JP2000200051A - 配線の断線修復方法及び多層配線構造 - Google Patents

配線の断線修復方法及び多層配線構造

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Abstract

(57)【要約】 【課題】画像表示装置の配線の断線修正方法に関し、配
線欠陥修正の信頼性を向上すること。 【解決手段】画素の側方を通って断線の生じている本配
線１３と前記本配線１３に層間絶縁膜１５を介して絶縁
される予備配線１６とを互いの交差領域で接続する工程
を有する画像表示装置の画像表示装置の配線の断線修正
方法において、前記本配線１３と前記予備配線の前記交
差領域に向けてレーザ４２から第１の出力強度のレーザ
ビームを照射することにより、前記交差領域とその近傍
にある前記予備配線１６、前記層間絶縁膜１５及び前記
本配線１３を通る孔４４を開口する工程と、前記第１の
出力強度とは異なる第２の出力強度のレーザビームを前
記孔４４に向けて照射して前記予備配線１６と前記本配
線１３の一部を融解して前記予備配線１６と前記本配線
１３を接続する工程とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、配線の断線修復方
法及び多層配線構造に関し、より詳しくは、配線に断線
が生じた場合にその配線の機能を回復するための配線の
断線修復方法及び多層配線構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ(liquid crystal display)、ＰＤ
Ｐ(plasma display panel)、ＦＥＤ(field emission di
splay)などのフラット型ディスプレイは、ＣＲＴに比べ
て奥行きを増やさずに大型化が可能なことから開発が進
み、実際に市場を獲得し始めている。それらの画像表示
の原理、構造は異なるが、画素の回りに配線が形成され
ている点で共通している。
【０００３】そのようなディスプレイパネルでは、製造
工程において配線が断線することがあり、その断線は画
素欠損を招いて歩留り低下の原因となる。そこで、ディ
スプレイパネルにおいては、欠陥のある配線を救済する
ために表示領域の周辺に予備配線を設けておき、配線に
断線が存在する場合には、断線により信号が通じなくな
った配線経路に予備配線を介して信号を送れる状態に
し、これによりディスプレイパネルの歩留りを向上させ
ている。
【０００４】例えば、ＬＣＤにおいては、ドレインバス
ラインの一端が信号ドライバに接続されているが、ドレ
インバスラインに断線が生じた場合の対策として、ドレ
インバスラインの両端部を予備配線を介して導通させて
ドレインバスラインの欠陥を救済するといったリペア法
が採用されている。図１(a) は、ＬＣＤのドレインバス
ライン１と予備配線２を絶縁膜３を介して上下に配置し
た断面を示し、そのドレインバスライン１の両端部と予
備配線２の両端部は図１(b) に示すように表示領域の周
辺で交差するような構造となっている。
【０００５】そして、ドレインバスライン１のうち図１
(b) に示す点Ｂで断線が生じた場合には、図１(c) に示
すように、ドレインバスライン１と予備配線２の交差領
域の中央に向けてレーザビームを上から１ショット照射
してドレインバスライン１、予備配線２及び絶縁膜３に
孔４を開けると同時にドレインバスライン１と予備配線
２の一部を融解させる。そして、ドレインバスライン１
と予備配線２のうち溶解した部分は孔４を通して流れて
互いに接続する。これによって、断線したドレインバス
ライン１は予備配線２を介して導通することになる。
【０００６】なお、図１(a),(c) において符号５は下地
絶縁膜を示している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記したリペア技術で
は、１ショットのレーザビームを照射しても予備配線２
とドレインバスライン１が接続しない場合には、同じ強
度のレーザビームを繰り返し照射することもある。その
ようなレーザビームの照射によれば、ドレインバスライ
ン１と予備配線２の交差部分が破壊されてしまう可能性
が高く、配線欠陥修復の信頼性が低かった。
【０００８】また、ドレインバスライン１と予備配線２
の導通部分では、ＳＥＭ観察しても孔４の内面に凹凸が
殆ど見られず、しかも下側の膜が、図２に示すようにめ
くれあがった状態で開口４の上の周辺に残り、その後に
異物としてパネル内に存在することになる。本発明の目
的は、配線欠陥修復の信頼性を向上することができる配
線の断線修復方法及び多層配線構造を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、図４、
図５に例示するように、断線の生じている本配線１３と
前記本配線１３に層間絶縁膜１５を介して形成される予
備配線１６とを互いの交差領域で接続する工程を有する
配線の断線修復方法において、前記本配線１３と前記予
備配線の前記交差領域に向けてレーザ４２から第１の出
力強度のレーザビームを照射することにより孔４４を開
口する工程と、前記第１の出力強度とは異なる第２の出
力強度のレーザビームを前記孔４４に向けて照射して前
記予備配線１６と前記本配線１３の一部を融解して前記
予備配線１６と前記本配線１３を接続する工程とを有す
ることを特徴とする配線の断線修復方法により解決す
る。
【００１０】上記した配線の断線修復方法において、前
記レーザ４２は、出力波長の変更によって出力強度を調
整できる特性を有していることを特徴とする。上記した
配線の断線修復方法において、前記レーザビームは、前
記第１の出力強度と前記第２の出力強度の間の第３の出
力強度で前記孔に向けてさらに照射されることを特徴と
する。
【００１１】上記した配線の断線修復方法において、前
記予備配線１６を保護絶縁膜２０で覆い、該保護絶縁膜
２０のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔２０ａ
を形成し、該位置合わせ用孔２０ａに向けて前記レーザ
ビームが照射されることを特徴とする。上記した配線の
断線修復方法において、図１１、図１２に例示するよう
に、前記交差領域における前記本配線１３と前記予備配
線１６のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔２０ａを
形成し、該位置合わせ用孔２０ａに向けて前記レーザビ
ームが照射されることを特徴とする。
【００１２】上記した課題は、基板の上で内部から周辺
に延在し、且つ途中に切断部分の存在する本配線１３
と、前記基板の周辺部に形成され且つ前記本配線１３の
上又は下に絶縁膜を介して重ねられて形成された予備配
線１６と、前記絶縁膜の孔４４を通して前記予備配線１
６と前記本配線１３を溶融状態で接続し、且つ該孔４４
の内面に沿った断面に凹凸を有する接続部とを有するこ
とを特徴とする多層配線構造によって解決される。
【００１３】その多層配線構造において、前記本配線１
３と前記予備配線１６の交差領域には、前記本配線１３
と前記予備配線１６のいずれかに接続される導電性パッ
ド１３ｆ，１３ｂ，１６ａ，１６ｂが形成されるように
してもよい。次に、本発明の作用について説明する。本
発明によれば、本配線と予備配線を互いの交差領域にお
いて接続する際に、レーザビーム照射によって本配線と
予備配線に孔を設け、その後にその場所で、出力強度を
変化させたレーザビーム照射によって本配線と予備配線
とを融解するといった２段階で本配線と予備配線を接続
するようにしている。これにより、本線と予備配線は、
その交差領域において確実に接続することができ、配線
欠陥修復の信頼性が向上する。
【００１４】この場合、複数回のレーザビームを照射し
ているが、それらのレーザビームの強度を変化させて調
整しているので、本配線と予備配線の交差部分の破壊を
未然に防止できる。また、本配線と予備配線の交差部分
にレーザビームを照射する場合には、本配線又は予備配
線の縁を目標にするとレーザビームの照射外れが防止さ
れる。さらに、本配線と予備配線の交差領域において、
本配線、予備配線、保護絶縁膜のいずれかに位置合わせ
用孔を形成しておけば、レーザビームの照射位置合わせ
が容易になる。
【００１５】さらに、レーザ強度を変化させて本配線と
予備配線を接続すると、本配線と予備配線の接続部は、
レーザ照射毎に徐々に熔解されて昇華するので、本配線
と予備配線の接続部では膜のめくれあがりが存在しな
い。これにより、基板上に異物が残りにくくなる。しか
も、レーザ照射によって本配線と予備配線に形成された
孔の内面には凹凸が存在する。
【００１６】そのようなレーザ照射後の形状はＳＥＭ観
察によって容易に判断できる。なお、本配線としては、
例えば液晶表示パネルにおけるゲートバスライン、ドレ
インバスラインなどがある。
【００１７】
【発明の実施の形態】そこで、以下に本発明の実施形態
を図面に基づいて説明する。 （第１の実施の形態）図３(a) は本発明の実施の形態に
係る液晶表示パネルのゲートバスラインとドレインバス
ラインと予備配線の配置の概要を示す平面図、図３(b)
は、ゲートバスラインとドレインバスラインの交差状態
を示す断面図、図３(c) は、ドレインバスラインとリペ
ア用の予備配線の配置関係を示す断面図である。なお、
ドレインバスラインは、データバスラインともよばれ
る。
【００１８】図３(a) において、石英などの第１の透明
基板１１の上には、クロム、アルミニウムなどの金属よ
りなるゲートバスライン１２とそのような金属よりなる
ドレインバスライン１３がそれぞれ複数本形成されてい
る。複数のゲートバスライン１２は、走査ドライバ３０
に接続されるものであって互いに一定間隔をおいて所定
の方向に平行に配置される。また、複数のドレインバス
ライン１３は、信号ドライバ３１に接続されるものであ
って、ゲートバスライン１２に交差する状態で、互いに
一定間隔をおいて平行に配置されている。
【００１９】ゲートバスライン１２とドレインバスライ
ン１３は、図３(b) に示すように、第１の層間絶縁膜１
４を介して上下に絶縁されて配置されている。さらに、
ドレインバスライン１３は、第２の層間絶縁膜１５に覆
われ、この第２の層間絶縁膜１５の上には図３(c) に示
すように予備配線１６が形成されている。予備配線１６
は、図３(a) に示すように、画素領域を迂回して複数の
ドレインバスライン１３の上方を通るように、第１の透
明基板１１の外周に沿ってＵ字状に形成されている。
【００２０】また、ドレインバスライン１３の一端に
は、図４(a) に示すようにドレインラインパッド１３ａ
が形成され、このドレインラインパッド１３ａには信号
ドライバ３１のデータ端子が接続される。さらに、複数
のゲートバスライン１２と複数のドレインバスライン１
３のそれぞれの交差部分の近傍には図４(b),(c) に示す
ように薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（thin film transist
or))１７が配置されている。
【００２１】図４(a) において、第１の透明基板１１の
うちＴＦＴ１７、バスライン１２，１３等が配置される
側の面は、第２の透明基板２１上の透明性共通電極２２
に対向して配置される。また、第２の透明基板２１の上
には例えば３色のカラーフィルタ２３が配置されてい
る。そして、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１
の間には液晶２４が注入される。
【００２２】ＴＦＴ１７は、例えば図４(b),(c) に示す
ような構造を有し、そのドレインはドレインバスライン
１３に接続され、そのソースはＩＴＯ（indium tin oxi
de)などの光透過性導電材よりなる画素電極１８に接続
されている。ＴＦＴ１７は、第１の透明電極１１上で蓄
積コンデンサ電極（不図示）を覆う下地絶縁膜１０の上
に形成されている。ＴＦＴ１７のゲート電極１７ｇはゲ
ートバスライン１２からその側方に突出した形状を有
し、そのゲート電極１７ｇの上には多結晶シリコン又は
非晶質シリコンよりなるｎ型又はｐ型の動作半導体膜１
７ａが形成されている。その動作半導体膜１７ａの上層
部には、動作半導体膜１７ａとは逆導電型のドレイン層
１７ｄとソース層１７ｓが溝１７ｖによって互いに分離
されて形成されている。ドレイン層１７ｄは、ドレイン
バスライン１３からその側方に突出したドレイン電極１
３ｄに接続されている。また、ソース層１７ｓの上には
画素電極１８に延びるソース電極１９が形成されてい
る。このような構成からなるＴＦＴ１７は、第３の層間
絶縁膜１５に覆われている。
【００２３】上記した予備配線１６は、複数のドレイン
バスライン１３の両端近傍で交差するように配置されて
いる。その交差部分では、図５(a),(b) に示すようにド
レインバスライン１３側にパッドを設けるか、又は、図
６(a),(b) に示すように予備配線１６側にパッドを設け
ることが好ましい。即ち、ドレインバスライン１３のデ
ータ端子実装側のうち予備配線１６と交差する部分で
は、図５(a) に示すように、第１のパッド１３ｆが形成
されている。また、ドレインバスライン１３のデータ端
子非実装側のうち予備配線１６と交差する部分では、図
５(b) に示すように、第２のパッド１３ｂが形成されて
いる。なお、第３の層間絶縁膜１５の下において、第１
及び第２のパッド１３ｆ，１３ｂが別々に形成されるこ
とがある。例えば、第１のパッド１３ｆとドレインバス
ライン１３の間と、第２のパッド１３ｂとドレインバス
ライン１３の間とにそれぞれ絶縁膜（不図示）が形成さ
れる場合には、その絶縁膜中のビア（不図示）を介して
パッド１３ｆ、１３ｂがドレインバスライン１３に接続
される。
【００２４】また、予備配線１６の両端には、図６(a),
(b) に示すようにそれぞれ第３、第４のパッド１６ａ、
１６ｂを設けてもよい。ここで図６(a) は、予備配線１
６のうちドレインバスライン１３のデータ端子実装側を
示し、図６(b) は、予備配線１６のうちドレインバスラ
イン１３のデータ端子非実装側を示している。なお、上
記したパッド１３ａ，１３ｂ，１３ｆ，１６ａ，１６ｂ
は全て導電材から構成されている。
【００２５】次に、液晶表示パネルの製造工程におい
て、ドレインバスライン１３の１本に断線が発生した場
合に、ドレインバスライン１３の機能を回復させる方法
を以下に説明する。まず、ドレインバスライン１３を有
する第１の透明基板１１を、図７に示すリペア装置のス
テージ４１の上に載せる。ステージ４１の上方には、レ
ーザビームを出力するレーザ４２が配置され、そのレー
ザ４２の出力とショット回数は制御回路４３によって制
御される。また、レーザ４２は、波長を制御することに
よってレーザビームの出力強度を変更できるような構造
となっている。レーザ４２においては、図８に示すよう
に出力強度と出力波長がほぼガウス分布の関係となって
いる。
【００２６】次に、図示しない顕微鏡を使用して、断線
の発生したドレインバスライン１３のうち予備配線１６
と交差する部分をレーザ４２の出射方向に位置させる。
その交差部の平面は、上記した図５(a) 、図５(b) 、図
６(a) 、又は図６(b) のようになっている。レーザ４２
のレーザビーム照射領域に位置するその交差部分は、例
えば図９(a) に示す断面の状態になっている。
【００２７】このような状態から、例えば図５(a) に示
すデータ端子実装側のドレインバスライン１３の第１の
パッド１３ｆと予備配線１６の交差領域のうち、予備配
線１６の縁部の複数箇所のレーザビーム照射部Ｌに向け
てレーザビームを照射する。そのレーザビームの照射は
２段階に分けて行う。第１段階では、制御回路４３によ
ってレーザ４２の出力波長を図８の波長帯域II又はIII
になるように調整して０．５〜１．０mJ/pulse、好まし
くは０．７〜０．９mJ/pulseの大きさのレーザビームを
レーザ４２から出力させて、そのレーザビームをレーザ
ビーム照射部Ｌに向けて照射する。これによって、図９
(b) に示すようにドレインバスライン１３、予備配線１
６及び第３の層間絶縁膜１５を通る孔４４を形成する。
なお、同じ強度のレーザビームを複数回照射することに
より、図１０(a) に示すように孔４を深くしてもよい。
【００２８】この段階では、レーザビームの強度が低
く、予備配線１６の融解部分が孔４４内を通してドレイ
ンバスライン１３の融解部分と一体化する可能性は低
い。そこで、第２段階では、制御回路４３によりレーザ
４２の出力波長を図８の波長帯域Ｉとなるように調整し
て、予備配線１６とドレインバスライン１３の構成材料
が融解して孔４４内に流入する程度の大きさ０．８〜
１．８mJ/pulse、好ましくは１．２〜１．５mJ/pulseの
レーザビームをレーザ４２から出力させてレーザビーム
照射部Ｌに向けて照射する。
【００２９】これにより、予備配線１６の融解部分は、
図１０(b) に示すように孔４４内を流れてドレインバス
ライン１３の融解部分と一体化する。これにより、配線
欠陥修復の信頼性が従来よりも向上する。このようなレ
ーザの照射を図５(b) に示すようなデータ端子非実装側
のドレインバスライン１２と予備配線１６に対しても行
う。なお、レーザビーム照射は、上記したようにデータ
端子実装側から行ってもよいし、或いはデータ非実装側
から行ってもよい。
【００３０】以上のように、初めにレーザ照射強度を低
くしてドレインバスライン１３と予備配線１６に孔４４
を開け、その後にレーザ照射強度を高くしてドレインバ
スライン１３と予備配線１６のそれぞれの溶解部分を孔
４４を通して互いに接続させると、断線のあるドレイン
バスライン（本配線）１３の全体に、予備配線１６を通
して信号ドライバ３１から信号を送ることが可能にな
る。
【００３１】また、予備配線１６の縁をレーザビームの
照射部分に設定すると、レーザビーム照射箇所を見つけ
やすくなり、その縁を目印にしてレーザビームを照射す
ることができる。ところで、レーザビームの照射位置
は、予備配線１６の縁に限るものではなく、例えばドレ
インバスライン１３の縁に向けてレーザビームを照射す
るようにしてもよい。ドレインバスライン１３は予備配
線１６の下側に位置しているが、ドレインバスライン１
３の縁は図１１(a) に示すように予備配線１６では段と
なって現れるので、位置検出が容易である。予備配線１
６の縁に向けてレーザビームを２段階強度で照射した後
の断面形状は図１１(b) のようになる。
【００３２】上記した説明では、第１の透明基板１１の
上に予備配線１６を１本だけ設けているが、並列に複数
本配置してもよい。また、上記した説明では、ドレイン
バスライン１３と予備配線１６を接続する例について説
明したが、ゲートバスライン１２の両端を予備配線を介
して接続するようにしてもよい。また、上記した説明で
は、レーザビームの照射の際に、最初は照射強度を低く
し、最後の照射強度を高くしているが、その逆に、初め
は高く、その後に低くするようにしてもよい。初めは高
くその後に低くする場合には、初めが高くその後に低く
する場合に比べて配線間接続の安定性が悪いが、層間の
溶解はいずれもほぼ同じ効果が得られた。
【００３３】さらに、レーザビームの照射を複数回行っ
て、照射強度を徐々に低くするか、或いは徐々に高くす
るような方法を採用してもよい。最初に高い強度でレー
ザショットすると、予備配線又は本配線が吹き飛ばされ
てバリ等などが発生するが、その後の低い強度のレーザ
ショットにより予備配線又は本配線が融解されてバリの
発生が見られなくなることが確認された。即ち、レーザ
がショット回数を重ねるとその通過時に熱による溶解が
起きる。
【００３４】しかし、低い強度から強い強度に変わるレ
ーザショット方法を採用すると、最初のレーザショット
によりバリは発生せず、その後のレーザショットにより
予備配線と本配線が融解するので配線間接続に安定性が
ある。なお、低い強度で複数回のレーザショットを行っ
ても、パワー不足で層貫通、配線間短絡に至らない。 （第２の実施の形態）第１の実施の形態では、レーザを
照射する位置を予備配線１６の縁及びその周辺に設定し
たが、本実施形態では、以下に説明するような構造を採
用して予備配線１６の内部及びその周辺にレーザ照射位
置を設定してもよい。
【００３５】図１２(a),(b) は、予備配線１６を覆う保
護絶縁膜２０のうち、予備配線１６とドレインバスライ
ン１３の交差領域の内部（例えば中央）に位置合わせ用
の孔２０ａを形成した構造を示している。また、図１３
(a),(b) は、予備配線１６とドレインバスライン１３の
交差領域の内部において、ドレインバスライン１３に第
１の位置合わせ用孔１３ｘを設け、予備配線１６に第２
の位置合わせ用孔１６ｘを設けるとともに、第１の位置
合わせ用孔１３ｘと第２の位置合わせ用孔１６ｘを上下
に重なるようにした構造を示している。
【００３６】そして、予備配線１６とドレインバスライ
ン１３にレーザビームを照射する場合には、それらの位
置合わせ用孔２０ａ，１３ｘ，１６ｘに向けてレーザ４
２を向けると、レーザ照射の位置決めが容易になる。な
お、それらの位置合わせ用孔２０ａ，１３ｘ，１６ｘ
は、いずれか一方が存在すれば、その孔の形跡が顕微鏡
等により見えるので、レーザビーム照射部分の位置合わ
せが容易になる。
【００３７】図１２(a) 、図１３(a) において予備配線
１６とドレインバスライン１３を接続する場合には、位
置合わせ用の用孔２０ａ，１３ｘ，１６ｘに向けてレー
ザビームを照射して図１４(a) に示すような孔４５を予
備配線１６及びドレインバスライン１３に開ける。その
後に、レーザビームの強度を上げ、図１４(b) に示すよ
うに、照射部分の予備配線１６及びドレインバスライン
１３を融解して互いを接続させる。
【００３８】上記した第１及び第２実施形態において説
明したように、レーザ強度を２段階で変更して照射する
ことにより、バスラインと予備配線を接続したところ、
図１５に示すＳＥＭ写真のようにその接続部分には膜の
めくり上がりは見ら無かったが、その接続部分の孔の内
周には凹凸が見られた。なお、上記した実施形態では、
液晶表示パネルの本配線の断線修復方法について説明し
たが、その他のフラットパネルの画素周辺の配線の断線
の際にも上記した断線修復方法を適用してもよい。 ｛付 記｝ （１）画素の側方を通って断線の生じている本配線と前
記本配線に層間絶縁膜を介して形成される予備配線とを
互いの交差領域で接続する工程を有する配線の断線修復
方法において、前記本配線と前記予備配線の前記交差領
域に向けてレーザから第１の出力強度のレーザビームを
照射することにより孔を開口する工程と、前記第１の出
力強度とは異なる第２の出力強度のレーザビームを前記
孔に向けて照射して前記予備配線と前記本配線の一部を
融解して前記予備配線と前記本配線を接続する工程とを
有することを特徴とする配線の断線修復方法。 （２）前記第２の出力強度は、前記第１の出力強度より
も高いことを特徴とする（１）に記載の配線の断線修復
方法。 （３）前記孔を開口するための前記第１の出力強度の前
記レーザビームの照射は複数回行われることを特徴とす
る（１）に記載の配線の断線修復方法。 （４）前記レーザは、出力波長の変更により前記レーザ
ビームの出力強度を調整できる特性を有していることを
特徴とする（１）に記載の配線の断線修復方法。 （５）前記レーザビームは、前記第１の出力強度と前記
第２の出力強度の間の第３の出力強度で前記孔に向けて
さらに照射されることを特徴とする（１）に記載の配線
の断線修復方法。 （６）前記レーザビームの照射位置は、前記交差領域に
ある前記予備配線の縁又は前記本配線の縁であることを
特徴とする（１）に記載の配線の断線修復方法。 （７）前記予備配線を保護絶縁膜で覆い、該保護絶縁膜
のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔を形成し、
該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射され
ることを特徴とする（１）に記載の配線の断線修復方
法。 （８）前記交差領域における前記本配線と前記予備配線
のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔を形成し、該位
置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射されるこ
とを特徴とする（１）に記載の配線の断線修復方法。 （９）前記本配線は、液晶表示パネルのドレインバスラ
イン又はゲートバスラインであることを特徴とする
（１）に記載の配線の断線修復方法。 （１０）前記予備配線は表示パネルの表示領域を迂回し
て該表示領域の周囲に形成されることを特徴とする
（１）に記載の配線の断線修復方法。 （１１）前記交差領域には、前記本配線と前記予備配線
のいずれかに接続される導電性パッドが形成されている
ことを特徴とする（１）に記載の配線の断線修復方法。 （１２）基板の上で、内部から周辺に延在し、且つ途中
に切断部分の存在する本配線と、前記基板の周辺に形成
され、前記本配線の上又は下に絶縁膜を介して重ねられ
て形成された予備配線と、前記絶縁膜の孔を通して前記
予備配線と前記本配線を溶融状態で接続し、且つ該孔の
内面に沿った断面に凹凸を有する接続部とを有すること
を特徴とする多層配線構造。 （１３）前記本配線は、液晶表示パネルのドレインバス
ライン又はゲートバスラインであることを特徴とする
（１２）に記載の多層配線構造。 （１４）前記予備配線は、表示パネルの表示領域を迂回
して該表示領域の周囲に形成されることを特徴とする
（１２）に記載の多層配線構造。 （１５）前記本配線と前記予備配線のいずれかに接続さ
れる導電性パッドが前記交差領域に形成されていること
を特徴とする（１２）に記載の多層配線構造。 （１６）前記基板には、液晶表示パネルの液晶を挟んで
第２の基板が対向して配置されることを特徴とする（１
２）に記載の多層配線構造。
【００３９】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、本配
線と予備配線を互いの交差領域において接続する際に、
レーザビーム照射によって本配線と予備配線に孔を設
け、その後に、出力強度を変化させたレーザビーム照射
によって本配線と予備配線とを融解するといった２段階
で本配線と予備配線を接続するようにしたので、本線と
予備配線をその交差領域において確実に接続することが
でき、配線欠陥修復の信頼性を向上することができる。
【００４０】この場合、複数回のレーザビームを照射し
ているが、それらのレーザビームの強度を変化させて調
整しているので、本配線と予備配線の交差部分の破壊を
未然に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１(a) は、表示装置の一般的なバスラインと
予備配線との配置関係を示す断面図、図１(b) は、その
バスラインと予備配線との配置関係を示す平面図、図１
(c) は、従来の配線の断線修復方法を示す断面図であ
る。
【図２】図２は、従来方法によって接続された本配線と
予備配線の接続状態を示すＳＥＭ写真である。
【図３】図３(a) は、本発明の第１実施形態に係る表示
パネルにおいて、複数のバスラインと予備配線の配置関
係を示す平面図、図３(b) は、複数のバスラインの層構
造を示す断面図、図３(c) は、バスラインと予備配線の
層構造を示す断面図である。
【図４】図４(a) は、本発明の第１実施形態に係る表示
パネルの分解斜視図、図４(b)は、その表示パネル内に
形成される１画素領域の構造を示す平面図、図４(c)
は、その１画素領域の構造を示す断面図である。
【図５】図５(a),(b) は、本発明の第１実施形態に係る
表示パネルに用いるバスラインと予備配線の配置関係を
示す平面図（その１）である。
【図６】図６(a),(b) は、本発明の第１実施形態に係る
表示パネルに用いるバスラインと予備配線の配置関係を
示す平面図（その２）である。
【図７】図７は、本発明の第１実施形態に用いるレーザ
装置の概要図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施形態に用いるレーザ
装置の出力波長と出力強度の関係を示す図である。
【図９】図９は、本発明の第１実施形態に係る表示パネ
ルにおけるバスラインと予備配線の接続方法を示す断面
図（その１）である。
【図１０】図１０は、本発明の第１実施形態に係る表示
パネルにおけるバスラインと予備配線の接続方法を示す
断面図（その２）である。
【図１１】図１１(a),(b) は、本発明の第１実施形態に
係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線へのレー
ザ照射位置をバスラインの縁に合わせた例を示す断面図
である。
【図１２】図１２(a),(b) は、本発明の第２実施形態に
係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の配置関
係を示す断面図及び平面図（その１）である。
【図１３】図１３(a),(b) は、本発明の第２実施形態に
係る表示パネルにおけるバスラインと予備配線の配置関
係を示す断面図及び平面図（その２）である。
【図１４】図１４(a),(b) は、本発明の第２実施形態に
係る表示パネル内のバスラインと予備配線の接続方法を
示す断面図である。
【図１５】図１５は、本発明による本配線と予備配線の
接続部分の一例を示すＳＥＭ写真である。
【符号の説明】
１０…下地絶縁膜、１１…第１の透明基板、１２…ゲー
トバスライン、１３…ドレインバスライン、１３ｂ，１
３ｆ…パッド、１３ｘ…孔、１４，１５…層間絶縁膜、
１６…予備配線、１６ａ，１６ｂ…パッド、１６ｘ…
孔、１７…薄膜トランジスタ、１８…画素電極、１９…
層間絶縁膜、２０…保護絶縁膜、２０ａ…孔、２１…第
２の透明基板、２２…共通電極、２３…カラーフィル
タ、２４…液晶、３０…走査ドライバ、３１…信号ドラ
イバ、４１…ステージ、４２…レーザ、４３…制御回
路、４４，４５…位置合わせ用孔。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】断線の生じている本配線と前記本配線に層
    間絶縁膜を介して形成される予備配線とを互いの交差領
    域で接続する工程を有する配線の断線修復方法におい
    て、 前記本配線と前記予備配線の前記交差領域に向けてレー
    ザから第１の出力強度のレーザビームを照射することに
    より孔を開口する工程と、 前記第１の出力強度とは異なる第２の出力強度のレーザ
    ビームを前記孔に向けて照射して前記予備配線と前記本
    配線の一部を融解して前記予備配線と前記本配線を接続
    する工程とを有することを特徴とする配線の断線修復方
    法。
  2. 【請求項２】前記レーザは、出力波長の変更によって前
    記レーザビームの出力強度を調整できる特性を有してい
    ることを特徴とする請求項１に記載の配線の断線修復方
    法。
  3. 【請求項３】前記レーザビームは、前記第１の出力強度
    と前記第２の出力強度の間の第３の出力強度で前記孔に
    向けてさらに照射されることを特徴とする請求項１に記
    載の配線の断線修復方法。
  4. 【請求項４】前記予備配線を保護絶縁膜で覆い、該保護
    絶縁膜のうち前記交差領域の一部に位置合わせ用孔を形
    成し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照
    射されることを特徴とする請求項１に記載の配線の断線
    修復方法。
  5. 【請求項５】前記交差領域における前記本配線と前記予
    備配線のうち少なくとも一方に位置合わせ用孔を形成
    し、該位置合わせ用孔に向けて前記レーザビームが照射
    されることを特徴とする請求項１に記載の配線の断線修
    復方法。
  6. 【請求項６】基板の上で、内部から周辺に延在し、且つ
    途中に切断部分の存在する本配線と、 前記基板の周辺に形成され、前記本配線の上又は下に絶
    縁膜を介して重ねられて形成された予備配線と、 前記絶縁膜の孔を通して前記予備配線と前記本配線を溶
    融状態で接続し、且つ該孔の内面に沿った断面に凹凸を
    有する接続部とを有することを特徴とする多層配線構
    造。
  7. 【請求項７】前記本配線と前記予備配線の交差領域に
    は、前記本配線と前記予備配線のいずれかに接続される
    導電性パッドが形成されていることを特徴とする請求項
    ６に記載の多層配線構造。
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