ES2991307T3 - Método para fabricar una película estratificada y método para fabricar un miembro estratificado - Google Patents

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Takamitsu Watanabe
Takeki Hosokawa
Kei Takigawa
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Abstract

Se proporciona un método para fabricar una película en capas que se puede moldear en formas complejas. El método para fabricar una película en capas incluye: un paso para aplicar, a una superficie de un primer sustrato de soporte que tiene un espesor de 50-600 μm inclusive, una composición para formar una capa de revestimiento duro curable por rayos de energía activa, y posteriormente secar la composición para formar una capa de revestimiento duro no curada; un paso para aplicar, a una superficie de un segundo sustrato de soporte, una composición para formar una capa de interferencia óptica curable por rayos de energía activa de modo que el espesor de una capa de interferencia óptica no curada resultante sea de 15-200 nm inclusive, y posteriormente secar la composición para formar la capa de interferencia óptica no curada; y un paso de laminación para fijar juntas la superficie de la capa de revestimiento duro no curada en el lado opuesto al primer sustrato de soporte y la superficie de la capa de interferencia óptica no curada en el lado opuesto al segundo sustrato de soporte para obtener una película en capas. La tasa de alargamiento a 160 °C de la película en capas es del 50 % o mayor. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

DESCRIPCIÓN
Método para fabricar una película estratificada y método para fabricar un miembro estratificado
Campo técnico
La presente invención se refiere a un método para fabricar una película laminada y a un método para fabricar un miembro laminado.
Las pantallas se utilizan en una amplia variedad de campos tales como ordenadores, televisiones, teléfonos celulares, dispositivos terminales de información portátiles (ordenadores personales tipo tableta, dispositivos móviles, cuadernos electrónicos, etc.) y paneles de visualización de automóviles tales como contadores digitales, paneles de instrumentos, dispositivos de navegación, paneles de consola, grupos centrales y paneles de control de calentadores. Dichos productos a menudo están cubiertos con un material protector. El material protector se obtiene normalmente moldeando una película que tiene una capa de recubrimiento duro.
El material protector de una pantalla puede estar provisto además de una capa de índice de refracción bajo con el fin de reducir la reflectancia de la superficie del lado de visualización.
El documento JP 2015-004937 A (documento de patente 1) enseña una película laminada en la que una capa de recubrimiento duro y una capa de índice de refracción bajo (una capa de interferencia óptica) se laminan secuencialmente sobre un soporte transparente. Los documentos US 2003/008162 A1 y JP 2002-258760 A divulgan métodos para fabricar películas laminadas.
Lista de referencias
BIBLIOGRAFÍA DE PATENTES
Bibliografía de patente 1: JP 2015-004937 A
Bibliografía de patente 2: US 2003/008162 A1
Bibliografía de patente 3: JP 2002258760 A
Sumario de la invención
Problemas técnicos
En años recientes, las pantallas se han moldeado en diversas formas de acuerdo con propósitos tales como aplicaciones y capacidad de diseño. Así pues, también se requiere que un material protector de una pantalla se moldee en una forma complicada. Sin embargo, es difícil moldear la película laminada descrita en el documento de patente 1 en una forma complicada.
La presente invención resuelve los problemas convencionales anteriores, y un objetivo de la misma es proporcionar una película laminada que pueda moldearse incluso en una forma complicada.
Con el fin de resolver los problemas descritos anteriormente, la presente invención proporciona un método para fabricar una película laminada de acuerdo con la reivindicación independiente 1. Las reivindicaciones dependientes proporcionan realizaciones adicionales.
Efectos ventajosos de la invención
De acuerdo con la presente invención, se proporciona una película laminada que se puede moldear en una forma complicada.
Breve descripción de los dibujos
La figura 1 es una vista esquemática que ilustra una parte de una etapa de laminación de acuerdo con la presente invención.
Descripción de las realizaciones
Como película protectora para una pantalla, se puede utilizar una película laminada denominada de tipo precurado. Una capa de recubrimiento duro y una capa de interferencia óptica contenidas en una película laminada de tipo de precurado normalmente se curan en una etapa antes de una etapa de preforma, es decir, en una etapa de formación de cada capa como se divulga en el Documento de Patente 1. Así pues, en la preforma, la película laminada no puede seguir un molde en una forma complicada, y pueden producirse grietas en la película laminada.
Para hacer que la película laminada precurada siga el molde, se puede reducir la densidad de reticulación de la película laminada. Sin embargo, una baja densidad de reticulación dificulta la obtención de un rendimiento de recubrimiento duro suficiente. El rendimiento del recubrimiento duro es, por ejemplo, alta dureza, resistencia a la abrasión y resistencia a productos químicos.
Desde tal punto de vista, ha concebido que una capa de recubrimiento duro y una capa de interferencia óptica no se curen en un proceso de fabricación de una película laminada. Sin embargo, cuando se aplica una capa de interferencia óptica no curada sobre una capa de recubrimiento duro no curada, ambos componentes pueden mezclarse para generar una fase mixta. Dado que la fase mixta reduce la función de la capa de interferencia óptica, no se puede obtener la reflectividad deseada.
De este modo, en la presente invención, la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada se secan y luego se unen entre sí. El secado elimina al menos parte del disolvente que puede estar contenido en la composición formadora de capas. De este modo, aunque cada capa no está curada, se suprime el movimiento de componentes no volátiles entre capas, de modo que se suprime la aparición de una fase mixta. En consecuencia, la película laminada puede exhibir la reflectividad deseada.
Además, la capa de recubrimiento duro seca y la capa de interferencia óptica seca tienen una cierta dureza. De este modo, cada capa exhibe una cierta fuerza de resistencia contra la tensión externa a pesar de no estar curada. Es decir, se suprime el daño a la película laminada. En el proceso de fabricación del miembro laminado, es probable que se aplique tensión externa a la película laminada. Por ejemplo, en un proceso de impresión, se forman fácilmente marcas de rasqueta o marcas de succión.
La película laminada que comprende una capa de recubrimiento duro no curada y una capa de interferencia óptica no curada es de tipo post-curado. Dado que la película laminada de tipo post-curado se somete a una etapa de preforma en un estado no curado, se puede moldear en una forma complicada sin generar grietas. Dado que se suprime la aparición de grietas, se mejora la apariencia externa de un miembro laminado, y se exhiben de manera efectiva el rendimiento del recubrimiento duro y la reflectividad deseada.
Asimismo, dado que no hay necesidad de estirar después del curado, cada capa puede estar formada por una composición formadora de capas que tiene una alta densidad de reticulación. Es decir, la dureza de cada capa después del curado se puede aumentar aún más. De este modo, el rendimiento de recubrimiento duro del miembro laminado se puede mejorar fácilmente.
Adicionalmente, las ventajas derivadas del hecho de que tanto la capa de recubrimiento duro como la capa de interferencia óptica a unir no están curadas incluyen las siguientes.
Incluso mediante un método de laminación, ambas capas pueden adherirse fuertemente entre sí. Por este motivo, no es necesario usar un adhesivo sensible a la presión o un adhesivo o realizar un tratamiento superficial en el proceso de unión de las dos capas. En consecuencia, se mejora la transparencia de la película laminada y también se suprime el blanqueamiento. Asimismo, se suprime la disminución de la reflectancia provocada por la migración de componentes de un adhesivo sensible a la presión o similar a la capa de interferencia óptica, generación de agregados, etc. Como resultado, la visibilidad de la pantalla a través del producto curado de la película laminada (es decir, el miembro laminado) apenas se ve afectada. Adicionalmente, se reduce el coste y se mejora la productividad. El término "no curado" se refiere a un estado en el que la resina no está completamente curada. La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica contenidas en la película laminada pueden estar en un estado semicurado.
El término "curado" es sinónimo de "secado completo" definido en JIS K 5500 (glosario de términos para materiales de recubrimiento). Es decir, el término "curado" significa a) cuando el centro de una pieza de prueba está fuertemente intercalado entre el pulgar y el índice, no se forma ninguna abolladura debido a la huella dactilar en la superficie de recubrimiento y no se observa movimiento de la película de recubrimiento, y cuando la superficie de recubrimiento se frota rápidamente de manera repetida con la yema del dedo, se obtiene un estado seco y duro en el que no se forman marcas de arañazos.
La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica irradiadas con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 se puede decir que están curadas.
De la misma manera, el término "semicurado" es sinónimo de "seco al tacto" definido en JIS K 5500 (glosario de términos para materiales de recubrimiento). Es decir, el término "semicurado" se refiere a cuando el centro de una superficie pintada se frota ligeramente con la yema del dedo y la superficie pintada está en un estado seco al tacto sin marcas de frotamiento. La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica irradiadas con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 1 mJ/cm2 o más y menos de 100 mJ/cm2 se puede decir que están semicuradas.
El término "no curado" se refiere a un estado en el que la capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica no están expuestas a rayos de energía activa o están expuestas a rayos de energía activa que tienen una cantidad de luz integral de menos de 1 mJ/cm2.
A. Método para fabricar una película laminada
Una película laminada se fabrica mediante un método que comprende una etapa de formación de una capa de recubrimiento duro no curada aplicando una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de recubrimiento duro en un lado de un primer sustrato de soporte que tiene un espesor de 50 pm o más y 600 pm o menos, y entonces secando la composición, una etapa de formación de una capa de interferencia óptica no curada aplicando una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de interferencia óptica en una superficie de un segundo sustrato de soporte de modo que el espesor de la capa de interferencia óptica no curada está entre 15 nm o más y 200 nm o menos, y entonces secando la composición, y una etapa de laminación de una superficie de la capa de recubrimiento duro no curada opuesta al primer sustrato de soporte y una superficie de la capa de interferencia óptica no curada opuesta al segundo sustrato de soporte para obtener una película laminada. (1) Etapa de formación de una capa de recubrimiento duro no curada
Una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de recubrimiento duro (a continuación en el presente documento, puede denominarse composición HC) se aplica a una superficie de un primer sustrato de soporte y, a continuación, se seca. Gracias a esto, se elimina al menos parte del disolvente que puede estar contenido en la composición HC, de modo que se forma una capa de recubrimiento duro no curada.
El espesor del primer sustrato de soporte es de 50 pm o más y de 600 pm o menos. Gracias a esto, incluso cuando la película laminada se estira, la película laminada puede mantener la rigidez. Adicionalmente, la deformación de la película laminada durante el curado y después del curado se suprime fácilmente. El espesor del primer sustrato de soporte es preferentemente de 100 pm o más, y más preferentemente de 200 pm o más. El espesor del primer sustrato de soporte es preferentemente de 500 pm o menos, más preferentemente de 480 pm o menos, incluso más preferentemente de 450 pm o menos, y en particular preferentemente de 400 pm o menos.
El primer sustrato de soporte sobre el que se forma la capa de recubrimiento duro no curada puede enrollarse en forma de rollo. Cuando el espesor del primer sustrato de soporte está dentro del intervalo anterior, el primer sustrato de soporte se puede enrollar en forma de rollo. En consecuencia, el procesamiento de rollo a rollo se puede realizar hasta la etapa de laminación.
El primer sustrato de soporte también puede enrollarse después de que una película protectora se una a la superficie de la capa de recubrimiento duro no curada. Los ejemplos de la película protectora incluyen los del segundo sustrato de soporte descrito más adelante. La película protectora y la capa de recubrimiento duro no curada pueden unirse entre sí con una capa adhesiva interpuesta entre ellas.
La composición HC se puede preparar mediante un método comúnmente practicado por un experto en la materia. Por ejemplo, se puede preparar mezclando los componentes del mismo usando un dispositivo de mezcla de uso común, tal como un agitador de pintura y un mezclador.
El método de aplicación de la composición HC no está particularmente limitado, y la aplicación se realiza mediante un método realizado habitualmente por un experto en la materia. Los ejemplos del método de aplicación incluyen un método de recubrimiento por inmersión, un método de recubrimiento con cuchilla de aire, un método de recubrimiento de cortina, un método de recubrimiento por rodillo, un método de recubrimiento de barra (por ejemplo, un método de recubrimiento de barra de alambre), un método de recubrimiento por troquel, un método de inyección de tinta, un método de recubrimiento por huecograbado o un método de recubrimiento por extrusión (patente de Estados Unidos n.° 2.681.294). Entre ellos, es preferible un método de recubrimiento por huecograbado o un método de recubrimiento por troquel porque se forma fácilmente una capa delgada y muy suave.
El método de secado no está particularmente limitado siempre que se elimine al menos parte del disolvente que puede estar contenido en la composición HC. Ejemplos del método de secado incluyen secado al aire (secado natural), secado por calor y secado a vacío. Entre ellos, es preferible el secado por calor. Al calentar, la capa de recubrimiento duro no curada se puede nivelar junto con el secado. En consecuencia, la adhesión a la capa de interferencia óptica no curada se mejora fácilmente.
El secado se realiza después de que se forme la capa de recubrimiento duro no curada sobre el primer sustrato de soporte y antes de que la capa de recubrimiento duro no curada se someta a una etapa de laminación. Por ejemplo, la capa de recubrimiento duro no curada se seca antes de que el primer sustrato de soporte con la capa de recubrimiento duro no curada se lleve a una máquina de laminación.
La temperatura de secado es, por ejemplo, 20 °C o más y 140 °C o menos. La temperatura de secado es preferentemente 30 °C o superior, más preferentemente 40 °C o más y en particular preferentemente 60 °C o más.
La temperatura de secado es preferentemente 120 °C o inferior, y más preferentemente 100 °C o inferior. El tiempo de secado es, por ejemplo, 10 segundos o más y 10 minutos o menos. El tiempo de secado es preferentemente 20 segundos o más, y más preferentemente 30 segundos o más. El tiempo de secado es preferentemente 5 minutos o menos, y más preferentemente 3 minutos o menos.
La capa de recubrimiento duro que se va a formar en esta etapa no está particularmente limitada en espesor. En esta etapa, la composición HC se aplica de tal manera que el espesor de la capa de recubrimiento duro no curada sea, por ejemplo, 2 pm o más y 30 pm o menos. La capa de recubrimiento duro no curada es una capa de recubrimiento duro no curada y secada (a continuación en el presente documento, simplemente denominada capa de recubrimiento duro no curada). Cuando la capa de recubrimiento duro no curada tiene tal espesor, la deformación después del curado se suprime fácilmente. Adicionalmente, se obtiene una capa de recubrimiento duro que tiene un rendimiento de recubrimiento duro superior.
El espesor de la capa de recubrimiento duro no curada es más preferentemente 3 pm o más. El espesor de la capa de recubrimiento duro no curada es más preferentemente de 25 pm o menos, y en particular preferentemente de 20 pm o menos.
La capa de recubrimiento duro no curada no está particularmente limitada en la tensión superficial yHi . La tensión superficial<y>H<i>es preferentemente de 40 mN/m o más desde el punto de vista de mejorar fácilmente la adhesión a la capa de interferencia óptica no curada. La tensión superficial<y>H<i>es preferentemente de 41 mN/m o más, y más preferentemente de 42 mN/m o más. La tensión superficial<y>H<i>es preferentemente de 50 mN/m o menos, más preferentemente de 49 mN/m o menos, y en particular preferentemente de 48 mN/m o menos.
La capa de recubrimiento duro no curada tiene preferentemente una dureza HHb de 0,1 GPa o más y de 0,4 GPa o menos medida mediante un método de nanoindentación. Cuando la dureza HHb es de 0,1 GPa o más, se suprime fácilmente la aparición de una apariencia defectuosa, como marcas de rasqueta en un proceso posterior, como la impresión. Cuando la dureza HHb es de 0,4 GPa o menos, la capa de recubrimiento duro no curada muestra una pegajosidad apropiada, de modo que la propiedad de unión con la capa de interferencia óptica no curada se mejora fácilmente. La dureza HHb puede ser de 0,15 GPa o más, y puede ser de 0,2 GPa o más.
La dureza de la capa de recubrimiento duro no curada es, por ejemplo, un valor máximo de dureza calculado a partir de un valor medido por un método de nanoindentación dentro de un intervalo de 30 nm o más y 100 nm o menos desde la superficie de la capa de recubrimiento duro no curada.
La dureza mediante el método de nanoindentación se determina mediante, por ejemplo, medición continua de la rigidez utilizando un dispositivo de nanoindentación. En la medición de rigidez continua, se aplica una carga diminuta (carga de corriente alterna (CA)) a una muestra además de una carga de prueba cuasiestática (carga de corriente continua (CC)). Gracias a esto, la fuerza aplicada a la muestra vibra ligeramente. La rigidez con respecto a la profundidad se calcula a partir del componente de vibración del desplazamiento resultante y la diferencia de fase entre el desplazamiento y la carga. Gracias a esto, se puede obtener un perfil continuo de dureza con respecto a la profundidad.
Para la medición de rigidez continua, por ejemplo, se puede usar el método Advanced Dynamic E y H. NMT. Como dispositivo de nanoindentación, se puede usar iMicro Nanoindenter fabricado por NANOMECHANlCs, INC. En este caso, la carga y la rigidez se pueden calcular utilizando software especializado para iMicro. El indentador aplica una carga a la muestra hasta que la carga alcanza una carga máxima de 50 mN. Como indentador, por ejemplo, se utiliza un indentador de diamante tipo berkovich. En la medición y el cálculo de la rigidez, la relación de Poisson de la capa de recubrimiento, la carga, etc. puede ajustarse apropiadamente a valores apropiados.
(2) Etapa de formación de una capa de interferencia óptica no curada
Una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de interferencia óptica (a continuación en el presente documento, puede denominarse composición R) se aplica a una superficie de un segundo sustrato de soporte y, a continuación, se seca. Gracias a esto, se elimina al menos parte del disolvente que puede estar contenido en la composición R, de modo que se forme una capa de interferencia óptica no curada.
El segundo sustrato de soporte sobre el que se forma la capa de interferencia óptica no curada puede enrollarse en forma de rollo. Gracias a esto, el procesamiento de rollo a rollo se puede realizar hasta la etapa de laminación. El segundo sustrato de soporte también puede enrollarse después de que una película protectora se una a la superficie de la capa de interferencia óptica no curada. Los ejemplos de la película protectora incluyen los del segundo sustrato de soporte descrito más adelante. La película protectora y la capa de interferencia óptica no curada pueden unirse entre sí con una capa adhesiva interpuesta entre ellas.
La composición R se puede preparar mediante el mismo método que la composición HC. El método para aplicar la composición R no está particularmente limitado, y la composición R se aplica mediante el mismo método que la composición HC. Entre ellos, es preferible un método de recubrimiento por huecograbado o un método de recubrimiento por troquel porque se forma fácilmente una capa delgada y muy suave.
El método de secado no está particularmente limitado siempre que se elimine al menos parte del disolvente que puede estar contenido en la composición R. Los ejemplos del método de secado incluyen los mismos métodos para el secado de la capa de recubrimiento duro. Entre ellos, es preferible el secado por calor. Al calentar, la capa de interferencia óptica no curada se puede nivelar junto con el secado.
El secado se realiza después de que se forma la capa de interferencia óptica no curada sobre el segundo sustrato de soporte y antes de que la capa de interferencia óptica no curada se someta a la etapa de laminación. Por ejemplo, la capa de interferencia óptica no curada se seca antes de que el segundo sustrato de soporte con la capa de interferencia óptica no curada se lleve a una máquina de laminación.
La temperatura de secado es, por ejemplo, 20 °C o más y 140 °C o menos. La temperatura de secado es preferentemente de 30 °C o superior, más preferentemente 40 °C o más y en particular preferentemente 60 °C o más. La temperatura de secado es preferentemente 120 °C o inferior, y más preferentemente 100 °C o inferior. El tiempo de secado es, por ejemplo, 10 segundos o más y 10 minutos o menos. El tiempo de secado es preferentemente 20 segundos o más, y más preferentemente 30 segundos o más. El tiempo de secado es preferentemente 5 minutos o menos, y más preferentemente 3 minutos o menos.
La composición R se aplica de manera que el espesor de la capa de interferencia óptica que se va a formar en esta etapa sea de 15 nm o más y de 200 nm o menos. La capa de interferencia óptica que se va a formar en esta etapa es una capa de interferencia óptica seca y no curada (a continuación en el presente documento denominada simplemente capa de interferencia óptica no curada). Gracias a esto, se exhibe la reflectividad deseada.
El efecto de interferencia óptica se ve muy afectado por el espesor de la capa de interferencia óptica. Por este motivo, es importante controlar el espesor de la capa de interferencia óptica. En la presente realización, la capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica se laminan juntas mediante un método de laminación. En consecuencia, es posible formar una capa de interferencia óptica uniforme que tenga un espesor deseado sin verse afectada por la condición de la superficie de la capa de recubrimiento duro.
El espesor de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente de 40 nm o más, y más preferentemente de 60 nm o más. El espesor de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente de 180 nm o menos, y más preferentemente de 150 nm o menos.
Desde el punto de vista de que una capa de interferencia óptica que tiene el espesor anterior se forma fácilmente de manera uniforme sobre el segundo sustrato de soporte, la tensión superficial YL0 de la composición R es preferentemente igual o menor que la tensión superficial<y>2 de la superficie del segundo sustrato de soporte a la que se va a aplicar la composición R (a continuación en el presente documento, la superficie se denomina superficie de aplicación) (<y>2 > YL0).
La diferencia entre la tensión superficial YL0 y la tensión superficial<y>2 (=<y>2 - YL0) no está particularmente limitada. Y2 - YL0 es preferentemente 1 mN/m o más, y más preferentemente 20 mN/m o más desde el punto de vista de que la composición R se humedece y extiende más fácilmente.
El segundo sustrato de soporte no está particularmente limitado en la tensión superficial<y>2. La tensión superficial<y>2 es, por ejemplo, 28 mN/m o más y 50 mN/m o menos. La tensión superficial<y>2 es preferentemente de 30 mN/m o más, y más preferentemente de 32 mN/m o más. La tensión superficial<y>2 es preferentemente de 45 mN/m o menos, más preferentemente de 40 mN/m o menos, y en particular preferentemente de 36 mN/m o menos.
La composición R no está particularmente limitada en la tensión superficial YL0. La tensión superficial YL0 es preferentemente de 20 mN/m o más y de 35 mN/m o menos. Gracias a esto, la composición R se humedece y extiende más fácilmente, de modo que se forme fácilmente una capa de interferencia óptica uniforme. La tensión superficial YL0 es más preferentemente de 20 mN/m o más, incluso más preferentemente de 21 mN/m o más y en particular preferentemente de 22 mN/m o más. La tensión superficial YL0 es más preferentemente de 35 mN/m o menos, incluso más preferentemente de 32 mN/m o menos y en particular preferentemente de 30 mN/m o menos. El segundo sustrato de soporte soporta la capa de interferencia óptica no curada y funciona como un papel de liberación para moldear la composición R en forma de película y como una película protectora para proteger la capa de interferencia óptica y la película laminada. De este modo, el segundo sustrato de soporte generalmente se despega de la capa de interferencia óptica no curada después de que se fabrica la película laminada o después de que se moldea la película laminada.
Desde el punto de vista de que el segundo sustrato de soporte se despega fácilmente, la tensión superficial YL1 de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente igual o mayor que la tensión superficial<y>2 de la superficie de aplicación del segundo sustrato de soporte ((Fórmula 1)<y>2 < YL1), y la tensión superficial YL1 de la capa de interferencia óptica no curada es más preferentemente mayor que la tensión superficial y2 de la superficie de aplicación del segundo sustrato de soporte (<y>2 <<y>L<i>). En este caso, se suprime la adhesión excesiva entre la capa de interferencia óptica no curada y el segundo sustrato de soporte, y el segundo sustrato de soporte se puede despegar fácilmente de la capa de interferencia óptica no curada después de la etapa de laminación.
La diferencia entre la tensión superficial<y>L<i>y la tensión superficial<y>2 (= |<y>2 -<y>L<i>|) no está particularmente limitada. Desde el punto de vista de que el segundo sustrato de soporte se despega más fácilmente, | y2 - yLi | es preferentemente más de 3 mN/m y menos de 20 mN/m. Cuando | y2 - yLi | está en este intervalo, se evita fácilmente que parte de la capa de interferencia óptica se desprenda junto con el segundo sustrato de soporte cuando se despega el segundo sustrato de soporte. |<y>2 -<y>L<i>| es más preferentemente de 5 mN/m o más, e incluso más preferentemente de 7 mN/m o más. | y2 - yLi | es más preferentemente de 18 mN/m o menos, e incluso más preferentemente de 16 mN/m o menos.
Para suprimir el desprendimiento parcial de la capa de interferencia óptica no curada, la relación entre la tensión superficial yHi de la capa de recubrimiento duro no curada y la tensión superficial yLi de la capa de interferencia óptica no curada (la capa de interferencia óptica no curada dispuesta adyacente a la capa de recubrimiento duro no curada) también es importante. Específicamente, es preferible que la diferencia (|<y>H -<y>L<i>|) entre la tensión superficial yLi y la tensión superficial yH sea pequeña. En este caso, la capa de interferencia óptica no curada apenas se despega de la capa de recubrimiento duro no curada.
La diferencia entre la tensión superficial yH y la tensión superficial yLi (= | yHi - yLi |) no está particularmente limitada. Desde el punto de vista de la supresión fácil del desprendimiento de la capa de interferencia óptica no curada, | yH - yLi | es preferentemente inferior a 15 mN/m, más preferentemente de 10 mN/m o menos, y en particular preferentemente de 0 mN/m.
Asimismo, la relación entre la diferencia entre la tensión superficial<y>L<i>y la tensión superficial<y>2 (= |<y>2 -<y>L<i>|) y la diferencia entre la tensión superficial<y>H y la tensión superficial<y>L<i>(= |<y>H<i>-<y>L<i>|) también es importante. Específicamente, es preferible que<y>2 -<y>L<i>sea mayor que<y>H<i>-<y>L<i>((Fórmula 2) |<y>2 -<y>L<i>| > |<y>H<i>-<y>L<i>|).
La diferencia entre | y2 - yLi | y | yHi - yLi | no está particularmente limitada. (| y2 - yLi | - | yHi - yLi |) es preferentemente más de 1 mN/m y menos de 30 mN/m. (|<y>2 -<y>L<i>| - |<y>H<i>-<y>L<i>|) es más preferentemente de 3 mN/m o más. (|<y>2 -<y>L1 | - 1<y>H - YL1 |) es más preferentemente de 5 mN/m o menos.
Cuando se satisface (Fórmula 2) |<y>2 -<y>L-<i>| > | YH1 - YL1 |, el segundo sustrato de soporte se puede despegar fácilmente de la capa de interferencia óptica no curada, mientras que se evita fácilmente que la capa de interferencia óptica no curada se desprenda de la capa de recubrimiento duro no curada. Más preferiblemente, (Fórmula 1)<y>2 < YL1 se satisface junto con (Fórmula 2) |<y>2 -<y>L-<i>| > | YH1 - YL1 |.
La dureza HLb de la película laminada no curada medida mediante un método de nanoindentación puede ser de 0,1 GPa o más y de 0,5 GPa o menos. Gracias a esto, cuando la dureza HLb es 0,1 GPa o más, se suprime fácilmente la aparición de una apariencia defectuosa, como marcas de rasqueta en un proceso posterior, como la impresión. La dureza HLb puede ser de 0,15 GPa o más, y puede ser de 0,2 GPa o más.
La dureza de la película laminada aumenta mediante el curado. De este modo, el miembro laminado resultante tiene un rendimiento de recubrimiento duro superior.
La dureza HLa medida por un método de nanoindentación desde el lado de la capa de interferencia óptica de la película laminada irradiada con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 es preferentemente superior a 0,5 GPa y 1,2 GPa o menos. La dureza HLa puede ser de 0,6 GPa o más, y puede ser de 0,7 GPa o más.
Cuando la dureza HLb es 0,5 GPa, la dureza HLa es, por ejemplo, superior a 0,5 GPa y 1,2 GPa o menos. La dureza HLa puede ser superior a 0,7 GPa y 1,2 GPa o menos.
Cuando la dureza HLb es 0,4 GPa, la dureza HLa es, por ejemplo, superior a 0,4 GPa y 1,2 GPa o menos. La dureza HLa puede ser superior a 0,7 GPa y 1,2 GPa o menos.
La dureza HLa medida desde el lado de la capa de interferencia óptica de la película laminada curada refleja la dureza de la multicapa de la capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica en el miembro laminado. De este modo, cuando la dureza HLa es superior a 0,5 GPa, el rendimiento de recubrimiento duro del miembro laminado se mejora fácilmente.
La dureza HLa y la dureza HLb se miden preferentemente en un intervalo de hasta 300 nm desde la superficie de la capa de interferencia óptica, particularmente en un intervalo de 50 nm o más y 100 nm o menos desde la capa de superficie de la capa de interferencia óptica. La dureza HLa y la dureza HLb son, por ejemplo, valores máximos de dureza calculados a partir de valores medidos por un método de nanoindentación dentro de un intervalo de 50 nm o más y 100 nm o menos desde la capa de superficie de la capa de interferencia óptica.
(3) Etapa de laminación
Una superficie de la capa de recubrimiento duro no curada opuesta al primer sustrato de soporte y una superficie de la capa de interferencia óptica no curada opuesta al segundo sustrato de soporte están unidas entre sí. Gracias a esto, se obtiene una película laminada.
La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica están ambas secas. De este modo, aunque cada capa no está curada, se suprime el movimiento de componentes no volátiles entre capas, de modo que se suprime la aparición de una fase mixta.
Cuando la película laminada se fabrica mediante un método de rollo a rollo, uno o ambos del primer sustrato de soporte con la capa de recubrimiento duro no curada y el segundo sustrato de soporte con la capa de interferencia óptica no curada normalmente se enrollan en forma de rollo. Por ejemplo, cuando se enrolla el segundo sustrato de soporte con la capa de interferencia óptica no curada, el primer sustrato de soporte que se ha sometido a la etapa de formación de una capa de recubrimiento duro no curada se lleva tal cual a un laminador. En este momento, el segundo sustrato de soporte enrollado también se lleva al interior del laminador mientras se desenrolla. De manera similar, cuando se enrolla el primer sustrato de soporte con la capa de recubrimiento duro no curada, el segundo sustrato de soporte que se ha sometido a la etapa de formación de una capa de interferencia óptica no curada se lleva tal cual al interior del laminador. Después, el primer sustrato de soporte enrollado se lleva al interior del laminador mientras se desenrolla.
La unión se realiza preferentemente mientras se aplica presión. La presión puede ser, por ejemplo, de 0,1 N/cm o más y 50 N/cm o menos. La presión es preferentemente de 0,5 N/cm o más. La presión es preferentemente de 30 N/cm o menos.
La temperatura de cada capa en el momento de la unión no está particularmente limitada. De acuerdo con la presente realización, ambos pueden unirse a baja temperatura. De este modo, la formación de una fase mixta se suprime más fácilmente. La temperatura de cada capa en el momento de la unión puede ser de 0 °C o más y de 40 °C o menos. La temperatura de cada capa en el momento de la unión es preferentemente de 10 °C o más, y más preferentemente de 15 °C o más. La temperatura de cada capa en el momento de la unión es preferentemente de 35 °C o menos, y más preferentemente de 30 °C o menos.
Por otra parte, la película laminada puede calentarse después de la etapa de laminación. Al calentar después de la laminación, se mejora aún más la adhesión entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada.
Se puede unir una pluralidad de capas de interferencia óptica no curadas. En este caso, la película laminada se fabrica mediante las siguientes etapas.
El segundo sustrato de soporte se despega del laminado que incluye el primer sustrato de soporte, la capa de recubrimiento duro no curada, la capa de interferencia óptica no curada (una primera capa de interferencia óptica) y el segundo sustrato de soporte en este orden obtenido por la etapa de laminación y está expuesta, por lo tanto, la primera capa de interferencia óptica no curada.
Por separado, se forma otra capa de interferencia óptica no curada (una segunda capa de interferencia óptica) sobre un nuevo sustrato de soporte.
Después, la segunda capa de interferencia óptica no curada soportada por el nuevo sustrato de soporte está unida a la primera capa de interferencia óptica no curada expuesta.
Estas etapas pueden repetirse según sea necesario.
Gracias a esto, se obtiene una película laminada que incluye el primer sustrato de soporte, la capa de recubrimiento duro no curada, la segunda capa de interferencia óptica no curada (por ejemplo, una capa de alto índice de refracción), al menos la primera capa de interferencia óptica no curada (por ejemplo, una capa de bajo índice de refracción), y el nuevo sustrato de soporte en este orden. El sustrato de soporte que soporta la capa de interferencia óptica no curada que se va a unir en último lugar puede o no despegarse.
Después de la etapa de laminación, parte de cada capa no curada puede curarse mediante irradiación con rayos de energía activa. Gracias a esto, se obtiene una película laminada semicurada. La cantidad de luz integral del rayo de energía activa es, por ejemplo, 1 mJ/cm2 o más y menos de 100 mJ/cm2.
(Película laminada)
La película laminada obtenida mediante el método de fabricación anterior comprende un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro no curada formada sobre al menos una superficie del primer sustrato de soporte, y una capa de interferencia óptica no curada formada sobre la capa de recubrimiento duro no curada. La capa de interferencia óptica no curada puede ser un laminado de una pluralidad de capas. La película laminada es de un tipo de curado posterior.
La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica no están curadas pero están secas. El espesor del primer sustrato de soporte es de 50 |jm o más y de 600 |jm o menos. De este modo, la película laminada tiene una alta rigidez y es superior en manejabilidad.
Dado que la capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica no están curadas, la irregularidad de la superficie de cada capa se puede nivelar mediante tratamiento térmico o similar. Es decir, se puede obtener una película laminada que tenga una gran suavidad.
El curado de la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada apenas se realiza mediante tratamiento térmico. Por lo tanto, la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada pueden someterse a tratamiento térmico antes de la etapa de irradiación con rayos de energía activa sin afectar la adhesión entre las capas y la relación de estiramiento de la película laminada. Por el tratamiento térmico, se puede mejorar la suavidad de cada capa. Adicionalmente, la película laminada puede someterse a una preforma. La distribución de peso molecular del componente de resina curable por rayos de energía activa contenido en la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada no cambia mucho antes y después del tratamiento térmico. El hecho de que la distribución de peso molecular no cambie mucho significa que el pico del peso molecular promedio en peso, y cuando hay una pluralidad de picos de peso molecular, la cantidad de desplazamiento en la dirección de altura y la cantidad de desplazamiento en la dirección lateral de cada pico de peso molecular caen todas dentro del intervalo de ±5 %.
El tratamiento térmico se realiza en condiciones que no afectan el rendimiento de cada capa. Las condiciones para el tratamiento térmico pueden establecerse apropiadamente de acuerdo con la composición de cada capa. La temperatura del tratamiento térmico puede ser de 50 °C o más, 60 °C o más o 90 °C o más. La temperatura del tratamiento térmico puede ser de 200 °C o menos, o puede ser de 190 °C o menos. El tiempo del tratamiento térmico puede ser de 30 segundos o más y de 10 minutos o menos.
(Reflectancia luminosa)
La reflectancia luminosa de la película laminada que incluye la luz reflejada regular medida desde el lado de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente del 0,1 % o más y del 4,0 % o menos o del 6,0 % o más y del 10,0 % o menos. La reflectancia luminosa de la película laminada se mide en un estado donde el segundo sustrato de soporte se despega.
El hecho de que la reflectancia luminosa esté dentro de estos intervalos indica que se suprime la mezcla de fases entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada y se forma una interfaz clara entre ambas capas.
Las pantallas se usan en una variedad de ubicaciones y entornos. Por ejemplo, las pantallas se pueden usar en un lugar que se vea fácilmente afectado por la luz externa, o se pueden usar en un lugar que no se vea fácilmente afectado por la luz externa. Adicionalmente, puede requerirse que un material protector de una pantalla tenga una alta capacidad de diseño, tal como un tono metálico. De este modo, se requiere que el material protector para una pantalla tenga un alto grado de libertad en el diseño.
Mediante el método de fabricación de acuerdo con la presente realización, se puede formar una capa de interferencia óptica que tiene el espesor y la suavidad deseados con alta precisión. Por lo tanto, la reflectancia luminosa se puede diseñar fácilmente dentro del intervalo numérico anterior de acuerdo con el propósito y la aplicación.
Por ejemplo, ajustando la reflectancia luminosa al 0,1 % o más y al 4,0 % o menos, se puede obtener una película laminada y un miembro laminado, cada uno con altas propiedades antirreflectantes. En este caso, la capa de interferencia óptica puede ser una capa de índice de refracción bajo.
La reflectancia luminosa puede ser del 0,5% o más, 1,0% o más, 1,5% o más o 2,0% o más. La reflectancia luminosa puede ser del 3,5 % o menos.
Ajustando la reflectancia luminosa al 6,0 % o más y al 10,0 % o menos, es posible obtener una película laminada y un miembro laminado, teniendo cada uno una alta capacidad de diseño con un tono metálico. En este caso, la capa de interferencia óptica puede tener una capa de alto índice de refracción.
La reflectancia luminosa puede ser del 6,0 % o más o del 7,0 % o más. La reflectancia luminosa puede ser del 9,9 % o menos.
El miembro laminado obtenido curando la película laminada también tiene una propiedad antirreflectante superior o un diseño de tono metálico. Por ejemplo, un miembro laminado obtenido curando una película laminada que tiene una reflectancia luminosa del 0,1 % o más y del 4,0% o menos tiene menos deslumbramiento debido a la luz externa, y el miembro laminado tiene buenas características de visualización y buena visibilidad.
La reflectancia luminosa del miembro laminado también puede ser del 0,1 % o más y del 4,0 % o menos o del 6,0 % o más y del 10,0 % o menos.
La reflectancia luminosa se obtiene midiendo toda la luz reflejada, incluida la luz reflejada regular. Específicamente, la reflectancia luminosa se mide mediante un método denominado SCI (Specular Component Include). Dado que este método apenas se ve afectado por la condición de la superficie del objeto a medir, se puede medir la reflectancia luminosa de la capa no curada. La reflectancia luminosa se calcula promediando los valores medidos cinco veces mientras se cambia la posición de medición.
Específicamente, la reflectancia luminosa de la película laminada se puede medir mediante el siguiente método. Una pintura negra (por ejemplo, nombre del producto: CZ-805 BLACK (fabricado por NIKKO BIOS Co., Ltd.) se aplica a una superficie del primer sustrato de soporte opuesto a la capa de recubrimiento duro no curada con un recubridor de barra de modo que el espesor de película seca sea de 3 pm o más y de 6 pm o menos. A continuación, la muestra de evaluación M se deja secar durante 5 horas en un ambiente a temperatura ambiente. Desde el lado de la capa de interferencia óptica de la muestra de evaluación M obtenida, la reflectancia luminosa mediante el método SCI en una región de longitud de onda de 380 nm o más y 780 nm o menos se mide usando un espectrofotómetro (por ejemplo, SD7000 fabricado por Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). La reflectancia luminosa de la película laminada de acuerdo con la presente realización es del 0,1 % o más y del 4,0 % o menos o del 6,0 % o más y del 10,0 % o menos en una región de longitud de onda de 380 nm o más y de 780 nm o menos. La reflectancia luminosa del miembro laminado se puede medir como sigue.
La muestra de evaluación M preparada como se ha descrito anteriormente se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para formar una muestra de evaluación N. La reflectancia luminosa se mide de la misma manera que se ha descrito anteriormente desde el lado de la capa de interferencia óptica de la muestra de evaluación N obtenida. Antes de la irradiación con un rayo de energía activa, la película laminada puede tratarse térmicamente a 80 °C durante 1 hora.
(Relación de estiramiento)
La relación de estiramiento de la película laminada a 160 °C es del 50 % o más. En este caso, la película laminada se estira lo suficiente a una temperatura de moldeo de 150 °C o más y de 190 °C o menos. De este modo, la película laminada se puede conformar en una forma tridimensional complicada sin generar grietas. En particular, el daño a la película laminada se suprime fácilmente en la etapa de preforma. La película laminada se moldea mediante, por ejemplo, preforma, moldeo por inserción o similar de acuerdo con las propiedades físicas requeridas, forma, etc. La relación de estiramiento de la película laminada a 160 °C es preferentemente del 60% o más, y más preferentemente del 70 % o más. La relación de estiramiento de la película laminada a 160 °C puede ser inferior al 400 %, menos del 350 % o menos del 300 %. La relación de estiramiento de la película laminada se mide con el segundo sustrato de soporte despegado.
En particular, cuando la película laminada se estira a una relación de estiramiento de hasta el 250 % en la condición de 100 °C o más y 200 °C o menos, es deseable que las grietas de 1 pm o más en una cualquiera de la longitud, la anchura y la profundidad, ruptura, cambios en la apariencia, etc. no se reconozcan visualmente.
La relación de estiramiento se puede medir, por ejemplo, de la siguiente manera.
Se prepara un probador de tracción que tiene una distancia entre mandriles de 150 mm y una muestra de prueba cortada en una longitud de 200 mm x una anchura de 10 mm. En una atmósfera a 160 °C y en las condiciones de una fuerza de tracción de 5,0 Kgf y una velocidad de tracción de 300 mm/min, el lado largo de la muestra de ensayo se estira en un 50 %. La muestra de prueba estirada se observa con un microscopio con un aumento de 1000 veces o más, y se comprueba la presencia de grietas mayores que una longitud de 100 pm y una anchura de 1 pm.
Cuando no se generan grietas definidas anteriormente, se corta una nueva muestra y, a continuación, el lado largo se estira hasta un 60 %. Después, la presencia de grietas se comprueba mediante el mismo procedimiento. Este procedimiento se repite mientras se aumenta la relación de estiramiento en un 10%, y la relación de estiramiento cuando se observa por primera vez una grieta que tiene el tamaño anterior se toma como la relación de estiramiento de la película laminada. La prueba puede realizarse de la misma manera descrita anteriormente con la relación de estiramiento inicial establecida en un 250 %.
(Resistencia a la abrasión)
El miembro laminado es deseablemente superior en resistencia a la abrasión. Por ejemplo, la película laminada se irradia con un rayo de energía activa a una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para obtener un miembro laminado. Después, la superficie de la capa de interferencia óptica se frota 5000 veces con una carga vertical de 4,9 N. Es preferible que no se reconozca visualmente ningún rasguño en el miembro laminado después de la prueba de abrasión. El hecho de que no se reconozca visualmente ningún rasguño significa que se suprime el deterioro de la visibilidad debido al cambio en la apariencia. Tal miembro laminado exhibe buena visibilidad incluso cuando se usa durante un largo período de tiempo.
La prueba de abrasión se realiza usando un método conocido en las condiciones anteriores. En la prueba de abrasión, se suele utilizar un elemento de fricción al que se fija una tela de algodón. Este elemento de fricción aplica una carga vertical de 4,9 N a la muestra.
Antes de la irradiación con un rayo de energía activa, la película laminada se puede calentar en una atmósfera de 150 °C o más y 190 °C o menos durante de 30 segundos a 60 segundos. Gracias a esto, la superficie de la película laminada se nivela y la resistencia a la abrasión se mejora más fácilmente.
"Ningún rasguño se reconoce visualmente" significa que no se puede observar visualmente ningún rasguño. El "rasguño" es, por ejemplo, rugosidad de la superficie. Siempre que no se observen rasguños visualmente, se pueden observar rasguños muy leves cuando se observa la muestra después de la prueba de abrasión usando un microscopio con un aumento de 100 veces.
A continuación en el presente documento, se describirán adicionalmente los miembros constituyentes de la película laminada.
[Primer sustrato de soporte]
El primer sustrato de soporte es uno de los miembros que constituyen el miembro laminado. El primer sustrato de soporte es deseablemente transparente. Gracias a esto, cuando se proporciona una capa decorativa descrita más adelante en el miembro laminado, la capacidad de diseño se mejora aún más. Ser transparente significa específicamente que la transmitancia de luz total es del 80 % o más. La transmitancia de luz total del primer sustrato de soporte es del 80 % o más, y preferentemente del 90 % o más. La transmitancia de luz total puede medirse mediante un método de acuerdo con JIS K 7361-1. El primer sustrato de soporte puede ser incoloro o coloreado. Se usa un sustrato de soporte transparente conocido en la técnica sin limitación particular.
El primer sustrato de soporte se selecciona apropiadamente de acuerdo con la aplicación. Los ejemplos del primer sustrato de soporte incluyen películas basadas en policarbonato (PC); películas a base de poliéster tales como poli(tereftalato de etileno) y poli(naftalato de etileno); películas a base de celulosa tales como diacetilcelulosa y triacetilcelulosa; películas acrílicas tales como poli(metacrilato de metilo) (PMMA); películas a base de estireno tales como poliestireno y copolímeros de acrilonitrilo-estireno; películas a base de olefina tales como poli(cloruro de vinilo), polietileno, polipropileno, poliolefina que tiene una estructura cíclica o norborneno y copolímeros de etileno-propileno; y películas a base de amida tales como nailon y poliamida aromática. Además, el primer sustrato de soporte puede ser una película que comprende una resina tal como poliimida, polisulfona, polietersulfona, poliéter éter cetona, poli(sulfuro de fenileno), poli(alcohol vinílico), poli(cloruro de vinilideno), polivinil butiral, polialilato, polioximetileno y resina epoxi, o puede ser una película que comprende una mezcla de esos polímeros.
El primer sustrato de soporte puede ser un laminado de una pluralidad de películas. Por ejemplo, el primer sustrato de soporte puede ser un laminado constituido por una película hecha de una resina acrílica y una película hecha de una resina a base de policarbonato.
El primer sustrato de soporte puede tener anisotropía o isotropía óptica. La magnitud de la birrefringencia del primer sustrato de soporte que tiene anisotropía óptica no está particularmente limitada. La diferencia de fase del primer sustrato de soporte que tiene anisotropía puede ser 1/4 de la longitud de onda (A/4) o puede ser 1/2 de la longitud de onda (A/2).
[Capa de recubrimiento duro no curada]
La capa de recubrimiento duro no curada contiene una composición curable por rayos de energía activa HC. La composición HC se cura mediante rayos de energía activa.
El rayo de energía activa es una radiación ionizante tal como un rayo ultravioleta, un haz de electrones, un rayo a, un rayo p o un rayo y. La composición HC es preferentemente de manera especial de un tipo curable por ultravioleta. La composición HC contiene un componente de resina curable por rayos de energía activa. El componente de resina curable por rayos de energía activa tiene un grupo polimerizable que tiene un enlace insaturado sin reaccionar (un grupo insaturado polimerizable,' normalmente un grupo (met)acriloílo). El grupo insaturado polimerizable sin reaccionar tiene, por ejemplo, un doble enlace representado por C=C. Cuando se realiza la irradiación con un rayo de energía activa, un grupo insaturado polimerizable sin reaccionar reacciona, de modo que el doble enlace desaparece. La desaparición del doble enlace puede confirmarse mediante un método conocido tal como FTTR. Cuando la capa de recubrimiento duro no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2, desaparecen del 10 % al 100 % de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar contenidos en la capa de recubrimiento duro no curada.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de recubrimiento duro no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 puede ser del 15 % o más y del 90 % o menos, del 20 % o más y del 80 % o menos, del 30 % o más y del 70 % o menos o del 30 % o más y del 60 % o menos.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de recubrimiento duro no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 30 mJ/cm2 puede ser del 10 % o más y del 50 % o menos.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de recubrimiento duro no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 5 mJ/cm2 puede ser del 10 % o más y del 30 % o menos, o puede ser del 10 % o más y del 50 % o menos.
A medida que aumenta la relación de desaparición de los grupos polimerizables sin reaccionar, la densidad de reticulación aumenta. En consecuencia, la dureza de la capa de recubrimiento duro tiende a ser alta y la relación de estiramiento tiende a ser baja. Al ajustar la cantidad de luz integral del rayo de energía activa, se puede controlar la dureza y/o la relación de estiramiento de la capa de recubrimiento duro.
Por ejemplo, se aplica una preforma a una película laminada que no se ha irradiado con rayos de energía activa. Después de esto, antes de una etapa de moldeo principal, la película laminada se irradia con un rayo de energía activa hasta tal punto que la película laminada no se cura por completo, de modo que la relación de estiramiento de la película laminada se ajuste al 1 % o más y al 15 % o menos. Gracias a esto, la película laminada se puede estirar ligeramente hasta tal punto que se pueda mantener la forma aplicada en la etapa de preforma. Gracias a esto, incluso cuando existe una ligera diferencia dimensional entre el molde que se utilizará en la etapa de preforma y el molde que se utilizará en la etapa de moldeo principal, la película laminada se puede conformar mientras se suprime la generación de grietas en la etapa de moldeo principal. Adicionalmente, dado que la dureza de la capa de recubrimiento duro aumenta mediante la irradiación con un rayo de energía activa, la adhesión de la capa de recubrimiento duro al molde se suprime en la etapa de moldeo principal. Ejemplos del moldeo principal incluyen moldeo por inyección tal como moldeo por inserción.
Específicamente, después de la etapa de preforma, la película laminada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 1 mJ/cm2 o más y 100 mJ/cm2 o menos (semicurado). Gracias a esto, la película laminada se conforma fácilmente a lo largo del molde utilizado en el presente moldeo mientras se suprime la aparición de grietas. Después de esto, se realiza el moldeo principal. Posteriormente, se realiza la irradiación con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más (curado principal). Específicamente, después de la etapa de preforma, la película laminada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 1 mJ/cm2 o más y 100 mJ/cm2 o menos (semicurado). Gracias a esto, la película laminada se libera fácilmente del molde utilizado en el moldeo principal. Después de esto, se realiza el moldeo principal. Posteriormente, la película laminada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar no cambia mucho antes y después del calentamiento. En otras palabras, por el tratamiento térmico, el curado de la composición HC apenas avanza. De este modo, antes del semicurado o curado principal, la capa de recubrimiento duro no curada puede someterse a un tratamiento térmico sin afectar la adhesión de la capa de recubrimiento duro o la relación de estiramiento de la película laminada. La suavidad de la capa de recubrimiento duro puede mejorarse mediante el tratamiento térmico. En consecuencia, también se mejora la suavidad del miembro laminado obtenido.
La distribución de peso molecular del componente de resina curable por rayos de energía activa no cambia mucho antes y después del tratamiento térmico. El hecho de que la distribución de peso molecular no cambie mucho significa que el pico del peso molecular promedio en peso, y cuando hay una pluralidad de picos de peso molecular, la cantidad de desplazamiento en la dirección de altura y la cantidad de desplazamiento en la dirección lateral de cada pico de peso molecular caen todas dentro del intervalo de ±5 %.
El tratamiento térmico se realiza en condiciones que no afectan al rendimiento de la capa de recubrimiento duro. Las condiciones para el tratamiento térmico pueden establecerse apropiadamente de acuerdo con la composición de la composición HC. La temperatura del tratamiento térmico puede ser de 90 °C o más y de 200 °C o menos, de 100 °C o más y de 200 °C o menos o de 110 °C o más y de 200 °C o menos. El tiempo del tratamiento térmico puede ser de 10 segundos o más y de 10 minutos o menos.
El tratamiento térmico puede realizarse utilizando calor aplicado en la etapa de preforma. Al realizar la preforma a aproximadamente 150 °C o más y 190 °C o menos, la capa de recubrimiento duro no curada puede nivelarse suficientemente mientras se realiza la preforma.
(Composición HC)
La capa de recubrimiento duro se lamina en un estado no curado con la capa de interferencia óptica no curada. Asimismo, la película laminada se somete a diversos procesamientos en un estado no curado. Por lo tanto, se requiere que la capa de recubrimiento duro no curada tenga baja pegajosidad y sea menos probable que se contamine, para suprimir el atrapamiento de aire, daños y cambios en la apariencia externa durante el procesamiento, para suprimir el rizado debido a una diferencia en la contracción térmica de otras capas, etc.
Los ejemplos del daño durante el procesamiento incluyen rebajes y marcas de rasqueta formadas en el proceso de impresión. Los ejemplos del cambio en la apariencia externa durante el procesamiento incluyen la formación de espuma y el agrietamiento en la etapa de preforma.
Estos requisitos se pueden lograr controlando la dureza, rigidez, suavidad, pegajosidad, etc. de la capa de recubrimiento duro no curada. Las propiedades físicas de la capa de recubrimiento duro no curada se pueden ajustar por el espesor de la misma, la composición de la composición Hc , etc.
<Componente de resina>
La composición HC contiene un componente de resina curable por rayos de energía activa. El componente de resina curable por rayos de energía activa incluye un monómero, oligómero o polímero que puede reticularse y curarse mediante rayos de energía activa.
Los ejemplos específicos del componente de resina curable por rayos de energía activa incluyen monómeros, oligómeros o polímeros que tienen al menos un grupo insaturado polimerizable (a continuación en el presente documento puede denominarse resina reactiva). Ejemplos más específicos del componente de resina curable por rayos de energía activa incluyen compuestos de (met)acrilato tales como un monómero de (met)acrilato, un oligómero de (met)acrilato y un polímero de (met)acrilato; compuestos de (met)acrilato de uretano tales como un monómero de (met)acrilato de uretano, un oligómero de (met)acrilato de uretano y un polímero de (met)acrilato de uretano; y compuestos de (met)acrilato de silicio tales como un monómero de (met)acrilato de silicio, un oligómero de (met)acrilato de silicio y un polímero de (met)acrilato de silicio. Estos se usan individualmente o dos o más de ellos se usan en combinación. "(Met)acrilato" significa acrilato y/o metacrilato.
Entre ellos, es preferible una resina reactiva. La resina reactiva aumenta fácilmente la densidad de reticulación de la capa de recubrimiento duro curada. En consecuencia, se exhibe un rendimiento de recubrimiento duro superior. El peso molecular promedio en peso (Mw) de la resina reactiva es preferentemente 5000 o más y 100000 o menos, más preferentemente 6000 o más y 95000 o menos, e incluso más preferentemente 9000 o más y 90000 o menos. La temperatura de transición vítrea (Tg) de la resina reactiva es, por ejemplo, preferentemente 40 °C o más y 120 °C o menos, y más preferentemente 40 °C o más y 110 °C o menos. Esto hace que sea más fácil mejorar aún más la suavidad y rigidez de la capa de recubrimiento duro no curada. En particular, es preferible una resina acrílica reactiva.
El peso molecular promedio en peso (Mw) se puede calcular basándose en el peso molecular del poliestireno estándar a partir de un cromatograma medido por cromatografía de permeación en gel.
La composición HC puede comprender una resina no reactiva. La composición HC puede comprender una resina no reactiva junto con una resina reactiva. La composición HC puede comprender dos o más resinas reactivas y dos o más resinas no reactivas.
La resina no reactiva es una resina que no reacciona o apenas muestra reactividad incluso cuando se irradia con un rayo de energía activa (normalmente, rayos ultravioleta). Los ejemplos de la resina no reactiva incluyen resina de uretano, resina acrílica, resina de poliéster y resina epoxi. El peso molecular promedio en peso (Mw) de la resina no reactiva es preferentemente 5000 o más y 100000 o menos, y más preferentemente 6000 o más y 95000 o menos. Cuando están contenidas una pluralidad de resinas reactivas y/o resinas no reactivas, solo se requiere que el Mw de una resina sea 5000 o más y 100000 o menos. El Mw de las otras resinas no está particularmente limitado. El Mw de las otras resinas puede ser, por ejemplo, 10000 o más y 80000 o menos. Cuando se usan en combinación resinas que tienen diversos pesos moleculares promedio en peso, la capa de recubrimiento duro no curada tiende a tener una gran suavidad, y es fácil ajustar la dureza de la capa de recubrimiento duro no curada a un intervalo deseado. La composición HC contiene preferentemente al menos una de una resina acrílica no reactiva y una resina acrílica reactiva. Aunque no debe interpretarse como limitado a una teoría particular, esto puede aumentar la suavidad y rigidez de la capa de recubrimiento duro no curada.
El contenido total de la resina acrílica reactiva y/o la resina acrílica no reactiva es preferentemente más de 20 partes en masa y 60 partes en masa o menos, más preferentemente 30 partes en masa o más y 60 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 35 partes en masa o más y 60 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición HC.
El contenido sólido de la composición HC es el componente de resina curable por rayos de energía activa descrito anteriormente, la resina no reactiva, el iniciador de fotopolimerización, las partículas finas de óxido inorgánico, etc. Lo mismo se aplica al contenido sólido de la composición para formar una capa de interferencia óptica.
La composición HC comprende preferentemente al menos uno seleccionado de entre un compuesto de (met)acrilato polifuncional, un compuesto de (met)acrilato de uretano polifuncional y un compuesto de (met)acrilato de silicio polifuncional. Gracias a esto, la capa de recubrimiento duro no curada presenta una alta viscosidad a temperatura normal, y la viscosidad de la misma disminuye con el calentamiento. De este modo, la capa de recubrimiento duro no curada exhibe una buena adhesión a la capa de interferencia óptica no curada, y se conforma fácilmente en una forma complicada. Asimismo, dado que la capa de recubrimiento duro curada tiene una alta densidad de reticulación, el rendimiento del recubrimiento duro se mejora aún más.
Entre ellos, la composición HC comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, y un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional. Esto hace que sea más fácil mejorar aún más la conformabilidad de la capa de recubrimiento duro no curada y el rendimiento de recubrimiento duro de una capa de recubrimiento duro curada. Asimismo, se mejora aún más la adhesión entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada. Por lo tanto, el atrapamiento de aire se suprime cuando las dos capas se unen entre sí.
En particular, la composición HC comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva que tiene un Mw de 5000 o más y 100000 o menos y un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional que tiene un equivalente de acrilato de 100 g/eq. o más y 200 g/eq. o menos. Gracias a esto, se mejora aún más la baja pegajosidad de la capa de recubrimiento duro no curada.
El contenido del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional es preferentemente de 5 partes en masa o más y de 70 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 70 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 13 partes en masa o más y 68 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición HC.
El equivalente de acrilato del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional puede ser de 110 g/eq. o más y 180 g/eq. o menos, y puede ser de 115 g/eq. o más y 160 g/eq. o menos.
La composición HC puede comprender una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, y al menos una seleccionada del grupo que consiste en un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional y partículas finas de óxido inorgánico.
En particular, la composición HC comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional y partículas finas de óxido inorgánico. Aunque no debe interpretarse como limitado a una teoría particular, el monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional hace posible reducir la tensión superficial de la capa de recubrimiento duro no curada y mejorar la propiedad de nivelación. Las partículas finas de óxido inorgánico suprimen la contracción de volumen de la capa de recubrimiento duro no curada y aumentan fácilmente la rigidez. De este modo, el cambio de apariencia durante el proceso de fabricación de la capa de recubrimiento duro no curada se suprime fácilmente. Asimismo, también se suprimen el cambio en la apariencia externa de la capa de recubrimiento duro curada y la aparición de rizado. Adicionalmente, la pegajosidad de la capa de recubrimiento duro curada se reduce y la resistencia a la abrasión tiende a aumentar.
El Mw del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional es preferentemente 700 o más y 100000 o menos, más preferentemente 800 o más y 90000 o menos, y preferentemente 800 o más y 85000 o menos.
El contenido del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional es preferentemente 0,1 partes en masa o más y 50 partes en masa o menos, más preferentemente 1 parte en masa o más y 45 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 1,5 partes en masa o más y 40 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición HC.
El contenido de las partículas finas de óxido inorgánico es preferentemente de 1 parte en masa o más y de 55 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 50 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 12 partes en masa o más y 40 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición HC.
Las partículas finas de óxido inorgánico no están particularmente limitadas. Los ejemplos de las partículas finas de óxido inorgánico incluyen partículas de sílice (SO2), partículas de alúmina, partículas de titania, partículas de óxido de estaño, partículas de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO), partículas de óxido de zinc y partículas de óxido de zirconia. La superficie de las partículas finas de óxido inorgánico puede modificarse con un grupo funcional que contiene un doble enlace insaturado. El grupo funcional es deseablemente un grupo (met)acriloílo. Entre ellos, las partículas de sílice y las partículas de alúmina son preferibles desde el punto de vista del coste y la estabilidad del material de recubrimiento y, en particular, se prefieren las partículas de sílice y las partículas de alúmina cuyas superficies se modifican con un grupo funcional. La forma de las partículas finas de óxido inorgánico puede ser sol. El diámetro de partícula primaria de las partículas finas de óxido inorgánico no está particularmente limitado. Desde el punto de vista de la transparencia y la estabilidad del material de recubrimiento, el diámetro de partícula primaria de las partículas finas de óxido inorgánico es preferentemente de 5 nm o más y de 100 nm o menos. El diámetro de partícula primaria de las partículas finas de óxido inorgánico es un valor medido usando software de procesamiento de imágenes a partir de una imagen de una sección transversal tomada con un microscopio electrónico. El diámetro de partícula promedio de otros materiales granulares también se determina mediante el mismo método.
(Partículas de sílice)
A continuación se muestran ejemplos de partículas de sílice disponibles comercialmente (sílice coloidal).
Fabricado por Nissan Chemical Corporation: IPA-ST, MEK-S TM, IBK-S T, PGMST, XBAS T, MEK-AC-2101, MEKAC-2202 y MEKAC-4101 M I B KSD
Fabricado por FUSO CHEMICAL CO, LTD.: PL-1-IPA, PL1-TOL, PL-2TPA, PL-2-MEK y PL-3-TOL Fabricado por JGC Catalysts and Chemicals Ltd.: Serie OSCAL y serie ELECOM
Fabricado por BYK Japón KK: NANOBYK-3605
(Partículas de alúmina)
A continuación se muestran ejemplos de partículas de alúmina disponibles comercialmente.
Fabricado por Sumitomo Osaka Cement Co, Ltd.: AS-150 I y AS -150 T
Fabricado por BYK Japón KK: NANOBYK3601, NANOBYK 3602 y NANOBYK3610
(Partículas de óxido de zirconia)
A continuación se muestran ejemplos de partículas de óxido de zirconia disponibles comercialmente.
Fabricado por Sakai Chemical Industry Co, Ltd.: SZRK y SZRKM
Fabricado por CIK NanoTek Corporation: ZRANB15WT%-P02, ZRMIBK15WT%-P01 y ZRMIBK15WT%-F85 Fabricado por Solar: NANON5ZR-010 y NANON5ZR-020
Los ejemplos del monómero u oligómero de (met)acrilato incluyen (met)acrilato de metilo, (met)acrilato de etilo, (met)acrilato de n-butilo, (met)acrilato de isobutilo, (met)acrilato de 2-etilhexilo, ácido acrílico, ácido metacrílico, (met)acrilato de isoestearilo, acrilato de o-fenilfenol etoxilado, acrilato de metoxipolietilenglicol, acrilato de metoxipolietilenglicol, acrilato de fenoxipolietilenglicol, succinato de 2-acriloiloxietilo, (met)acrilato de 2-hidroxietilo, (met)acrilato de 2-hidroxipropilo, mono(met)acrilato de etilenglicol, mono(met)acrilato de propilenglicol, (met)acrilato de 2-hidroxi-3-metoxipropilo, N-metilol(met)acrilamida y N-hidroxi(met)acrilamida.
(Monómero u oligómero de (met)acrilato polifuncional)
A continuación se muestran ejemplos de monómero u oligómero de (met)acrilato polifuncional comercialmente disponible.
DPHA (fabricado por Daicel-Allnex Ltd.), PETRA (fabricado por Daicel-Allnex Ltd., triacrilato de pentaeritritol), PETIA (fabricado por Daicel-Allnex Ltd.), ARONIX M-403 (fabricado por Toagosei Co., Ltd., penta y hexaacrilato de dipentaeritritol), ARONIX M-402 (fabricado por Toagosei Co., Ltd., penta y hexaacrilato de dipentaeritritol), ARONIX M-400 (fabricado por Toagosei Co., Ltd., penta y hexaacrilato de dipentaeritritol), SR-399 (fabricado por Arkema, hidroxipentaacrilato de dipentaeritritol), KAYARAD DPHA (fabricado por Nippon Kayaku Co., Ltd.), KAYARAD DPHA-2C (fabricado por Nippon Kayaku Co., Ltd.), ARONIX M-404, M-405, M-406, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, TO-1200, TO-1231, TO-595, TO-756 (fabricado por Toagosei Co., Ltd.), KAYARD D-310, D-330, DPHA, DPHA-2C (fabricado por Nippon Kayaku Co., Ltd.) y NIKALAC MX-302 (fabricado por Sanwa Chemical Co., Ltd.).
Los ejemplos del polímero de (met)acrilato incluyen al menos un polímero del monómero y oligómero de (met)acrilato descritos anteriormente.
(Monómero u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional)
A continuación se muestran ejemplos de monómero u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional comercialmente disponibles.
(Met)acrilatos de uretano bifuncionales ("UX-2201", "UX-8101" y "UX-6101" fabricados por Nippon Kayaku Co., Ltd., "UF-8001" y "UF-8003" fabricados por Kyoeisha Chemical Co., Ltd., "Ebecryl 244", "Ebecryl 284", "Ebecryl 2002", "Ebecryl 4835", "Ebecryl 4883", "Ebecryl 8807" y "Ebecryl 6700" fabricado por Daicel-Allnex Ltd.);' (met)acrilatos de uretano trifuncionales ("Ebecryl 254", "Ebecryl 264" y "Ebecryl 265" fabricado por Daicel-Allnex Ltd.); (met)acrilatos de uretano tetrafuncionales ("Ebecryl8210" fabricado por Daicel-Allnex Ltd.); (met)acrilatos de uretano hexafuncionales ("Ebecryl 1290k", "Ebecryl 5129", "Ebecryl 220", "KRM-8200" y "Ebecryl 1290N" fabricados por Daicel-Allnex Ltd.); (met)acrilatos de uretano no funcionales ("KRM-7804" fabricado por Daicel-Allnex Ltd.); (met)acrilatos de uretano decafuncionales ("KRM-8452" y "KRM-8509" fabricados por Daicel-Allnex Co., Ltd.); y (met)acrilatos de uretano pentadecafuncionales ("KRM-8655" fabricado por Daicel-Allnex Ltd.). El monómero u oligómero de (met)acrilato de uretano se puede preparar, por ejemplo, haciendo reaccionar un policarbonato diol, un compuesto de (met)acrilato que contiene un grupo hidroxilo y un grupo de doble enlace insaturado en la molécula del mismo, y un poliisocianato.
Los ejemplos del polímero de (met)acrilato de uretano incluyen un polímero de al menos uno de los monómeros y oligómeros de (met)acrilato de uretano mencionados anteriormente.
El monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio es un monómero u oligómero de (met)acrilato que tiene un enlace siloxano. Un grupo funcional que contiene un átomo de flúor puede unirse al átomo de silicio.
(Monómeros y oligómeros de (met)acrilato de silicio polifuncional)
A continuación se muestran ejemplos de monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional comercialmente disponibles.
- Compuesto que tiene un grupo metacriloílo y un grupo acriloílo
Fabricado por BYK: BYK-UV3500 y BYK-UV3570
Fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd J Shin-Etsu Silicone X-22-164, Shin-Etsu Silicone X-22-164AS, Shin-Etsu Silicone X-22-164A, Shin-Etsu Silicone X-22-164B, Shin-Etsu Silicone X-22-164C, Shin-Etsu Silicone X-22-164E, Shin-Etsu Silicone X-22-174DX, Shin-Etsu Silicone X-22-2426, Shin-Etsu Silicone X-22-2475, KER-4000-UV, KER-4700-UV, KER-4710-UV y KER-4800-UV.
Fabricado por JNC: FM-0711, FM-0721, FM-0725, TM-0701, FM-7711, FM-7721 y FM-7725
Evonik Japan: TEGO (marca registrada) Rad 2010 y TEGO (marca registrada) Rad 2011
- Monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional que tiene un átomo de flúor
Fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation: Shikoh UV-AF305
Fabricado por T&K TO KA: ZX212 y ZX-214-A
Fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KY-1203
La composición HC puede comprender una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva y al menos una seleccionada del grupo que consiste en un monómero y/u oligómero de acrilato de uretano polifuncional, un monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional que tiene un átomo de flúor y partículas finas de óxido inorgánico.
<Iniciador de fotopolimerización>
La composición HC comprende preferentemente un iniciador de fotopolimerización. Gracias a esto, la polimerización del componente de resina curable por rayos de energía activa avanza fácilmente.
Los ejemplos del iniciador de fotopolimerización incluyen iniciadores de fotopolimerización basados en alquilfenona, iniciadores de fotopolimerización basados en óxido de acilfosfina, iniciadores de fotopolimerización basados en titanoceno e iniciadores de polimerización basados en éster de oxima.
Los ejemplos de los iniciadores de fotopolimerización basados en alquilfenona incluyen 2,2-dimetoxi-1,2-difeniletan-1-ona, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona, 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-1-ona, 1-[4-(2-hidroxietoxi)-fenil]-2-hidroxi-2-metil-1-propan-1-ona, 2-hidroxi-1-{4-[4-(2-hidroxi-2-metil-propionil)-bencil]fenil}-2-metil-propan-1-ona, 2-metil-1-(4-metiltiofenil)-2-morfolinopropan-1-ona, 2-bencil-2-dimetilamino-1-(4-morfolinofenil)butanona-1 y 2-(dimetilamino)-2[(4-metilfenil)metil]-1-[4-(4-morfolinil)fenil]-1-butanona.
Los ejemplos de los iniciadores de fotopolimerización basados en óxido de acilfosfina incluyen óxido de 2,4,6-trimetilbenzoil-difenil-fosfina y óxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil)-fenilfosfina.
Los ejemplos de los iniciadores de fotopolimerización basados en titanoceno incluyen bis(r|5-2,4-ciclopentadien-1-il)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pirrol-1-il)-fenil)titanio.
Los ejemplos del iniciador de polimerización basado en éster de oxima incluyen 1,2-octanodiona, 1-[4-(feniltio)-, 2-(Obenzoiloxima)], etanona, 1-[9-etil-6-(2-metilbenzoil)-9H-carbazol-3-il]-, 1-(0-acetiloxima), ácido oxifenilacético, éster 2-[2-oxo-2-fenilacetoxietoxi]etílico y éster 2-(2-hidroxietoxi)etílico. Estos iniciadores de fotopolimerización se usan individualmente o dos o más de ellos se usan en combinación.
Entre ellos, se prefiere al menos uno seleccionado del grupo que consiste en 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-1-ona, 1-hidroxi-ciclohexil-fenil-cetona, 2-metil-1-(4-metiltiofenil)-2-morfolinopropan-1-ona, 2-bencil-2-dimetilamino-1-(4-morfolinofenil)-butanona-1 y 2,2-dimetoxi-1,2-difeniletan-1-ona.
La cantidad del iniciador de fotopolimerización es preferentemente 0,01 partes en masa o más y 10 partes en masa o menos, y más preferentemente 1 parte en masa o más y 10 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición H<c>.
<Disolvente>
La composición HC puede comprender un disolvente. El disolvente no está particularmente limitado y se selecciona apropiadamente teniendo en cuenta los componentes contenidos en la composición, el tipo del primer sustrato de soporte, el método de aplicación, etc.
Los ejemplos del disolvente incluyen disolventes aromáticos tales como tolueno y xileno; disolventes de cetona tales como metiletilcetona, acetona, metilisobutilcetona y ciclohexanona; disolventes de éter tales como éter dietílico, éter isopropílico, tetrahidrofurano, dioxano, éter dimetílico de etilenglicol, éter dietílico de etilenglicol, éter dimetílico de dietilenglicol, éter dietílico de dietilenglicol, éter monometílico de propilenglicol (PGM), anisol y fenetol; disolventes de éster tales como acetato de etilo, acetato de butilo, acetato de isopropilo y diacetato de etilenglicol; disolventes de amida tales como dimetilformamida, dietilformamida y N-metilpirrolidona, disolventes de cellosolve tales como metil cellosolve, etil cellosolve y butil cellosolve; disolventes alcohólicos tales como metanol, etanol, propanol, alcohol isopropílico, butanol, alcohol isobutílico y alcohol de diacetona (DAA); y disolventes que contienen halógenos tales como diclorometano y cloroformo. Estos disolventes se usan solos o dos o más de ellos se usan en combinación. Entre ellos, se prefieren disolventes de éster, disolventes de éter, disolventes de alcohol y disolventes de cetona. <Otros>
La composición HC puede comprender diversos aditivos según sea necesario. Los ejemplos de los aditivos incluyen agentes antiestáticos, plastificantes, tensioactivos, antioxidantes, absorbedores ultravioleta, acondicionadores de superficie, agentes niveladores y estabilizadores de luz (por ejemplo, estabilizador de luz de amina impedida (HALS)).
[Segundo sustrato de soporte]
Como segundo sustrato de soporte, se usa una película protectora conocida en la técnica sin limitación particular. El segundo sustrato de soporte puede ser incoloro o coloreado. El segundo sustrato de soporte puede ser transparente. El segundo sustrato de soporte puede tener una capa adhesiva sobre la superficie de aplicación.
El espesor del segundo sustrato de soporte no está particularmente limitado. El espesor del segundo sustrato de soporte puede ser de 20 pm o más y de 100 pm o menos. Gracias a esto, el efecto de protección de la capa de interferencia óptica no curada se mejora fácilmente. El espesor del segundo sustrato de soporte es preferentemente de 25 pm o más, más preferentemente de 30 pm o más, incluso más preferentemente de 33 pm o más, y en particular preferentemente de 35 pm o más. El espesor del segundo sustrato de soporte es preferentemente de 85 pm o menos, más preferentemente de 80 pm o menos, e incluso más preferentemente de 65 pm o menos. El espesor del segundo sustrato de soporte es un valor que no incluye el espesor de la capa adhesiva.
El segundo sustrato de soporte está hecho de, por ejemplo, resina. Los ejemplos de la película de resina incluyen películas de poliolefina tales como películas de polietileno y películas de polipropileno (incluyendo una película de polipropileno no orientada (película de CPP) y una película de polipropileno orientada biaxialmente (película de OPP)), películas de poliolefina modificada obtenidas modificando estas poliolefinas para añadir funciones adicionales, películas de poliéster tales como poli(tereftalato de etileno), policarbonato y poli(ácido láctico), películas de resina de poliestireno tales como películas de poliestireno, películas de resina AS y películas de resina ABS, películas de nailon, películas de poliamida, películas de poli(cloruro de vinilo) y películas de poli(cloruro de vinilideno) y películas de polimetilpenteno.
Se pueden añadir a la película de resina aditivos tales como un agente antiestático y un inhibidor ultravioleta según sea necesario. La superficie de la película de resina puede haberse sometido a un tratamiento corona o a un tratamiento con plasma a baja temperatura.
Entre ellos, se prefiere al menos uno seleccionado de entre una película de polietileno, una película de poliestireno, una película de poliolefina modificada, una película de polimetilpenteno, una película de OPP y una película de GPP. En particular, se prefiere al menos uno seleccionado de entre una película de polietileno, una película de poliestireno, una película de poliolefina modificada, una película de polimetilpenteno, una película de OPP y una película de GPP que tenga cada una un espesor de 30 pm o más y de 100 pm o menos.
[Capa de interferencia óptica no curada]
La capa de interferencia óptica no curada comprende una composición curable por rayos de energía activa R. La composición R se cura por rayos de energía activa. La composición R se cura preferentemente con el mismo tipo de rayo de energía activa que la composición HC.
El índice de refracción de la capa de interferencia óptica no curada no está particularmente limitado. Cuando se requiere un rendimiento antirreflectante, el índice de refracción de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente de 1,35 o más y de 1,55 o menos. Cuando la capa de interferencia óptica no curada tiene un índice de refracción tan bajo, se exhiben fácilmente buenas propiedades antirreflectantes. A continuación en el presente documento, cualquier capa que tenga el índice de refracción descrito anteriormente se denomina capa de índice de refracción bajo. El índice de refracción de la capa de índice de refracción bajo puede ser de 1,38 o más y de 1,55 o menos, y puede ser de 1,38 o más y de 1,51 o menos.
Cuando se requiere un diseño de tono metálico, el índice de refracción de la capa de interferencia óptica no curada es preferentemente superior a 1,55 y 2,00 o menos. Cuando la capa de interferencia óptica no curada tiene un índice de refracción tan alto, se obtiene fácilmente un diseño de tono metálico superior. A continuación en el presente documento, cualquier capa que tenga el índice de refracción descrito anteriormente se denomina capa de alto índice de refracción.
La capa de interferencia óptica no curada puede incluir además una capa de interferencia óptica que tiene un índice de refracción medio (una capa de índice de refracción medio). El índice de refracción de la capa de índice de refracción medio no está particularmente limitado siempre que esté entre la capa de interferencia óptica (capa de índice de refracción bajo) y la capa de índice de refracción alto de acuerdo con la presente realización. El índice de refracción de la capa de índice de refracción medio puede ser, por ejemplo, de 1,55 o más y de 1,70 o menos.
El espesor de cada una de las capas de interferencia óptica puede ser de 10 nm o más y de 300 nm o menos. El espesor de cada una de las capas de interferencia óptica es preferentemente de 15 nm o más, más preferentemente de 40 nm o más, y en particular preferentemente de 60 nm o más. El espesor de cada una de las capas de interferencia óptica es preferentemente de 200 nm o menos, más preferentemente de 180 nm o menos, y en particular preferentemente de 150 nm o menos.
La composición R comprende un componente de resina curable por rayos de energía activa. El componente de resina curable por rayos de energía activa tiene un grupo polimerizable que tiene un enlace insaturado sin reaccionar (un grupo insaturado polimerizable; normalmente un grupo (met) acriloílo).
Cuando la capa de interferencia óptica no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2, desaparecen del 10 % al 100 % de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar contenidos en la capa de interferencia óptica no curada.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de interferencia óptica no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 puede ser del 15 % o más y del 90 % o menos, o puede ser del 20 % o más y del 80 % o menos, o puede ser del 30 % o más y del 70 % o menos, o puede ser del 30 % o más y del 60 % o menos.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de interferencia óptica no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 5 mJ/cm2 puede ser del 10 % o más y del 30 % o menos, o puede ser del 10 % o más y del 50 % o menos.
La relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar cuando la capa de interferencia óptica no curada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 30 mJ/cm2 puede ser del 10 % o más y del 50 % o menos.
A medida que aumenta la relación de desaparición de los grupos polimerizables sin reaccionar, la densidad de reticulación aumenta. De este modo, la dureza de la capa de interferencia óptica es alta y la relación de estiramiento tiende a ser baja. Al ajustar la cantidad de luz integral del rayo de energía activa, se puede controlar la dureza y/o la relación de estiramiento de la capa de interferencia óptica.
También en la capa de interferencia óptica no curada, la relación de desaparición de los grupos insaturados polimerizables sin reaccionar no cambia mucho antes y después del calentamiento. En otras palabras, por el tratamiento térmico, el curado de la composición R apenas avanza. Por lo tanto, la capa de interferencia óptica no curada puede someterse a tratamiento térmico antes de la etapa de irradiación de rayos de energía activa sin afectar la adhesión de la capa de interferencia óptica y la relación de estiramiento de la película laminada. Por el tratamiento térmico, se puede mejorar la suavidad de la capa de interferencia óptica. En consecuencia, también se mejora la suavidad del miembro laminado obtenido.
El tratamiento térmico se realiza en condiciones que no afectan al rendimiento de la capa de interferencia óptica. Las condiciones para el tratamiento térmico pueden establecerse apropiadamente de acuerdo con la composición de la composición R. La temperatura del tratamiento térmico puede ser de 90 °C o más y de 200 °C o menos, de 100 °C o más y de 200 °C o menos o de 110 °C o más y de 200 °C o menos. El tiempo del tratamiento térmico puede ser de 10 segundos o más y de 10 minutos o menos.
El tratamiento térmico también puede realizarse utilizando calor aplicado en la etapa de preforma. La capa de interferencia óptica no curada puede nivelarse suficientemente mientras se preforma.
(Composición R)
La capa de interferencia óptica se lamina en un estado no curado con la capa de recubrimiento duro no curada. Asimismo, como se ha descrito anteriormente, la película laminada se somete a diversos procesamientos en un estado no curado. Así pues, se requiere que la capa de interferencia óptica tenga el mismo rendimiento que el de la capa de recubrimiento duro además de la reflectividad. En particular, se requiere que la capa de interferencia óptica muestre la reflectividad deseada, tenga baja pegajosidad y sea menos probable que se contamine, y suprima daños y cambios en la apariencia externa durante el procesamiento. Los ejemplos del cambio en la apariencia externa durante el procesamiento incluyen rayas llamadas marcas de cremallera generadas cuando se despega la película protectora.
Estos requisitos se pueden lograr controlando la dureza, rigidez, suavidad, pegajosidad, etc. de la capa de interferencia óptica no curada. Las propiedades físicas de la capa de interferencia óptica no curada se pueden ajustar por el espesor de la misma, la composición de la composición R, etc.
<Componente de resina>
La composición R comprende un componente de resina curable por rayos de energía activa. El componente de resina curable por rayos de energía activa incluye un monómero, oligómero o polímero (resina reactiva) que puede reticularse y curarse mediante rayos de energía activa. Los ejemplos del componente de resina curable por rayos de energía activa contenidos en la composición R pueden ser los mismos que los de los componentes de resina curables por rayos de energía activa contenidos en la composición HC.
Entre ellos, es preferible una resina reactiva. El peso molecular promedio en peso (Mw) de la resina reactiva es preferentemente 5000 o más y 100000 o menos, más preferentemente 6000 o más y 95000 o menos, e incluso más preferentemente 9000 o más y 90000 o menos. La temperatura de transición vítrea (Tg) de la resina reactiva es, por ejemplo, preferentemente 40 °C o más y 120 °C o menos, y más preferentemente 40 °C o más y 110 °C o menos. Esto hace que sea más fácil mejorar aún más la suavidad y rigidez de la capa de interferencia óptica no curada. En particular, es preferible una resina acrílica reactiva.
La composición R puede comprender una resina no reactiva. Los ejemplos de la resina no reactiva pueden ser los mismos que los de la resina no reactiva contenida en la composición HC. El peso molecular promedio en peso (Mw) de la resina no reactiva es preferentemente 5000 o más y 100000 o menos, y más preferentemente 6000 o más y 95000 o menos.
La composición R puede comprender una resina no reactiva junto con una resina reactiva. La composición R puede comprender dos o más resinas reactivas y dos o más resinas no reactivas.
El contenido total de la resina acrílica reactiva y/o la resina acrílica no reactiva es preferentemente más de 5 partes en masa y 40 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 30 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 15 partes en masa o más y 25 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
Cuando están contenidas una pluralidad de resinas reactivas y/o resinas no reactivas, solo se requiere que el Mw de una resina sea 5000 o más y 100000 o menos. El Mw de las otras resinas no está particularmente limitado. El Mw de las otras resinas puede ser, por ejemplo, 10000 o más y 80000 o menos. Cuando se usan en combinación resinas que tienen diversos pesos moleculares promedio en peso, la capa de interferencia óptica no curada tiende a tener una gran suavidad, y es fácil ajustar la dureza de la capa de interferencia óptica no curada a un intervalo deseado. Entre ellos, la composición R comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, y un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional. Gracias a esto, se obtiene fácilmente una capa de interferencia óptica no curada que tiene baja pegajosidad y es menos probable que se contamine. Asimismo, se mejora la adhesión entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada. En consecuencia, se suprime el atrapamiento de aire. Los ejemplos del monómero y oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional pueden ser los mismos que los del monómero y oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional contenidos en la composición HC.
En particular, la composición R comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva que tiene un Mw de 5000 o más y 100000 o menos y un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional que tiene un equivalente de acrilato de 100 g/eq. o más y 200 g/eq. o menos.
El contenido del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional es preferentemente de 5 partes en masa o más y de 70 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 70 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 13 partes en masa o más y 68 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
El equivalente de acrilato del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de uretano polifuncional puede ser de 110 g/eq. o más y 180 g/eq. o menos, y puede ser de 115 g/eq. o más y 160 g/eq. o menos.
La composición R puede comprender una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, y al menos una seleccionada del grupo que consiste en un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional, una fluororresina y partículas finas de óxido inorgánico.
Entre ellos, la composición R comprende preferentemente una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva, un monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional, una fluororresina y partículas finas de óxido inorgánico.
Aunque no debe interpretarse como limitado a una teoría particular, el (met)acrilato de silicio polifuncional hace posible reducir la tensión superficial de la capa de interferencia óptica no curada, mejorar la propiedad de nivelación y reducir la pegajosidad. Dado que la fluororresina imparte deslizamiento a las capas de interferencia óptica no curada y curada, la resistencia a la abrasión se mejora fácilmente. Las partículas finas de óxido inorgánico suprimen la contracción de volumen de la capa de interferencia óptica no curada y aumentan fácilmente la rigidez. De este modo, el cambio en la apariencia externa durante el proceso de producción de la capa de interferencia óptica no curada se suprime fácilmente. Asimismo, también se suprime un cambio en la apariencia de la capa de interferencia óptica curada y la aparición de rizado. Adicionalmente, se reduce la pegajosidad de la capa de interferencia óptica curada y se mejora fácilmente la resistencia a la abrasión.
Los ejemplos del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional pueden ser los mismos que los del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional contenido en la composición HC.
Los ejemplos de las partículas finas de óxido inorgánico pueden ser los mismos que los de las partículas finas de óxido inorgánico contenidas en la composición HC.
El Mw del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional es preferentemente 700 o más y 100000 o menos, más preferentemente 800 o más y 90000 o menos, y preferentemente 800 o más y 85000 o menos.
El contenido del monómero y/u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional es preferentemente 5 partes en masa o más y 50 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 48 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 13 partes en masa o más y 48 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
La fluororresina no contiene un enlace siloxano y al menos parte del hidrógeno de la cadena de alquilo de la fluororresina está sustituido con flúor. Los ejemplos de la fluororresina incluyen acrilato de perfluorooctilo y perfluoropoliéter modificado con acrílico. La fluororresina puede tener un grupo (met)acriloílo parcialmente sustituido con flúor.
A continuación se muestran ejemplos de productos comerciales de la fluororresina.
Fabricado por DIG Corporation: MEGAFAC RS-72-K, MEGAFAC RS-75, MEGAFAC RS-76-E, MEGAFAC RS-76-NS y MEGAFAC RS-77
Fabricado por Daikin Industries, Ltd J OPTOOL DAC-HP
Fabricado por Solvay Solexis, Inc/ FLUOROLINK MD 700 y FLUOROLINK AD 1700
Fabricado por NEOS Co., Ltd/FTERGENT 601ADH2
El contenido de la fluororresina es preferentemente 0,1 partes en masa o más y 10 partes en masa o menos, más preferentemente 1 parte en masa o más y 8 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 1,5 partes en masa o más y 7 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
El contenido de las partículas finas de óxido inorgánico es preferentemente de 1 parte en masa o más y de 55 partes en masa o menos, más preferentemente 10 partes en masa o más y 50 partes en masa o menos, y en particular preferentemente 12 partes en masa o más y 40 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
La composición R puede comprender al menos uno seleccionado de entre un compuesto de (met)acrilato polifuncional, un compuesto de (met)acrilato de uretano polifuncional y un compuesto de (met)acrilato de silicio polifuncional. Gracias a esto, la capa de interferencia óptica curada tiene una alta densidad de reticulación y, por lo tanto, tiene un rendimiento de recubrimiento duro superior. Adicionalmente, la transparencia de la capa de interferencia óptica curada se mejora fácilmente. Como compuesto de (met)acrilato polifuncional, el compuesto de (met)acrilato de uretano polifuncional y el compuesto de (met)acrilato de silicio polifuncional, por ejemplo, se pueden seleccionar los mostrados como ejemplos para la composición HC.
La composición R puede comprender al menos una seleccionada del grupo que consiste en una resina acrílica reactiva, una resina acrílica no reactiva, un monómero y/u oligómero de acrilato de uretano polifuncional, un monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional que contiene un átomo de flúor, una fluororresina y partículas finas de óxido inorgánico.
La composición R puede comprender una resina acrílica reactiva y/o una resina acrílica no reactiva y al menos una seleccionada del grupo que consiste en un monómero y/u oligómero de acrilato de uretano polifuncional, un monómero u oligómero de (met)acrilato de silicio polifuncional que contiene un átomo de flúor, una fluororresina y partículas finas de óxido inorgánico.
(Iniciador de fotopolimerización)
La composición R comprende preferentemente un iniciador de fotopolimerización. Gracias a esto, la polimerización del componente de resina curable por rayos de energía activa avanza fácilmente. Como iniciador de fotopolimerización, por ejemplo, se pueden elegir los divulgados como ejemplos para la composición HC.
Entre ellos, se prefiere al menos uno seleccionado del grupo que consiste en 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-propan-1-ona, 1-hidroxi-ciclohexil-fenil-cetona, 2-metil-1-(4-metiltiofenil)-2-morfolinopropan-1-ona, 2-bencil-2-dimetilamino-1-(4-morfolinofenil)-butanona-1 y 2,2-dimetoxi-1,2-difeniletan-1-ona.
La cantidad del iniciador de fotopolimerización es preferentemente 0,01 partes en masa o más y 10 partes en masa o menos, y más preferentemente 1 parte en masa o más y 10 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R.
<Disolvente>
La composición R puede contener un disolvente. El disolvente no está particularmente limitado y se selecciona apropiadamente teniendo en cuenta los componentes contenidos en la composición, el tipo del segundo sustrato de soporte, el método de aplicación, etc. Como disolvente, se pueden elegir los divulgados como ejemplos para la composición HC. Entre ellos se prefieren disolventes de éster, disolventes de éter, disolventes de alcohol y disolventes de cetona.
<Componente de reducción del índice de refracción>
La composición R para formar la capa de bajo índice de refracción contiene preferentemente un componente de reducción del índice de refracción que reduce el índice de refracción de la capa de interferencia óptica curada. El componente de reducción del índice de refracción es, por ejemplo, particulado (a continuación en el presente documento, las partículas reductoras del índice de refracción pueden denominarse partículas reductoras del índice de refracción).
Los ejemplos del componente de reducción del índice de refracción incluyen partículas finas de sílice huecas. Las partículas finas de sílice huecas desempeñan el papel de reducir el índice de refracción de la capa de interferencia óptica mientras mantienen la resistencia de la capa. Las partículas finas de sílice huecas son de una estructura en la que el interior de las mismas está lleno de un gas y/o una estructura porosa que contiene un gas. El índice de refracción se reduce en proporción inversa a la ocupación del gas. De este modo, las partículas finas de sílice huecas tienen un índice de refracción más bajo que el índice de refracción original de las partículas finas de sílice. Los ejemplos de las partículas finas de sílice huecas incluyen THRULYA 4320 (fabricado por JGC Catalysts and Chemicals Ltd.).
Como componente de reducción del índice de refracción, se pueden usar partículas finas de sílice en las que se forma una estructura nanoporosa en al menos parte del interior y/o la superficie. La estructura nanoporosa se forma de acuerdo con la forma, estructura y estado de agregación de las partículas finas de sílice y el estado de dispersión dentro de la película de recubrimiento de las partículas finas de sílice.
El diámetro de partícula promedio de las partículas reductoras del índice de refracción es preferentemente de 60 nm o más y de 200 nm o menos. El diámetro de partícula promedio es un diámetro de partícula primaria.
El contenido del componente de reducción del índice de refracción es preferentemente de 35 partes en masa o más y de 70 partes en masa o menos, y más preferentemente de 37,5 partes en masa o más y de 60 partes en masa o menos, por 100 partes en masa del contenido sólido de la composición R. Gracias a esto, la capa de interferencia óptica curada exhibe fácilmente una propiedad antirreflectante superior.
Los componentes de resina de la composición HC y la composición R pueden ser iguales o diferentes. Entre ellos, ambos componentes de resina son preferentemente del mismo o del mismo tipo. Esto se debe a que se mejora la adhesión entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada, y apenas se produce deslaminación entre las capas.
Los componentes contenidos en la pluralidad de capas de interferencia óptica pueden ser iguales o diferentes. Los componentes de resina contenidos en la pluralidad de capas de interferencia óptica pueden ser iguales o diferentes. La capa de índice de refracción alto y la capa de índice de refracción medio pueden comprender un componente de resina distinto del tipo curable por rayos de energía activa. Los ejemplos de los otros componentes de resina incluyen resinas termoplásticas tales como resinas alquídicas, resinas de poliéster y resinas acrílicas; resinas termoendurecibles tales como resinas epoxi, resinas fenólicas, resinas de melamina, resinas de uretano y resinas de silicio; y poliisocianatos.
[Miembro laminado]
El miembro laminado se obtiene curando la película laminada. El miembro laminado es un producto completamente curado de la película laminada. El miembro laminado incluye un segundo sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro curada y una capa de interferencia óptica curada en este orden. El miembro laminado puede tener una pluralidad de capas de interferencia óptica. El miembro laminado puede o no tener además el segundo sustrato de soporte. El segundo sustrato de soporte se despega dependiendo del fin de uso previsto.
El miembro laminado se obtiene, por ejemplo, irradiando la película laminada con un rayo de energía activa para curar la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada.
El miembro laminado es particularmente adecuado como material protector para una pantalla y diversos sensores dispuestos alrededor de la pantalla. Los ejemplos de la pantalla incluyen una pantalla de cristal líquido, una pantalla EL orgánica y una pantalla de plasma. El miembro laminado es particularmente adecuado como material protector para una pantalla de panel táctil para vehículos y dispositivos dispuestos alrededor de la pantalla. El miembro laminado está dispuesto de tal manera que la capa de interferencia óptica está fuera de la capa de recubrimiento duro.
(Capa decorativa)
El miembro laminado puede tener además una capa decorativa. El miembro laminado incluye, por ejemplo, un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro y una capa de interferencia óptica dispuestas sobre una superficie principal del primer sustrato de soporte, y una capa decorativa dispuesta sobre la otra superficie principal del primer sustrato de soporte. La capa decorativa puede proporcionarse en una parte de la otra superficie principal del primer sustrato de soporte. La capa decorativa es una capa que proporciona decoración, tal como un patrón, caracteres o brillo metálico al miembro laminado. La capa decorativa mejora la capacidad de diseño del miembro laminado.
Los ejemplos de la capa decorativa incluyen al menos una de una capa de impresión y una capa depositada en fase vapor. Cada una de la capa de impresión y la capa depositada en fase vapor tiene una o más capas, y puede incluir una pluralidad de capas. El espesor de la capa decorativa no está particularmente limitado, y se establece apropiadamente de acuerdo con la capacidad de diseño, etc.
En la capa de impresión se dibuja, por ejemplo, un patrón de vetas de madera, un patrón de grano de piedra, un patrón de hebras de tela, un patrón de grano de arena, un patrón geométrico, caracteres o una impresión sólida. La capa de impresión está formada por, por ejemplo, una tinta colorante que comprende una resina aglutinante y un colorante. La resina aglutinante no está particularmente limitada. Los ejemplos de la resina aglutinante incluyen resinas a base de polivinilo tales como copolímeros a base de cloruro de vinilo/acetato de vinilo, resinas a base de poliamida, resinas a base de poliéster, resinas poliacrílicas, resinas a base de poliuretano, resinas a base de polivinil acetal, resinas a base de uretano de poliéster, resinas a base de éster de celulosa, resinas alquídicas y resinas a base de poliolefinas cloradas.
El colorante no está particularmente limitado, y los ejemplos del mismo incluyen pigmentos y tintes conocidos. Los ejemplos de un pigmento amarillo incluyen pigmentos azoicos tales como pigmentos poliazoicos, pigmentos orgánicos tales como isoindolinona y pigmentos inorgánicos tales como óxido de titanio, níquel y antimonio. Los ejemplos de un pigmento rojo incluyen pigmentos azoicos tales como pigmentos poliazoicos, pigmentos orgánicos tales como quinacridona y pigmentos inorgánicos tales como carmín. Los ejemplos de un pigmento azul incluyen pigmentos orgánicos tales como azul de ftalocianina y pigmentos inorgánicos tales como azul de cobalto. Los ejemplos de un pigmento negro incluyen pigmentos orgánicos tales como negro de anilina. Los ejemplos de un pigmento blanco incluyen pigmentos inorgánicos tales como dióxido de titanio.
La capa depositada en fase de vapor está formada por al menos un metal seleccionado del grupo que comprende aluminio, níquel, oro, platino, cromo, hierro, cobre, indio, estaño, plata, titanio, plomo y zinc o una aleación o compuesto de los mismos.
(Capa de resina moldeada)
El miembro laminado puede tener además una capa de resina moldeada. La capa de resina moldeada soporta la capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica junto con el primer sustrato de soporte. El miembro laminado comprende, por ejemplo, un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro y una capa de interferencia óptica dispuestas sobre una superficie principal del primer sustrato de soporte, y una capa resina moldeada dispuesta sobre la otra superficie principal del primer sustrato de soporte. La forma de la capa de resina moldeada no está limitada. De este modo, se aumenta el grado de libertad del diseño del miembro laminado.
La resina que forma la capa de resina moldeada no está particularmente limitada. La capa de resina moldeada comprende, por ejemplo, una resina termoendurecible y/o una resina termoplástica. Los ejemplos de la resina termoendurecible incluyen resina fenólica, resina epoxi, resina de melamina, resina de urea, poliéster insaturado y poliimida termoendurecible. Los ejemplos de la resina termoplástica incluyen los denominados plásticos de ingeniería. Los ejemplos de los plásticos de ingeniería incluyen poliamida, poliacetal, policarbonato, polietileno de peso molecular ultra alto, polisulfona, polietersulfona, poli(sulfuro de fenileno) y polímero de cristal líquido.
El miembro laminado puede comprender un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro y una capa de interferencia óptica dispuestas sobre una superficie principal del primer sustrato de soporte, una capa decorativa dispuesta en la otra superficie principal del primer sustrato de soporte y una capa de resina moldeada. En este caso, la capa decorativa está dispuesta para intercalarse entre el primer sustrato de soporte y la capa de resina moldeada. B. Método para fabricar un miembro laminado
El miembro laminado se fabrica mediante un método que comprende una etapa de preparación de la película laminada y una etapa de irradiación de la película laminada con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 m/cm2 o más.
Después de la etapa de preparación de la película laminada, se realizan según sea necesario una etapa de decoración, una etapa de preforma y una etapa de moldeo principal. La etapa de decoración se realiza preferentemente antes de la etapa de preforma.
La etapa de irradiación con un rayo de energía activa puede realizarse una pluralidad de veces. Por ejemplo, después de la etapa de decoración y/o la etapa de preforma, se puede realizar una etapa de semicurado de irradiación de parte de la película laminada con un rayo de energía activa. En este caso, después de la etapa de moldeo principal, se realiza una etapa de curado principal de irradiación de la película laminada con un rayo de energía activa para curar la parte restante.
El tipo del rayo de energía activa no está particularmente limitado. El rayo de energía activa se selecciona apropiadamente de acuerdo con el tipo de componente de resina contenido en la composición formadora de capas. El rayo de energía activa no está particularmente limitado y puede ser una radiación ionizante tal como un rayo ultravioleta, haz de electrones, rayo a, rayo p y rayo y. Entre ellos, se prefieren los rayos ultravioleta que tienen una longitud de onda de 380 nm o menos. El rayo ultravioleta se irradia usando, por ejemplo, una lámpara de mercurio de alta presión o una lámpara de mercurio de ultra alta presión.
Una realización de un método para fabricar un miembro laminado es como sigue.
Un método de fabricación que comprende:
(i) una etapa de preparación de una película laminada que tiene un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro no curada, al menos una capa de interferencia óptica no curada y un segundo sustrato de soporte en este orden;
(ii) una etapa de formación de una capa decorativa sobre una superficie del primer sustrato de soporte opuesta a la capa de recubrimiento duro no curada para obtener un cuerpo laminado;
(iii) una etapa de despegue del segundo sustrato de soporte;
(iv) una etapa de preformado del cuerpo laminado;
(v) una etapa de irradiación del laminado preformado con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más;
(vi) una etapa de recorte del cuerpo laminado; y
(vii) una etapa, después del recorte, de moldeo por inserción de una resina de moldeo en el lado de la capa decorativa del cuerpo laminado.
Otra realización del método para fabricar un miembro laminado es como sigue.
Un método de fabricación que comprende:
(i) una etapa de preparación de una película laminada que tiene un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro no curada, al menos una capa de interferencia óptica no curada y un segundo sustrato de soporte en este orden;
(ii) una etapa de formación de una capa decorativa sobre una superficie del primer sustrato de soporte opuesta a la capa de recubrimiento duro no curada para obtener un cuerpo laminado;
(iii) una etapa de despegue del segundo sustrato de soporte;
(iv) una etapa de preformado del cuerpo laminado;
(v) una etapa de irradiación del laminado preformado con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 1 mJ/cm2 o más y menos de 100 mJ/cm2 para semicurar el cuerpo laminado;
(vi) una etapa de recorte del cuerpo laminado;
(vii) una etapa de moldeo por inserción de una resina de moldeo en el lado de la capa decorativa del cuerpo laminado recortado; y
(viii) una etapa de irradiación del cuerpo laminado que tiene la resina moldeada con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más.
Este método incluye una etapa de semicurado. De este modo, los defectos durante el moldeo, tales como grietas y arrugas, son además menos probables de que se produzcan en el miembro laminado.
Otra realización de un método para fabricar un miembro laminado es como sigue.
Un método de fabricación que comprende:
(i) una etapa de preparación de una película laminada que tiene un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro no curada, al menos una capa de interferencia óptica no curada y un segundo sustrato de soporte en este orden;
(ii) una etapa de formación de una capa decorativa sobre una superficie del primer sustrato de soporte opuesta a la capa de recubrimiento duro no curada para obtener un cuerpo laminado;
(iii) una etapa de preformado del cuerpo laminado;
(iv) una etapa de recorte del cuerpo laminado;
(v) una etapa de despegue del segundo sustrato de soporte del cuerpo laminado recortado;
(vi) una etapa de irradiación con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más; y
(vii) una etapa, después de la irradiación con el rayo de energía activa, de moldeo por inserción de una resina de moldeo en el lado de la capa decorativa.
En la realización, el recorte se realiza en un estado donde el laminado tiene el segundo sustrato de soporte. De este modo, se suprime la dispersión de fragmentos (materias extrañas) al primer sustrato de soporte durante el recorte. En consecuencia, se suprimen las marcas de materia extraña generadas debido a la entrada de materias extrañas en un molde que se utilizará para el moldeo por inserción.
A continuación, las etapas respectivas se describen en detalle.
(Etapa de preparación de película laminada)
Se prepara una película laminada. La película laminada se fabrica mediante el método descrito anteriormente para fabricar una película laminada. La película laminada tiene un primer sustrato de soporte, una capa de recubrimiento duro no curada formada sobre al menos una superficie del primer sustrato de soporte, y una capa de interferencia óptica no curada formada sobre la capa de recubrimiento duro no curada. Se puede disponer una pluralidad de capas de interferencia óptica no curadas. La película laminada puede tener además un segundo sustrato de soporte. (Etapa de decoración)
Cuando la capa de recubrimiento duro se dispone sobre una superficie principal del primer sustrato de soporte, la capa decorativa descrita anteriormente puede formarse en la otra superficie principal del primer sustrato de soporte antes de una etapa de moldeo. La etapa de decoración puede realizarse antes de la etapa de preparación o puede realizarse después de la etapa de preparación. Desde el punto de vista de la productividad, la etapa de decoración se realiza deseablemente después de la etapa de preparación.
El método para formar la capa de impresión no está particularmente limitado. Los ejemplos del método para formar la capa de impresión incluyen un método de impresión offset, un método de impresión en huecograbado, un método de serigrafía, un método de recubrimiento por rodillo y un método de recubrimiento por pulverización. El método para formar la capa depositada en fase vapor tampoco está particularmente limitado. Los ejemplos del método para formar la capa depositada en fase vapor incluyen un método de deposición de vapor a vacío, un método de pulverización catódica, un método de metalizado iónico y un método de metalizado.
La capa de recubrimiento duro y la capa de interferencia óptica no están curadas pero están secas. De este modo, cada capa tiene un cierto grado de dureza. De este modo, es menos probable que se produzcan marcas de rasqueta o marcas de succión, por ejemplo, en el proceso de impresión.
(Etapa de despegue del segundo sustrato de soporte)
El segundo sustrato de soporte puede despegarse de la película laminada. En la película laminada, la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada están fuertemente adheridas entre sí. En consecuencia, cuando el segundo sustrato de soporte se despega, se suprime el desprendimiento parcial de la capa de interferencia óptica no curada. Adicionalmente, también se suprime el atrapamiento de aire entre la capa de interferencia óptica no curada y la capa de recubrimiento duro no curada. Por otra parte, dado que el segundo sustrato de soporte se despega fácilmente de la capa de interferencia óptica no curada, se suprime la formación de marcas de cremallera.
(Etapa de preforma)
En el caso de fabricar un miembro laminado que tenga una forma tridimensional, la película laminada puede moldearse en una forma que se ajuste a una forma tridimensional deseada después de la etapa de preparación (además, la etapa de decoración) y antes de la etapa de moldeo principal. Al moldear la película laminada en una forma cercana a una forma tridimensional de antemano, la aparición de grietas, arrugas, etc. cuando la película laminada se moldea en una forma tridimensional se suprime más fácilmente. Después de la etapa de preforma, se puede realizar una etapa de recorte para eliminar partes innecesarias de la película laminada.
El método de preforma no está particularmente limitado. La preforma se realiza mediante, por ejemplo, un método de moldeo a vacío, un método de moldeo por aire a presión o un método de moldeo por aire a presión a vacío. En la preforma, el molde y la película laminada se colocan en la misma cámara de procesamiento. La película laminada se coloca de manera que el primer sustrato de soporte esté orientado hacia el molde. La película laminada se calienta y la cámara de procesamiento se lleva a un estado de vacío y/o a un estado presurizado. Gracias a esto, la película laminada se deforma a lo largo del molde. A continuación, la película laminada se enfría y luego se retira del molde. En la preforma, la película laminada puede tratarse térmicamente a una temperatura de 90 °C o más y 150 °C o menos. Dado que la película laminada de acuerdo con la presente realización apenas se cura mediante tratamiento térmico, la relación de estiramiento apenas se reduce y la superficie de cada capa se puede alisar.
(Etapa de semicurado)
Antes de la etapa de moldeo principal, se puede aplicar un rayo de energía activa de modo que la película laminada se cure parcialmente. Gracias a esto, se obtiene una película laminada semicurada.
La etapa de semicurado generalmente se realiza después de la preforma. Mediante la etapa de semicurado, se puede obtener la relación de estiramiento requerida en la etapa de preforma y/o la etapa de moldeo principal. La cantidad de luz integral del rayo de energía activa es, por ejemplo, 1 mJ/cm2 o más y menos de 100 mJ/cm2. Después de la etapa de semicurado, se puede realizar una etapa de recorte para eliminar partes innecesarias de la película laminada.
(Etapa de moldeo principal)
En una etapa de moldeo principal, por ejemplo, se realiza el moldeo por inserción. En el método de moldeo por inserción, por ejemplo, la capa de interferencia óptica se hace frente a un molde y se inyecta una resina para moldear contra el primer sustrato de soporte. Gracias a esto, la película laminada se conforma en una forma tridimensional, y se forma una capa de resina moldeada en la otra superficie principal del primer sustrato de soporte. (Etapa principal de curado)
La película laminada se irradia con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 mJ/cm2 o más y la película laminada se cura completamente. Gracias a esto, se obtiene un miembro laminado. La cantidad de luz integral del rayo de energía activa puede ser de 5000 mJ/cm2 o menos, y puede ser de 3000 mJ/cm2 o menos. El rayo de energía activa puede ser del mismo tipo o diferente del de la etapa de semicurado.
Después de que la película laminada esté completamente curada, se puede realizar una etapa de recorte para eliminar partes innecesarias del miembro laminado.
Las realizaciones descritas anteriormente son ejemplos y pueden introducirse tratamientos conocidos, etapas de procesamiento, etc., según se desee.
Se describirá una realización de un método para fabricar una película laminada con referencia a los dibujos. En el ejemplo ilustrado, hay una capa de interferencia óptica no curada, pero la presente invención no está limitada a esto. La figura 1 es un diagrama esquemático que ilustra parte de la etapa de laminación de acuerdo con la presente invención.
En la Figura 1, una capa de recubrimiento duro no curada 20 se lamina sobre una superficie de un primer sustrato de soporte 10. Este laminado se obtiene en una etapa de formación de una capa de recubrimiento duro no curada. El laminado del primer sustrato de soporte 10 y la capa de recubrimiento duro no curada 20 se transporta en un estado plano desde el lado izquierdo hacia el lado derecho en la figura 1.
Por otra parte, una capa de interferencia óptica no curada 30 se lamina sobre una superficie de un segundo sustrato de soporte 40. Este laminado se obtiene en la etapa de formación de una capa de interferencia óptica no curada. El laminado del segundo sustrato de soporte 40 y la capa de interferencia óptica no curada 30 se transporta en un estado plano desde el lado izquierdo hacia el lado derecho en la FIG. 1.
En una etapa de laminación, una superficie de la capa de recubrimiento duro no curada 20 en un lado opuesto al primer sustrato de soporte 10 y una superficie de la capa de interferencia óptica no curada 30 en un lado opuesto al segundo sustrato de soporte 40 están unidas entre sí. Se aplica una presión de 5 N/cm o más y 150 N/cm o menos a la capa de recubrimiento duro no curada 20 y a la capa de interferencia óptica no curada 30 mediante un par de rodillos 50. La temperatura de la capa de recubrimiento duro no curada 20 y la capa de interferencia óptica no curada 30 es de 0 °C o más y de 40 °C o menos.
Las dimensiones en la figura 1 son simplemente una realización. La posición, tamaño, etc. del par de rodillos 50 en la figura 1 son ejemplos. Las condiciones de los rodillos, como la posición y el tamaño, se pueden cambiar apropiadamente de acuerdo con el modo de uso, por ejemplo, el espesor de la capa de interferencia óptica no curada 30, y se pueden agregar más rodillos y rollos según se desee.
Mediante el método para fabricar una película laminada de acuerdo con la presente realización, se fabrica una película laminada que se puede moldear incluso en una forma complicada y puede reducir la aparición de productos defectuosos durante la fabricación de la película laminada y durante el procesamiento de la película laminada. Por ejemplo, en la película laminada obtenida mediante el método de fabricación de acuerdo con la presente realización, apenas se producen anomalías de las respectivas capas, tales como roturas, arrugas y retorcimientos.
Ejemplos
La presente invención se describirá a continuación con más detalle por medio de ejemplos, a los que no se pretende que la presente invención se limite. En los ejemplos, "partes" y "%" son en masa a menos que se indique lo contrario.
Los componentes usados en los ejemplos y ejemplos comparativos en la presente descripción son los siguientes. (Resina acrílica reactiva)
(1) Nombre del producto: KRM-9322, fabricado por Daicel-Allnex Ltd., Tg: 60 °C, Mw: 50.000
(2) Nombre del producto: WEL-355, fabricado por DIG Corporation, Tg: 85 °C, Mw: 45.000
(Oligómero de acrilato de uretano polifuncional)
Nombre del producto: KRM-8452, fabricado por Daicel-Allnex Ltd., Mw: 3884, equivalente de acrilato: 120 g/eq (Oligómero de acrilato de silicio polifuncional que contiene átomo de flúor)
Nombre del producto: Shikoh UV-AF305, fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation, Mw: 18000 (Oligómero de acrilato de uretano polifuncional)
Nombre del producto: H-7M40, fabricado por Negami Chemical Industrial Co., Ltd., Mw: 10000 a 15000 (Oligómero de acrilato de uretano polifuncional)
Nombre del producto: CN-9893, fabricado por Arkema S.A.
(Oligómero de acrilato polifuncional)
Nombre del producto: ARONIX M-315, fabricado por Toagosei Co., Ltd., Mw: 450, equivalente de acrilato: 150 g/eq
(Componente de reducción del índice de refracción)
Nombre del producto: THRULYA 4320 (producido por JGC Catalysts and Chemicals Ltd., partículas finas de sílice huecas)
(Partícula fina de óxido inorgánico)
(1) Nombre del producto: OSCAL 1842, fabricado por JGC Catalysts and Chemicals Ltd., diámetro de partícula: 10 nm, organosol de sílice reactivo
(2) Nombre del producto: HX-204 IP, fabricado por Nissan Chemical Corporation, sol de óxido de estaño dopado con fósforo, diámetro de partícula: 5 nm a 20 nm
(Iniciador de fotopolimerización)
Nombre del producto: Omnirad 184, fabricado por IGM RESINS, a-hidroxialquilfenona
(Primer sustrato de soporte)
(1) TB1-TB3: nombre de producto AW-10U, fabricado por Wavelock Advanced Technology Co., Ltd., película de dos capas (PMMA/PC) hecha de PMMA y PC, TBL de 300 pm de espesor, TB2: 200 pm de espesor, TB3: 500 |jm de espesor
(2) Nombre del producto TB4: Soft Acrylic, fabricado por Kuraray Co., Ltd., película acrílica, espesor: 40 pm (Segundo sustrato de soporte (película protectora))
(1) OPP1: nombre del producto: To Ra YFAN n.° 40-2500, fabricado por Toray Industries, Inc., película de polipropileno orientada biaxialmente, espesor: 40 pm
(2) OPP2: nombre del producto: ALPHAN E-201F, fabricado por Oji F-Tex Co., Ltd., película de polipropileno orientada biaxialmente, espesor: 50 pm
(3) PET: nombre del producto: Lumirror T60, fabricado por Toray Industries, Inc., película de poliéster orientada biaxialmente, espesor: 50 pm
[Preparación de composición HC1]
En un recipiente que contenía 185 partes de metilisobutilcetona se mezclaron 47,6 partes en masa de KRM-9322 (resina acrílica reactiva), 33,3 partes en masa de KRM-8452 (oligómero de acrilato de uretano polifuncional), 14,3 partes en masa de OSCAL 1842 (partículas finas de óxido inorgánico) y 4,8 partes en masa de Omnirad 184 (iniciación de fotopolimerización). De este modo, se preparó una composición HC1 transparente que tenía una concentración de sólidos del 35 %.
[Preparación de composiciones HC2 a HC10]
Se prepararon composiciones HC2 a HC10 transparentes, cada una con una concentración de sólidos del 35 %, de la misma manera que para la composición HC1, excepto por el uso de las formulaciones mostradas en la Tabla 1C.
[Preparación de la composición LR1 que tiene un índice de refracción bajo]
En primer lugar, se mezclaron 24,8 partes en masa de KRM-9322 (resina acrílica reactiva), 13,3 partes en masa de KRM-8452 (oligómero de acrilato de uretano polifuncional), 13,3 partes en masa de Shikoh UV-AF305 (oligómero de acrilato de silicio polifuncional que contiene un átomo de flúor) y 4,8 partes en masa de Omnirad 184 (iniciación de fotopolimerización). Asimismo, se mezclaron 43,8 partes en masa de THRULYA 4320 (componente de reducción del índice de refracción). Esta mezcla se diluyó con PGM (disolvente) hasta que la concentración de sólidos alcanzó el 2 % y, por lo tanto, se preparó una composición LR1 transparente.
[Preparación de composiciones LR2 a LR3]
Se prepararon composiciones LR2 a LR3 transparentes, cada una con una concentración de sólidos del 2 %, de la misma manera que para la composición LR1, excepto por el uso de las formulaciones mostradas en la Tabla 1A.
[Preparación de la composición HR1 que tiene un alto índice de refracción]
Se preparó una composición HR1 transparente que tenía una concentración de sólidos del 2 % de la misma manera que para la composición LR1, excepto por el usó de la formulación mostrada en la Tabla 1B.
[Ejemplo 1]
(1) Fabricación de película laminada
(1-1) Formación de capa de recubrimiento duro no curada
La composición HC1 se aplicó a la superficie de PMMA del primer sustrato de soporte TB1 con un recubridor de huecograbado de modo que el espesor después del secado fuera de 8 pm. Después, el resultante se secó a 80 °C durante 1 minuto para volatilizar el disolvente, formando así una capa de recubrimiento duro no curada.
La superficie de la capa de recubrimiento duro no curada obtenida se sometió a una prueba de tacto y, a continuación, se observó su aspecto. No hubo ningún cambio en el aspecto exterior de la superficie de la capa de recubrimiento duro no curada, y se evaluó que la capa de recubrimiento duro no curada estaba libre de pegajosidad. A continuación en el presente documento, una capa de recubrimiento duro puede denominarse "capa HC".
La composición LR1 se aplicó a una película de OPP (segundo sustrato de soporte) con un recubridor de huecograbado de modo que el espesor después del secado fuera de 90 nm. Después, el resultante se secó a 80 °C durante 1 minuto para volatilizar el disolvente, formando así una capa de interferencia óptica no curada. La superficie de la capa de interferencia óptica no curada resultante también estaba libre de pegajosidad. El segundo sustrato de soporte sobre el que se formó la capa de interferencia óptica no curada se enrolló en forma de rollo.
A continuación en el presente documento, una capa de interferencia óptica formada por la composición LR1 que tiene un índice de refracción bajo puede denominarse "capa LR".
(1-3) Laminación de capa HC y capa LR no curadas
Mientras se desenrollaba el segundo sustrato de soporte enrollado en forma de rollo, la superficie de la capa HC no curada soportada por el primer sustrato de soporte y la superficie de la capa LR no curada soportada por el segundo sustrato de soporte se unieron entre sí. La unión se realizó a una presión de 20 N/cm y una temperatura de 25 °C. Por lo tanto, se fabricó una película laminada que incluye el primer sustrato de soporte, la capa HC no curada, la capa LR no curada y el segundo sustrato de soporte en este orden.
(2) Fabricación del miembro laminado
(2-1) Formación de capa de impresión
Se formó una capa de impresión sobre una superficie del primer sustrato de soporte de la película laminada, en el lado opuesto a la capa HC no curada, mediante serigrafía, y se secó a una temperatura de secado de 80 °C durante 10 minutos. Esta etapa de impresión se repitió 5 veces y, a continuación, el resultante se secó a 90 °C durante 1 hora. Una pintura negra (nombre del producto: CZ-805 BLACK (fabricado por NIKKO BICS Co., Ltd.) se usó para la formación de la capa de impresión.
(2-2) Despegue de la película protectora
A continuación, la película protectora se despegó de la capa LR no curada a una velocidad de 5,0 mm/s.
(2-3) Preforma
La película laminada con la capa de impresión se calentó a 190 °C durante 30 segundos, y la preforma se realizó mediante un método de moldeo por presión a vacío.
(2-4) Curado principal
La película laminada preformada se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2. Posteriormente, se realizó el recorte.
(2-5) Moldeo principal
Por último, se realizó el moldeo por inyección, de modo que un miembro laminado que tiene una capa de resina moldeada (policarbonato) en el lado de la capa de impresión del primer sustrato de soporte. En los ejemplos, a menos que se especifique lo contrario, los rayos ultravioleta se utilizan como rayos de energía activa.
[Evaluación]
La película laminada y el miembro laminado se evaluaron como sigue.
(a) Índice de refracción
Las composiciones LR1 a LR3 y la composición HR1 se aplicaron a una película protectora para lograr un espesor seco de 5 pm. Posteriormente, la película de recubrimiento se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para obtener una muestra de evaluación. El índice de refracción de la muestra de evaluación en una línea D de 589 nm se midió usando un refractómetro Abbe DR-M2 fabricado por Atago Co., Ltd. La muestra de evaluación se colocó en la superficie del prisma y se usó 1-bromonaftaleno como solución intermedia.
(b) Tensión superficial de la composición R
La tensión superficial de la composición se calculó a partir de la forma de una gota suspendida usando un método de gota colgante. Como método de análisis, se utilizó un método d/D. Para la medición, se usaron un medidor de ángulo de contacto portátil PCA-1 (Kyowa Interface Science Co., Ltd.) y una aguja de inyección n.° 18 procesada con Teflon (marca registrada).
(c) Tensiones superficiales del segundo sustrato de soporte, capa HC no curada y capa LR no curada
Las tensiones superficiales del segundo sustrato de soporte, la capa HC no curada y la capa LR no curada se midieron mediante el siguiente método.
Se prepararon agua y yoduro de metileno como muestras líquidas. Para cada una de estas muestras líquidas, se midió un ángulo de contacto con respecto a la superficie de evaluación. El ángulo de contacto se midió como sigue. - Aparato de medición: DMo-701 (fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
- Software de análisis de control: FAMAS ver. 5.0.16
- Método de análisis: método 0/2
-Aguja inoxidable: 18G
- Cantidad de líquido: 2 pl
- Tiempo de espera de medición: 1000 ms
- Número de mediciones: 5
Los ángulos de contacto 0 medidos se promediaron y se aplicaron al modelo de Owens Wendt del software anterior para calcular la tensión superficial de la superficie de evaluación.
(d) Espesor
Se cortó una muestra de evaluación de 10 mm x 10 mm de un miembro laminado. Se expuso una sección transversal de la muestra de evaluación con un microtomo (LEICA RM2265). La sección transversal expuesta se observó con un microscopio láser (VK8700, fabricado por KEYENCE Corporation) o un microscopio electrónico de transmisión (JEM2100, fabricado por JEOL Ltd.), y se midió el espesor de en cada caso 10 puntos de la capa HC, la capa LR y el segundo sustrato de soporte. Los valores promedio se tomaron como el espesor de la capa HC y el espesor de la capa LR, respectivamente.
(e) Reflectancia luminosa
El segundo sustrato de soporte se despegó de la película laminada. Después, una pintura negra (nombre del producto: CZ-805 BLACK (fabricado por NIKKO BIOS Co., Ltd.) se aplicó a una superficie del primer sustrato de soporte de la película laminada opuesta a la capa HC no curada con un recubridor de barra de modo que el espesor de la película seca fuera de 3 pm o más y de 6 pm o menos. Posteriormente, la película laminada recubierta con la pintura negra se dejó reposar en un entorno a temperatura ambiente durante 5 horas y se secó para preparar una muestra de evaluación no curada.
Desde el lado de la capa LR de la muestra de evaluación, se midió una reflectancia luminosa mediante el método SCI. Para la medición, se usó SD7000 fabricado por Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., y la región de longitud de onda de medición se ajustó a 380 nm o más y 780 nm o menos.
(f) Relación de estiramiento
Se cortó una pieza de prueba que tenía una longitud de 200 mm x una anchura de 10 mm de una película laminada. La pieza de prueba se colocó en un probador de tracción que tenía una distancia entre mandriles de 150 mm, y el lado largo de la muestra de evaluación se estiró un 50 % en las condiciones de una fuerza de tracción de 5,0 Kgf y una velocidad de tracción de 300 mm/min en una atmósfera de 160 °C. La muestra de evaluación después del estiramiento se observó usando un microscopio con un aumento de 1000 veces o más, y se comprobó la presencia de grietas que tenían un tamaño superior a 100 pm de longitud y 1 pm de anchura.
Cuando no se produjo ninguna grieta, se cortó una nueva muestra de evaluación y, a continuación, el lado largo se estiró un 60 %. Después, se observó la aparición de grietas en el mismo procedimiento. Este procedimiento se repitió mientras se aumentaba la relación de estiramiento en un 10 %. La relación de estiramiento aplicada cuando se confirmó por primera vez una grieta del tamaño anterior se tomó como la relación de estiramiento de la película laminada. La evaluación se realizó tres veces para las muestras de evaluación recortadas de la misma película laminada, y el valor promedio de las relaciones de estiramiento obtenidas en cada tiempo se tomó como la relación de estiramiento de la película laminada.
(g) Dureza
(g-1) Medición de la dureza de la capa HC no curada
De la misma manera que en la formación de la capa de recubrimiento duro no curada (1-1), la composición HC se aplicó al primer sustrato de soporte y, por lo tanto, se obtuvo una muestra de evaluación. Se midió la dureza de la capa HC de esta muestra de evaluación.
La dureza se midió mediante medición de rigidez continua (método utilizado: Advanced Dynamic E y H.NMT) usando iMicro Nanoindenter fabricado por NANOMECHANICS, INC.
Específicamente, se superpuso una carga de CA diminuta sobre una carga de prueba cuasiestática en la superficie de la muestra de evaluación. La carga se aplicó hasta que alcanzó una carga máxima de 50 mN. Como indentador, se usó un indentador de diamante tipo Berkovich (radio de curvatura de la punta: 20 nm). La rigidez continua con respecto a la profundidad se calculó a partir del componente de vibración del desplazamiento resultante y la diferencia de fase entre el desplazamiento y la carga, y se obtuvo el perfil de dureza con respecto a la profundidad. Se calculó la dureza máxima a una profundidad de 50 nm a 100 nm de este perfil.
Se usó el software especializado iMicro para calcular la carga y la rigidez. Al calcular la rigidez, la relación de Poisson de la capa de recubrimiento se ajustó a 0,35. La carga se controló de modo que la velocidad de deformación (dP/dt)/P fuera 0,2. En el análisis con el software especializado iMicro, un punto definido provisionalmente en el software dedicado de iMicro en el momento de la medición (un punto en el que d(Fuerza)/d(Disp) era de aproximadamente 500 N/m) se estableció como la posición superficial de la capa de recubrimiento.
(g-2) Medición de la dureza desde el lado de la capa LR de la película laminada curada La película laminada de la que se había despegado el segundo sustrato de soporte se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2y, por lo tanto, se preparó una muestra de evaluación. La dureza se midió de la misma manera que se ha descrito anteriormente desde el lado de la capa LR de esta muestra de evaluación. (h) Resistencia a la abrasión
La película laminada de la que se había despegado el segundo sustrato de soporte se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2y, por lo tanto, se preparó una muestra de evaluación. La superficie de la capa LR de la muestra de evaluación se frotó 5000 veces con un elemento de fricción al que se fijó una tela de algodón mientras se aplicaba una carga vertical de 4,9 N. Se observó visualmente la superficie de la capa LR del miembro laminado. Posteriormente, se frotó la superficie de la capa LR del miembro laminado hasta que el número de integraciones alcanzó 7000. Se observó visualmente la superficie de la capa LR del miembro laminado. Los criterios de evaluación son los siguientes.
Excelente: No se reconocieron visualmente arañazos incluso después de 7000 frotamientos.
Bueno: No se reconocieron visualmente arañazos después de 5000 frotamientos, pero los arañazos se reconocieron visualmente después de 7000 frotamientos.
Favorable: Después de 5000 frotamientos, se reconocieron visualmente 5 o menos arañazos.
Malo: Después de 5000 frotamientos, se reconocieron visualmente muchos arañazos.
(i) Propiedad de unión entre la capa HC no curada y la capa LR
La película laminada que tiene el primer sustrato de soporte y la capa de recubrimiento duro no curada y la película laminada que tiene el segundo sustrato de soporte y la capa de interferencia óptica no curada se unieron entre sí mientras se presionaban con un rodillo manual de modo que las capas se enfrentaran entre sí, y se evaluó el grado de unión.
Los criterios de evaluación son los siguientes.
Bueno: Las películas están unidas entre sí.
Favorable: Las películas se unen entre sí, pero la adhesión es débil.
Malo: Las películas no están unidas entre sí en absoluto.
(j) Dureza de lápiz
De la misma manera que en la formación de la capa de recubrimiento duro no curada (1-1), la composición HC se aplicó al primer sustrato de soporte y luego se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 y, por lo tanto, se preparó una muestra de evaluación. Se midió la dureza de lápiz de la capa HC de esta muestra de evaluación. La dureza de lápiz se midió de acuerdo con JIS K5600-5-4 (1999), Dureza al rayado (el método del lápiz).
(k) Alabeo del miembro laminado
Se cortó una muestra de evaluación de 200 mm x 200 mm de la película laminada y se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2. Posteriormente, la muestra de evaluación se colocó en un plano horizontal, y la cantidad de elevación (alabeo) de las cuatro esquinas desde el plano horizontal se midió usando una regla y se promedió.
Los criterios de evaluación son los siguientes.
Excelente: La cantidad promedio de alabeo es de 10 mm o menos.
Bueno: La cantidad promedio de alabeo es de 10 mm o más y menos de 15 mm.
Favorable: La cantidad promedio de alabeo es de 15 mm o más y menos de 20 mm.
Malo: La cantidad promedio de alabeo es de 20 mm o más.
(l) Evaluación de la apariencia exterior después del despegue de la película protectora
A partir de la película laminada obtenida anteriormente que tiene el primer sustrato de soporte, la capa HC no curada, la capa LR no curada y el segundo sustrato de soporte en este orden se despegaron del segundo sustrato de soporte a una velocidad de 50,0 mm/s. La capa de interferencia óptica después del despegue se observó visualmente y se evaluó de acuerdo con los siguientes criterios de evaluación.
Bueno: No hay marcas de despegue (rayas, etc.) ni marcas de espuma.
Favorable: Hay marcas de despegue (rayas, etc.), pero no hay marcas de espuma.
Malo: Hay marcas de despegue (rayas, etc.) y marcas de espuma.
(m) Evaluación de la apariencia exterior del miembro laminado
El miembro laminado se observó usando un microscopio con un aumento de 1000 veces o más, y se comprobó la presencia de arañazos que tenían un tamaño superior a 100 pm de longitud y 1 pm de anchura.
Bueno: No hay arañazos.
Malo: Hay arañazos.
(n) Manejabilidad después de la preforma
La película laminada preformada se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para obtener una muestra de evaluación. Se evaluó la manejabilidad al colocar la muestra de evaluación en un molde para moldeo por inyección.
Los criterios de evaluación son los siguientes.
Bueno: La muestra de evaluación tiene rigidez y se puede colocar fácilmente en un molde de moldeo por inyección.
Favorable: La rigidez de la muestra de evaluación es débil y existe cierta dificultad en el manejo, pero se puede colocar en un molde.
Malo: La rigidez de la muestra de evaluación es débil y la muestra de evaluación no se puede colocar en un molde.
(o) Aspecto exterior después de la etapa de impresión
La película laminada después de despegar la película protectora (2-2) y antes de la preforma (2-3) se usó como muestra de evaluación. Se comprobó visualmente la presencia de marcas de rasqueta y marcas de succión debido al proceso de impresión de la muestra de evaluación.
Los criterios de evaluación son los siguientes.
Excelente: No hay marcas de rasqueta ni marcas de succión.
Bueno: Hay ligeras marcas de rasqueta y marcas de succión, pero se nivelan y desaparecen calentando a 90°C o más.
Favorable: Hay ligeras marcas de rasqueta y marcas de succión, pero se nivelan y desaparecen calentando a 150 °C o más.
Malo: Hay marcas de rasqueta y marcas de succión.
(p) Resistencia a productos químicos
De la misma manera que en la formación de la capa de recubrimiento duro no curada (l-1), la composición HC se aplicó al primer sustrato de soporte y luego se irradió con un rayo de energía activa que tenía una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 y, por lo tanto, se preparó una muestra. De la muestra resultante se cortó una muestra de evaluación de 10 cm x 10 cm. A lo largo de una superficie de la capa HC de la muestra de evaluación se aplicaron 2 g de Neutrogena SUNSCREEN SPF 45 (fabricado por Johnson & Johnson) uniformemente con un dedo. Posteriormente, la muestra se calentó a 80 °C durante 4 horas. Después, la muestra se enfrió hasta temperatura ambiente, se lavó con agua y se evaluó visualmente el aspecto de la capa LR.
Los criterios de evaluación son los siguientes.
Excelente: No se observó ninguna anomalía de apariencia.
Bueno: Las marcas aplicadas se reconocen, pero no se reconoce el levantamiento.
Favorable: Se reconoce un ligero levantamiento.
Malo: Se produjo un levantamiento severo.
[Ejemplos 2 a 21]
De la misma manera que en el Ejemplo 1, las películas laminadas y los miembros laminados que tienen las configuraciones mostradas en la Tabla 2A y la Tabla 2B se prepararon usando composiciones preparadas con las formulaciones mostradas en la Tabla 1A, la Tabla 1B y la Tabla 1C. Las películas laminadas y los miembros laminados obtenidos se evaluaron de la misma manera que en el Ejemplo 1. Los resultados se muestran en las Tablas 2A y 2B. En cualquiera de los ejemplos, las superficies de la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada obtenidas estaban libres de pegajosidad.
[Tabla 1A
[Tabla 1B]
[[Ejemplo Comparativo 1]
Se formó una capa de HC no curada sobre el primer sustrato de soporte de la misma manera que en el Ejemplo 1, excepto que se usó la composición HC6. A continuación, la capa de HC se irradió con un rayo de energía activa con una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 y la capa de HC se curó de ese modo. La composición LR5 se aplicó a la capa de HC curada. Posteriormente, la composición LR5 se secó para formar una capa LR que tenía un espesor seco de 95 nm. Por último, la capa LR se irradió con un rayo de energía activa con una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para obtener una película laminada de tipo precurado. Usando la película laminada resultante, se preparó y evaluó un miembro laminado de la misma manera que en el Ejemplo 1. Los resultados se muestran en la Tabla 3.
[Ejemplo Comparativo 2]
Se formó una capa HC no curada sobre el primer sustrato de soporte de la misma manera que en el Ejemplo 1, y luego se secó. A continuación, se aplicó a la capa HC no curada la composición LR1. Posteriormente, la composición LR1 se secó para formar una capa LR que tenía un espesor seco diseñado de 95 nm. Por último, la capa LR se irradió con un rayo de energía activa con una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 para obtener una película laminada. Usando la película laminada resultante, se preparó y evaluó un miembro laminado de la misma manera que en el Ejemplo 1. Los resultados se muestran en la Tabla 3.
[Ejemplo Comparativo 3]
Se formó una capa HC no curada sobre el primer sustrato de soporte de la misma manera que en el Ejemplo 1, y luego se secó. La composición LR1 se aplicó a la capa HC no curada y luego se secó. Se preparó y evaluó un miembro laminado de la misma manera que en el Ejemplo 1, excepto que se obtuvo así una película laminada. Los resultados se muestran en la Tabla 3A. No se pudo medir el espesor de la capa LR no curada.
[Ejemplo Comparativo 4 a Ejemplo Comparativo 5]
De la misma manera que en el Ejemplo 1, se prepararon películas laminadas y miembros laminados que tenían las configuraciones mostradas en la Tabla 3 usando composiciones preparadas con las formulaciones mostradas en la Tabla 1A, la Tabla 1B y la Tabla 1C. Las películas laminadas y los miembros laminados obtenidos se evaluaron de la misma manera que en el Ejemplo 1. Los resultados se muestran en la Tabla 3.
[Tabla 3
continuación
Como puede verse en las Tablas 2A y 2B, la película laminada de acuerdo con la presente realización se puede moldear incluso en una forma complicada, y suprime la aparición de productos defectuosos durante el moldeo. Adicionalmente, el miembro laminado de acuerdo con la presente realización tiene un rendimiento de recubrimiento duro superior, por ejemplo, alta dureza, resistencia a la abrasión, resistencia a productos químicos, etc., y la reflectividad deseada. Asimismo, la película laminada de acuerdo con la presente realización tiene una buena adhesión entre la capa de recubrimiento duro no curada y la capa de interferencia óptica no curada, y puede suprimir el atrapamiento de aire.
La película laminada del ejemplo comparativo 1 es de tipo precurado. De este modo, cada capa está constituida por una composición para permitir el moldeo tridimensional después del curado. Por lo tanto, la densidad de reticulación de la composición después del curado es baja y la resistencia a la abrasión y la resistencia a productos químicos son malas.
En el Ejemplo Comparativo 2, la composición LR1 se aplicó directamente a la capa HC no curada. Por este motivo, se produjo una fase mixta entre las capas, de modo que no se obtuvo la reflectividad deseada. También en los Ejemplos Comparativos 3 y 4, no se obtuvo la reflectividad deseada. Dado que el ejemplo comparativo 5 tiene un primer sustrato de soporte delgado, es inferior en manejabilidad.
Aplicabilidad industrial
De acuerdo con la presente invención, es posible proporcionar una película laminada que se pueda moldear en una forma complicada. Por lo tanto, esta película laminada se usa preferentemente en particular para fabricar un material protector para una pantalla.
Esta solicitud reivindica prioridad basándose en la solicitud de patente japonesa n.° 2019-138314, que se presentó en Japón el 26 de julio de 2019.
Lista de signos de referencia
10: Primer sustrato de soporte
20: Capa de recubrimiento duro no curada
30: Capa de interferencia óptica no curada
40: Segundo sustrato de soporte
50: Rodillo

Claims (8)

REIVINDICACIONES
1. Un método para fabricar una película laminada que comprende:
una etapa de formación de una capa de recubrimiento duro no curada aplicando una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de recubrimiento duro en un lado de un primer sustrato de soporte que tiene un espesor de 50 pm o más y 600 pm o menos, y entonces secando la composición;
una etapa de formación de una capa de interferencia óptica no curada aplicando una composición curable por rayos de energía activa para formar una capa de interferencia óptica en una superficie de un segundo sustrato de soporte de modo que el espesor de la capa de interferencia óptica no curada está entre 15 nm o más y 200 nm o menos, y entonces secando la composición; y
una etapa de laminación de una superficie de la capa de recubrimiento duro no curada opuesta al primer sustrato de soporte y una superficie de la capa de interferencia óptica no curada opuesta al segundo sustrato de soporte para obtener una película laminada, en donde
una relación de estiramiento de la película laminada a 160 °C es del 50 % o más, caracterizado por que una tensión superficial y2 de la una superficie del segundo sustrato de soporte, una tensión superficial yLi de la capa de interferencia óptica no curada, y una tensión superficial<y>H<i>de la capa de recubrimiento duro no curada satisfacen las relaciones de las siguientes fórmulas 1 y 2:
(Fórmula 1)<y>2 á YL1
(Fórmula 2) |<y>2 -<y>L-<i>| > |<y>H - YL1 |.
2. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con la reivindicación 1, en donde
una reflectancia luminosa que incluye la luz reflejada regular medida desde un lado de la capa de interferencia óptica no curada de la película laminada es del 0,1 % o más y del 4,0 % o menos o del 6,0 % o más y del 10,0 % o menos.
3. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en donde una dureza HHb de la capa de recubrimiento duro no curada medida mediante un método de nanoindentación es de 0,1 GPa o más y de 0,4 GPa o menos.
4. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde
una tensión superficial<y>2 de la una superficie del segundo sustrato de soporte es de 28 mN/m o más y de 45 mN/m o menos.
5. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en donde
una tensión superficial YH1 de la capa de recubrimiento duro no curada es de 40 mN/m o más.
6. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en donde
una dureza HLa medida por un método de nanoindentación desde el lado de la capa de interferencia óptica de la película laminada irradiada con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 500 mJ/cm2 es superior a 0,5 GPa y 1,2 GPa o menos.
7. El método para fabricar una película laminada de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en donde
en la etapa de formación de la capa de recubrimiento duro no curada, la composición para formar una capa de recubrimiento duro se aplica de manera que un espesor de la capa de recubrimiento duro no curada sea de 2 pm o más y de 30 pm o menos.
8. Un método para fabricar un miembro laminado que comprende:
una etapa de preparación de la película laminada de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7; y una etapa de irradiación de la película laminada con un rayo de energía activa que tiene una cantidad de luz integral de 100 m/cm2 o más.
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