JP2000206537A - 液晶素子、及び該液晶素子の製造方法 - Google Patents

液晶素子、及び該液晶素子の製造方法

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JP2000206537A
JP2000206537A JP11005806A JP580699A JP2000206537A JP 2000206537 A JP2000206537 A JP 2000206537A JP 11005806 A JP11005806 A JP 11005806A JP 580699 A JP580699 A JP 580699A JP 2000206537 A JP2000206537 A JP 2000206537A
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Toshimitsu Tanaka
登志満 田中
Takahiro Hachisu
高弘 蜂巣
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶注入時における液晶の充填不良を低減す
る。 【解決手段】 基板間隙にはスペーサー部材2が配置さ
れているが、液晶3を注入する際には、該液晶3はスペ
ーサー部材2と配向膜7a,7bとの隅部Eを通って進
行する。ここで、スペーサー部材2の一部(2a)は画
素領域Dにも配置されているため、該領域Dにおける基
板間隙の如何にかかわらず液晶3は該領域Dに円滑に充
填される。これにより、液晶3の充填不良が低減され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的には、基板
間隙をスペーサー部材にて規定してなる液晶素子及び該
液晶素子の製造方法に係り、詳しくは該スペーサー部材
の形状に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、種々の情報を表示する表示装
置としてはCRTが知られているが、このCRTはTV
画像やVTR画像の動画表示やパソコンのモニター等の
様々な用途に用いられている。
【0003】しかしながら、このCRTは、以下のよう
な種々の問題点があった。すなわち、 * 静止画像を表示する場合には、フリッカや解像度不
足に起因して走査縞などが視認されてしまい、画像品質
が悪くなる点 * 静止画像を表示する場合に焼きつきによる蛍光灯の
劣化が生じる点 * 電磁波を発生させて人体に悪影響を及ぼす(例え
ば、VDT作業者の健康を害する)おそれがある点 * 画面の後方に広いスペースを必要とし、オフィスや
家庭の省スペース化を阻害する点 このため、最近では、このような問題点を解決する表示
装置として液晶パネル(液晶素子)がCRTの代わりに
用いられてきており、表示素子としてばかりでなく、光
のスイッチングを行う光シャッターとしても用いられて
いる。
【0004】このような液晶パネルとしては種々のもの
がある。すなわち、 * ツイステッド・ネマチック(Twisted Ne
matic;TN)液晶を用いたもの(エム・シャット
(M.Schadt)ダブリュー・ヘルフリッヒ(W.
Helfrich)著“Applied Physic
s Letters 第18巻、第4号(1971年2
月15日発行)第127頁〜128頁”参照)がある。
この液晶パネルには、単純マトリックスタイプのものと
TFTタイプのもの(公知のように一つ一つの画素にト
ランジスタを配置したもの)とがあるが、いずれも欠点
がある。すなわち、前者は、安価に製造できてコスト面
で優位性を持つ反面、画素密度を高くした場合において
は時分割駆動の際にクロストークが発生するという欠点
(換言すれば、クロストークの発生を回避するには画素
密度をあまり高くできないという欠点)を有しており、
後者は、トランジスタによってクロストークの欠点が解
決されると共に応答速度の問題は解決される反面、不良
画素が発生し易いことから大面積の液晶パネルを量産す
ることが困難であり、量産しようとすれば製造歩留りの
低下等に基づき製造コストがアップしてしまうという欠
点がある。 * 上述のようなTN液晶パネルの欠点を有しないもの
として、強誘電性を示す液晶分子の屈折率異方性を利用
し、偏光素子と組み合わせることによって透過光線を制
御する型の液晶パネル(以下、“強誘電性液晶パネル”
とする)が、クラーク(Clark)及びラガーウォー
ル(Lagerwall)により提案されている(特開
昭56−107216号公報、米国特許第436792
4号明細書等)。
【0005】この液晶(以下、“強誘電性液晶”とす
る)は、一般に特定の温度域においてカイラルスメクチ
ックC相(SmC*)又はH相(SmH*)を有し、こ
の状態において、加えられる電界に応答して第1の光学
的安定状態と第2の光学的安定状態のいずれかを取り、
かつ電界の印加のないときはその状態を維持する性質、
すなわち双安定性メモリー性を有し、また、自発分極に
よって反転スイッチングを行うことから非常に速い応答
速度を示し、さらに視野角特性も優れていることから、
高速、高精細、大画面の表示装置として適している。
【0006】さらに、上述した強誘電性液晶パネルは、
初期配向段階では第1の安定状態に配向した液晶分子
と、第2の安定状態に配向した液晶分子とがドメイン中
に混在した状態になっている。即ち、双安定状態のカイ
ラルスメクチック液晶では、液晶分子を第1の安定状態
に配向させる配向規制力と、第2の安定状態に配向させ
る配向規制力とがほぼ均等のエネルギーレベルを持って
いるため、カイラルスメクチック液晶が双安定性を示す
のに十分に薄くした配向膜厚の状態下で配向するとき
に、ドメイン内に第1の安定状態と第2の安定状態に配
向した液晶分子が初期配向段階で混在していることにな
る。 * また、同様の液晶分子の屈折率異方性と自発分極を
利用して液晶パネルを構成する技術として、反強誘電性
を示す液晶(以下、“反強誘電性液晶”とする)を利用
したものが知られている。この反強誘電性液晶は、一般
に特定の温度領域においてカイラルスメクチックCA相
(SmCA*)を有し、この状態において無電界時には
平均的な光学安定状態はスメクチック層法線方向になる
が、電界印加によって平均的な光学安定状態が層法線方
向から傾く性質を有する。その上、反強誘電性液晶の場
合も自発分極と電界のカップリングによるスイッチング
を行うため、非常に速い応答速度を示し、高速の液晶パ
ネルへの利用が期待されている。
【0007】ところで、上述したいずれの液晶パネル
も、図4に符号P2 で示すように、ほぼ平行に配置され
た一対のガラス基板1a,1bを備えており、各ガラス
基板1a,1bには透明電極4a,4bがそれぞれ支持
されている。また、これら一対のガラス基板1a,1b
の間の間隙(以下、“基板間隙”とする)には液晶3が
挟持されており、液晶3は、透明電極4a,4b間に一
定の閾値以上の電圧を印加することによって駆動される
ようになっている。
【0008】なお、符号6a,6bは、透明電極4a,
4bを覆うように形成された絶縁膜を示し、符号7a,
7bは配向膜を示す。また、符号20はブラックマトリ
ックスを示し、符号21は、ブラックマトリックス20
を覆うように形成された膜を示す。
【0009】ところで、このような液晶パネルP2 にお
いては、基板間隙が画面全ての部分において均一でない
と、液晶3に印加される電界が均一でなくなってしま
い、画像ムラが発生して画像品質が悪くなってしまうと
いう問題があった。特に、強誘電性液晶(FLC)や反
強誘電性液晶(A−FLC)を用いた液晶パネルの場合
には、基板間隙を狭く(1〜3μm程度)する必要があ
ることから、基板間隙の不均一の度合いが僅かであって
も画像品質に大きく影響することとなる。
【0010】そこで、微粒子状のスペーサ−22を基板
間隙に配置して該間隙を規定し、微粒子状の接着剤23
を基板間隙に配置して、両基板1a,1bを接着して基
板間隙を保持するように構成されていた。
【0011】しかしながら、このようなスペーサー22
や接着剤23を用いる場合には、それらをガラス基板1
a又は1bに散布した後で2枚のガラス基板1a,1b
を貼り合わせるという製造方法を採る必要があり、スペ
ーサー22や接着剤23を散布する箇所を選択すること
は不可能で画素領域D/非画素領域Cを問わずこれらが
配置されてしまうこととなる。そして、これらのスペー
サー22や接着剤23が配置された箇所の周辺において
は配向欠陥が発生してしまうことから、画素領域Dに発
生した配向欠陥は、コントラストが十分に得られない等
の画像欠陥を引き起こしてしまうという問題点があっ
た。
【0012】ここで、画素領域Dとは、電極4a,4b
を介して液晶3に電圧を印加することにより液晶3がス
イッチングされて画像の形成に寄与する領域をいい、非
画素領域Cとは、画素領域D以外の領域であって、液晶
3がスイッチングされないか、液晶3がスイッチングさ
れたとしても画像の形成に寄与しないような領域をい
う。また、カラー表示する液晶パネルにおいて画素領域
を色別に区別する必要がある場合には、赤色表示をする
画素領域を符号DR で示し、緑色表示をする画素領域を
符号DG で示し、青色表示をする画素領域を符号DB
示し、白色表示をする画素領域を符号DW で示し、これ
らを区別しない場合には単に“画素領域D”とする(以
下、本明細書において同じ)。
【0013】ところで、上述したような微粒子状のスペ
ーサー22や接着剤23に特有の問題(すなわち、配向
欠陥や画像欠陥の発生)を回避する液晶パネルとして
は、図5(a) (b) に符号P3 で示すものがある。
【0014】この液晶パネルP3 は、ストライプ状のス
ペーサー32を備えているが、このスペーサー32は、
フレキソ印刷法とフォトリソグラフィー法とを用いた
り、ドライフィルム状のものを貼付することによって基
板間隙に配置することができるため、スペーサー32が
非画素領域Cにのみ形成されるようにその配置箇所を選
択することが可能となり、画素領域Dにおける配向欠陥
の発生を防止し、画像欠陥の発生を抑えることができ
る。
【0015】なお、符号5はカラーフィルターを示し、
符号9はカラーフィルターの平坦化膜を示す。また、符
号6a,6b,7a,7bについては発明の実施の形態
の欄にて詳述する。ここで、カラーフィルター5を色別
に区別する必要がある場合には、赤色のカラーフィルタ
ーを符号5Rで示し、緑色のカラーフィルターを符号5
Gで示し、青色のカラーフィルターを符号5Bで示し、
白色のカラーフィルターを符号5Wで示し、これらを区
別しない場合には単に“カラーフィルター5”とする
(以下、本明細書において同じ)。
【0016】さらに、基板間隙には、基板1a,1bの
周縁に沿うようにシール剤8が配置されている(図2参
照)。なお、このシール剤8は、後述のように液晶3を
基板間隙に注入するまでは一部は塗布されずに液晶注入
口8aとして基板間隙を開口し、該注入を終了した後に
閉塞されるようになっている。
【0017】そして、このような液晶パネルP3 は、次
のような順序で製造されていた。すなわち、 * 一方のガラス基板1aに透明電極4aや配向膜7a
を形成すると共に、他方のガラス基板1bには透明電極
4bや配向膜7bと共にスペーサー32を形成し、 * いずれか一方のガラス基板1a又は1bにシール剤
8を塗布し(但し、一部にはシール剤8を塗布せずに液
晶注入口8aを形成しておき)、 * これら2枚のガラス基板1a,1bを貼り合わせて
加圧し、さらに加熱や光照射を行ってシール剤8やスペ
ーサー32を硬化させて液晶セルを作成し、 * 液晶セルの基板間隙に液晶3を注入し、 * 上述した液晶注入口8aを封止して、液晶パネルP
3 を作成していた。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】ところで、注入される
液晶3は、毛細管現象の一般的な理論に従って、スペー
サー32の隅部Eを通って進行するが、その注入条件は
液晶注入口8aからの距離に基づいて変化し、また、画
素領域Dにおける基板間隙寸法は画素毎に多少異なるこ
とから、全ての画素領域Dに液晶3が円滑に充填される
とは限らない。例えば、各画素領域DR ,DG ,DB
W に赤・緑・青・白のカラーフィルター5R,5G,
5B,5Wを配置した場合、赤・緑の画素領域DR ,D
G には液晶3は直に充填されるものの、青・白の画素領
域DB ,DW には液晶3は直には充填されず多少の時間
が経過した後で充填される。そして、かかる場合には、
画素領域DR ,DG における液晶の配向状態と画素領域
B ,DW における液晶の配向状態とは異なるものとな
ってしまうという問題があった。
【0019】そこで、本発明は、配向状態のムラや駆動
特性のムラを低減する液晶素子を提供することを目的と
するものである。
【0020】また、本発明は、液晶の充填不良等を低減
する液晶素子を提供することを目的とするものである。
【0021】さらに、本発明は、上述した液晶素子を製
造する液晶素子の製造方法を提供することを目的とする
ものである。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明は上記事情を考慮
してなされたものであり、ほぼ平行に配置された一対の
基板と、これら一対の基板の間に配置されてこれら一対
の基板の基板間隙を規定するスペーサー部材と、該基板
間隙に配置された液晶と、該液晶を挟み込むと共にマト
リクス状に配置されて複数の画素領域と非画素領域とを
構成する略ストライプ状の一対の電極と、前記液晶を前
記基板間隙に注入するときには開口されて該注入に用い
られると共に該注入を終了した後に閉塞される液晶注入
口と、を備え、かつ、前記電極を介して電圧を印加する
ことにより前記液晶を駆動する液晶素子において、前記
スペーサー部材は、前記非画素領域において前記液晶注
入口の近傍から離れる方向に延設され、かつ、その一部
は前記画素領域に配置された、ことを特徴とする。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、図1乃至図3を参照して、
本発明の実施の形態について説明する。
【0024】本発明に係る液晶素子は、図1(a) に符号
1 で示すように、ほぼ平行に配置された一対の基板1
a,1bを備えており、これら一対の基板1a,1bの
間にはスペーサー部材2が配置されて、これら一対の基
板1a,1bの基板間隙を規定するように構成されてい
る。また、該基板間隙には液晶3が配置されており、該
液晶3を挟み込むように一対の電極4a,4bが配置さ
れている。これらの一対の電極4a,4bは、略ストラ
イプ状をしていてマトリクス状に配置されており、複数
の画素領域Dと非画素領域Cとを構成している。さら
に、液晶素子P1は、図2に示す液晶注入口8aを備え
ており、該注入口8aは、前記液晶3を前記基板間隙に
注入するときには開口されて該注入に用いられると共に
該注入を終了した後に閉塞されるようになっている。そ
して、前記電極4a,4bを介して電圧を印加すること
により前記液晶3を駆動するようになっている。
【0025】ところで、上述したスペーサー部材2は、
図1(b) に示すように、前記非画素領域Cにおいて前記
液晶注入口8aの近傍から離れる方向(図示の上下方
向)に延設されており、しかも、その一部2a(以下、
“出っ張り部2a”とする)は前記画素領域Dに配置さ
れている。この場合、前記出っ張り部2aは、各画素領
域Dにおいて、該領域Dの50分の1以下の面積の部分
に配置すると良い。なお、図1(b) に示す出っ張り部2
aは、各画素領域Dに1つずつ配置されたものである
が、もちろんこれに限る必要はなく、図3に符号12a
で示すように、各画素領域Dに複数個ずつ配置するよう
にしてもよい。
【0026】また、前記スペーサー部材2は前記電極4
a又は4bに沿うように配置すると良く、基板1a,1
bの面方向に沿って所定間隙を開けた状態に複数配置す
ると良い。
【0027】さらに、1つのスペーサー部材2は、図1
(a) では、断面形状が略長方形で側面(液晶3に接する
面)は基板1a,1bに対して垂直となるように形成さ
れているが、もちろんこれに限る必要はなく、正方形や
台形等であっても良く、側面は、傾斜した平面であって
も曲面であっても良い。
【0028】さらに、各スペーサー部材2は、基板間隙
を規定するために、その上下両面がいずれも各基板1
a,1bの側(基板1a,1bの表面に後述のように絶
縁膜6a,6bや配向膜7a,7bを形成した場合には
それら配向膜7a,7b等の表面)に接するように形成
されている必要があるが、一方の基板1a又は1bの側
にのみ接着されていて他方の基板1b又は1aの側には
接着されていなくても、或は、両方の基板1a,1bの
側に接着されていても良い。なお、スペーサー部材2に
はアクリル系感光性樹脂を用いれば良い。
【0029】一方、前記各画素領域Dにカラーフィルタ
ー5R,5G,5B,…を配置しても良い。この場合、
カラーフィルター5R,5G,5B,…の色を赤・緑・
青色にすると良く、白色も含めると良い。なお、これら
のカラーフィルター5R,…を覆うように平坦化膜9を
形成しても良い。
【0030】また、前記電極4a,4bは、前記基板1
a,1bに支持させれば良い。さらに、電極4a,4b
にはITO(インジウム・ティン・オキサイド)等から
なる透明電極を用いると良く、ITOを用いる場合に
は、その厚みを400〜2000Åにすれば良い。
【0031】またさらに、これらの電極4a,4bを覆
うように、絶縁膜6a,6bやポリイミド等からなる配
向膜7a,7bを形成すると良い。なお、絶縁膜6a,
6bは、塗布・焼成タイプの絶縁膜材料をオングストロ
ーマーなどにより印刷・塗布し、200〜300℃の温
度で焼成して形成すれば良く、その厚みは400〜25
00Åにすると良い。
【0032】また、前記液晶3としては、強誘電性又は
反強誘電性を示すカイラルスメクチック液晶や、その他
の液晶を挙げることができる。
【0033】さらに、液晶素子P1 は、前記電極4a,
4bをそれぞれの基板1a,1bに互いに直交するよう
に形成して単純マトリクス方式としても良く(図2参
照)、各画素領域DにTFT等を配置してアクティブマ
トリクス方式としても良い。
【0034】またさらに、図2に示すように、基板1
a,1bの周縁に沿うと共に基板間隙を封止するように
シール剤8を配置し、このシール剤8によって上述した
液晶注入口8aを形成すると良い。
【0035】また、非画素領域Cには、遮光層となるブ
ラックマトリックス13を配置しても良い。
【0036】次に、本発明に係る液晶素子の製造方法に
ついて説明する。
【0037】一対の電極4a,4bを略ストライプ状に
形成すると共に、少なくとも一方の基板1a又は1bに
スペーサー部材2を配置する。この場合、前記電極4
a,4bは、それぞれの基板1a,1bに形成しても良
く、また、前記電極4a,4bを覆うように絶縁膜6
a,6bや配向膜7a,7bを形成しても良い。さら
に、カラー表示用の液晶素子を作成する場合には、カラ
ーフィルター5を形成しても良い。また、スペーサー部
材2を形成する方法としては、光や熱を加えることによ
って硬化する材料であって硬化する前のものを基板1
a,1bの表面に印刷法等によって塗布し、該材料を硬
化し、さらにフォトリソグラフィー法によってパターニ
ングする方法を挙げることができる。
【0038】次に、このスペーサー部材2を挟み込むよ
うに2枚の基板1a,1bを貼り合わせる。これによ
り、これら2枚の基板1a,1bは、ほぼ平行に配置さ
れることとなり、その基板間隙はスペーサー部材2によ
って規定されることとなる。また、一対の電極4a,4
bは、前記液晶3を挟み込むと共にマトリクス状に配置
されて複数の画素領域Dと非画素領域Cとを構成する。
このとき、基板間隙を開口する液晶注入口8aを形成し
ておく。
【0039】次に、液晶注入口8aから基板間隙に液晶
3を注入する。スペーサー部材2は、前記非画素領域C
において前記液晶注入口8aの近傍から離れる方向に延
設されているため、液晶3は、スペーサー部材2の隅部
(符号E参照)を通って進行する。
【0040】そして、液晶3の注入を終了した後に液晶
注入口8aを閉塞する。
【0041】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
【0042】本実施の形態によれば、スペーサー部材2
を上述のように配置することにより、前記一対の基板1
a,1bの基板間隙をその全面に亘って均一にでき、そ
の結果、液晶3の配向状態が均一となって駆動特性のム
ラを低減でき、画像品質の悪化を低減できる。
【0043】また、本実施の形態によれば、スペーサー
部材の出っ張り部2aが画素領域Dに配置されているた
め、液晶注入時に、スペーサー部材2に沿って進行して
きた液晶3は、出っ張り部2aに沿って各画素領域Dに
円滑に充填される。したがって、液晶3の充填は、全て
の画素領域Dに対して液晶注入工程終了時までになさ
れ、液晶3が充填されない画素や、液晶3の充填が遅れ
てなされる画素の発生を回避できる。その結果、液晶3
の配向状態が均一となり、画像品質が向上される。換言
すれば、上述のような液晶3の充填不良を防止できるよ
うな液晶3の注入条件を選択する必要がなくなり、その
注入条件の選択の自由度が広がり、液晶3の注入時間を
短縮して液晶素子P1 の製造時間を短縮でき、これによ
ってコストダウンを図ることができる。
【0044】ここで、前記スペーサー部材2は、図1
(b) に示すように、そのほとんどの部分が非画素領域C
に配置されているため、画素領域Dにおける配向欠陥の
発生、並びに画像欠陥の発生を抑えることができる。各
画素領域Dにおいて、前記出っ張り部2aを該領域Dの
50分の1以下の面積の部分に配置した場合には、この
効果は顕著であり、コントラストの低下を低減できる。
【0045】また、各スペーサー部材2の上下両面を両
方の基板1a,1bの側に接着した場合には、2枚の基
板1a,1bの接着強度が向上され、例えば液晶3を基
板間隙に注入する場合や液晶素子P1 を床に落としてし
まった場合においても、均一な基板間隙を維持すること
ができ、画像品質の悪化を防止できる。
【0046】
【実施例】以下、実施例に沿って本発明を更に詳細に説
明する。 (実施例1)本実施例においては、図1及び図2に示す
液晶パネル(液晶素子)P1 を作成した。
【0047】すなわち、一方のガラス基板1bの画素領
域Dには、赤・緑・青・白色のカラーフィルター5R,
5G,5B,5Wを配置し、これらのカラーフィルター
5R,5G,5B,5Wを覆うように平坦化膜9を配置
した。また、一方の電極4bは平坦化膜9の表面に形成
し、他方の電極4aは基板1aの表面に直接形成した。
さらに、これらの電極4a,4bを覆うように絶縁膜6
a,6bや配向膜7a,7bを形成した。またさらに、
基板1a,1bの周縁部であって基板間隙には、エポキ
シ樹脂の接着剤であるシール剤8を配置し、該シール剤
8によって基板間隙を封止すると共に一部に液晶注入口
8aを形成した。
【0048】なお、基板1a,1bにはガラス基板を用
いた。
【0049】また、電極4a,4bには、ITO(イン
ジウム・ティン・オキサイド)からなる多数のストライ
プ状の透明電極を用い、液晶パネルP1 自体を単純マト
リクス方式とした。
【0050】さらに、配向膜7a,7bは、200Åの
厚みとし、ポリイミド膜(日立化成(株)製、商品名;
LQ−1800)にて形成した。
【0051】また、スペーサー部材2は、一方の電極4
bに沿うように所定間隙を開けた状態で互いに平行にな
るように多数配置し、その断面形状を略長方形として側
面が基板1a,1bに対して垂直になるようにした。さ
らに、スペーサー部材2は、配向膜7a,7bの間に配
置して、該部材2の上下両面は配向膜7a,7bに接着
することとし、スペーサー部材2にはアクリル系感光性
樹脂(製品名;JNPC−43、日本合成ゴム社製)を
用いた。また、出っ張り部2aは、各画素領域D毎に1
つずつ設け、該領域Dの50分の1以下の面積の部分に
配置することとした。なお、スペーサー部材2は、スト
ライプ状とし、その形成幅を25μmとし、ピッチを2
30μmとし、厚さを1.3μmとした。
【0052】さらに、液晶3には強誘電性液晶(CS1
014、チッソ(株)社製)を用いた。
【0053】ついで、液晶パネルP1 の製造方法につい
て説明する。
【0054】まず、一方のガラス基板1bの表面にカラ
ーフィルター5や平坦化膜9を形成した。そして、この
平坦化膜9の表面には、スパッタ法によってITO膜を
700Åの厚さに形成し、フォトリソグラフィー法を用
いて該ITO膜をストライプ状にパターニングし、透明
電極4bを形成した。
【0055】また、この透明電極4bを覆うように絶縁
膜6bを形成し、さらに、上述したポリイミド膜をスピ
ナーで塗布し、加熱焼成処理を施して配向膜7bを形成
した。
【0056】次に、スペーサー部材2を以下の方法で作
成した。すなわち、 * 上述したアクリル系感光性材料の、配向膜7bの表
面へのスピンコート、 * 80〜90℃の温度での180secのプリベー
ク、 * 室温への冷却、 * 超高圧水銀ランプと露光マスクとを使用した紫外線
の照射(但し、照射エネルギーは250mJ/cm2
(@365nm)) * 専用アルカリ現像液(CD−902/N−メチルピ
ロペリジン1%水溶液)による30sec間の現像、 * 純水を用いたリンス、 * クリーンオーブンを用いたポストベーク(200
℃、10min) 次に、配向膜7bの表面にラビング処理を施した。
【0057】なお、他方のガラス基板1aには、カラー
フィルター5や平坦化膜9は形成せず、透明電極4aや
絶縁膜6bや配向膜7bを上述と同様の方法により形成
した。
【0058】次に、一方のガラス基板1aにはシール剤
8を塗布し、2枚のガラス基板1a,1bを、ラビング
方向が平行になると共に透明電極4a,4bが互いに直
交するように貼り合わせた。なお、この貼り合わせに際
しては、150℃で1.5時間の加熱を行い、シール剤
8等を硬化させた。
【0059】次に、液晶セルの基板間隙に液晶注入口8
aから強誘電性液晶3を注入して液晶パネルP1 を作成
した。なお、液晶セルは120℃の温度で2時間加熱
し、1×10-6Torrまで減圧して液晶セル内の空気
を排出させ、液晶注入口8aに液晶3を塗布し、大気圧
(760Torr)に戻し、かつ加熱した。
【0060】そして、液晶3の注入を終了した後に液晶
注入口8aを閉塞した。
【0061】次に、本実施例の効果について説明する。
【0062】本実施例にて製造した液晶パネルP1 は、
液晶3の配向状態が均一であり、画像品質が良好であっ
た。また、液晶3の充填不良も発見されず、コントラス
トの低下もなかった。
【0063】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
スペーサー部材を上述のように配置することにより、前
記一対の基板の基板間隙をその全面に亘って均一にで
き、その結果、液晶の配向状態が均一となって駆動特性
のムラを低減でき、画像品質の悪化を低減できる。
【0064】また、本発明によれば、スペーサー部材の
一部が画素領域に配置されているため、液晶注入時に、
スペーサー部材に沿って進行してきた液晶は、出っ張っ
た部分に沿って各画素領域に円滑に充填される。したが
って、液晶の充填は、全ての画素領域に対して液晶注入
工程終了時までになされ、液晶が充填されない画素や、
液晶の充填が遅れてなされる画素の発生を回避できる。
その結果、液晶の配向状態が均一となり、画像品質が向
上される。換言すれば、上述のような液晶の充填不良を
防止できるような液晶の注入条件を選択する必要がなく
なり、その注入条件の選択の自由度が広がり、液晶の注
入時間を短縮して液晶素子の製造時間を短縮でき、これ
によってコストダウンを図ることができる。
【0065】ここで、前記スペーサー部材は、そのほと
んどの部分が非画素領域に配置されているため、画素領
域における配向欠陥の発生、並びに画像欠陥の発生を抑
えることができる。各画素領域において、前記出っ張り
部2aを該領域の50分の1以下の面積の部分に配置し
た場合には、この効果は顕著であり、コントラストの低
下を低減できる。
【0066】また、各スペーサー部材の上下両面を両方
の基板の側に接着した場合には、2枚の基板の接着強度
が向上され、例えば液晶を基板間隙に注入する場合や液
晶素子を床に落としてしまった場合においても、均一な
基板間隙を維持することができ、画像品質の悪化を防止
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る液晶素子の構造の一例を示す図で
あり、(a) は断面図、(b) は平面図。
【図2】本発明に係る液晶素子の全体構造の一例を示す
平面図。
【図3】本発明に係る液晶素子の構造の他の例を示す平
面図。
【図4】従来の液晶パネルの構造の一例を示す断面図。
【図5】従来の液晶パネルの構造の他の例を示す断面
図。
【符号の説明】
1a,1b ガラス基板(基板) 2 スペーサー部材 3 液晶 4a,4b 電極 5R,5G,5B,5W カラーフィルター 8a 液晶注入口 12 スペーサー部材 C 非画素領域 D 画素領域 P1 液晶パネル(液晶素子)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ほぼ平行に配置された一対の基板と、こ
    れら一対の基板の間に配置されてこれら一対の基板の基
    板間隙を規定するスペーサー部材と、該基板間隙に配置
    された液晶と、該液晶を挟み込むと共にマトリクス状に
    配置されて複数の画素領域と非画素領域とを構成する略
    ストライプ状の一対の電極と、前記液晶を前記基板間隙
    に注入するときには開口されて該注入に用いられると共
    に該注入を終了した後に閉塞される液晶注入口と、を備
    え、かつ、前記電極を介して電圧を印加することにより
    前記液晶を駆動する液晶素子において、 前記スペーサー部材は、前記非画素領域において前記液
    晶注入口の近傍から離れる方向に延設され、かつ、その
    一部は前記画素領域に配置された、 ことを特徴とする液晶素子。
  2. 【請求項2】 前記スペーサー部材は、各画素領域にお
    いて、該領域の50分の1以下の面積の部分に配置され
    てなる、 ことを特徴とする請求項1に記載の液晶素子。
  3. 【請求項3】 前記スペーサー部材は前記電極に沿うよ
    うに配置されてなる、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶素子。
  4. 【請求項4】 前記スペーサー部材が、前記基板の面方
    向に沿って所定間隙を開けた状態に複数配置されてな
    る、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載
    の液晶素子。
  5. 【請求項5】 前記スペーサー部材は、前記各基板の側
    に接着されてなる、 ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載
    の液晶素子。
  6. 【請求項6】 前記各画素領域にカラーフィルターが配
    置された、 ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載
    の液晶素子。
  7. 【請求項7】 前記カラーフィルターの色が赤・緑・青
    色である、 ことを特徴とする請求項6に記載の液晶素子。
  8. 【請求項8】 前記カラーフィルターが白色のものも有
    する、 ことを特徴とする請求項7に記載の液晶素子。
  9. 【請求項9】 前記電極が前記基板に支持されてなる、 ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載
    の液晶素子。
  10. 【請求項10】 前記液晶が、強誘電性又は反強誘電性
    を示すカイラルスメクチック液晶である、 ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載
    の液晶素子。
  11. 【請求項11】 一対の電極を略ストライプ状に形成す
    ると共に少なくとも一方の基板にスペーサー部材を配置
    する工程と、該スペーサー部材を挟み込むように一対の
    基板を貼り合わせる工程と、前記一対の基板の基板間隙
    に液晶を注入する工程と、からなる液晶素子の製造方法
    において、 前記スペーサ部材を、その一部が画素領域に配置される
    ように形成する、 ことを特徴とする液晶素子の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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