JP2000206352A - スポットサイズ変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法 - Google Patents
スポットサイズ変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法Info
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Landscapes
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 波長に依存せず低損失にファイバと接続で
き、しかもプロセストレランスが大きいスポットサイズ
変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 基板５上にコア４、６、７を火炎堆積法
により成膜するとき、屈折率が大きいコア６、屈折率及
び高さを変化させたコア４、ファイバと低損失に接続で
きるコア高さ及び屈折率を有するコア７を一括して形成
し、そのコア４、６、７をエッチングにより屈折率及び
高さを変化させたコア４の形状をテーパ状６に形成し、
屈折率の高いコア６の形状を直線または曲線に形成し、
ファイバと接続するコア７は直線状に加工してスポット
サイズを変換するコア構造４を形成することにより、波
長に依存せず低損失でファイバと接続でき、しかもプロ
セストレランスが大きいスポットサイズ変換コア構造の
光導波路が得られる。
き、しかもプロセストレランスが大きいスポットサイズ
変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 基板５上にコア４、６、７を火炎堆積法
により成膜するとき、屈折率が大きいコア６、屈折率及
び高さを変化させたコア４、ファイバと低損失に接続で
きるコア高さ及び屈折率を有するコア７を一括して形成
し、そのコア４、６、７をエッチングにより屈折率及び
高さを変化させたコア４の形状をテーパ状６に形成し、
屈折率の高いコア６の形状を直線または曲線に形成し、
ファイバと接続するコア７は直線状に加工してスポット
サイズを変換するコア構造４を形成することにより、波
長に依存せず低損失でファイバと接続でき、しかもプロ
セストレランスが大きいスポットサイズ変換コア構造の
光導波路が得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スポットサイズ変
換コア構造を有する光導波路及びその製造方法に関す
る。
換コア構造を有する光導波路及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、比屈折率差０．８％以上のコアを
有する光導波路と、シングルモードファイバとを低損失
で接続する場合には方向性結合器が用いられていた。
有する光導波路と、シングルモードファイバとを低損失
で接続する場合には方向性結合器が用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図７は従来の比屈折率
差０．８％以上のコアを有する光導波路と、シングルモ
ードファイバとを接続するための構造を示す図である。
差０．８％以上のコアを有する光導波路と、シングルモ
ードファイバとを接続するための構造を示す図である。
【０００４】比屈折率差０．８％以上の光導波路５−６
のコア５−７を伝搬する光５−１は、光ファイバと低損
失で接続できる光導波路５−１１と、長さＬ、幅Ｇで接
続されている。コア５−７を伝搬する光５−１は、光導
波路５−１１との結合部Ｌにおいて、光５−２、５−
３、５−４と、徐々にコア５−１０に結合していき、光
５−４となり、コア５−７を伝搬した光５−１のスポッ
トサイズが、コア５−１０を伝搬する光５−５に変換し
て光ファイバと低損失で結合する。
のコア５−７を伝搬する光５−１は、光ファイバと低損
失で接続できる光導波路５−１１と、長さＬ、幅Ｇで接
続されている。コア５−７を伝搬する光５−１は、光導
波路５−１１との結合部Ｌにおいて、光５−２、５−
３、５−４と、徐々にコア５−１０に結合していき、光
５−４となり、コア５−７を伝搬した光５−１のスポッ
トサイズが、コア５−１０を伝搬する光５−５に変換し
て光ファイバと低損失で結合する。
【０００５】このような構造の場合、光の波長により完
全結合長Ｌが異なるため、特定の波長以外の光は、結合
部Ｌで損失を伴い、低損失でファイバと結合できないと
いう問題があった。また、高精度で幅Ｇ及び結合長Ｌを
達成させなくてはならず、高度なプロセス技術及び実装
技術を必要とし、歩留まりの劣化の要因となるという問
題があった。
全結合長Ｌが異なるため、特定の波長以外の光は、結合
部Ｌで損失を伴い、低損失でファイバと結合できないと
いう問題があった。また、高精度で幅Ｇ及び結合長Ｌを
達成させなくてはならず、高度なプロセス技術及び実装
技術を必要とし、歩留まりの劣化の要因となるという問
題があった。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、波長に依存せず低損失でファイバと接続でき、しか
もプロセストレランスが大きいスポットサイズ変換コア
構造を有する光導波路及びその製造方法を提供すること
にある。
し、波長に依存せず低損失でファイバと接続でき、しか
もプロセストレランスが大きいスポットサイズ変換コア
構造を有する光導波路及びその製造方法を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のスポットサイズ変換コア構造を有する光導波
路は、直線導波路コアと、直線導波路コアより幅及び高
さが小さく比屈折率差が大きい他の直線導波路コアと、
両端が両直線導波路に結合され徐々にコア幅、コア高さ
及びコアの屈折率が変化するテーパ導波路とを備えたも
のである。
に本発明のスポットサイズ変換コア構造を有する光導波
路は、直線導波路コアと、直線導波路コアより幅及び高
さが小さく比屈折率差が大きい他の直線導波路コアと、
両端が両直線導波路に結合され徐々にコア幅、コア高さ
及びコアの屈折率が変化するテーパ導波路とを備えたも
のである。
【０００８】上記構成に加え本発明のスポットサイズ変
換コア構造を有する光導波路のテーパ導波路は、コア幅
及び高さが小さい方で屈折率が大きく、コア幅及び高さ
が大きい方で屈折率が小さいのが好ましい。
換コア構造を有する光導波路のテーパ導波路は、コア幅
及び高さが小さい方で屈折率が大きく、コア幅及び高さ
が大きい方で屈折率が小さいのが好ましい。
【０００９】上記構成に加え本発明のスポットサイズ変
換コア構造を有する光導波路のテーパ導波路は、コアの
長手方向だけでなく高さ方向においても屈折率の勾配が
あるのが好ましい。
換コア構造を有する光導波路のテーパ導波路は、コアの
長手方向だけでなく高さ方向においても屈折率の勾配が
あるのが好ましい。
【００１０】上記構成に加え本発明のスポットサイズ変
換コア構造を有する光導波路の比屈折率差は、大きい方
が０．８％以上であり、小さい方が０．４５％以下であ
るのが好ましい。
換コア構造を有する光導波路の比屈折率差は、大きい方
が０．８％以上であり、小さい方が０．４５％以下であ
るのが好ましい。
【００１１】上記構成に加え本発明のスポットサイズ変
換コア構造を有する光導波路のコアは、石英基板または
シリコン基板上に形成されるのが好ましい。
換コア構造を有する光導波路のコアは、石英基板または
シリコン基板上に形成されるのが好ましい。
【００１２】本発明のスポットサイズ変換コア構造を有
する光導波路の製造方法は、直線導波路コア及び直線導
波路コアより幅及び高さが小さく比屈折率差が大きい他
の直線導波路コアが徐々にコア幅、高さ及び屈折率が変
化するテーパ導波路で結合されたスポットサイズ変換コ
ア構造を有する光導波路の製造方法であって、コアを火
炎堆積法により成膜すると共に、屈折率の変化を原料ガ
スの濃度変化により形成するものである。
する光導波路の製造方法は、直線導波路コア及び直線導
波路コアより幅及び高さが小さく比屈折率差が大きい他
の直線導波路コアが徐々にコア幅、高さ及び屈折率が変
化するテーパ導波路で結合されたスポットサイズ変換コ
ア構造を有する光導波路の製造方法であって、コアを火
炎堆積法により成膜すると共に、屈折率の変化を原料ガ
スの濃度変化により形成するものである。
【００１３】本発明によれば、基板上にコアを火炎堆積
法により成膜するとき、屈折率が大きいコア、屈折率及
び高さを変化させたコア、ファイバと低損失に接続でき
るコア高さ及び屈折率を有するコアを一括して形成し、
そのコアをエッチングにより屈折率及び高さを変化させ
たコアの形状をテーパ状に形成し、屈折率の高いコア部
の形状を直線または曲線に形成し、ファイバと接続する
コア部は直線状に加工してスポットサイズを変換するコ
ア構造を形成することにより、波長に依存せず低損失で
ファイバと接続でき、しかもプロセストレランスが大き
く、現状の実装技術で製造できるスポットサイズ変換コ
ア構造を有する光導波路が得られる。
法により成膜するとき、屈折率が大きいコア、屈折率及
び高さを変化させたコア、ファイバと低損失に接続でき
るコア高さ及び屈折率を有するコアを一括して形成し、
そのコアをエッチングにより屈折率及び高さを変化させ
たコアの形状をテーパ状に形成し、屈折率の高いコア部
の形状を直線または曲線に形成し、ファイバと接続する
コア部は直線状に加工してスポットサイズを変換するコ
ア構造を形成することにより、波長に依存せず低損失で
ファイバと接続でき、しかもプロセストレランスが大き
く、現状の実装技術で製造できるスポットサイズ変換コ
ア構造を有する光導波路が得られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
図面に基づいて詳述する。
【００１５】図１（ａ）は本発明のスポットサイズ変換
コア構造を有する光導波路の一実施の形態を示す平面図
であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面断面図であり、
図１（ｃ）は図１（ａ）の長手方向の比屈折率差を示す
図である。
コア構造を有する光導波路の一実施の形態を示す平面図
であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面断面図であり、
図１（ｃ）は図１（ａ）の長手方向の比屈折率差を示す
図である。
【００１６】本発明の光導波路の特徴は以下の３点にあ
る。
る。
【００１７】(1) 比屈折率の変化をコアの屈折率の変化
で達成した（クラッドの屈折率の変化ではない）。
で達成した（クラッドの屈折率の変化ではない）。
【００１８】(2) 比屈折率の変化する導波路を火炎堆積
法で形成した（拡散による導波路形成ではない）。
法で形成した（拡散による導波路形成ではない）。
【００１９】(3) コアの屈折率だけでなく、コアの高さ
も変化させて比屈折率変化を持たせている（コアの幅と
クラッドのコア幅方向のみの変化ではない）。
も変化させて比屈折率変化を持たせている（コアの幅と
クラッドのコア幅方向のみの変化ではない）。
【００２０】本光導波路は、コア４、６、７を基板５及
びクラッド３で埋め込んだ構造を有している。比屈折率
差が大きい方のコア６の幅Ｗ１及び高さＴ１は、比屈折
率差の小さい方のコア７の幅Ｗ２及び高さＴ２よりも小
さくなっている。これらコア６とコア７とは、幅方向及
び高さ方向にテーパ状に広がるコア４により滑らかに接
続されている。テーパ状のコア４のテーパ角θ１、θ２
は０．１度以下の角度とする。
びクラッド３で埋め込んだ構造を有している。比屈折率
差が大きい方のコア６の幅Ｗ１及び高さＴ１は、比屈折
率差の小さい方のコア７の幅Ｗ２及び高さＴ２よりも小
さくなっている。これらコア６とコア７とは、幅方向及
び高さ方向にテーパ状に広がるコア４により滑らかに接
続されている。テーパ状のコア４のテーパ角θ１、θ２
は０．１度以下の角度とする。
【００２１】コア６の比屈折率差は０．８％以上であ
り、コア６に接続される導波路素子のコアあるいは、光
ファイバを伝搬する光のスポットサイズと略一致するよ
うにコア６の比屈折率差、幅Ｗ１及び高さＴ１が設定さ
れている。また、コア７の比屈折率差は０．４５％以下
とし、コア７に接続される光ファイバを伝搬する光のス
ポットサイズと略一致するようにコア７の比屈折率差、
幅Ｗ２及び高さＴ１が設定されている。コア６とコア７
とを接続するテーパ状のコア４の比屈折率差は、コア６
の比屈折率差からコア７の比屈折率差まで比例するよう
に徐々に変化している。さらに、コア４の高さ方向にも
屈折率が変化している。
り、コア６に接続される導波路素子のコアあるいは、光
ファイバを伝搬する光のスポットサイズと略一致するよ
うにコア６の比屈折率差、幅Ｗ１及び高さＴ１が設定さ
れている。また、コア７の比屈折率差は０．４５％以下
とし、コア７に接続される光ファイバを伝搬する光のス
ポットサイズと略一致するようにコア７の比屈折率差、
幅Ｗ２及び高さＴ１が設定されている。コア６とコア７
とを接続するテーパ状のコア４の比屈折率差は、コア６
の比屈折率差からコア７の比屈折率差まで比例するよう
に徐々に変化している。さらに、コア４の高さ方向にも
屈折率が変化している。
【００２２】ここで、図１（ａ）〜（ｃ）に示した光導
波路は、コアの屈折率が変化しているので、接続される
コアの屈折率と等しくすることができ、接続部における
コアの屈折率の違いによる反射が生じない。
波路は、コアの屈折率が変化しているので、接続される
コアの屈折率と等しくすることができ、接続部における
コアの屈折率の違いによる反射が生じない。
【００２３】もし比屈折率差の変化をクラッドでとる
と、コア同士の屈折率が異なり反射が生じる。また、本
光導波路は、コアの幅と高さとが共に変化しているの
で、いかなる形状のコアにも接続できる変換導波路がで
きる。
と、コア同士の屈折率が異なり反射が生じる。また、本
光導波路は、コアの幅と高さとが共に変化しているの
で、いかなる形状のコアにも接続できる変換導波路がで
きる。
【００２４】図２（ａ）はコアの屈折率が長手方向にの
み変化している場合のコアの長手方向の断面図であり、
図２（ｂ）はコアの屈折率が長手方向だけでなく高さ方
向にも変化している場合のコアの長手方向の断面図であ
る。
み変化している場合のコアの長手方向の断面図であり、
図２（ｂ）はコアの屈折率が長手方向だけでなく高さ方
向にも変化している場合のコアの長手方向の断面図であ
る。
【００２５】同図（ａ）よりコアＣ１の屈折率が長手方
向にのみ変化している場合には入射方向（矢印１０方
向）と逆の方向に光が戻る（反射が生じる）のに対し、
同図（ｂ）よりコアＣ２の屈折率が長手方向だけでなく
高さ方向にも変化している場合には入射方向（矢印１１
方向）と逆の方向には光は戻らない（反射が生じない）
のがわかる。
向にのみ変化している場合には入射方向（矢印１０方
向）と逆の方向に光が戻る（反射が生じる）のに対し、
同図（ｂ）よりコアＣ２の屈折率が長手方向だけでなく
高さ方向にも変化している場合には入射方向（矢印１１
方向）と逆の方向には光は戻らない（反射が生じない）
のがわかる。
【００２６】すなわち、コアの長手方向だけでなく高さ
方向で屈折率が変化させることにより、屈折率の変化し
ている層からの反射戻り光を抑制することができる。
方向で屈折率が変化させることにより、屈折率の変化し
ている層からの反射戻り光を抑制することができる。
【００２７】次に図１（ａ）〜（ｃ）に示したスポット
サイズ変換コア構造を有する光導波路の製造方法につい
て述べる。
サイズ変換コア構造を有する光導波路の製造方法につい
て述べる。
【００２８】図３はスポットサイズ変換コアを成膜する
方法を説明するための説明図である。図４（ａ）はコア
のテーパ構造及び屈折率変化を形成する方法を説明する
ための説明図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ
線断面図である。図５（ａ）〜（ｆ）はスポットサイズ
変換コアの幅方向のテーパ構造形成方法の説明図であ
り、図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）は平面図を示し、図５
（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）はＤ−Ｄ線断面図、Ｅ−Ｅ線断
面図、Ｆ−Ｆ線断面図を示している。
方法を説明するための説明図である。図４（ａ）はコア
のテーパ構造及び屈折率変化を形成する方法を説明する
ための説明図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ
線断面図である。図５（ａ）〜（ｆ）はスポットサイズ
変換コアの幅方向のテーパ構造形成方法の説明図であ
り、図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）は平面図を示し、図５
（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）はＤ−Ｄ線断面図、Ｅ−Ｅ線断
面図、Ｆ−Ｆ線断面図を示している。
【００２９】コアは図３に示すように、基板２−１上に
火炎堆積法により成膜する。コアの高さは火炎堆積で成
膜する膜厚を変化させればよく、屈折率変化は火炎２−
２中で加水分解反応する原料ガス（ＳｉＣｌ4 、ＰＣｌ
3 、ＢＣｌ3 、ＧｅＣｌ4 、ＴｉＣｌ3 ）の濃度を変化
させればよい。
火炎堆積法により成膜する。コアの高さは火炎堆積で成
膜する膜厚を変化させればよく、屈折率変化は火炎２−
２中で加水分解反応する原料ガス（ＳｉＣｌ4 、ＰＣｌ
3 、ＢＣｌ3 、ＧｅＣｌ4 、ＴｉＣｌ3 ）の濃度を変化
させればよい。
【００３０】次に図４（ａ）、（ｂ）を参照して図１
（ａ）〜（ｃ）に示した光導波路の製造方法について説
明する。
（ａ）〜（ｃ）に示した光導波路の製造方法について説
明する。
【００３１】原料ガスを入れて火炎加水分解反応を起こ
している火炎２−２を、基板３−７上でＢ−Ｂ線からＣ
−Ｃ線間をライン３−１〜３−６に沿って往復させるこ
とによりガラス微粒子を成膜する。火炎２−２をＢ−Ｂ
線からＣ−Ｃ線間をライン３−１上に沿って成膜したと
き、基板３−７のＡ−Ａ線断面における堆積膜３−９
は、高さｔを有するものとすると、ライン３−２〜３−
６と火炎２−２の位置とを変えるに従って、火炎２−２
をライン３−１〜３−６上で往復する回数を徐々に増や
しながら変化させることにより、基板３−８上に高さ方
向に傾斜を有するコア膜３−１０が形成される。また、
火炎２−２中に入れる原料ガスの濃度を火炎がＢ−Ｂ
線、Ｃ−Ｃ線上の時に変化させることにより、長手方向
及び高さ方向の屈折率が変化する。このように火炎堆積
法により成膜したガラス微粒子膜は、成膜後アニール処
理を行うことでガラス化する。
している火炎２−２を、基板３−７上でＢ−Ｂ線からＣ
−Ｃ線間をライン３−１〜３−６に沿って往復させるこ
とによりガラス微粒子を成膜する。火炎２−２をＢ−Ｂ
線からＣ−Ｃ線間をライン３−１上に沿って成膜したと
き、基板３−７のＡ−Ａ線断面における堆積膜３−９
は、高さｔを有するものとすると、ライン３−２〜３−
６と火炎２−２の位置とを変えるに従って、火炎２−２
をライン３−１〜３−６上で往復する回数を徐々に増や
しながら変化させることにより、基板３−８上に高さ方
向に傾斜を有するコア膜３−１０が形成される。また、
火炎２−２中に入れる原料ガスの濃度を火炎がＢ−Ｂ
線、Ｃ−Ｃ線上の時に変化させることにより、長手方向
及び高さ方向の屈折率が変化する。このように火炎堆積
法により成膜したガラス微粒子膜は、成膜後アニール処
理を行うことでガラス化する。
【００３２】次に図５（ａ）〜（ｆ）を参照してコア膜
の成膜後の工程について説明する。
の成膜後の工程について説明する。
【００３３】図５（ａ）、（ｂ）に示す基板４−３上に
図４（ａ）、（ｂ）の工程で成膜したコア４−２をパタ
ーニングし、ＲＩＥによりコア４−２をエッチングして
図５（ｃ）、（ｄ）に示すようなコア４−４〜４−６を
基板４−３上に形成する。コア４−４〜４−６のパター
ニングでコアに幅方向のテーパ構造を持たせる。
図４（ａ）、（ｂ）の工程で成膜したコア４−２をパタ
ーニングし、ＲＩＥによりコア４−２をエッチングして
図５（ｃ）、（ｄ）に示すようなコア４−４〜４−６を
基板４−３上に形成する。コア４−４〜４−６のパター
ニングでコアに幅方向のテーパ構造を持たせる。
【００３４】図５（ｃ）に示した工程の後、基板４−３
上のコア４−４〜４−６をオーバークラッド４−７で覆
うことにより、図５（ｅ）、（ｆ）に示すような幅及び
高さ方向にテーパ構造を有し、コアの屈折率も高さ方向
及び長手方向で変化するスポットサイズ変換コア構造が
形成される。
上のコア４−４〜４−６をオーバークラッド４−７で覆
うことにより、図５（ｅ）、（ｆ）に示すような幅及び
高さ方向にテーパ構造を有し、コアの屈折率も高さ方向
及び長手方向で変化するスポットサイズ変換コア構造が
形成される。
【００３５】図６はスポットサイズ変換コア構造の応用
例である。屈折率の大きい高い屈折率部６−１のコア６
−５〜６−８が曲線導波路となりファイバアレイのコア
ピッチｐａから（接続する光導波路の）コアピッチｐｂ
までコア６−５〜６−８の間隔を狭めている。高屈折率
の導波路コアで曲り部を作ることにより素子サイズＬ１
が短くなる。
例である。屈折率の大きい高い屈折率部６−１のコア６
−５〜６−８が曲線導波路となりファイバアレイのコア
ピッチｐａから（接続する光導波路の）コアピッチｐｂ
までコア６−５〜６−８の間隔を狭めている。高屈折率
の導波路コアで曲り部を作ることにより素子サイズＬ１
が短くなる。
【００３６】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
な優れた効果を発揮する。
【００３７】波長に依存せず低損失にファイバと接続で
き、しかもプロセストレランスが大きく及び現状の実装
技術で製造できるスポットサイズ変換コア構造を有する
光導波路が得られる。
き、しかもプロセストレランスが大きく及び現状の実装
技術で製造できるスポットサイズ変換コア構造を有する
光導波路が得られる。
【図１】（ａ）は本発明のスポットサイズ変換コア構造
を有する光導波路の一実施の形態を示す平面図であり、
（ｂ）は（ａ）の側面断面図であり、（ｃ）は（ａ）の
長手方向の比屈折率差を示す図である。
を有する光導波路の一実施の形態を示す平面図であり、
（ｂ）は（ａ）の側面断面図であり、（ｃ）は（ａ）の
長手方向の比屈折率差を示す図である。
【図２】（ａ）はコアの屈折率が長手方向にのみ変化し
ている場合のコアの長手方向の断面図であり、（ｂ）は
コアの屈折率が長手方向だけでなく高さ方向にも変化し
ている場合のコアの長手方向の断面図である。
ている場合のコアの長手方向の断面図であり、（ｂ）は
コアの屈折率が長手方向だけでなく高さ方向にも変化し
ている場合のコアの長手方向の断面図である。
【図３】スポットサイズ変換コアを成膜する方法を説明
するための説明図である。
するための説明図である。
【図４】（ａ）はコアのテーパ構造及び屈折率変化を形
成する方法を説明するための説明図であり、（ｂ）は
（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
成する方法を説明するための説明図であり、（ｂ）は
（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｆ）はスポットサイズ変換コアの幅
方向のテーパ構造形成方法の説明図であり、（ａ）、
（ｃ）、（ｅ）は平面図を示し、（ｂ）、（ｄ）、
（ｆ）はＤ−Ｄ線断面図、Ｅ−Ｅ線断面図、Ｆ−Ｆ線断
面図を示している。
方向のテーパ構造形成方法の説明図であり、（ａ）、
（ｃ）、（ｅ）は平面図を示し、（ｂ）、（ｄ）、
（ｆ）はＤ−Ｄ線断面図、Ｅ−Ｅ線断面図、Ｆ−Ｆ線断
面図を示している。
【図６】スポットサイズ変換コア構造の応用例である。
【図７】従来の比屈折率差０．８％以上のコアを有する
光導波路と、シングルモードファイバとを接続するため
の構造を示す図である。
光導波路と、シングルモードファイバとを接続するため
の構造を示す図である。
３ オーバクラッド ５ 基板 ４、６、７ コア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 樫村 誠一 茨城県日立市日高町５丁目１番１号 日立 電線株式会社オプトロシステム研究所内 Ｆターム(参考） 2H037 AA01 BA31 CA34 2H047 KA04 KA13 MA05 PA01 PA21 PA24 QA04 TA32
Claims (6)
- 【請求項１】 直線導波路コアと、該直線導波路コアよ
り幅及び高さが小さく比屈折率差が大きい他の直線導波
路コアと、両端が両直線導波路に結合され徐々にコア
幅、コア高さ及びコアの屈折率が変化するテーパ導波路
とを備えたことを特徴とするスポットサイズ変換コア構
造を有する光導波路。 - 【請求項２】 上記テーパ導波路は、コア幅及び高さが
小さい方で屈折率が大きく、コア幅及び高さが大きい方
で屈折率が小さい請求項１に記載のスポットサイズ変換
コア構造を有する光導波路。 - 【請求項３】 上記テーパ導波路は、コアの長手方向だ
けでなく高さ方向においても屈折率の勾配がある請求項
１に記載のスポットサイズ変換コア構造を有する光導波
路。 - 【請求項４】 上記比屈折率差は、大きい方が０．８％
以上であり、小さい方が０．４５％以下である請求項１
に記載のスポットサイズ変換コア構造を有する光導波
路。 - 【請求項５】 上記コアは、石英基板またはシリコン基
板上に形成される請求項１に記載のスポットサイズ変換
コア構造を有する光導波路。 - 【請求項６】 直線導波路コア及び該直線導波路コアよ
り幅及び高さが小さく比屈折率差が大きい他の直線導波
路コアが徐々にコア幅、高さ及び屈折率が変化するテー
パ導波路で結合されたスポットサイズ変換コア構造を有
する光導波路の製造方法であって、上記コアを火炎堆積
法により成膜すると共に、屈折率の変化を原料ガスの濃
度変化により形成することを特徴とするスポットサイズ
変換コア構造を有する光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP789799A JP2000206352A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | スポットサイズ変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP789799A JP2000206352A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | スポットサイズ変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000206352A true JP2000206352A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=11678382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP789799A Pending JP2000206352A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | スポットサイズ変換コア構造を有する光導波路及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000206352A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6778737B2 (en) | 2001-04-05 | 2004-08-17 | Nec Corporation | Optical waveguide with spot size changing core structure and method for manufacturing the same |
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| US7099540B2 (en) | 2002-01-15 | 2006-08-29 | Nec Corporation | Optical coupling device and process for fabrication thereof |
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| WO2018128100A1 (ja) * | 2017-01-04 | 2018-07-12 | 住友電気工業株式会社 | モードフィールド変換素子、モードフィールド変換部品、及びモードフィールド変換素子の製造方法 |
-
1999
- 1999-01-14 JP JP789799A patent/JP2000206352A/ja active Pending
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041109 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050107 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051011 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060221 |