JP2000201942A - 超音波治療装置 - Google Patents
超音波治療装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 病変部の過剰な焼灼や周囲組織の不用意な温
度上昇を避けることができ、且つ広い範囲も短時間に治
療できるようにすること。 【解決手段】 ４個のウォームホイールに図示されない
超音波発生源が装着されており、ウォームギアが回転し
て４個のウォームホイールが回転すると、それぞれの超
音波発生源が回転するが、各超音波発生源は各ウォーム
ホイールの回転軸に対して傾斜しているため、各超音波
発生源から発生される超音波の焦点は円形を描くように
移動する。これにより、焦点の数が増えた分、各焦点で
の超音波の強さを低下させることができると共に、各焦
点が常に移動しているため、特定点を焼灼し過ぎること
が防止される。しかも、各焦点での超音波の強さは低下
していても、焦点の数が多いことと、これら焦点がお互
いに重ならないように移動するため、広い範囲の病変部
を短時間で焼灼治療することができる。
度上昇を避けることができ、且つ広い範囲も短時間に治
療できるようにすること。 【解決手段】 ４個のウォームホイールに図示されない
超音波発生源が装着されており、ウォームギアが回転し
て４個のウォームホイールが回転すると、それぞれの超
音波発生源が回転するが、各超音波発生源は各ウォーム
ホイールの回転軸に対して傾斜しているため、各超音波
発生源から発生される超音波の焦点は円形を描くように
移動する。これにより、焦点の数が増えた分、各焦点で
の超音波の強さを低下させることができると共に、各焦
点が常に移動しているため、特定点を焼灼し過ぎること
が防止される。しかも、各焦点での超音波の強さは低下
していても、焦点の数が多いことと、これら焦点がお互
いに重ならないように移動するため、広い範囲の病変部
を短時間で焼灼治療することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、生体内に存在する
腫瘍などの病変部に超音波を照射して焼灼することによ
り治療を行う超音波治療装置に関する。
腫瘍などの病変部に超音波を照射して焼灼することによ
り治療を行う超音波治療装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、超音波治療装置は腫瘍等の病
変部に超音波を照射して、この部分を熱変性温度以上に
加熱焼灼して治療するものであり、既に公知の技術であ
る。
変部に超音波を照射して、この部分を熱変性温度以上に
加熱焼灼して治療するものであり、既に公知の技術であ
る。
【０００３】このような超音波治療装置では、患者の呼
吸などによる病変部の移動の影響を避けるため、病変部
に照射する超音波の強度を大きくすることにより、出来
るだけ短時間に焼灼治療を行うことが求められている。
このため、超音波を集束させることで集束点での超音波
強度を強くして、集束点付近の病変部を熱変性温度以上
に加熱するようになっている。
吸などによる病変部の移動の影響を避けるため、病変部
に照射する超音波の強度を大きくすることにより、出来
るだけ短時間に焼灼治療を行うことが求められている。
このため、超音波を集束させることで集束点での超音波
強度を強くして、集束点付近の病変部を熱変性温度以上
に加熱するようになっている。
【０００４】上記した超音波治療装置は温熱タイプであ
るが、衝撃タイプのものでは、超音波パルスを断続的に
結石に集束させ、その衝撃力（音圧）により、結石を粉
砕するものである。
るが、衝撃タイプのものでは、超音波パルスを断続的に
結石に集束させ、その衝撃力（音圧）により、結石を粉
砕するものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の超音波治
療装置において、集束点での超音波強度が強すぎると、
病変部の組織が加熱し過ぎたり、周囲組織が不用意に温
度上昇するという問題がある。
療装置において、集束点での超音波強度が強すぎると、
病変部の組織が加熱し過ぎたり、周囲組織が不用意に温
度上昇するという問題がある。
【０００６】また、超音波の集束率がある程度高くない
と、所望の治療効果が得られないことから、その集束領
域が小さくなり、広い範囲の治療を行う場合、繰り返し
て超音波を照射しなければならず、治療時間が長くなっ
てしまうという問題がある。本発明は、上述の如き従来
の課題を解決するためになされたもので、その目的は、
病変部の過剰な焼灼や周囲組織の不用意な温度上昇を避
けることができ、且つ広い範囲の病変部も短時間に治療
することができる超音波治療装置を提供することであ
る。
と、所望の治療効果が得られないことから、その集束領
域が小さくなり、広い範囲の治療を行う場合、繰り返し
て超音波を照射しなければならず、治療時間が長くなっ
てしまうという問題がある。本発明は、上述の如き従来
の課題を解決するためになされたもので、その目的は、
病変部の過剰な焼灼や周囲組織の不用意な温度上昇を避
けることができ、且つ広い範囲の病変部も短時間に治療
することができる超音波治療装置を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の特徴
は、超音波を照射して生体内の病変部に収束させること
により病変部を焼灼治療する超音波治療装置において、
照射する超音波の集束点を複数とし、これら複数の集束
点をそれぞれ移動することにある。
は、超音波を照射して生体内の病変部に収束させること
により病変部を焼灼治療する超音波治療装置において、
照射する超音波の集束点を複数とし、これら複数の集束
点をそれぞれ移動することにある。
【０００８】この請求項１の発明によれば、収束点の数
が増えた分、各収束点での超音波の強さを低下させるこ
とができると共に、各収束点が常に移動しているため、
超音波エネルギーの特定個所への長時間の集中をなくす
ことができ、特定個所の過剰な焼灼や周囲組織の不用意
な温度上昇を避けることができる。しかも、各収束点で
の超音波の強さは低下していても、収束点の数が多いこ
とと、これら収束点がお互いに重ならないように、例え
ば一定の距離を保って移動するようにして、広い範囲の
病変部を短時間で焼灼治療することができる。
が増えた分、各収束点での超音波の強さを低下させるこ
とができると共に、各収束点が常に移動しているため、
超音波エネルギーの特定個所への長時間の集中をなくす
ことができ、特定個所の過剰な焼灼や周囲組織の不用意
な温度上昇を避けることができる。しかも、各収束点で
の超音波の強さは低下していても、収束点の数が多いこ
とと、これら収束点がお互いに重ならないように、例え
ば一定の距離を保って移動するようにして、広い範囲の
病変部を短時間で焼灼治療することができる。
【０００９】請求項２の発明の前記複数の集束点の移動
は周期的である。
は周期的である。
【００１０】請求項３の発明の特徴は、超音波を照射し
て生体内の病変部に収束させることにより病変部を焼灼
治療する超音波治療装置において、複数の超音波発生源
と、これら超音波発生源を回転させる回転機構と、各超
音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機構
と、を備え、前記傾斜機構により各超音波発生源をその
回転軸に対して傾斜させた状態で、前記回転機構により
各超音波発生源を回転させることにより、これら超音波
発生源から発生された各超音波の収束点を円を描くよう
に移動させることにある。
て生体内の病変部に収束させることにより病変部を焼灼
治療する超音波治療装置において、複数の超音波発生源
と、これら超音波発生源を回転させる回転機構と、各超
音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機構
と、を備え、前記傾斜機構により各超音波発生源をその
回転軸に対して傾斜させた状態で、前記回転機構により
各超音波発生源を回転させることにより、これら超音波
発生源から発生された各超音波の収束点を円を描くよう
に移動させることにある。
【００１１】請求項４の発明の特徴は、前記超音波の各
収束点の移動範囲の大きさを一括又は個別に制御する移
動範囲制御手段を具備することにある。
収束点の移動範囲の大きさを一括又は個別に制御する移
動範囲制御手段を具備することにある。
【００１２】請求項５の発明の前記移動範囲制御手段は
前記超音波の各収束点が互いに重ならないように前記移
動範囲を制御する。
前記超音波の各収束点が互いに重ならないように前記移
動範囲を制御する。
【００１３】請求項６の発明の特徴は、前記超音波の各
収束点の移動速度を一括又は個別に制御する速度制御手
段を具備することにある。
収束点の移動速度を一括又は個別に制御する速度制御手
段を具備することにある。
【００１４】請求項７の発明の特徴は、前記超音波の強
さ及び照射時間を一括又は個別に制御する超音波制御手
段を具備することにある。
さ及び照射時間を一括又は個別に制御する超音波制御手
段を具備することにある。
【００１５】請求項８の発明の特徴は、超音波を照射し
て生体内の病変部に収束させることにより病変部を焼灼
治療する超音波治療装置において、複数の超音波発生源
と、これら超音波発生源を回転させる回転機構と、各超
音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機構
と、前記傾斜機構により前記傾斜角を変化させて前記超
音波の各収束点の移動範囲の大きさを一括又は個別に制
御する移動範囲制御手段と、前記回転機構により前記超
音波発生源の回転速度を変化させて前記超音波の各収束
点の移動速度を一括又は個別に制御する速度制御手段
と、前記超音波発生源から発生される前記超音波の強さ
及び照射時間を一括又は個別に制御する超音波制御手段
と、を備え、前記傾斜機構により各超音波発生源をその
回転軸に対して傾斜させた状態で、前記回転機構により
各超音波発生源を回転させることにより、これら超音波
発生源から発生された各超音波の収束点を円を描くよう
に移動させることにある。
て生体内の病変部に収束させることにより病変部を焼灼
治療する超音波治療装置において、複数の超音波発生源
と、これら超音波発生源を回転させる回転機構と、各超
音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機構
と、前記傾斜機構により前記傾斜角を変化させて前記超
音波の各収束点の移動範囲の大きさを一括又は個別に制
御する移動範囲制御手段と、前記回転機構により前記超
音波発生源の回転速度を変化させて前記超音波の各収束
点の移動速度を一括又は個別に制御する速度制御手段
と、前記超音波発生源から発生される前記超音波の強さ
及び照射時間を一括又は個別に制御する超音波制御手段
と、を備え、前記傾斜機構により各超音波発生源をその
回転軸に対して傾斜させた状態で、前記回転機構により
各超音波発生源を回転させることにより、これら超音波
発生源から発生された各超音波の収束点を円を描くよう
に移動させることにある。
【００１６】請求項９の発明の特徴は、前記移動範囲制
御手段と前記速度制御手段と前記超音波制御手段とを個
別且つ協調的に制御する上位制御手段を具備することに
ある。
御手段と前記速度制御手段と前記超音波制御手段とを個
別且つ協調的に制御する上位制御手段を具備することに
ある。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は、本発明の超音波治療装置
の第１の実施の形態を示したブロック図である。超音波
治療装置は、超音波コントローラ２、焦点移動量コント
ローラ３、焦点移動速度コントローラ４を制御すると共
に、装置全体を制御するシステムコントローラ１、振動
子駆動回路５を制御する超音波照射コントローラ２、超
音波振動子１１の回転半径を調整するカム８を切転させ
るモータ６を制御する焦点移動コントローラ３、超音波
振動子１１を回転させるウォームギア９を回転させるモ
ータ７を制御する焦点移動速度コントローラ４、超音波
振動子１１に超音波を発生させるための駆動電力を供給
する振動子駆動回路５、カム８を回転させるモータ６、
超音波振動子１１を回転させるウォームギア９、カム８
の回転量を検出する焦点移動量検出センサ１０、超音波
を発生する超音波振動子１１を有している。
に基づいて説明する。図１は、本発明の超音波治療装置
の第１の実施の形態を示したブロック図である。超音波
治療装置は、超音波コントローラ２、焦点移動量コント
ローラ３、焦点移動速度コントローラ４を制御すると共
に、装置全体を制御するシステムコントローラ１、振動
子駆動回路５を制御する超音波照射コントローラ２、超
音波振動子１１の回転半径を調整するカム８を切転させ
るモータ６を制御する焦点移動コントローラ３、超音波
振動子１１を回転させるウォームギア９を回転させるモ
ータ７を制御する焦点移動速度コントローラ４、超音波
振動子１１に超音波を発生させるための駆動電力を供給
する振動子駆動回路５、カム８を回転させるモータ６、
超音波振動子１１を回転させるウォームギア９、カム８
の回転量を検出する焦点移動量検出センサ１０、超音波
を発生する超音波振動子１１を有している。
【００１８】図２は、上記した超音波振動子１１を収容
したカップリング部の斜視図である。カップリング部２
０には、４個の超音波振動子１１が収納され、それぞれ
の超音波振動子１１の軸上には、ウォームホイール１３
が装着され、これらウォームホイール１３に上記したウ
ォームギア９が噛み合っている。
したカップリング部の斜視図である。カップリング部２
０には、４個の超音波振動子１１が収納され、それぞれ
の超音波振動子１１の軸上には、ウォームホイール１３
が装着され、これらウォームホイール１３に上記したウ
ォームギア９が噛み合っている。
【００１９】従って、図１に示した１個のモータ７でウ
ォームギア９が回転されると、各音源の中心で４個のウ
ォームホイール１３が同時に回転して、各ウォームホイ
ール１３に連結された図示されない超音波振動子１１が
回転する構造となっている。図３は、超音波振動子１１
の回転機構を示した側面図であり、カム８により超音波
振動子１１をウオームホイール１３の回転軸に対して傾
斜させる構造を示している。ウォームホイール１３に支
持部（ベース）１４が固定され、この支持部１４に支持
軸１５を介して超音波振動子１１が回動可能に連結され
ている。又、超音波振動子１１のカム８側の上部はバネ
１６により支持部１５側に牽引されている。
ォームギア９が回転されると、各音源の中心で４個のウ
ォームホイール１３が同時に回転して、各ウォームホイ
ール１３に連結された図示されない超音波振動子１１が
回転する構造となっている。図３は、超音波振動子１１
の回転機構を示した側面図であり、カム８により超音波
振動子１１をウオームホイール１３の回転軸に対して傾
斜させる構造を示している。ウォームホイール１３に支
持部（ベース）１４が固定され、この支持部１４に支持
軸１５を介して超音波振動子１１が回動可能に連結され
ている。又、超音波振動子１１のカム８側の上部はバネ
１６により支持部１５側に牽引されている。
【００２０】図中、Ｐは超音波振動子１１から発生され
る超音波の収束点（以降、焦点と称する）で、Ｌは焦点
の移動量を示している。カム８がモータ６により回転さ
れると、超音波振動子１１はウォームホイール１３の回
転軸５０に対して傾斜する。モータ６には例えばマイク
ロモータが使用され、支持部１４内に格納されている。
従って、モータ６は４個のカム８毎にあり、合計４個あ
ることになる。
る超音波の収束点（以降、焦点と称する）で、Ｌは焦点
の移動量を示している。カム８がモータ６により回転さ
れると、超音波振動子１１はウォームホイール１３の回
転軸５０に対して傾斜する。モータ６には例えばマイク
ロモータが使用され、支持部１４内に格納されている。
従って、モータ６は４個のカム８毎にあり、合計４個あ
ることになる。
【００２１】次に本実施の形態の動作について説明す
る。システムコントローラ１は、超音波照射コントロー
ラ２、焦点（集束点）移動量コントローラ３、焦点移動
速度コントローラ４の各コントローラを制御する。
る。システムコントローラ１は、超音波照射コントロー
ラ２、焦点（集束点）移動量コントローラ３、焦点移動
速度コントローラ４の各コントローラを制御する。
【００２２】システムコントローラ１は、超音波照射コ
ントローラ２に超音波の強度や照射時間及びその照射タ
イミングを指示する。これを受けて、超音波照射コント
ローラ２は前記タイミングで振動子駆動回路５を起動す
ると共に、振動子駆動回路５に超音波の強度を設定す
る。振動子駆動回路５は、設定された強度の超音波が発
生されるような駆動電力を超音波振動子１１に供給す
る。このため、超音波振動子１１から前記強度の超音波
が発生される。超音波照射コントローラ２は、前記照射
時間が過ぎると、振動子駆動回路５から超音波振動子１
１への駆動電力の供給を停止して、超音波振動子１１か
らの超音波の発生を停止する。超音波駆動回路５は４個
の超音波振動子１１から発生される超音波の強度や照射
時間を一括又は個別に制御できるものとする。
ントローラ２に超音波の強度や照射時間及びその照射タ
イミングを指示する。これを受けて、超音波照射コント
ローラ２は前記タイミングで振動子駆動回路５を起動す
ると共に、振動子駆動回路５に超音波の強度を設定す
る。振動子駆動回路５は、設定された強度の超音波が発
生されるような駆動電力を超音波振動子１１に供給す
る。このため、超音波振動子１１から前記強度の超音波
が発生される。超音波照射コントローラ２は、前記照射
時間が過ぎると、振動子駆動回路５から超音波振動子１
１への駆動電力の供給を停止して、超音波振動子１１か
らの超音波の発生を停止する。超音波駆動回路５は４個
の超音波振動子１１から発生される超音波の強度や照射
時間を一括又は個別に制御できるものとする。
【００２３】尚、システムコントローラ１は、超音波の
強度や照射時間及びその照射タイミングを超音波振動子
１１毎に超音波照射コントローラ２に指示できるものと
し、超音波照射コントローラ２はこの指示に従って、４
個の超音波振動子１１対応の振動子駆動回路５を一括又
は個別に制御して、４個の超音波振動子１１から発生さ
れる超音波の強度などを一括又は個別に制御できるもの
とする。
強度や照射時間及びその照射タイミングを超音波振動子
１１毎に超音波照射コントローラ２に指示できるものと
し、超音波照射コントローラ２はこの指示に従って、４
個の超音波振動子１１対応の振動子駆動回路５を一括又
は個別に制御して、４個の超音波振動子１１から発生さ
れる超音波の強度などを一括又は個別に制御できるもの
とする。
【００２４】システムコントローラ１は、超音波振動子
１１から発生される超音波の焦点Ｐの移動量Ｌを焦点移
動量コントローラ３に指示する。これを受けて、焦点移
動量コントローラ３は、モータ６を回転させて、カム８
を前記焦点の移動量Ｌに対応するだけ回転させる。カム
８はモータ６により回転することにより超音波振動子１
１を保持している支持部（ベース）１４を押し、超音波
の集束方向を変更する。
１１から発生される超音波の焦点Ｐの移動量Ｌを焦点移
動量コントローラ３に指示する。これを受けて、焦点移
動量コントローラ３は、モータ６を回転させて、カム８
を前記焦点の移動量Ｌに対応するだけ回転させる。カム
８はモータ６により回転することにより超音波振動子１
１を保持している支持部（ベース）１４を押し、超音波
の集束方向を変更する。
【００２５】図３に示すように、カム８の前記回転によ
り、超音波振動子１１がウオームホイール１３の回転軸
５０に対して傾斜し、ウオームホイール１３の回転によ
り超音波の焦点Ｐをウォームホイール１３の回転軸５０
周りに回転させ、この時の焦点移動量Ｌが上記した指示
値に設定される。
り、超音波振動子１１がウオームホイール１３の回転軸
５０に対して傾斜し、ウオームホイール１３の回転によ
り超音波の焦点Ｐをウォームホイール１３の回転軸５０
周りに回転させ、この時の焦点移動量Ｌが上記した指示
値に設定される。
【００２６】即ち、焦点Ｐはウォームホイールの回転軸
５０上にないため、ウオームホイール１３の回転により
焦点Ｐをウォームホイールの回転軸５０周りに回転する
ことができる。尚、焦点移動量コントローラ３は４個の
超音波振動子１１の前記傾斜角度を一括又は個別に制御
できるものとする。
５０上にないため、ウオームホイール１３の回転により
焦点Ｐをウォームホイールの回転軸５０周りに回転する
ことができる。尚、焦点移動量コントローラ３は４個の
超音波振動子１１の前記傾斜角度を一括又は個別に制御
できるものとする。
【００２７】この際、支持軸１５に取り付けてある焦点
移動量検出センサ１０が前記焦点移動量Ｌを検出し、こ
れをシステムコントローラ１に知らせる。システムコン
トローラ１は前記設定された焦点移動量Ｌによって焼灼
の領域を求め、これに対応した適切な超音波の強度や照
射時間などを超音波照射コントローラ２に前述した如く
指示する。これにより、超音波照射コントローラ２は前
記指示された超音波の強度や照射時間で振動子駆動回路
５を制御する。尚、前記求めた焼灼領域に対応した適切
な超音波の強度や照射時間などは、以下に説明する超音
波振動子１１の焦点の移動速度によって変化するため、
前記適切な超音波の強度や照射時間は超音波振動子１１
の焦点の移動速度を考慮して、総合的にシステムコント
ローラ１により決定される。
移動量検出センサ１０が前記焦点移動量Ｌを検出し、こ
れをシステムコントローラ１に知らせる。システムコン
トローラ１は前記設定された焦点移動量Ｌによって焼灼
の領域を求め、これに対応した適切な超音波の強度や照
射時間などを超音波照射コントローラ２に前述した如く
指示する。これにより、超音波照射コントローラ２は前
記指示された超音波の強度や照射時間で振動子駆動回路
５を制御する。尚、前記求めた焼灼領域に対応した適切
な超音波の強度や照射時間などは、以下に説明する超音
波振動子１１の焦点の移動速度によって変化するため、
前記適切な超音波の強度や照射時間は超音波振動子１１
の焦点の移動速度を考慮して、総合的にシステムコント
ローラ１により決定される。
【００２８】システムコントローラ１は、超音波振動子
１１の移動速度（回転速度）を焦点移動速度コントロー
ラ４に指示する。これにより、焦点移動速度コントロー
ラ４は指示された移動速度となるようにモータ７を回転
させる。モータ７の回転により図２に示したウォームギ
ア９が回転し、この回転により４個のウォームホイール
１３が回転して、各ウォームホイール１３に固定されて
いる超音波振動子１１を回転させる。この際、超音波振
動子１１から発生された４本の超音波の焦点Ｐは前記指
示速度で図４に示すように回転する。この時、焦点移動
量コントローラ３で４個の超音波振動子１１から発生さ
れる超音波の焦点の軌跡が互いに重なったり、クロスし
ないように調整される。
１１の移動速度（回転速度）を焦点移動速度コントロー
ラ４に指示する。これにより、焦点移動速度コントロー
ラ４は指示された移動速度となるようにモータ７を回転
させる。モータ７の回転により図２に示したウォームギ
ア９が回転し、この回転により４個のウォームホイール
１３が回転して、各ウォームホイール１３に固定されて
いる超音波振動子１１を回転させる。この際、超音波振
動子１１から発生された４本の超音波の焦点Ｐは前記指
示速度で図４に示すように回転する。この時、焦点移動
量コントローラ３で４個の超音波振動子１１から発生さ
れる超音波の焦点の軌跡が互いに重なったり、クロスし
ないように調整される。
【００２９】本実施の形態によれば、超音波発生源であ
る超音波振動子１１を４個として、超音波の焦点を４個
としているため、各超音波の焦点での強さを従来のよう
に強くする必要がなく、しかも、各超音波振動子１１か
ら発生される超音波の焦点が所定の範囲を各焦点が重な
らないように円を描くように移動するため、強い超音波
が特定の個所に集中することがなくなり、特定の箇所を
過剰に焼灼し過ぎることを防止することができる。これ
により、病変部の組織が過熱し過ぎたり、周囲組織を不
用意に過熱することが防止でき、安全な治療を行うこと
ができる。しかも、各超音波の強さは従来例よりも弱い
が、これが４本あって移動するため、単位時間当たりの
治療領域を大きくとれ、広い範囲の病変部を斑なく短時
間で治療することができる。
る超音波振動子１１を４個として、超音波の焦点を４個
としているため、各超音波の焦点での強さを従来のよう
に強くする必要がなく、しかも、各超音波振動子１１か
ら発生される超音波の焦点が所定の範囲を各焦点が重な
らないように円を描くように移動するため、強い超音波
が特定の個所に集中することがなくなり、特定の箇所を
過剰に焼灼し過ぎることを防止することができる。これ
により、病変部の組織が過熱し過ぎたり、周囲組織を不
用意に過熱することが防止でき、安全な治療を行うこと
ができる。しかも、各超音波の強さは従来例よりも弱い
が、これが４本あって移動するため、単位時間当たりの
治療領域を大きくとれ、広い範囲の病変部を斑なく短時
間で治療することができる。
【００３０】尚、超音波振動子１１の移動を超音波モー
タなどを利用して個別に行うことができる場合は、温焦
点移動速度コントローラ３により、各超音波の収束点は
所定の距離以下に近付かないように制御したり、常に一
定の間隔を保つように制御することができ、同様の効果
がある。
タなどを利用して個別に行うことができる場合は、温焦
点移動速度コントローラ３により、各超音波の収束点は
所定の距離以下に近付かないように制御したり、常に一
定の間隔を保つように制御することができ、同様の効果
がある。
【００３１】又、上記実施の形態では、各超音波振動子
１１はウォームギア９並びにウォームホイール１３を用
いて、１個のモータ７で回転させる構成であったが、図
３の支持部１４を超音波モータなどを用いて直接回転さ
せてもよく、この場合は各超音波振動子１１の回転速度
を個別に制御できるため、焦点移動速度の制御をより巧
妙に行うことができる。
１１はウォームギア９並びにウォームホイール１３を用
いて、１個のモータ７で回転させる構成であったが、図
３の支持部１４を超音波モータなどを用いて直接回転さ
せてもよく、この場合は各超音波振動子１１の回転速度
を個別に制御できるため、焦点移動速度の制御をより巧
妙に行うことができる。
【００３２】更に上記実施の形態では超音波振動子１１
が４個あったが、複数個あれば、この数に限定されるこ
とはなく、又、超音波の発生源は１ヶ所でも、超音波の
焦点が複数個あれば、同様の効果がある。
が４個あったが、複数個あれば、この数に限定されるこ
とはなく、又、超音波の発生源は１ヶ所でも、超音波の
焦点が複数個あれば、同様の効果がある。
【００３３】図５は、本発明の超音波治療装置の第２の
実施の形態を示したブロック図である。本例は、システ
ムコントローラが無く、超音波照射コントローラ２、焦
点移動量コントローラ３、焦点移動速度コントローラ４
が振動子駆動回路５、モータ６、モータ７を制御するこ
とにより、それぞれ、超音波振動子１１からの超音波の
強さやその照射時間を制御し、又、超音波振動子１１の
角度を変えて超音波の焦点移動量を制御し、更に、ウォ
ームギア９の回転数を変えて超音波振動子１１の回転速
度を制御して、超音波焦点の移動速度を制御する。
実施の形態を示したブロック図である。本例は、システ
ムコントローラが無く、超音波照射コントローラ２、焦
点移動量コントローラ３、焦点移動速度コントローラ４
が振動子駆動回路５、モータ６、モータ７を制御するこ
とにより、それぞれ、超音波振動子１１からの超音波の
強さやその照射時間を制御し、又、超音波振動子１１の
角度を変えて超音波の焦点移動量を制御し、更に、ウォ
ームギア９の回転数を変えて超音波振動子１１の回転速
度を制御して、超音波焦点の移動速度を制御する。
【００３４】従って、超音波照射コントローラ２、焦点
移動量コントローラ３、焦点移動速度コントローラ４に
は、第１の実施の形態のシステムコントローラ１により
処理されていた事を行うためのＣＰＵが個別に付いてい
るか、又はこれらのコントローラ２、３、４の一部に付
いており、その場合は、その一部のＣＰＵが残りのコン
トローラの前記処理部分を行うように、各コントローラ
はバス（図示せず）などで接続されている。他の構成は
図１に示した第１の実施の形態と同様である。このた
め、その動作や効果は図１に示した第１の実施の形態と
同様であるが、システムコントローラが無いため、制御
系（２，３，４）、超音波振動子の機構系（６，７，
８，９）及び超音波振動子１１を一つの筐体に容易に収
納することができ、この筐体を術者が持って治療する場
合の操作性を向上させることができる。
移動量コントローラ３、焦点移動速度コントローラ４に
は、第１の実施の形態のシステムコントローラ１により
処理されていた事を行うためのＣＰＵが個別に付いてい
るか、又はこれらのコントローラ２、３、４の一部に付
いており、その場合は、その一部のＣＰＵが残りのコン
トローラの前記処理部分を行うように、各コントローラ
はバス（図示せず）などで接続されている。他の構成は
図１に示した第１の実施の形態と同様である。このた
め、その動作や効果は図１に示した第１の実施の形態と
同様であるが、システムコントローラが無いため、制御
系（２，３，４）、超音波振動子の機構系（６，７，
８，９）及び超音波振動子１１を一つの筐体に容易に収
納することができ、この筐体を術者が持って治療する場
合の操作性を向上させることができる。
【００３５】尚、超音波照射コントローラ２は焦点移動
量検出センサ１０により検出した焦点移動量Ｌによって
焼灼の領域を求め、これに対応した適切な超音波の強度
や照射時間などを決定するが、これら適切な超音波の強
度や照射時間などは、超音波振動子１１の焦点の移動速
度によって変化する。このため、超音波照射コントロー
ラ２は焦点移動速度コントローラ４から超音波振動子１
１の焦点の移動速度情報を貰って、最終的に前記適切な
超音波の強度や照射時間などを決定する。
量検出センサ１０により検出した焦点移動量Ｌによって
焼灼の領域を求め、これに対応した適切な超音波の強度
や照射時間などを決定するが、これら適切な超音波の強
度や照射時間などは、超音波振動子１１の焦点の移動速
度によって変化する。このため、超音波照射コントロー
ラ２は焦点移動速度コントローラ４から超音波振動子１
１の焦点の移動速度情報を貰って、最終的に前記適切な
超音波の強度や照射時間などを決定する。
【００３６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の超
音波治療装置によれば、病変部の過剰な焼灼や周囲組織
の不用意な温度上昇を避けることができ、且つ広い範囲
の病変部も短時間に治療することができる。
音波治療装置によれば、病変部の過剰な焼灼や周囲組織
の不用意な温度上昇を避けることができ、且つ広い範囲
の病変部も短時間に治療することができる。
【図１】本発明の超音波治療装置の第１の実施の形態を
示したブロック図である。
示したブロック図である。
【図２】図１に示した超音波振動子を収容したカップリ
ング部の斜視図である。
ング部の斜視図である。
【図３】図１に示した超音波振動子の駆動機構を示した
側面図である。
側面図である。
【図４】図１に示した装置から発生される超音波の焦点
の移動状態を説明する図である。
の移動状態を説明する図である。
【図５】本発明の超音波治療装置の第２の実施の形態を
示したブロック図である。
示したブロック図である。
１ システムコントローラ ２ 超音波照射コントローラ ３ 焦点移動量コントローラ ４ 焦点移動速度コントローラ ５ 振動子駆動回路 ６、７ モータ ８ カム ９ ウォームギア １０ 焦点移動量検出センサ １１ 超音波振動子 １３ ウォームホイール １４ 支持部 １５ 支持軸 １６ バネ
Claims (9)
- 【請求項１】 超音波を照射して生体内の病変部に収束
させることにより病変部を焼灼治療する超音波治療装置
において、 照射する超音波の集束点を複数とし、これら複数の集束
点をそれぞれ移動することを特徴とする超音波治療装
置。 - 【請求項２】 前記複数の集束点の移動は周期的である
ことを特徴とする請求項１記載の超音波治療装置。 - 【請求項３】 超音波を照射して生体内の病変部に収束
させることにより病変部を焼灼治療する超音波治療装置
において、 複数の超音波発生源と、 これら超音波発生源を回転させる回転機構と、 各超音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機
構と、 を備え、 前記傾斜機構により各超音波発生源をその回転軸に対し
て傾斜させた状態で、前記回転機構により各超音波発生
源を回転させることにより、これら超音波発生源から発
生された各超音波の収束点を円を描くように移動させる
ことを特徴とする超音波治療装置。 - 【請求項４】 前記超音波の各収束点の移動範囲の大き
さを一括又は個別に制御する移動範囲制御手段を具備す
ることを特徴とする請求項１又は２記載の超音波治療装
置。 - 【請求項５】 前記移動範囲制御手段は前記超音波の各
収束点が互いに重ならないように前記移動範囲を制御す
ることを特徴とする請求項３記載の超音波治療装置。 - 【請求項６】 前記超音波の各収束点の移動速度を一括
又は個別に制御する速度制御手段を具備することを特徴
とする請求項１乃至４いずれかに記載の超音波治療装
置。 - 【請求項７】 前記超音波の強さ及び照射時間を一括又
は個別に制御する超音波制御手段を具備することを特徴
とする請求項１乃至５いずれかに記載の超音波治療装
置。 - 【請求項８】 超音波を照射して生体内の病変部に収束
させることにより病変部を焼灼治療する超音波治療装置
において、 複数の超音波発生源と、 これら超音波発生源を回転させる回転機構と、 各超音波発生源をその回転軸に対して傾斜させる傾斜機
構と、 前記傾斜機構により前記傾斜角を変化させて前記超音波
の各収束点の移動範囲の大きさを一括又は個別に制御す
る移動範囲制御手段と、 前記回転機構により前記超音波発生源の回転速度を変化
させて前記超音波の各収束点の移動速度を一括又は個別
に制御する速度制御手段と、 前記超音波発生源から発生される前記超音波の強さ及び
照射時間を一括又は個別に制御する超音波制御手段と、 を備え、 前記傾斜機構により各超音波発生源をその回転軸に対し
て傾斜させた状態で、前記回転機構により各超音波発生
源を回転させることにより、これら超音波発生源から発
生された各超音波の収束点を円を描くように移動させる
ことを特徴とする超音波治療装置。 - 【請求項９】 前記移動範囲制御手段と前記速度制御手
段と前記超音波制御手段とを個別且つ協調的に制御する
上位制御手段を具備することを特徴とする請求項７記載
の超音波治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11008277A JP2000201942A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | 超音波治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11008277A JP2000201942A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | 超音波治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000201942A true JP2000201942A (ja) | 2000-07-25 |
Family
ID=11688697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11008277A Pending JP2000201942A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | 超音波治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000201942A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503290A (ja) * | 2003-06-10 | 2007-02-22 | ザ ファウンドリー， インコーポレイテッド | 高密度焦点式超音波を使用して心房細動を非侵襲的に処置するための方法および装置 |
| KR102789385B1 (ko) * | 2024-07-17 | 2025-04-01 | 주식회사 플러스인 | 수직 이착륙 드론 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02209139A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波治療装置 |
| JPH06285106A (ja) * | 1993-03-30 | 1994-10-11 | Shimadzu Corp | 超音波治療装置 |
| JPH07231894A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波診断治療システム |
| JPH08633A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-09 | Siemens Ag | 医療音波源および医療音波による医療機器 |
-
1999
- 1999-01-14 JP JP11008277A patent/JP2000201942A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02209139A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波治療装置 |
| JPH06285106A (ja) * | 1993-03-30 | 1994-10-11 | Shimadzu Corp | 超音波治療装置 |
| JPH07231894A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波診断治療システム |
| JPH08633A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-09 | Siemens Ag | 医療音波源および医療音波による医療機器 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503290A (ja) * | 2003-06-10 | 2007-02-22 | ザ ファウンドリー， インコーポレイテッド | 高密度焦点式超音波を使用して心房細動を非侵襲的に処置するための方法および装置 |
| KR102789385B1 (ko) * | 2024-07-17 | 2025-04-01 | 주식회사 플러스인 | 수직 이착륙 드론 |
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|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050620 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090116 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090519 |