el grupo que consiste en Nd2Fe14B y SmCo5. Particularmente preferidos son los materiales de compuestos magnéticos permanentes fácilmente trabajables que comprenden un relleno magnético permanente, tal como hexaferrita de estroncio (SrFe12O19) o polvo de neodimio-hierro-boro (Nd2Feu B), en una matriz de tipo plástico o goma.
Los únicos dipolos magnéticos (x32) y los dos o más dipolos magnéticos (x32) del dispositivo de generación de campo magnético (x30) descrito en el presente documento se fabrican preferentemente de modo independiente de materiales magnéticos fuertes tales como los descritos anteriormente en el presente documento para los imanes con forma en bucle y los dos o más dipolos magnéticos del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31).
Los dipolos magnéticos en barra del dispositivo de generación de campo magnético (x40) se fabrican preferentemente de materiales magnéticos fuertes tales como los descritos anteriormente en el presente documento para los materiales de los imanes con forma en bucle y los dos o más dipolos magnéticos del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31).
Los materiales del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), los materiales de los dipolos magnéticos (x32), los materiales de las una o más piezas polares (x33) cuando están presentes, los materiales del dispositivo de generación de campo magnético (x40), los materiales de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), los materiales de las una o más piezas polares (x50) cuando están presentes y las distancias (d) y (h) y (e) se seleccionan de modo que el campo magnético resultante de la interacción del campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x30) y el campo magnético producido por el dispositivo de generación de campo magnético (x40), es decir el campo magnético resultante de los aparatos descritos en el presente documento, sea adecuado para producir las orientaciones magnéticas requeridas, es decir tanto el patrón de orientación magnético de las partículas en las primeras composiciones de recubrimiento curables por radiación como el patrón de orientación magnético de las partículas en las segundas composiciones de recubrimiento curables por radiación, para producir una impresión óptica de uno o más cuerpos con forma en bucle que tienen un tamaño que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico (x10).
El primer conjunto magnético (x00-a) y/o el segundo conjunto magnético (x00-b) para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento puede comprender adicionalmente una placa magnética grabada, tal como las que se divulgan por ejemplo en los documentos WO 2005/002866 A1 y WO 2008/046702 A1. La placa magnética grabada se localiza entre el dispositivo de generación de campo magnético (x30) o el dispositivo de generación de campo magnético (x40) y la superficie del sustrato (x10), de modo que modifique localmente el campo magnético del conjunto magnético (x00-a, x00-b). Dicha placa grabada puede fabricarse de hierro (yugos de hierro). Como alternativa, dicha placa grabada puede fabricarse de un material plástico como los descritos en el presente documento en el que se dispersan partículas magnéticas (tal como por ejemplo Plastoferrita).
Como se ha descrito en el presente documento, el proceso para producir la capa de efecto óptico (OEL) (x20) descrita en el presente documento y que proporciona la impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y una forma que varían con la inclinación de la capa de efecto óptico, comprende dos etapas de orientación magnética independientes (etapa b) y etapa e)) de modo que produzca sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento uno o más primeros patrones fabricados de la primera capa de recubrimiento (x21) descrita en el presente documento y uno o más segundos patrones hechos de los patrones realizados de la segunda capa de recubrimiento (x22) descrita en el presente documento, en el que la segunda capa de recubrimiento (x22) se dispone al menos parcialmente en la parte superior de la primera capa de recubrimiento (x21). Como se ha mencionado en el presente documento, cada una de las dos etapas de orientación (etapa b) y etapa e)) usan ventajosamente dos conjuntos magnéticos diferentes (x00-a y x00-b), en el que cada uno de dichos conjuntos magnéticos (x00-a y x00-b) permite la producción de capas de efecto óptico que presentan un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño que varía con la inclinación de dichas capas de efecto óptico y la forma de dicho cuerpo con forma en bucle así obtenido es diferente. La impresión óptica de los uno o más cuerpos con forma en bucle que tienen un tamaño y una forma que varía con la inclinación de dichas capas de efecto óptico se obtiene mediante el uso de los patrones de orientación magnética especifica combinados durante las etapas b) y e) y fijados/congelados durante las etapas c) y f).
Los dos imanes de los dispositivos de generación de campo magnético (x40), siendo usado el uno durante la primera etapa (b)) de orientación magnética en el primer conjunto magnético (x00-a) y siendo usado el otro durante la segunda etapa (e)) de orientación magnética en el segundo conjunto magnético (x00-b) se requiere que tengan una dirección magnética opuesta, es decir la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer conjunto magnético (x00-a) es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del segundo conjunto magnético (x00-b) dentro del marco de referencia del sustrato (x10).
El proceso para producir la OEL (x20) descrito en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende la etapa b) de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a) descrito en el presente documento y comprende la etapa e) de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) descrito en el presente documento, en el que dicho primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) son diferentes y en el que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer conjunto magnético (x00-a) es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del segundo conjunto magnético (x00-b) dentro del marco de referencia el sustrato (x10), en el que las etapas c) (curado al menos parcialmente de la primera composición de recubrimiento curable por radiación) y d) (aplicación de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación) se llevan a cabo entre dichas etapas b) y e). De acuerdo con una realización, el proceso para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento y ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento, en los que dichos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) son diferentes; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento y el i) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en el que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento y la ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento.
De acuerdo con otra realización, el proceso para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende i) una etapa de exposición de la primera composición
de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento y ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento y el i) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento, en los que dichos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) son diferentes; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento y la ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento.
De acuerdo con otra realización, el proceso para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento y ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento y el i) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la segunda realización descrita en el presente documento; o comprende i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en la que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento y la ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento, en los que dichos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) son diferentes.
Según una realización preferente, el proceso para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende
i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en el que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la primera realización descrita en el presente documento, es decir un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético (x31) con forma en bucle que es o bien el único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección del campo magnético tal como se describe en el presente documento, opcionalmente con i-3) las una o más piezas polares (x33) descritas en el presente documento y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y que tiene una misma dirección de campo magnético como se describe en el presente documento y ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento, es decir un segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que o bien es el único imán con forma en bucle o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en la disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial y i-3) teniendo el único dipolo magnético (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o teniendo el único dipolo magnético (x32)
un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético, en el que dicho dispositivo de generación de campo magnético (x40) puede comprender además una o más piezas polares (x50) tal como las descritas en el presente documento.
Preferentemente, la etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a) se lleva a cabo con el primer conjunto magnético (x00-a) que comprende el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético en forma en bucle (x31) descrito en el presente documento, preferentemente el único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) descrito en el presente documento y i-3) las una o más piezas polares (x33), preferentemente las una o más piezas polares con forma en bucle, en el que dichas una o más piezas polares (x33) se disponen independientemente dentro del único dipolo magnético con forma en bucle (x31) o dentro de la combinación de dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle. Más preferentemente y por ejemplo tal como se muestra en la Fig. 2A-B y Fig. 5A-B, la etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a) se lleva a cabo con el primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) tal como el descrito en el presente documento y comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) siendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) el único dipolo magnético con forma en bucle, en particular con forma en anillo, descrito en el presente documento y que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento y i-3) las una o más piezas polares (x33), en particular las una o más piezas polares con forma en bucle descritas en el presente documento, en el que dichas una o más piezas polares con forma en bucle, en particular con forma en anillo, las piezas polares (x33) se disponen simétricamente dentro del bucle del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento y que es la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) descritos en el presente documento, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético, en el que los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) pueden estar separados por las una o más piezas separadoras (x42) descritas en el presente documento y en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x30) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40).
Preferentemente, la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) se lleva a cabo con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que o bien es el único imán con forma en bucle o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial, un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento, en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la
combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y que tiene una misma dirección de campo magnético como se describe en el presente documento, iii) y opcionalmente las una o más piezas polares (x50), preferentemente las una o más piezas polares con forma de disco (x50). Más preferentemente y por ejemplo tal como se muestra en la Fig. 3A-B o 4A-B, la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) se lleva a cabo o bien con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es la combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una disposición en forma cuadrada, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento y i-3) dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone preferentemente en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30) o bien con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es la combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una disposición en forma cuadrada, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento y i-3) los dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como los descritos en el presente documento y iii) las una o más piezas polares (x50) descritas en el presente documento, preferentemente las una o más piezas polares con forma de disco (x50) descritas en el presente documento, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone en la parte superior de la generación de campo magnético (x30) y en el que la generación de campo magnético (x30) se dispone en la parte superior de las una o más piezas polares (x50).
De acuerdo con otra realización, el proceso para producir la OEL (x20) descrita en el presente documento sobre el sustrato (x10) descrito en el presente documento, comprende
i) una etapa de exposición de la primera composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del primer conjunto magnético (x00-a), en el que dicho primer conjunto magnético (x00-a) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento, es decir un primer conjunto magnético (x00-a) y ii) una etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-a), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) se selecciona de entre los conjuntos descritos en la tercera realización descrita en el presente documento, es decir un primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) que comprenden de modo independiente i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento que o bien es el único imán con forma en bucle o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento, i-3) el único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o el único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o los dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único
dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético, en el que el primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) son diferentes.
Preferentemente y por ejemplo tal como se muestra en la Fig. 3A-B, la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) se lleva a cabo o bien con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es la combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una forma cuadrada, teniendo la disposición del dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento y i-3) dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como se describe en el presente documento, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone preferentemente en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30).
Preferentemente, la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) se lleva a cabo con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) descrito en el presente documento que o bien es el único imán con forma en bucle o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial y i-3) un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento que es o bien el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien la combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético y iii) las una o más piezas polares (x50) descritas en el presente documento, preferentemente las una o más piezas polares con forma de disco (x50) descritas en el presente documento. Más preferentemente y por ejemplo tal como se muestra en la Fig. 4A-B, la etapa de exposición de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación al campo magnético del segundo conjunto magnético (x00-b) se lleva a cabo con el segundo conjunto magnético (x00-b) que comprende i) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) comprendiendo i-1) la matriz de soporte (x34) descrita en el
presente documento, i-2) el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es la combinación de dos o más, en particular cuatro, dipolos magnéticos dispuestos en forma en bucle, en particular una disposición en forma cuadrada, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial tal como se describe en el presente documento y i-3) dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31), ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) descrito en el presente documento el único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) tal como los descritos en el presente documento y iii) las una o más piezas polares (x50), preferentemente las una o más piezas polares con forma de disco, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) se dispone preferentemente en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30).
La OEL (x20) descrita en el presente documento puede proporcionarse directamente sobre un sustrato (x10) sobre el cual continúa permanentemente (tal como para aplicaciones de billetes de banco). Como alternativa, la OEL (x20) puede proporcionarse también sobre un sustrato temporal (x10) con finalidades de producción, a partir de la que se retira posteriormente la OEL (x20). Esto puede facilitar por ejemplo la producción de la OEL (x20), particularmente mientras el material aglomerante está aún en su estado fluido. Tras lo cual, después de curar al menos parcialmente la composición de recubrimiento para la producción de la OEL (x20), el sustrato temporal (x10) puede retirarse de la OEL.
Como alternativa, puede estar presente una capa adhesiva sobre la OEL (x20) o puede estar presente sobre el sustrato (x10) que comprende la OEL (x20), estando dicha capa adhesiva sobre el lado del sustrato opuesto al lado en el que se proporciona la OEL (x20) o sobre el mismo lado que la OEL (x20) y en la parte superior de la OEL (x20). Por lo tanto puede aplicarse una capa adhesiva a la OEL (x20) o al sustrato (x10). Dicho artículo puede fijarse a toda clase de documentos u otros artículos o productos sin impresión u otros procesos que implican maquinaria y un esfuerzo bastante alto. Como alternativa, el sustrato (x10) descrito en el presente documento que comprende la OEL (x20) descrita en el presente documento pueden estar en la forma de una lámina de transferencia, que puede aplicarse a un documento o a un artículo en una etapa de transferencia separada. Con este propósito, el sustrato se proporciona con un recubrimiento de liberación, sobre el que se produce la OEL (x20) tal como se ha descrito en el presente documento. Pueden aplicarse una o más capas adhesivas sobre la OEL (x20) así producida.
También se describen en el presente documento sustratos (x10) que comprenden más de una, es decir dos, tres, cuatro, etc. capas de efecto óptico (OEL) (x20) obtenidas mediante el proceso descrito en el presente documento.
También se describen en el presente documento artículos, en particular documentos de seguridad, elementos u objetos decorativos, que comprenden la capa defecto óptico (OEL) (x20) producida de acuerdo con la presente invención. Los artículos, en particular documentos de seguridad, elementos u objetos decorativos, pueden comprender más de una (por ejemplo dos, tres, etc.) OEL (x20) producidas de acuerdo con la presente invención.
Como se ha mencionado anteriormente en el presente documento, la capa de efecto óptico (OEL) (x20) producida de acuerdo con la presente invención puede usarse con finalidades decorativas así como para proteger y autenticar un documento de seguridad. Ejemplos típicos de elementos u objetos decorativos incluyen sin limitación bienes de lujo, empaquetados cosméticos, piezas de automoción, dispositivos electrónicos/eléctricos, mobiliario y lacas de uñas.
Los documentos de seguridad incluyen sin limitación documentos de valor y bienes comerciales de valor. Ejemplos típicos de documentos de valor incluyen sin limitación billetes de banco, títulos, tiques, cheques, bonos, sellos fiscales y etiquetas fiscales, contratos y similares, documentos de identidad tales como pasaportes, tarjetas de identidad, visados, permisos de conducción, tarjetas bancarias, tarjetas de crédito, tarjetas de transacción, documentos o tarjetas de acceso, tiques de entrada, tiques o títulos de transporte público y similares, preferentemente billetes de banco, documentos de identidad, documentos que confieren derechos, permisos de conducción y tarjetas de crédito. La expresión "bien comercial de valor" se refiere a materiales de empaquetado, en particular para artículos cosméticos, artículos nutracéuticos, artículos farmacéuticos, alcoholes, artículos de tabaco, bebidas o alimentos, artículos eléctricos/electrónicos, tejidos o joyería, es decir artículos que deben protegerse contra falsificación y/o reproducción ilegal para garantizar el contenido del empaquetado como por ejemplo fármacos genuinos. Ejemplos de estos materiales de empaquetado incluyen sin limitación etiquetas, tales como etiquetas de autenticación de marca, etiquetas y sellos para evidenciar la alteración. Se señala que los sustratos divulgados, documentos de valor y bienes comerciales de valor se dan exclusivamente con finalidades de ejemplificación, sin
restringir el alcance de la invención.
Como alternativa, la OEL (x20) descrita en el presente documento puede producirse sobre un sustrato auxiliar (x10) tal como por ejemplo un hilo de seguridad, tira de seguridad, una lámina, una calcomanía, una ventana o una etiqueta y en consecuencia transferirse a un documento de seguridad en un una etapa separada.
Ejemplos
Se usaron los conjuntos magnéticos representados en las Figs. 2-4 en etapas de orientación independientes de partículas de pigmento magnéticas no esféricas ópticamente variables en una capa impresa de la tinta de serigrafiado curable por UV descrita en la Tabla 1 de modo que produjera las capas de efecto óptico (OEL) (x20) mostradas en la Fig. 6A-C y se preparó de acuerdo con la invención. Se usaron los conjuntos magnéticos representados en las Figs. 4 y 5 para orientar partículas de pigmento magnéticas no esféricas ópticamente variables en una capa impresa de tinta de serigrafiado curable por UV descrita en la Tabla 1 de modo que produjera una capa de efecto óptico (OEL) (720) comparativa mostrada en la Fig. 7.
Proceso general para la preparación de los Ejemplos E1-E3 y del Ejemplo Comparativo C1
Se aplicó independientemente la tinta de serigrafiado curable por UV de la Tabla 1 (etapa a)) sobre un sustrato de papel comercial negro (x10) (un papel estándar fiduciario BNP de 90 g/m2, de Papierfabrik Louisenthal, 50 x 50 mm), llevándose a cabo dicha aplicación mediante serigrafiado a mano usando una malla T90 de modo que formara un único primer patrón de una primera capa de recubrimiento (x21) (16 mm x 16 mm) que tenía un grosor de aproximadamente 20 |jm. El papel de sustrato (x10) que transporta el único patrón aplicado de la primera capa de recubrimiento (x21) se dispuso independientemente sobre un primer conjunto magnético (x00-a) (Figs. 2 y 5) (etapa b)). El patrón de orientación magnética así obtenido de las partículas de pigmento no esféricas ópticamente variables se curó al menos parcialmente, de modo parcial simultáneamente con la etapa de orientación, mediante curado por UV (etapa c)) de la capa impresa que contenía las partículas de pigmento usando una lámpara de LED UV de Phoseon (Type FireFlex 50 x 75 mm, 395 nm, 8 W/cm2). La misma tinta de serigrafiado curable por UV (Tabla 1) se aplicó independientemente (etapa d)) a mano en la parte superior del único primer patrón de la primera capa de recubrimiento (x21) usando la malla T90 de modo que formara un segundo patrón compuesto de una segunda capa de recubrimiento (x22) (16 mm x 16 mm para E1-E2 (Fig. 6A-B) y C1 (Fig. 7); 10 mm x 10 mm para E3 (Fig. 6C)) que tenía grosor de aproximadamente 20 jm. El sustrato de papel (x10) que llevaba el primer patrón realizado de la primera capa de recubrimiento endurecido (x21) y el segundo patrón aún no endurecido compuesto de las capa de recubrimiento (x22) se dispuso de modo independiente sobre un segundo conjunto magnético (x00-b) (Figs. 3-4) diferente del primer conjunto magnético (x00-a) (etapa e)). El patrón de orientación magnética así obtenido de las partículas de pigmento no esféricas ópticamente variables se curó al menos parcialmente de modo independiente, parcialmente de modo simultáneo con la segunda etapa de orientación (etapa f)) mediante curado por UV de la capa impresa que contenía las partículas de pigmento usando una lámpara lEd UV de Phoseon (Type FireFlex 50 x 75 mm, 395 nm, 8 W/cm2).
T l 1. Tin ri r fi r l r V:
Descripción del primer y segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x100-b) (Fig. 2-5)
Conjunto magnético (200-a, 200-b) (Fig. 2A-2B)
El conjunto magnético (200-a, 200-b) (Fig. 2A-2B) compuesto de un dispositivo de generación de campo magnético (230) que se dispone entre un dispositivo de generación de campo magnético (240) y un sustrato (210) que transporta la composición de recubrimiento (221, 221 222) que comprende las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas tal como se ilustra esquemáticamente en la Fig. 2A.
Compuesto el dispositivo de generación de campo magnético (230) de un dipolo magnético con forma en anillo (231) , una pieza polar con forma en anillo (233) y una matriz de soporte de forma cuadrada (234) para mantener el
dipolo magnético con forma en anillo (231) y la pieza polar con forma en anillo (233) en posición.
El dipolo magnético con forma en anillo (231) tenía un diámetro externo (A1) de aproximadamente 26,1 mm, un diámetro interno (A2) de aproximadamente 18,3 mm y un grosor (A5) de aproximadamente 2 mm. El dipolo magnético con forma en anillo (231) tenía un eje magnético sustancialmente perpendicular al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (240) y sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (210), con el polo Sur apuntando hacia al sustrato (210). El dipolo magnético con forma en anillo (231) se fabricó de NdFeB N40.
La pieza polar con forma en anillo (233) tenía un diámetro externo (A3) de aproximadamente 14 mm, un diámetro interno (A4) de aproximadamente 10 mm y un grosor (A5) de aproximadamente 2 mm. La pieza polar con forma en anillo (233) se alineó centralmente con el dispositivo de generación de campo magnético con forma en anillo (231). La pieza polar con forma en anillo (233) se fabricó de acero S235.
La matriz de soporte (234) tenía una longitud (A6) y un ancho (A7) de aproximadamente 29,9 mm y un grosor (A8) de aproximadamente 3 mm. La matriz de soporte (234) se fabricó de POM. Tal como se muestra en la Fig. 2B2, la superficie inferior de la matriz de soporte (234) comprendía dos hendiduras circulares que tenían una profundidad (A5) de aproximadamente 2 mm para recibir el dipolo magnético con forma en anillo (231) y la pieza polar con forma en anillo (233).
El dispositivo de generación de campo magnético (240) comprendía siete dipolos magnéticos en barra (241) y seis piezas separadoras (242). Los siete dipolos magnéticos en barra (241) y las seis piezas separadoras (242) se dispusieron en una forma alternada no simétrica como se muestra en la Fig. 2A, es decir dos dipolos magnéticos en barra (241) estaban en contacto directo y adyacentes a una pieza separadora (242), estando los otros cinco dipolos magnéticos en barra alternados cada uno con una pieza separadora (242). La sexta pieza separadora (242) se usó para asegurar la posición correcta del dispositivo de generación de campo magnético (240) por debajo del dispositivo de generación de campo magnético (230). Los siete dipolos magnéticos en barra (241) tenían cada uno una longitud (B1) de aproximadamente 29,9 mm, un ancho (B2) de aproximadamente 3 mm y un grosor (B3) de aproximadamente 6 mm. Cada una de las seis piezas separadoras (242) tenía una longitud (B4) de aproximadamente 20 mm, un ancho (B5) de aproximadamente 1,5 mm y un grosor (B6) de aproximadamente 6 mm. El eje magnético de cada uno de los siete dipolos magnéticos en barra (241) era sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (210) y apuntando todos en la misma dirección. Los siete dipolos magnéticos en barra (241) se fabricaron de NdFeB N42. Las seis piezas separadoras (242) se fabricaron de pOm .
El dispositivo de generación de campo magnético (230) y el dispositivo de generación de campo magnético (240) estaban en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (230) y la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (240) era de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 2A por claridad de los dibujos). El dispositivo de generación de campo magnético (230) y el dispositivo de generación de campo magnético (240) se alinearon centralmente relativamente entre sí, es decir la sección media de la longitud (A6) y del ancho (A7) del dispositivo de generación de campo magnético (230) estaban alineadas con la sección media de la longitud (B1) y del ancho (B7) del dispositivo de generación de campo magnético (240). La distancia (h) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (230) (es decir la superficie superior de la matriz de soporte (234) y la superficie del sustrato (210) que mira al dispositivo de generación de campo magnético (230)) fue de aproximadamente 3,5 mm.
Conjunto magnético (300-a, 300-b) (Fig. 3A-3B)
El conjunto de generación de campo magnético (300-a, 300-b) (Fig. 3A-3B) compuesto de un dispositivo de generación de campo magnético (340) que se dispone entre un dispositivo de generación de campo magnético (330) y un sustrato (310) que transporta la composición de recubrimiento (321, 321 322) que comprende las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas tal como se ilustra esquemáticamente en la Fig. 3A.
El dispositivo de generación de campo magnético (330) comprendía cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuestos en una disposición de forma cuadrada, ocho dipolos magnéticos (332) y una matriz de soporte (334). Los ocho dipolos magnéticos (332) se dispusieron en las esquinas de un primer cuadrado y de un segundo cuadrado, respectivamente, en el que el primer cuadrado estaba anidado en el segundo cuadrado y se dispuso centralmente dentro de la disposición de forma cuadrada de los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) como se ilustra esquemáticamente en las Figs. 3A y 3B.
Como se muestra en las Figs. 3A y 3B, cada uno de los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuestos en la disposición de forma cuadrada tenía una longitud (A1) de aproximadamente 25 mm, un ancho (A2) de aproximadamente 2 mm y un grosor (A3) de aproximadamente 5 mm. Los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuestos en la disposición de forma cuadrada se colocaron de tal manera en la matriz de soporte (334) que sus ejes magnéticos estaban sustancialmente paralelos al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (340) y sustancialmente paralelos a la superficie del sustrato (310), apuntando su polo Norte radialmente
hacia el área central del bucle de la disposición de forma cuadrada y apuntando su polo Sur hacia el exterior de la matriz de soporte (334), es decir apuntando hacia el entorno. El centro del cuadrado formado por los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuestos en la disposición de forma cuadrada coincidía con el centro de la matriz de soporte (334). Cada uno de los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuesto en la disposición de forma cuadrada se fabricó de NdFeB N48.
Cada uno de los ocho dipolos magnéticos (332) tenía un diámetro (A7) de aproximadamente 2 mm y un grosor (A8) de aproximadamente 4 mm. Cuatro de dichos ocho dipolos magnéticos (332) se dispusieron en cuatro hendiduras localizadas sobre las diagonales alrededor del centro de la matriz de soporte (334) de modo que formaran el primer cuadrado. Los otros cuatro de los ocho dipolos magnéticos (332) se dispusieron en cuatro hendiduras localizadas sobre las diagonales de la matriz de soporte (334) de modo que formaran el segundo cuadrado tal como se ilustra en la Fig. 3B1. Los ejes magnéticos de cada uno de los ocho dipolos magnéticos (332) estaban sustancialmente perpendiculares a la superficie del sustrato (310) y al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (340) con su polo Sur apuntando hacia el dispositivo de generación de campo magnético (340). Cada uno de los ocho dipolos magnéticos (332) se fabricó de NdFeB N45.
La matriz de soporte (334) tenía una longitud (A4) y un ancho (A5) de aproximadamente 30 mm y un grosor (A6) de aproximadamente 6 mm. La matriz de soporte (334) se fabricó de POM. Tal como se muestra en la Fig. 3B1-2, la superficie superior de la matriz de soporte (334) comprendía treinta y seis hendiduras, dispuestas en seis líneas que comprendían cada una seis hendiduras, que tenían una profundidad (A8) de aproximadamente 4 mm y un diámetro (A7) de aproximadamente 2 mm, usándose ocho de las treinta y seis hendiduras para recibir los ocho dipolos magnéticos (332) y teniendo una hendidura una profundidad (A3) de aproximadamente 5 mm y un ancho (A2) de aproximadamente 2 mm para recibir los cuatro dipolos magnéticos en barra (331) dispuestos en la disposición de forma cuadrada. La distancia (A9) entre los centros de dos hendiduras que se disponían sobre dos líneas vecinas fue de aproximadamente 3 mm. La distancia (A10) entre los centros de dos hendiduras vecinas que se disponían sobre las diagonales de la matriz de soporte (334) fue de aproximadamente 4,2 mm.
El dispositivo de generación de campo magnético (340) era un dipolo magnético en barra que tenía una longitud (B1) y un ancho (B2) de aproximadamente 29,9 mm y un grosor (B3) de aproximadamente 2 mm. Los ejes magnéticos de los dipolos magnéticos en barra (340) estaban paralelos a la superficie del sustrato (310). El dipolo magnético en barra (340) se fabricó de NdFeB N30UH.
El dispositivo de generación de campo magnético (340) y el dispositivo de generación de campo magnético (330) estaban en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (340) y la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (330) era de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 3A por claridad de los dibujos). El dispositivo de generación de campo magnético (340) y el dispositivo de generación de campo magnético (330) estaban centrados relativamente entre sí, es decir la sección media de la longitud (B1) y del ancho (B2) del dispositivo de generación de campo magnético (340) estaban alineadas con la sección media de la longitud (A4) y del ancho (A5) del dispositivo de generación de campo magnético (330). La distancia (h) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (340) y la superficie del sustrato (310) que mira al dispositivo de generación de campo magnético (340) fue de aproximadamente 1,5 mm.
Conjunto magnético (400-a, 400-b) (Fig. 4A-4B)
El conjunto de generación de campo magnético (400-a, 400-b) (Fig. 4A-4B) compuesto de un dispositivo de generación de campo magnético (440) que se dispone entre un dispositivo de generación de campo magnético (430) y un sustrato (410) que transporta la composición de recubrimiento (421, 421 422) que comprende las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas tal como se ilustra esquemáticamente en la Fig. 4A. El conjunto de generación de campo magnético (400-a, 400-b) comprendía adicionalmente una pieza polar con forma de disco (450).
El dispositivo de generación de campo magnético (430) comprendía cuatro dipolos magnéticos en barra (431) dispuestos en una disposición de forma cuadrada, diecinueve dipolos magnéticos (432), disponiéndose dieciocho dipolos magnéticos (432) de modo que formen una doble fila de marca en "V" y localizándose diecinueve dipolos magnéticos (432) en la punta de la "V" y una matriz de soporte (434), como se ilustra esquemáticamente en las Figs.
4A y 4B1.
Como se muestra en las Figs. 4A y 4B, cada uno de los cuatro dipolos magnéticos en barra (431) dispuestos en la disposición de forma cuadrada tenía una longitud (A1) de aproximadamente 25 mm, un ancho (A2) de aproximadamente 2 mm y un grosor (A3) de aproximadamente 5 mm. Los cuatro dipolos magnéticos en barra (431) dispuestos en la disposición de forma cuadrada se colocaron de tal manera en la matriz de soporte (434) que sus ejes magnéticos estaban sustancialmente paralelos al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (440) y sustancialmente paralelos a la superficie del sustrato (410), apuntando su polo Norte radialmente hacia el área central del bucle de dicha disposición de forma cuadrada y apuntando su polo Sur hacia el exterior de la matriz de soporte (434), es decir apuntando hacia el entorno. El centro del cuadrado formado por los cuatro
dipolos magnéticos en barra (431) dispuestos en una disposición de forma cuadrada coincidía con el centro de la matriz de soporte (434). Cada uno de los cuatro dipolos magnéticos en barra (431) dispuesto en una disposición de forma cuadrada se fabricó de NdFeB N48.
Dispuesto a cada uno de los diecinueve dipolos magnéticos (432) de modo que formen una marca en doble fila en "V" y los diecinueve dipolos magnéticos (432) que se localizan en la punta de la "V", tenían un diámetro (A7) de aproximadamente 2 mm y un grosor (A8) de aproximadamente 1 mm. Los ejes magnéticos de cada uno de los diecinueve dipolos magnéticos (432) estaban sustancialmente perpendiculares a la superficie del sustrato (410) y al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (440) con su polo Sur mirando al dispositivo de generación de campo magnético (440). Cada uno de los diecinueve dipolos magnéticos (432) se fabricó de NdFeB N48
La matriz de soporte (434) tenía una longitud (A4) y un ancho (A5) de aproximadamente 30 mm y un grosor (A6) de aproximadamente 6 mm. La matriz de soporte (434) se fabricó de POM. Tal como se muestra en la Fig. 4B1-2, la superficie de la matriz de soporte (434) comprendía setenta y siete hendiduras, dispuestas en cinco líneas que comprendían cada una nueve hendiduras alternadas con cuatro líneas que comprendían cada una ocho hendiduras, que tenían una profundidad (A8) de aproximadamente 1 mm y un diámetro (A7) de aproximadamente 2 mm, usándose diecinueve de las setenta y siete hendiduras para recibir los diecinueve dipolos magnéticos (432) y teniendo una hendidura una profundidad (A3) de aproximadamente 5 mm y un ancho (A2) de aproximadamente 2 mm para recibir el dispositivo de generación de campo magnético de forma cuadrada (431). La distancia (A9) entre los centros de dos hendiduras que se disponen sobre dos líneas vecinas a lo largo de la longitud (A4) fue de aproximadamente 4 mm. La distancia (A10) entre los centros de dos hendiduras que se disponen sobre una línea paralela al ancho (A5) fue de aproximadamente 2,5 mm. La distancia (A11) entre el centro de la primera hendidura sobre una línea de nueve hendiduras y el centro de la primera hendidura sobre una línea de ocho hendiduras de la matriz de soporte (434) fue de aproximadamente 1,5 mm. Las distancias (A12) y (A13) entre el centro de la primera línea de nueve hendiduras y el dipolo magnético en barra (431) más cercano fue de aproximadamente 1,5 mm. El dispositivo de generación de campo magnético (440) era un dipolo magnético en barra que tenía una longitud (B1) y un ancho (B2) de aproximadamente 29,9 mm y un grosor (B3) de aproximadamente 2 mm. Los ejes magnéticos de los dipolos magnéticos en barra (440) estaban paralelos a la superficie del sustrato (410). El dipolo magnético en barra (440) se fabricó de NdFeB N30UH.
La pieza polar con forma de disco (450) tenía un diámetro (C1) de aproximadamente 30 mm y un grosor (C2) de aproximadamente 2 mm. La pieza polar con forma de disco (450) se fabricó de acero S235.
El dispositivo de generación de campo magnético (440) y el dispositivo de generación de campo magnético (430) estaban en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (440) y la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (430) era de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 4A por claridad de los dibujos). La pieza polar con forma de disco (450) se coloca por debajo del dispositivo de generación de campo magnético (430), de modo que la distancia (e) entre la superficie del fondo de la matriz de soporte (434) del dispositivo de generación de campo magnético (430) y la superficie superior de la pieza polar con forma de disco es de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 4A por la claridad de los dibujos). El dispositivo de generación de campo magnético (440), el dispositivo de generación de campo magnético (430) y la pieza polar con forma de disco (450) se centraron relativamente entre sí, es decir la sección media de la longitud (B1) y del ancho (B2) del dispositivo de generación de campo magnético (440) se alinearon con la sección media de la longitud (A4) y del ancho (A5) del dispositivo de generación de campo magnético (430) y con el diámetro (C1) de la pieza polar con forma de disco (450). La distancia (h) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (440) y la superficie del sustrato (410) que mira al dispositivo de generación de campo magnético (440) fue de aproximadamente 1,5 mm.
Conjunto magnético (500-a, 500-b) (Fig. 5A-B)
El conjunto magnético (500) (Fig. 5A-B2) se componía de un dispositivo de generación de campo magnético (530) que se dispuso entre un dispositivo de generación de campo magnético (540) y un sustrato (510) que transportaba la composición de recubrimiento (521, 521+522) que comprendía las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas tal como se ilustra esquemáticamente en la Fig. 5A.
El conjunto magnético (530) es el mismo que en el Ejemplo 6 divulgado en el documento WO 2017/080698 A1 y comprendía un dipolo magnético con forma en anillo (531), una pieza polar con forma en bucle (533) y una matriz de soporte (534).
El dipolo magnético con forma en anillo (531) tenía un diámetro externo (L7) de aproximadamente 26 mm, un diámetro interno (L8) de aproximadamente 16,5 mm y un grosor (L9) de aproximadamente 2 mm. El dipolo magnético con forma en anillo (531) tenía un eje magnético sustancialmente perpendicular al eje magnético del dispositivo de generación de campo magnético (540) y sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato
(510), con el polo Sur mirando al sustrato (520). El dipolo magnético con forma en anillo (531) se fabricó de NdFeB N40.
La pieza polar con forma en bucle (533) tenía un diámetro externo (L10) de aproximadamente 14 mm, un diámetro interno (L11) de aproximadamente 10 mm y un grosor (L9) de aproximadamente 2 mm. La pieza polar con forma en bucle (533) se alineó centralmente con el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (531). La pieza polar con forma en bucle (533) se fabricó de hierro.
La matriz de soporte (534) tenía una longitud (L4) de aproximadamente 30 mm, un ancho (L5) de aproximadamente 30 mm y un grosor (L6) de aproximadamente 3 mm. La matriz de soporte (534) se fabricó de POM. Tal como se muestra en la Fig. 5B2, la superficie inferior de la matriz de soporte (534) comprendía dos hendiduras circulares que tenían una profundidad (L9) de aproximadamente 2 mm para recibir el dipolo magnético con forma en anillo (531) y la pieza polar con forma en bucle (533)
El dispositivo de generación de campo magnético con forma en anillo (531), la pieza polar con forma en bucle (533) y la matriz de soporte (534) se alinearon centralmente a lo largo de la longitud (L4) y del ancho (L5) de (534).
El dispositivo de generación de campo magnético (540) comprendía siete dipolos magnéticos en barra (541) y seis piezas separadoras (542). Los siete dipolos magnéticos en barra (541) y las seis piezas separadoras (542) se dispusieron en una forma alternada no simétrica como se muestra en la Fig. 5A, es decir dos dipolos magnéticos en barra (541) estaban en contacto directo y adyacentes a una pieza separadora (542), estando los otros cinco dipolos magnéticos en barra alternados cada uno con una pieza separadora (542). La sexta pieza separadora (542) se usó para asegurar la posición correcta del dispositivo de generación de campo magnético (540) por debajo del conjunto magnético (530). Los siete dipolos magnéticos en barra (541) tenían cada uno una longitud (L1) de aproximadamente 30 mm, un ancho (L2a) de aproximadamente 3 mm y un grosor (L3) de aproximadamente 6 mm. Cada una de las seis piezas separadoras (542) tenía una longitud de aproximadamente 20 mm, un ancho (L2b) de aproximadamente 1,5 mm y un grosor (L3) de aproximadamente 6 mm. El eje magnético de cada uno de los siete dipolos magnéticos en barra (541) estaba sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (510). Los siete dipolos magnéticos en barra (541) se fabricaron de NdFeB N42. Las seis piezas separadoras (542) se fabricaron de POM. El dispositivo de generación de campo magnético (540) fue el mismo que el dispositivo de generación de campo magnético (240) (Fig. 2A), excepto en que su dirección magnética es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (540).
El dispositivo de generación de campo magnético (530) y el dispositivo de generación de campo magnético (540) estaban en contacto directo, es decir la distancia (d) entre la superficie inferior del dispositivo de generación de campo magnético (530) y la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (540) era de aproximadamente 0 mm (no mostrado a escala verdadera en la Fig. 5A por claridad de los dibujos). La distancia (h) entre la superficie superior del dispositivo de generación de campo magnético (530) (es decir la superficie superior de la matriz de soporte (534) y la superficie del sustrato (510) que mira al dispositivo de generación de campo magnético (530)) fue de aproximadamente 3,5 mm.
Ejemplo E1 (Fig. 6A): proceso usando el conjunto magnético representado en la Fig. 2A-B como el primer conjunto magnético (200-a) y el conjunto magnético representado en la Fig. 3A-B como el segundo conjunto magnético (300-b),
El ejemplo E1 se preparó de acuerdo con el proceso general descrito anteriormente usando el conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) para la primera etapa de orientación (etapa b)) y el conjunto magnético (300-b) (Fig. 3A-B) para la segunda etapa de orientación (etapa e)). El sustrato (610) se dispuso sobre el conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) usado para la primera etapa de orientación y el conjunto magnético (300-b) (Fig. 3A-B) usado para la segunda etapa de orientación de modo que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (240) del conjunto magnético (200-a) y la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (340) del conjunto magnético (300-b) estuvieran en oposición relativamente entre sí con referencia al sustrato (610).
La OEL (620) resultante se muestra en la Fig. 6A con diferentes ángulos de visión mediante la inclinación del sustrato (610) entre 20° y -60°. La OEL (620) resultante proporciona la impresión visual de un círculo que reduce su tamaño y que se transforma en un cuadrado incrementando su tamaño y viceversa tras la inclinación del sustrato (610) o, en otras palabras, un círculo que se transforma tras empequeñecerse en un cuadrado creciente y viceversa con la inclinación del sustrato (610).
Ejemplo E2 (Fig. 6B): proceso usando el conjunto magnético representado en la Fig. 2A-B como el primer conjunto magnético (200-a) y el conjunto magnético representado en la Fig. 4A-B como el segundo conjunto magnético (400-b)
El ejemplo E2 se preparó de acuerdo con el proceso general descrito anteriormente usando el conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) para la primera etapa de orientación (etapa b)) y el conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) para la segunda etapa de orientación (etapa e)). El sustrato (610) se dispuso sobre el conjunto magnético (200-a) (Fig.
2A-B) usado para la primera etapa de orientación y el conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) usado para la segunda etapa de orientación de modo que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (240) del conjunto magnético (200-a) y la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (440) del segundo conjunto magnético (400-b) estuvieran en oposición entre sí con referencia al sustrato (610).
La OEL (620) resultante se muestra en la Fig. 6B con diferentes ángulos de visión mediante la inclinación del sustrato (610) entre 20° y -60°. La OEL (620) resultante proporciona la impresión visual de un circulo que reduce su tamaño y que se trasforma en un triángulo que incrementa su tamaño y viceversa con la inclinación del sustrato (610), en el que tanto el círculo como el triángulo cambian su tamaño con la inclinación del sustrato (610) o, en otras palabras, un círculo que se transforma tras empequeñecerse en un triángulo creciente y viceversa con la inclinación del sustrato (610).
Ejemplo E3 (Fig. 6C): proceso usando el conjunto magnético representado en la Fig. 2A-B como el primer conjunto magnético (200-a) y el conjunto magnético representado en la Fig. 4A-B como el segundo conjunto magnético (400-b)
El ejemplo E3 se preparó como el ejemplo E2, excepto en el que el segundo patrón único realizado de la segunda capa de recubrimiento (622) (10 mm x 10 mm) fue más pequeño que el primer patrón único de una primera capa de recubrimiento (621) (16 mm x 16 mm).
La OEL (620) resultante se muestra en la Fig. 6C con diferentes ángulos de visión mediante la inclinación del sustrato (610) entre 20° y -60°. La OEL (620) resultante proporciona la impresión visual de un circulo que reduce su tamaño y que se trasforma en un triángulo que incrementa su tamaño y viceversa con la inclinación del sustrato (610), en el que tanto el círculo como el triángulo cambian su tamaño con la inclinación del sustrato (610) o, en otras palabras, un círculo que se transforma tras empequeñecerse en un triángulo creciente y viceversa con la inclinación del sustrato (610).
Ejemplo comparativo C1 (Fig. 7).
El ejemplo comparativo C1 se preparó de acuerdo con el proceso general descrito anteriormente usando un conjunto magnético (500-a) (Fig. 5A-B) y el conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) para la segunda etapa de orientaciones (etapa e)). El sustrato (710) se dispuso sobre el conjunto magnético (500-a) (Fig. 5A-B) usado para la primera etapa de orientación y el conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) usado para la segunda etapa de orientación de modo que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (540) del primer conjunto magnético (500-a) y la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (440) del segundo conjunto magnético (400-b) fueran las mismas con referencia al sustrato (710).
La OEL (720) comparativa resultante se muestra en la Fig. 7 con diferentes ángulos de visión mediante la inclinación del sustrato (710) entre 20° y -60°. La OEL (720) resultante proporciona la impresión visual de un circulo que se inscribe en un triángulo, en el que tanto el círculo como el triángulo incrementan su tamaño (o alternativamente disminuyen su tamaño) con la inclinación del sustrato (710), es decir no una OEL que proporcione una impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y forma que varían con la inclinación de la capa de efecto óptico.
Claims (1)
- REIVINDICACIONES1. Un proceso para producir una capa de efecto óptico (OEL) (x20) sobre un sustrato (x10), comprendiendo dicho proceso las etapas de:a) aplicar sobre un superficie del sustrato (x10) de una primera composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen uno o más primeros patrones de una primera capa de recubrimiento (x21), estando dicha primera composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado,b) exponer la primera composición de recubrimiento curable por radiacióna un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es o bien un único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle y que tienen un eje magnético resultante sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) que tiene un eje magnético resultante sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10); oa un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende una matriz de soporte (x34), un dispositivo de generación de campo magnético (x31) con forma en bucle que es o bien un único dipolo magnético con forma en bucle que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección del campo magnético, un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32) que tienen un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y que tienen la misma dirección de campo magnético y/o una o más piezas polares (x33) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético; oa un campo magnético de un primer conjunto magnético (x00-a) que comprende i) un dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende una matriz de soporte (x34), un dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que o bien es un único imán con forma en bucle o bien una combinación de dos o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial, un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) o un único dipolo magnético (x32) que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o dos o más dipolos magnéticos (x32), teniendo cada uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de dicho único dipolo magnético (x32) o el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur del único imán con forma en bucle o de los dos o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) y ii) un dispositivo de generación de campo magnético (x40) que es o bien un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) o una combinación de dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético,de modo que oriente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas, y c) curar al menos parcialmente la primera composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa b) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más primeros patrones al menos parcialmente curados,d) aplicar al menos parcialmente sobre uno o más de los primeros patrones al menos parcialmente curados de la etapa c) una segunda composición de recubrimiento curable por radiación que comprende partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas de modo que formen uno o más segundos patrones de una segunda capa de recubrimiento (x22), estando dicha segunda composición de recubrimiento curable por radiación en un primer estado,e) exponer la segunda composición de recubrimiento curable por radiación a un campo magnético de un segundo conjunto magnético (x00-b), siendo seleccionado dicho segundo conjunto magnético (x00-b) de entre el primer conjunto magnético (x00-a) de la etapa b), en el que dicho segundo conjunto magnético (x00-b) es diferente del primer conjunto magnético (x00-a) usado en la etapa b) y en el que la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) de dicho conjunto magnético (x00-b) es opuesta a la dirección magnética del dispositivo de generación de campo magnético (x40) del primer conjunto magnético (x00-a) dentro del marco de referencia del sustrato (x10),yf) curar al menos parcialmente la segunda composición de recubrimiento curable por radiación de la etapa e) a un segundo estado de modo que fije las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas en sus posiciones y orientaciones adoptadas y de modo que formen uno o más segundos patrones al menos parcialmente curados,en el que la capa de efecto óptico proporciona una impresión óptica de un cuerpo con forma en bucle que tiene un tamaño y un contorno, que varía con la inclinación de la capa de efecto óptico.2. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el primer conjunto magnético (x00-a) y/o el segundo conjunto magnético (x00-b) comprenden independientementei) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende una matriz de soporte (x34), el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es un único dipolo magnético con forma en anillo que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y una o más piezas polares (x33) y ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético; o ii) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende la matriz de soporte (x34), el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es una combinación de cuatro o más dipolos magnéticos (x31) dispuestos en una disposición con forma en bucle, preferentemente una disposición con forma cuadrada, teniendo cada uno de los cuatro o más dipolos magnéticos (x31) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que tiene una magnetización radial y dos o más dipolos magnéticos (x32) que tienen un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y que tienen una misma dirección de campo magnético, ii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10), en el que el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los cuatro o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los cuatro o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31); y iii) opcionalmente una o más piezas polares (x50).3. El proceso de acuerdo con la reivindicación 2, en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x30) del primer conjunto magnético (x00-a) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40) de dicho primer conjunto magnético (x00-a) y en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) del segundo conjunto magnético (x00-b) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30) de dicho segundo conjunto magnético (x00-b).4. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1 o 2, en el que el primer conjunto magnético (x00-a) comprendei) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende la matriz de soporte (x34), siendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) un único dipolo magnético con forma en anillo que tiene un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y una o más piezas polares (x33) yii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40) dos o más dipolos magnéticos en barra (x41), teniendo cada uno de los dos o más dipolos magnéticos en barra (x41) un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección de campo magnético, yen el que el segundo conjunto magnético (x00-b) comprendei) el dispositivo de generación de campo magnético (x30) que comprende la matriz de soporte (x34), el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) que es una combinación de cuatro o más dipolos magnéticos dispuestos en una disposición con forma en bucle, preferentemente una disposición con forma cuadrada, teniendo cada uno de los cuatro o más dipolos magnéticos un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) y teniendo el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) una magnetización radial, teniendo los dos o más dipolos magnéticos (x32) un eje magnético sustancialmente perpendicular a la superficie del sustrato (x10) y teniendo una misma dirección del campo magnético, en el que el polo Norte de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Norte de los cuatro o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) o en el que el polo Sur de al menos uno de dichos dos o más dipolos magnéticos (x32) está apuntando hacia la superficie del sustrato (x10) cuando el polo Sur de los cuatro o más dipolos magnéticos que forman el dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) está apuntando hacia la periferia de dicho dispositivo de generación de campo magnético con forma en bucle (x31) yii) siendo el dispositivo de generación de campo magnético (x40)un único dipolo magnético en barra que tiene un eje magnético sustancialmente paralelo a la superficie del sustrato (x10) yiii) opcionalmente una o más piezas polares (x50).5. El proceso de acuerdo con la reivindicación 4, en el que el dispositivo de generación de campo magnético(x30) del primer conjunto magnético (x00-a) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x40) de dicho primer conjunto magnético (x00-a) y en el que el dispositivo de generación de campo magnético (x40) del segundo conjunto magnético (x00-b) se coloca en la parte superior del dispositivo de generación de campo magnético (x30) de dicho segundo conjunto magnético (x00-b).6. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que la etapa a) y/o la etapa d) se lleva a cabo mediante un proceso de impresión preferentemente mediante un proceso de impresión seleccionado de entre el grupo que consiste en serigrafiado, huecograbado y flexografía.7. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que al menos una parte de la pluralidad de partículas magnéticas o magnetizables no esféricas está constituida por partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas ópticamente variables, seleccionadas preferentemente de entre el grupo que consiste en pigmentos magnéticos de interferencia de película delgada, pigmentos de cristal líquido colestérico y mezclas de los mismos.8. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas son las mismas en la primera composición de recubrimiento curable por radiación y en la segunda composición de recubrimiento curable por radiación o en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas son diferentes en términos de propiedades de tamaño y/o de color en la primera composición de recubrimiento curable por radiación y en la segunda composición de recubrimiento curable por radiación.9. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso en la primera composición de recubrimiento curable por radiación y las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están presentes en una cantidad desde aproximadamente el 2 % en peso a aproximadamente el 40 % en peso de la segunda composición de recubrimiento curable por radiación.10. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables no esféricas están presentes en aproximadamente la misma cantidad en la primera composición de recubrimiento curable por radiación y en la segunda composición de recubrimiento curable por radiación.11. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que c) se lleva a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa b) y/o la etapa f) se lleva a cabo parcialmente de modo simultáneo con la etapa e).12. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que las partículas magnéticas o magnetizables no esféricas son partículas de pigmento con forma de plaqueta y en el que dicho proceso comprende adicionalmente una etapa de exposición de la composición de recubrimiento curable por radiación a un campo magnético dinámico de un dispositivo de generación de campo magnético de modo que oriente biaxialmente al menos una parte de las partículas de pigmento magnéticas o magnetizables con forma de plaqueta, llevándose a cabo dicha etapa después de la etapa a) y antes de la etapa b) y/o llevándose a cabo dicha etapa después d etapa d) y antes de la etapa e).13. El proceso de acuerdo con cualquier reivindicación anterior, en el que la forma de los uno o más primeros patrones de la primera capa de recubrimiento (x21) y la forma de los uno o más segundos patrones de la segunda capa de recubrimiento (x22) representan independientemente una o más marcas, puntos y/o líneas.14. Una capa de efecto óptico (OEL) (x20) producida mediante el proceso enumerado en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13.15. Un documento de seguridad o un elemento u objeto decorativo que comprende una o más capas de efecto óptico (OEL) (x20) enumeradas en la reivindicación 14.
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