FR2500012A1 - Bain de revetement electrolytique d'or et procede de depot - Google Patents
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- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 35
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 5
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 25
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims abstract description 11
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N Formic acid Chemical compound OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N gold(1+);cyanide Chemical compound [Au+].N#[C-] IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L dipotassium;oxalate Chemical group [K+].[K+].[O-]C(=O)C([O-])=O IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 3
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical group [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 2
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical group [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 241000208202 Linaceae Species 0.000 claims 1
- 235000004431 Linum usitatissimum Nutrition 0.000 claims 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010930 yellow gold Substances 0.000 description 8
- 229910001097 yellow gold Inorganic materials 0.000 description 8
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 7
- 244000248349 Citrus limon Species 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical class [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 241000238876 Acari Species 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- YCAGGFXSFQFVQL-UHFFFAOYSA-N Endothion Chemical compound COC1=COC(CSP(=O)(OC)OC)=CC1=O YCAGGFXSFQFVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000212342 Sium Species 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M potassium;sulfamate Chemical compound [K+].NS([O-])(=O)=O BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/48—Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
L'INVENTION CONCERNE DES ELECTROLYTES POUR LE REVETEMENT ELECTROLYTIQUE D'OR SUR DES SUBSTRATS CONTENANT DES CYANURES D'OR ET D'AMMONIUM OU DE METAL ALCALIN, UN AGENT DE CONDUCTION, EN OPTION UN TAMPON ET AU MOINS 30GRAMMES PAR LITRE D'UN AGENT D'AFFINAGE DE GRAIN CHOISI DANS LE GROUPE CONSTITUE DE L'ACIDE OXALIQUE, L'ACIDE FORMIQUE ET LES SELS D'AMMONIUM OU DE METAL ALCALIN DE CEUX-CI. LES BAINS DE REVETEMENT ELECTROLYTIQUE DE L'INVENTION FONCTIONNENT A UN PH COMPRIS ENTRE 5 ET 7,5, UNE TEMPERATURE SITUEE ENTRE 50 ET 80C, ET UNE DENSITE DE COURANT COMPRISE ENTRE 0,1 ET 2ADM. LE PROCEDE D'UTILISATION DES BAINS DE REVETEMENT ELECTROLYTIQUE D'OR DE L'INVENTION EST EGALEMENT DECRIT.
Description
1. La présente invention concerne des compositions et des procédés
de revêtement électrolytique d'or de couleur jaune citron sur des subs-
trats à partir de bains ayant un pH compris entre environ 5 et 7,5 o la source d'or est constituée de cyanures de métaux alcalins ou d'or et d'ammonium.
On a proposé ces dernières années de nombreux bains électroly-
tiques pour le revêtement électrolytique d'or sur des substrats.Des brevets concernant ce problème sont, par exemple,les brevets suivants: Brevets des Etats-Unis d'Amérique: n 2.905.601 - Rinker et autres n 3. 104.212 - Rinker et autres n 3.156.634 - Duva et autres n 3.156.635 Foulke n 3.367.853 - Schumpelt n 3.373.094 - Foulke n 3.423.295 Greenspan n 3.776.821 - Baker n 3.776.822 - Baker n 3.833.487 Reinheimer n 3.878.066 - Dettke Brevet anglais: n 1.065.308 - Nobel et autres Il apparaît dans ces brevets qu'il faut faire appel, dans le but d'obtenir les dépôts souhaités d'or par revêtement électrolytique,
à des procédés et des additifs spéciaux lorsque les électrolytes fonc-
2 5000 12
2. tionnent à un pH compris entre environ 5 et 7,5 au lieu d'un pH compris dans la gamme plus basse ayant pour limites environ 3 à 5.Ainsi, par exemple, pour des pH plus élevés, il a été courant d'utiliser des agents d'affinage de grain tels que les hydrazine, arsenic, thallium et analogue. Lorsqu'on utilise de tels bains d'électrolyte sans agents d'affinage de grain, les dépôts ont tendance à avoir un aspect brunâtre, et les électrolytes ne fonctionnent que dans une plage de densité très limitée. Malheureusement, les agents d'affinage de grain classiques
utilisés dans l'art antérieur se sont révélés dans certains cas cancé-
rigènes et/ou néfastes pour l'intégrité de l'or, c'est-à-dire qu'ils
dégradent la plaque d'or à cause de leur occlusion dans les dépôts.
La possibilité d'utiliser des gains de revêtement d'or à un pH compris entre environ 5 et 7,5, c'est-à-dire à un pH sensiblement neutre, est intéressante à plusieurs points de vue. Avec un fonctionnement dans une telle gamme et non dans des gammes supérieures ou inférieures,
la quantité d'or dissous en provenance des parties revêtues est sensi-
blement réduite. De plus, il y a une réduction-de la quantité des conta-
minants du métal dans le bain de galvanoplastie et toute codéposition
de tels contaminants pouvant être présents se trouve minimisée.
Selon la présente invention, on a trouvé que l'utilisation
d'agents spéciaux d'affinages de grain, et plus particulièrement lors-
que ceux-ci se trouvent au moins dans certaines quantités prescrites,dans
des bains de revêtement électrolytique d'or formulés de façon à fonc-
tionner avec un pH compris entre environ 5,0 et 7,5, permettent d'obte-
nir des dépôts d'or jaune citron sans que les problèmes cités précédem-
ment soient posés. Plus particulièrement, les problèmes inhérents à l'utilisation d'agents d'affinage de grain classiques sont évités dans la présente invention grâce à l'utilisation d'acide formique, d'acide oxalique, ainsi que des sels des métaux alcalins ou d'ammonium de ces acides, dans une concentration d'au moins 30 grammes par litre, calculée
en acide. Les bains de revêtement électrolytique de la présente inven-
tion fonctionnent généralement à des densités de courant comprises entre environ 0,1 et 2 A/dm
Les bains de revêtement électrolytique d'or de la présente in-
vention fonctionnent entre des conditions légèrement acides et des con-
ditions sensiblement neutres, c'est-à-dire avec un pH compris entre en-
viron 5 et 7,5, et utilisent un cyanure de métal alcalin ou d'or et
2 5 00 0 1 2
3. d'ammonium comme source d'or. La teneur en or de l'électrolyte sera au moins suffisante pour permettre le dépôt d'or sur le substrat lorsque le bain est électrolysé et peut atteindre la solubilité maximum de l'or dans le bain. Cependant, en général, l'utilisation dee solutions d'or très diluées ou très concentrées ne présente aucun avahtage particulier et peut, dans certains cas, entraîner une augmentation du coût global du procédé. Par conséquent, il est normalement souhaitable que le contenu en or métal de l'électrolyte soit compris entre environ 2 et 10 grammes
par litre, et de préférence entre environ 4 et 8 grammes par litre.
L'utilisation de cyanures de potassiumet d'or et d'amrnium est particu-
lièrement recommandée, mais on comprendra que ni la quantité d'or métal
ni le complexe de cyan.re d'or particulier employé ne sont critiques.
Le bain de revêtement électrolytique contiendra également un
agent de conduction classique tel que les sels de métal alcalin ou d'am-
monium des citrates, phosphates, sulfamates, acétates ou analogues.En général, les agents de conduction recommandés dans la présente invention
comprennent du phosphate de potassium diacide, du phosphate de tripotas-
sium et du citrate d'ammonium. La quantité d'agent de conduction utilisée sera au moins celle qui conférera une conductibilité suffisante au bain
pour effectuer le dépôt électrolytique d'or, jusqu'à la solubilité ma-
ximum de l'agent dans le bain. Typiquement, l'agent de conduction sera présent suivant une quantité comprise entre environ 2,5 et 200 grammes
par litre et de préférence entre environ 5 et 50 grammes par litre.
Dans de nombreux cas, il est nécessaire de procéder au réglage du pH de façon à obtenir la valeur désirée dans le bain, laquelle est
comprise entre environ 5 et 7,5. Des composés tels que l'acide phospho-
rique, l'hydroxyde de potassium, l'acide sulfamique, l'ammoniaque,leurs mélanges et analogues peuvent être utilisés pour le réglage du pH à une
valeur comprise entre 5 et 7,5, de préférence à une valeur comprise en-
tre 6,5 et 7,5. Les hydroxydes de métaux alcalins, autres que l'hydroxyde
de potassium peuvent être également utilisés à cette fin.
Comme le comprendra l'homme de l'art, un agent tampon peut
être aussi utilisé dans la formulation des bains de revêtement électroly-
tique d'or de la présente invention. Les mêmes matériaux qu'indiqués ci-
dessus comme sels de conduction peuvent être également utilisés comme agents tampons. La quantité du ou des agents tampons utilisée sera au
moins suffisante pour donner l'effet tampon désiré au bain de revête-
2 5 0O 0 2 i-
4. ment électrolytique jusqu'à la solubilité maximum de l'agent dans le bain. Il est souhaitable que la quantité d'agent tampon soit comprise entre environ 2,5 et 200 grammes par litre, et elle sera de préférence
comprise entre environ 5 et 50 grammes par litre. On notera naturel-
lement que le même matériau peut être utilisé pour conférer à la fois la conductibilité et l'effet tampon désirés. En variante, différents
matériaux peuvent être utilisés pour assumer chacune de ces fonctions.
Dans chaque cas, la quantité employée correspondra à la quantité per-
mettant de fournir l'effet de tampon et/ou la conductibilité nécessaires.
Selon la discussion précédente, on comprendra que la caractéris-
tique essentielle de la présente invention est le choix de l'agent d'af-
finage de grain. Ainsi, les inconvénients liés à l'utilisation des agents
employés antérieurement sont éliminés par l'utilisation d'agents d'af-
finage de grains spécifiques, c'est-à-dire d'acide oxalique, d'acide for-
mique, et des sels de métaux alcalins ou d'ammonium de ces acides car-
boxyliques particuliers. Les agents plus particulièrement recommandés sont l'acide oxalique ainsi que ses sels de potassium et d'ammonium.En général, la quantité d'agents d'affinage de grain sera d'au moins
grammes par litre, étant donné que des quantités plus faibles ne per-
mettront pas d'obtenir les résultats souhaités. Bien que des quantités
allant jusqu'à la solubilité maximum dans le bain puissent être utili-
sées, la quantité d'agent d'affinage de grain sera dans la plupart des cas comprise entre environ 30 et 200 grammes par litre, calculée en acide. Les quantités recommandées sont comprises entre environ 35 et 80
grammes par litre.
On comprendra, d'autre part, que le processus de revêtement électrolytique de la présente invention sera généralement appliqué avec des densités de courant comprises entre environ 0,1 et 2 A/dm et à des températures comprises entre environ 500 et 900C, de préférence entre 60 et 700C. Bien que des températures de bain supérieures à 900C,par exemple atteignant le point d'ébullition du bain, puissent être employées,
il se produit souvent une évaporation excessive du bain à des températu-
res aussi élevées, de sorte que l'utilisation de ces hautes températures n'est généralement pas recommandée. Ces conditions, plus la gamme du pH comprise entre 5 et 7,5, constituent les paramètres de fonctionnement
des bains de revêtement électrolytique d'or de la présente invention.
25000 12
Une autre caractéristique de la présente invention est l'uti-
lisation d'agents de brillantage spécifiques (brillanteurs) qui permet-
tront d'obtenir facilement des dépôts d'or jaune citron, tout en évitant les difficultés ou les limitations indiquées précédemment qui sont liées à l'utilisation des agents de brillantage classiques utilisés jusqu'ici
dans les bains de dépôt électrolytique.
Bien que les bains de dépôt électrolytique d'or de la présente invention puissent servir effectivement au dépôt d'or sur divers substrats, leur utilisation pour le revêtement électrolytique de circuits intégrés s'est révélé être de la première importance. A cet égard, les circuits
intégrés exigent que le dépôt d'or soit d'une pureté très élevée et con-
tienne une quantité minimum d'impuretés d'éléments métalliques codépo-
sés. Les bains de dépôt électrolytique d'or de la présente invention sont uniques dans leur aptitude à satisfaire cette condition, sans soulever les difficultés et les problèmes liés aux bains de dépôt électrolytique d'or
de l'art antérieur.
La présente invention sera davantage comprise en se référant aux modes de réalisation suivants donnés à titre d'illustration:
EXEMPLE 1
G/L
Or sous forme de cyanure d'or et de potassium 6 Phosphate diacide de potassium 100 Acide oxalique 60 Le pH du bain est ajusté à 7,0 avec de l'acide phosphorique ou de l'hydrate de potassium. Un dépôt d'or jaune citron, au grain affiné,
est obtenu sur un substrat revêtu de nickel. Le bain est utilisé à une tem-
pérature de 651C et à une densité de courant atteignant 1 A/dm
EXEMPLE 2
Le bain de l'exemple 1 est utilisé, sauf toutefois que l'acide oxalique n'est pas employé. En utilisant ce bain à des densités de courant atteignant 0,3 A/dm, on obtient un dépôt d'or jaune, mais à une densité
de courant d'environ 0,3 A/dm le dépôt a une couleur brun indésirable.
EXEMPLE 3
Un autre bain est préparé qui a la composition suivante
G/L
Or sous forme de cyanure d'or et de potassium 8 Sulfamate de potassium 42
25000 1 2
6. Phosphate tripotassique 16 Acide oxalique, ajouté sous forme d'oxalate de potassium 120 Le bain est réglé avec de l'acide sulfamique jusqu'à un pH de 6. A une température de fonctionnement de 60 C, on obtient un dépôt d'or jaune citron au grain affiné, jusqu'à une densité de courant de 1 A/dm; sans l'oxalate de potassium le dépôt a une couleur brune
indésirable pour une densité de courant de 0,6 A/dm ou plus.
EXEMPLE 4
io0 Le bain de revêtement électrolytique d'or a la composition suivante: G/L Or sous forme de cyanure d'or et d'ammonium 4 Citrate d'ammonium 100 Acide oxalique ajouté sous forme d'oxalate d'ammonium 80 Ammoniaque jusqu'à un pH de 7,5
A une température de fonctionnement du bain de 65 C, on ob-
tient des dépôts d'or jaune citron, au grain affiné, jusqu'à une den-
sité de courant de 1 A/dm.
EXEMPLE 5
On utilise un autre bain dont la composition est la suivante: G/L Or sous forme de cyanure d'or et de potassium 8 Phosphate diacide de potassium 25 Acide formique ajouté sous forme de formiate de potassium 60
Le pH est ajusté à 7,5 avec de l'acide orthophosphorique.
On obtient des dépôts d'or jaune citron avec ce bain de revêtement
électrolytique dans les conditions décrites ci-dessus.
La présente invention n'est pas limitée aux exemples de réali-
sation qui viennent d'être décrits, elle est au contraire susceptible de
modifications et de variantes qui apparaîtront à l'homme de l'art.
7. 2 5 2500012
7.
Claims (5)
1 - Bain de revêtement électrolytique en or métallique,ca-
ractérisé en ce qu'il comprend un cyanure de métal alcalin ou d'or et
d'ammonium dans une quantité au moins suffisante pour permettre le dé-
pSt d'or sur un substrat lorsque le bain est soumis à une électrolyse,
un agent de conduction dans une quantité au moins suffisante pour as-
surer la conductibilité du bain, et un agent d'affinage de grain sélec-
tionné dans le groupe constitué de l'acide oxalique, de l'acide formi-
que, et des sels de métaux alcalins ou d'ammonium de ces acides, dans une quantité d'au moins environ 30 grammes par litre en acide, bain
qui a un pH compris entre environ 5 et 7,5.
2 - Bain selon la revendication 1, caractérisé en ce que
l'agent de conduction est un sel de citrate d'ammonium ou de métal alca-
lin, de phosphate, de sulfamate et d'acétate.
3 - Bain selon la revendication 1, caractérisé en ce que le
pH est compris entre environ 6,5 et 7,0.
4 - Bain selon la revendication 1, caractérisé en ce que
agent d!affinage de grain est l'acide oxalique.
- Bain selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'agent d'affinage de grain est un sel de métal alcalin de l'acide oxalique. 6 - Bain selon la revendication 5, caractérisé en ce que le
sel de métal alcalin est 1'oxalate de potassium.
7 - Bain selon la revendication 1, caractérisé en ce que
l'agent d'affinage de grain est l'oxalate d'ammonium.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US23532981A | 1981-02-17 | 1981-02-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2500012A1 true FR2500012A1 (fr) | 1982-08-20 |
| FR2500012B1 FR2500012B1 (fr) | 1985-12-27 |
Family
ID=22885037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8202499A Expired FR2500012B1 (fr) | 1981-02-17 | 1982-02-16 | Bain de revetement electrolytique d'or et procede de depot |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57152484A (fr) |
| BE (1) | BE892161A (fr) |
| CA (1) | CA1180674A (fr) |
| DE (1) | DE3203000A1 (fr) |
| FR (1) | FR2500012B1 (fr) |
| GB (1) | GB2093069B (fr) |
| HK (1) | HK67586A (fr) |
| IT (1) | IT8247798A0 (fr) |
| NL (1) | NL8200347A (fr) |
| SE (1) | SE8200927L (fr) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987005339A1 (fr) * | 1986-03-05 | 1987-09-11 | Vanguard Research Associates, Inc. | Solution d'electrolyte et procede de dorure electrolytique a haute vitesse |
| ES2166660B1 (es) * | 1999-05-06 | 2003-02-16 | Torres Josep Ferre | Procedimiento y equipo para la electrodeposicion de oro o aleaciones de oro. |
| JP5559455B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2014-07-23 | 日本高純度化学株式会社 | 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3776821A (en) * | 1972-05-12 | 1973-12-04 | Engelhard Min & Chem | Gold plating electrolyte |
-
1982
- 1982-01-14 CA CA000394126A patent/CA1180674A/fr not_active Expired
- 1982-01-29 DE DE19823203000 patent/DE3203000A1/de not_active Ceased
- 1982-01-29 NL NL8200347A patent/NL8200347A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-02-15 IT IT8247798A patent/IT8247798A0/it unknown
- 1982-02-16 SE SE8200927A patent/SE8200927L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-02-16 BE BE0/207332A patent/BE892161A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-02-16 FR FR8202499A patent/FR2500012B1/fr not_active Expired
- 1982-02-17 JP JP57024259A patent/JPS57152484A/ja active Granted
- 1982-02-17 GB GB8204707A patent/GB2093069B/en not_active Expired
-
1986
- 1986-09-11 HK HK675/86A patent/HK67586A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6123878B2 (fr) | 1986-06-07 |
| SE8200927L (sv) | 1982-08-18 |
| IT8247798A0 (it) | 1982-02-15 |
| NL8200347A (nl) | 1982-09-16 |
| BE892161A (fr) | 1982-08-16 |
| GB2093069B (en) | 1984-01-11 |
| DE3203000A1 (de) | 1982-08-19 |
| HK67586A (en) | 1986-09-18 |
| CA1180674A (fr) | 1985-01-08 |
| GB2093069A (en) | 1982-08-25 |
| JPS57152484A (en) | 1982-09-20 |
| FR2500012B1 (fr) | 1985-12-27 |
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|---|---|---|---|
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| TP | Transmission of property | ||
| ST | Notification of lapse |