HK50295A - Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles - Google Patents
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Claims (24)
1. Procédé pour produire des granules de silice fondue, comprenant les étapes de :
(a) préparation d'une solution qui contient au moins un composé organique contenant du silicium ayant la formule Si(OR)4 ou SiR(OR)3, où R est un groupe alkyle ;
(b) polymérisation du silicium dans la solution pour former un gel de Si02 ;
(c) séchage du gel à une vitesse qui provoque la fragmentation du gel en granules ayant une taille moyenne des particules inférieure à environ 1 mm ; et de
(d) frittage des granules à une température inférieure à environ 1150 ° C, la densité des granules après frittage étant approximativement égale à leur densité théorique maximale.
2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel la solution de l'étape (a) contient de l'orthosilicate de tétraéthyle ayant la formule Si(OC2H5)4.
3. Procédé selon la revendication 1, dans lequel les granules en verre sont dopés par l'inclusion, dans la solution de l'étape (a), d'au moins un élément choisi dans le groupe constitué de l'aluminium, l'antimoine, le baryum, le béryllium, le bismuth, le bore, le brome, le cadmium, le calcium, le cérium, le chlore, le chrome, le cobalt, le cuivre, l'europium, le fluor, le germanium, le fer, le lanthane, le plomb, le lithium, le magnésium, le néodyme, le nickel, l'oxygène, le phosphore, le potassium, le samarium, l'argent, le sodium, le strontium, le tantale, l'étain, le titane, l'uranium, le vanadium, l'yttrium, le zinc et le zirconium.
4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel (i) l'élément est le titane et (ii) le titane est introduit dans la solution sous la forme d'un ester du titane ayant la formule Ti(OR)4, où R est un groupe alkyle.
5. Procédé selon la revendication 4, dans lequel l'ester de titane est choisi dans le groupe constitué du titanate de tétraéthyle ayant la formule Ti(OC2H5)4 et du titanate de tétraisopropyle ayant la formule Ti-(OCH(CH3)2)4.
6. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le séchage de l'étape (c) est effectué dans un séchoir rotatif à une température supérieure à environ 100 ° C.
7. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le gel et/ou les granules sont traités avec de l'oxygène durant au moins une partie de l'étape (c) pour éliminer les matériaux organiques.
8. Procédé selon la revendication 7, dans lequel le débit du traitement à l'oxygène est règlé de façon à prévenir une carbonisation substantielle du gel et/ou des granules.
9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel le débit du traitement à l'oxygène est règlé de sorte que la température du gel et/ou des granules ne monte pas au-dessus d'environ 340 ° C.
10. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'aire superficielle par masse unitaire des granules avant l'étape de frittage (d) est supérieure à environ 150 m2 par gramme et l'aire superficielle par masse unitaire des granules après frittage est inférieure à environ 0,5 m2 par gramme.
11. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, incluant l'étape supplémentaire, après l'étape (d), de broyage de granules pour réduire leur taille moyenne de particules.
12. Procédé selon la revendication 11, dans lequel les granules sont broyés jusqu'à ce que leur taille moyenne de particules soit entre environ 5 um et environ 15 µm.
13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, comprenant en outre les étapes de :
(e) formation d'un corps vert à partir des granules frittés ;
(f) séchage et frittage partiel du corps vert dans une chambre (i) en portant la température de la chambre à plus d'environ 1 000 ° C, et (ii) en introduisant du gaz chlore dans la chambre et/ou en faisant le vide dans la chambre et/ou en purgeant la chambre avec un gaz inerte ; et de
(g) frittage total du corps vert dans une chambre en portant la température de la chambre à une température supérieure à environ 1720 ° C tout en purgeant la chambre avec de l'hélium ou en appliquant un vide à la chambre.
14. Procédé selon la revendication 13, incluant l'étape supplémentaire, après l'étape (g), de pressage isostatique à chaud du corps vert totalement fritté dans une chambre en portant la température de la chambre à plus d'environ 1150 ° C et en introduisant un gaz inerte dans la chambre à une pression supérieure à environ 689,5 kPa.
15. Procédé selon la revendication 14, dans lequel le corps vert totalement fritté est enveloppé dans de la laine de verre avant l'étape de pressage isostatique à chaud.
16. Procédé selon les revendications 3 et 13, dans lequel l'élément est le titane et l'article en verre a un coefficient de dilatation inférieur à 0,5 x 10-7 cm/cm/ ° C.
17. Procédé selon la revendication 13, dans lequel les granules frittés de l'étape (d) sont broyés dans de l'eau pour former une suspension et dans lequel le corps vert est formé en coulant en barbotine la suspension.
18. Procédé selon la revendication 17, dans lequel la densité de la suspension est supérieure à environ 1,70 g par cm3.
19. Procédé selon la revendication 13, dans lequel les granules sont maintenus ensemble dans le corps vert au moyen d'un liant organosilicié.
20. Procédé selon la revendication 13, dans lequel de l'oxygène est introduit dans la chambre durant au moins une partie de l'étape (f) pour réduire le taux de matériau organique associé avec le corps vert.
21. Procédé selon la revendication 13 ou 14, dans lequel l'article en verre est une fibre optique de guide d'ondes et dans lequel :
(i) la solution de l'étape (a) contient de l'orthosilicate de tétraéthyle ayant la formule Si(OC2H5)4 ;
(ii) les granules frittés de l'étape (d) sont broyés dans de l'eau pour former une suspension, lesdits granules broyés ayant une taille moyenne des particules entre environ 5 um et environ 15 µm ;
(iii) le corps vert est formé en coulant en barbotine la suspension autour d'une tige qui contient une partie centrale et une partie extérieure, la partie centrale incluant au moins une région qui a un indice de réfraction qui est supérieur à celui de la partie extérieure,
(iv) du chlore est introduit dans la chambre durant l'étape (f) ; et
(v) le corps vert totalement fritté produit par l'étape (g) est étiré en une fibre optique de guide d'ondes.
22. Granules de silice fondue produits selon l'une quelconque des revendications 1 à 21, préparés à partir d'au moins un composé organique contenant du silicium ayant la formule Si(OR)4 ou SiR(OR)3, où R est un groupe alkyle, lesdits granules ayant une taille moyenne des particules inférieure à environ 1 mm, une teneur en carbone inférieure à environ 0,05 % en poids, une teneur en uranium inférieure à environ 0,1 partie par milliard, et une teneur en thorium inférieure à environ 0,5 partie par milliard.
23. Granules de silice fusionnés selon la revendication 22, dans lesquels le composé organique contenant du silicium est de l'orthosilicate de tétraéthyle ayant la formule Si(OC2H5)4.
24. Granules de silice fondue selon la revendication 22 ou 23, où les granules incluent un dopant choisi dans le groupe constitué de l'aluminium, l'antimoine, le baryum, le béryllium, le bismuth, le bore, le brome, le cadmium, le calcium, le cérium, le chlore, le chrome, le cobalt, le cuivre, l'europium, le fluor, le germanium, le fer, le lanthane, le plomb, le lithium, le magnésium, le néodyme, le nickel, l'oxygène, le phosphore, le potassium, le samarium, l'argent, le sodium, le strontium, le tantale, l'étain, le titane, l'uranium, le vanadium, l'yttrium, le zinc et le zirconium.
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| HK50295A true HK50295A (en) | 1995-04-13 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HK50295A HK50295A (en) | 1987-05-20 | 1995-04-06 | Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles |
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Families Citing this family (59)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8715679D0 (en) * | 1987-07-03 | 1987-08-12 | Shaw R D | Ethyl silicate bonding |
| DE3722597A1 (de) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung hochporoeser glaskeramikformteile |
| JPH02124739A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 合成石英ガラスおよびその製造方法 |
| US5141786A (en) * | 1989-02-28 | 1992-08-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic silica glass articles and a method for manufacturing them |
| US5316695A (en) * | 1989-08-10 | 1994-05-31 | Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. | Use of polymeric catalyst in synthesis of sol-gel derived ceramic materials |
| AU637646B2 (en) * | 1989-12-20 | 1993-06-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing rare earth element-doped glass by sol-gel process |
| EP0441622B1 (fr) * | 1990-02-07 | 1994-11-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Compositions de résines époxydes comprenant des billes de verre de silica-titania à grande transparence. |
| US5108477A (en) * | 1990-05-21 | 1992-04-28 | Corning Incorporated | Method for making a glass article |
| US5254148A (en) * | 1990-06-20 | 1993-10-19 | Olympus Optical Company Limited | Method of manufacturing distributed index optical elements |
| CA2049898C (fr) * | 1990-08-27 | 1996-06-25 | Tsuguo Satoh | Methode de production d'un materiau a base de verre siliceux |
| US5078768A (en) * | 1990-12-21 | 1992-01-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Hot isostatic pressing of fluoride glass materials |
| EP0535388A1 (fr) * | 1991-09-03 | 1993-04-07 | Konica Corporation | Préforme et élément optique en verre et procédés de leur fabrication |
| US5236651A (en) * | 1991-12-02 | 1993-08-17 | Akzo N.V. | Extrusion, collection, and drying of ceramic precursor gel to form dried gel particles |
| JP3175247B2 (ja) † | 1991-12-16 | 2001-06-11 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質母材の加熱透明化方法 |
| IT1256359B (it) * | 1992-09-01 | 1995-12-01 | Enichem Spa | Procedimento per la preparazione di componenti e dispositivi ottici indimensioni finali o quasi finali, e prodotti cosi' ottenuti |
| US5647279A (en) * | 1992-09-05 | 1997-07-15 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Printing machine roller and method of production thereof |
| JP2917729B2 (ja) * | 1993-03-03 | 1999-07-12 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP3578357B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2004-10-20 | 信越石英株式会社 | 耐熱性合成石英ガラスの製造方法 |
| US5547482A (en) * | 1994-07-05 | 1996-08-20 | Chalk; Julie B. | Method of making fused silica articles |
| US5800860A (en) * | 1995-06-28 | 1998-09-01 | Lucent Technologies Inc. | Method of manufacturing planar optical waveguides |
| ATE201665T1 (de) * | 1995-09-19 | 2001-06-15 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Dünne sio 2-folien, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| EP0914301A4 (fr) * | 1996-07-26 | 2000-03-22 | Corning Inc | Silice fondue possedant une resistance accrue aux dommages par voie optique |
| US6309991B1 (en) | 1996-08-29 | 2001-10-30 | Corning Incorporated | Silica with low compaction under high energy irradiation |
| EP0958255B1 (fr) | 1996-08-29 | 2006-08-23 | Corning Incorporated | Silice a faible compaction sous rayonnement a grande energie |
| US6242136B1 (en) | 1999-02-12 | 2001-06-05 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6783898B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making |
| US6682859B2 (en) * | 1999-02-12 | 2004-01-27 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6319634B1 (en) * | 1999-03-12 | 2001-11-20 | Corning Incorporated | Projection lithography photomasks and methods of making |
| US6265115B1 (en) | 1999-03-15 | 2001-07-24 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making |
| US6782716B2 (en) * | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| DE19936478A1 (de) * | 1999-08-03 | 2001-02-15 | Degussa | Sinterwerkstoffe |
| CA2314957A1 (fr) * | 1999-08-06 | 2001-02-06 | Shigeru Kawaguchi | Methode de fabrication de dispositifs a guides d'ondes optiques planaires |
| US6732549B1 (en) * | 2000-08-01 | 2004-05-11 | Lucent Technologies Inc. | Multi-pass sintering of a sol-gel body through a hot zone |
| US6915665B2 (en) * | 2000-10-31 | 2005-07-12 | Corning Incorporated | Method of inducing transmission in optical lithography preforms |
| US20030039865A1 (en) * | 2001-06-20 | 2003-02-27 | Isonics Corporation | Isotopically engineered optical materials |
| US7069746B2 (en) | 2001-10-22 | 2006-07-04 | Degussa Ag | Method for producing ultra-high purity, optical quality glass articles |
| EP1304313A1 (fr) * | 2001-10-22 | 2003-04-23 | Degussa AG | Procédé de production d articles en verre de qualité optique à très haute pureté |
| WO2003037807A1 (fr) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede de production de verre de silice |
| KR100446512B1 (ko) * | 2001-11-13 | 2004-09-04 | 삼성전자주식회사 | 솔-젤 공법을 이용한 실리카 글래스 제조 방법 |
| US6988377B2 (en) * | 2001-11-27 | 2006-01-24 | Corning Incorporated | Method for making extreme ultraviolet lithography structures |
| US6997015B2 (en) * | 2001-11-27 | 2006-02-14 | Corning Incorporated | EUV lithography glass structures formed by extrusion consolidation process |
| US20040194511A1 (en) * | 2002-02-01 | 2004-10-07 | Chih-Hsing Cheng | Sol-gel-derived halogen-doped glass |
| US20030221459A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-04 | Walczak Wanda J. | Method for forming an optical waveguide fiber preform |
| JP2004131373A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-30 | Corning Inc | シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法 |
| JP4403082B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2010-01-20 | 信越石英株式会社 | 合成石英ガラスの製造方法及び合成石英ガラス体 |
| US7155936B2 (en) | 2003-08-08 | 2007-01-02 | Corning Incorporated | Doped silica glass articles and methods of forming doped silica glass boules and articles |
| DE10342828A1 (de) * | 2003-09-17 | 2005-04-14 | Degussa Ag | Hochreines, pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid |
| DE112006000454B4 (de) * | 2005-02-25 | 2017-10-26 | Hamamatsu Photonics K.K. | Wismut enthaltende Glaszusammensetzung und Verfahren, um hiermit ein Signallicht zu verstärken |
| GB0605461D0 (en) * | 2006-03-17 | 2006-04-26 | Saint Gobain Quartz Plc | Manufacture of large articles in synthetic vitreous silica |
| US20080268201A1 (en) * | 2007-04-27 | 2008-10-30 | Richard Michael Fiacco | Low OH glass for infrared applications |
| US9034450B2 (en) | 2011-08-31 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Binary silica-titania glass articles having a ternary doped silica-titania critical zone |
| DE102013110177A1 (de) * | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Eisen-dotiertem Kieselglas |
| JP6170968B2 (ja) * | 2015-06-23 | 2017-07-26 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法 |
| JP7160818B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2022-10-25 | 宇部エクシモ株式会社 | 黒色粉体及びその製造方法 |
| US11733459B2 (en) * | 2018-12-31 | 2023-08-22 | Sterlite Technologies Limited | Method for modification of surface of optical fiber preform |
| US11326271B2 (en) | 2020-02-20 | 2022-05-10 | Globalwafers Co., Ltd. | Methods for forming a unitized crucible assembly |
| US11377751B2 (en) | 2020-02-20 | 2022-07-05 | Globalwafers Co., Ltd. | Crucible molds |
| EP4219802A1 (fr) | 2020-02-20 | 2023-08-02 | GlobalWafers Co., Ltd. | Procédés de formation d'un ensemble de creuset unitaire et ensemble de creuset |
| JP7744020B2 (ja) * | 2022-11-24 | 2025-09-25 | 湖北工業株式会社 | シリカガラス及びその製造方法 |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2942991A (en) * | 1955-10-28 | 1960-06-28 | Monsanto Chemicals | Slip-casting process |
| US3310392A (en) * | 1962-03-19 | 1967-03-21 | Corning Glass Works | Electrical capacitor manufacture |
| US3535890A (en) * | 1967-10-26 | 1970-10-27 | Corning Glass Works | Method of making fused silica |
| US3562371A (en) * | 1968-10-16 | 1971-02-09 | Corning Glass Works | High temperature gas isostatic pressing of crystalline bodies having impermeable surfaces |
| US3678144A (en) * | 1970-06-12 | 1972-07-18 | Corning Glass Works | Silicate bodies containing coprecipitated oxides |
| US4042550A (en) * | 1975-11-28 | 1977-08-16 | Allied Chemical Corporation | Encapsulant compositions based on anhydride-hardened epoxy resins |
| DE2557932A1 (de) * | 1975-12-22 | 1977-06-30 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas |
| US4112032A (en) * | 1976-04-21 | 1978-09-05 | Corning Glass Works | Silica-containing porous bodies of controlled pore size |
| US4042361A (en) * | 1976-04-26 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Method of densifying metal oxides |
| US4200445A (en) * | 1977-04-28 | 1980-04-29 | Corning Glass Works | Method of densifying metal oxides |
| JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
| US4287105A (en) * | 1980-01-14 | 1981-09-01 | Plaskon Products, Inc. | Flash resistant epoxy encapsulating composition and process for preparing same |
| JPS5767031A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Formation of quartz glass |
| DE3039749C2 (de) * | 1980-10-22 | 1982-08-19 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung von blasenfreiem, glasigem Werkstoff |
| US4349333A (en) | 1981-02-09 | 1982-09-14 | Pressure Technology, Inc. | Hot isostatic press with rapid cooling |
| US4419115A (en) * | 1981-07-31 | 1983-12-06 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Fabrication of sintered high-silica glasses |
| US4426216A (en) * | 1982-01-06 | 1984-01-17 | Hitachi, Ltd. | Process for producing optical glass |
| ATE25960T1 (de) * | 1982-01-15 | 1987-04-15 | Corning Glass Works | Verfahren zur herstellung von glas oder keramik. |
| US4681615A (en) * | 1982-12-23 | 1987-07-21 | Seiko Epson Kabushiki Kaisha | Silica glass formation process |
| US4574063A (en) * | 1983-05-09 | 1986-03-04 | Corning Glass Works | Method of forming glass or ceramic article |
| EP0127956A1 (fr) * | 1983-05-10 | 1984-12-12 | Aetna Telecommunications Laboratories | Procédé de fabrication de corps frittables en verre |
| US4608215A (en) * | 1983-12-23 | 1986-08-26 | Allied Corporation | Preparation of ceramics |
| DE3435772A1 (de) * | 1984-09-28 | 1986-04-10 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von vorformen aus klarem glas fuer die herstellung von lichtleitfasern |
| US4622056A (en) * | 1985-02-13 | 1986-11-11 | Seiko Epson Corporation | Method of preparing silica glass |
| DE3522194A1 (de) * | 1985-06-21 | 1987-01-02 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von glaskoerpern |
| JPS62176931A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-03 | Agency Of Ind Science & Technol | シリカガラスの製造法 |
-
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