JP2000208255A - 有機エレクトロルミネセント表示装置及びその製造方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネセント表示装置及びその製造方法Info
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】有機ＥＬ素子において、フォトリソグラフィや
メタルマスクを用いることなく、有機ＥＬ層のパターニ
ングを行う。 【解決手段】先ず、陽極基板１上に透明電極２及び正孔
輸送層３を形成する。次いで、金属ストリップ１１とそ
の周囲を覆う有機発光層１２とからなり、赤、緑及び青
色の光を発する三種類の積層素子１６を形成し、これら
の積層素子１６を、有機発光層１２が上方を向くよう
に、絶縁基板１０上に配列する。その後、透明電極２と
積層素子１６とが相互に交差し、かつ、正孔輸送層３と
有機発光層１２とが相互に対向するように、陽極基板１
と絶縁基板１０とを相互に重ね合わせる。
メタルマスクを用いることなく、有機ＥＬ層のパターニ
ングを行う。 【解決手段】先ず、陽極基板１上に透明電極２及び正孔
輸送層３を形成する。次いで、金属ストリップ１１とそ
の周囲を覆う有機発光層１２とからなり、赤、緑及び青
色の光を発する三種類の積層素子１６を形成し、これら
の積層素子１６を、有機発光層１２が上方を向くよう
に、絶縁基板１０上に配列する。その後、透明電極２と
積層素子１６とが相互に交差し、かつ、正孔輸送層３と
有機発光層１２とが相互に対向するように、陽極基板１
と絶縁基板１０とを相互に重ね合わせる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネセント層（以下、「有機ＥＬ層」と呼ぶ）を用いた
有機エレクトロルミネセント表示装置（以下、「有機Ｅ
Ｌ表示装置」と呼ぶ）及びその製造方法に関する。
ミネセント層（以下、「有機ＥＬ層」と呼ぶ）を用いた
有機エレクトロルミネセント表示装置（以下、「有機Ｅ
Ｌ表示装置」と呼ぶ）及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機エレクトロルミネセント素子（以
下、「有機ＥＬ素子」と呼ぶ）は、アノードと、カソー
ドと、これらアノードとカソードの２種の電極間に挟ま
れ、有機発光性化合物からなる超薄膜の有機ＥＬ層と、
からなる。アノードとカソード間に電圧を印加すると、
アノードからは正孔が、カソードからは電子がそれぞれ
有機ＥＬ層に注入されて再結合し、その際に生ずるエネ
ルギーにより有機ＥＬ層を構成する有機発光性化合物の
分子が励起される。このようにして励起された分子が基
底状態に失活する過程で発光現象が生じる。有機ＥＬ素
子はこの発光現象を利用した発光素子である。
下、「有機ＥＬ素子」と呼ぶ）は、アノードと、カソー
ドと、これらアノードとカソードの２種の電極間に挟ま
れ、有機発光性化合物からなる超薄膜の有機ＥＬ層と、
からなる。アノードとカソード間に電圧を印加すると、
アノードからは正孔が、カソードからは電子がそれぞれ
有機ＥＬ層に注入されて再結合し、その際に生ずるエネ
ルギーにより有機ＥＬ層を構成する有機発光性化合物の
分子が励起される。このようにして励起された分子が基
底状態に失活する過程で発光現象が生じる。有機ＥＬ素
子はこの発光現象を利用した発光素子である。
【０００３】有機ＥＬ層は、正孔と電子が再結合して発
光する発光層と呼ばれる有機層、正孔が注入されやす
く、かつ、電子を移動させにくい正孔輸送層と呼ばれる
有機層、及び、電子が注入されやすく、かつ、正孔を移
動させにくい電子輸送層と呼ばれる有機層のうち少なく
とも一つを含む単層構造または多層積層構造を有してい
る。
光する発光層と呼ばれる有機層、正孔が注入されやす
く、かつ、電子を移動させにくい正孔輸送層と呼ばれる
有機層、及び、電子が注入されやすく、かつ、正孔を移
動させにくい電子輸送層と呼ばれる有機層のうち少なく
とも一つを含む単層構造または多層積層構造を有してい
る。
【０００４】有機ＥＬ素子を構成する薄膜は、通常、真
空蒸着法で形成され、膜厚は通常１μｍ以下である。こ
れら薄膜を形成する際に水や酸又はアルカリ溶液を用い
ると、それらは有機ＥＬ層、有機ＥＬ層とカソードとの
界面及びカソードに浸潤していくため、有機ＥＬ層の発
光性能及び寿命特性を著しく劣化させてしまう問題があ
った。
空蒸着法で形成され、膜厚は通常１μｍ以下である。こ
れら薄膜を形成する際に水や酸又はアルカリ溶液を用い
ると、それらは有機ＥＬ層、有機ＥＬ層とカソードとの
界面及びカソードに浸潤していくため、有機ＥＬ層の発
光性能及び寿命特性を著しく劣化させてしまう問題があ
った。
【０００５】従って、有機ＥＬ層の高精細分離加工に
は、従来良く知られているウェットエッチングを使った
フォトリソグラフィ技術を用いることはできなかった。
は、従来良く知られているウェットエッチングを使った
フォトリソグラフィ技術を用いることはできなかった。
【０００６】また、ドライエッチング法によっても、レ
ジストの塗布、現像及び剥離の各工程において、溶剤、
現像液、剥離液が有機ＥＬ層あるいはカソードに損傷を
与えることがあるため、ドライエッチング法も用いるこ
とはできなかった。
ジストの塗布、現像及び剥離の各工程において、溶剤、
現像液、剥離液が有機ＥＬ層あるいはカソードに損傷を
与えることがあるため、ドライエッチング法も用いるこ
とはできなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】これまで、このような
有機ＥＬ素子を使ってカラーディスプレイを製作する方
式として、大きく分けて次の３種の方式が提案されてい
る。
有機ＥＬ素子を使ってカラーディスプレイを製作する方
式として、大きく分けて次の３種の方式が提案されてい
る。
【０００８】第一の方式は、白色発光の有機ＥＬ素子を
用い、赤、緑及び青の３原色に塗り分けられたカラーフ
ィルターを通してカラー化する方式である。例えば、特
開平８−９６９５９号公報がこの白色発光素子とカラー
フィルターとを使ったカラー化技術を開示している。
用い、赤、緑及び青の３原色に塗り分けられたカラーフ
ィルターを通してカラー化する方式である。例えば、特
開平８−９６９５９号公報がこの白色発光素子とカラー
フィルターとを使ったカラー化技術を開示している。
【０００９】この方式は、透過型カラー液晶などで広く
採用されている方式と原理的に同様な方式である。この
方式によれば、フォトリソグラフィ技術を用いてカラー
フィルターの高精細化を容易に行うことができ、さら
に、白色発光の一種類の有機ＥＬ素子を用意すればよい
ため、有機層のパターニングが不要である。このため、
製造が簡単であるという利点がある。
採用されている方式と原理的に同様な方式である。この
方式によれば、フォトリソグラフィ技術を用いてカラー
フィルターの高精細化を容易に行うことができ、さら
に、白色発光の一種類の有機ＥＬ素子を用意すればよい
ため、有機層のパターニングが不要である。このため、
製造が簡単であるという利点がある。
【００１０】しかし、原理的には、この方式は、白色発
光中の不要な波長成分をフィルターでカットしてしまう
ものであるため、有機ＥＬ素子の発光の大部分を無駄に
捨てることになり、有機ＥＬ素子の発光を効率的に利用
することができないという欠点を有している。
光中の不要な波長成分をフィルターでカットしてしまう
ものであるため、有機ＥＬ素子の発光の大部分を無駄に
捨てることになり、有機ＥＬ素子の発光を効率的に利用
することができないという欠点を有している。
【００１１】さらには、この方式の前提として、発光効
率が高く、かつ、寿命が長い白色発光有機材料を開発す
ることが必要であるが、このような有機材料の開発は極
めて困難であるという問題もある。
率が高く、かつ、寿命が長い白色発光有機材料を開発す
ることが必要であるが、このような有機材料の開発は極
めて困難であるという問題もある。
【００１２】第二の方式は、青色発光の有機ＥＬ素子と
色変換層とを使う、色変換と呼ばれる方式である。例え
ば、特開平３−１５２８９７号公報がこの色変換方式に
よる有機ＥＬ素子のカラー化技術を開示している。
色変換層とを使う、色変換と呼ばれる方式である。例え
ば、特開平３−１５２８９７号公報がこの色変換方式に
よる有機ＥＬ素子のカラー化技術を開示している。
【００１３】この色変換方式は、有機ＥＬ素子を用い
て、波長の短い青色光を発光させ、青色光より長い波長
の緑色光と赤色光はそれぞれ色変換層を介して変換して
作り出す方式である。この方式によれば、第一の方式と
同様に有機ＥＬ素子を微細化することは必要ではなく、
また、フォトリソグラフィ技術により色変換層の高精細
化を行うことが可能であるため、高精細カラー化が比較
的容易であるという利点がある。
て、波長の短い青色光を発光させ、青色光より長い波長
の緑色光と赤色光はそれぞれ色変換層を介して変換して
作り出す方式である。この方式によれば、第一の方式と
同様に有機ＥＬ素子を微細化することは必要ではなく、
また、フォトリソグラフィ技術により色変換層の高精細
化を行うことが可能であるため、高精細カラー化が比較
的容易であるという利点がある。
【００１４】しかし、現実には色変換層の変換効率を高
くすることは極めて困難であり、従って、この方式は有
機ＥＬ素子の発光の利用効率が低いという欠点を有す
る。
くすることは極めて困難であり、従って、この方式は有
機ＥＬ素子の発光の利用効率が低いという欠点を有す
る。
【００１５】また、色変換層のパターニングを行う際
に、その表面の平坦性を確保することが難しく、平坦化
層を設けてもその上に透明電極を断線せずにパターニン
グすることが困難であるという問題もあった。
に、その表面の平坦性を確保することが難しく、平坦化
層を設けてもその上に透明電極を断線せずにパターニン
グすることが困難であるという問題もあった。
【００１６】以上のような欠点を有する有機ＥＬ素子の
カラー化方式に対して、有機ＥＬ素子の発光を効率よく
表示に利用することができるカラー化方式として、それ
ぞれ赤、緑及び青の３原色を発光する有機ＥＬ素子をそ
れぞれ独立に形成して配置する方式が提案されている。
カラー化方式に対して、有機ＥＬ素子の発光を効率よく
表示に利用することができるカラー化方式として、それ
ぞれ赤、緑及び青の３原色を発光する有機ＥＬ素子をそ
れぞれ独立に形成して配置する方式が提案されている。
【００１７】この方式においては、メタルマスクなどの
シャドウマスクを基板と蒸着源との間に置き、シャドウ
マスクの開口部を介して蒸着物を基板上に堆積させるこ
とにより、パターニングが行われる。この方式によれ
ば、有機ＥＬ素子の発光のうち、フィルターや色変換層
などを通過することにより生じるロスはなくなり、高い
変換効率の下に有機ＥＬ素子をカラー化することが可能
になる。
シャドウマスクを基板と蒸着源との間に置き、シャドウ
マスクの開口部を介して蒸着物を基板上に堆積させるこ
とにより、パターニングが行われる。この方式によれ
ば、有機ＥＬ素子の発光のうち、フィルターや色変換層
などを通過することにより生じるロスはなくなり、高い
変換効率の下に有機ＥＬ素子をカラー化することが可能
になる。
【００１８】しかしながら、この方式には大きな欠点が
あった。それは３原色の有機ＥＬ素子を独立に配置する
方法として、前述したように、ウェットエッチングプロ
セスを使うことができないため、メタルマスクなどのシ
ャドウマスクを使ってパターニングをしなければなら
ず、高精細なパターニングや大面積のパターニングがで
きないという問題である。
あった。それは３原色の有機ＥＬ素子を独立に配置する
方法として、前述したように、ウェットエッチングプロ
セスを使うことができないため、メタルマスクなどのシ
ャドウマスクを使ってパターニングをしなければなら
ず、高精細なパターニングや大面積のパターニングがで
きないという問題である。
【００１９】本発明は、以上のような従来の有機ＥＬ素
子における問題点に鑑みてなされたものであり、フォト
リソグラフィやメタルマスクを用いずに、有機ＥＬ層の
パターニングを行うことができ、かつ、高精細や大面積
のパターニングを可能にする有機ＥＬ素子及びその製造
方法を提供することを目的とする。
子における問題点に鑑みてなされたものであり、フォト
リソグラフィやメタルマスクを用いずに、有機ＥＬ層の
パターニングを行うことができ、かつ、高精細や大面積
のパターニングを可能にする有機ＥＬ素子及びその製造
方法を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明のうち、請求項１は、陽極基板上にパターニ
ングされた透明電極を形成する第一の過程と、透明電極
上に正孔輸送層を形成する第二の過程と、赤、緑及び青
色の光を発する発光層をそれぞれ有する三種類の発光素
子を形成する第三の過程と、絶縁基板上に、発光層が上
方を向くように三種類の発光素子を配置する第四の過程
と、透明電極と発光素子とが相互に交差し、かつ、正孔
輸送層と発光層とが相互に対向するように、陽極基板と
絶縁基板とを相互に重ね合わせる第五の過程と、相互に
重ね合わされた陽極基板及び絶縁基板の周囲を封止する
第六の過程と、からなる有機エレクトロルミネセント表
示装置の製造方法を提供する。
め、本発明のうち、請求項１は、陽極基板上にパターニ
ングされた透明電極を形成する第一の過程と、透明電極
上に正孔輸送層を形成する第二の過程と、赤、緑及び青
色の光を発する発光層をそれぞれ有する三種類の発光素
子を形成する第三の過程と、絶縁基板上に、発光層が上
方を向くように三種類の発光素子を配置する第四の過程
と、透明電極と発光素子とが相互に交差し、かつ、正孔
輸送層と発光層とが相互に対向するように、陽極基板と
絶縁基板とを相互に重ね合わせる第五の過程と、相互に
重ね合わされた陽極基板及び絶縁基板の周囲を封止する
第六の過程と、からなる有機エレクトロルミネセント表
示装置の製造方法を提供する。
【００２１】本請求項に係る方法によれば、発光素子を
構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラフィ
やメタルマスクを使わずに行うことができるため、カラ
ー有機ＥＬ表示素子を容易に製作することができる。
構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラフィ
やメタルマスクを使わずに行うことができるため、カラ
ー有機ＥＬ表示素子を容易に製作することができる。
【００２２】また、メタルマスクなどのシャドウマスク
を用いることなく、発光層をパターニングすることがで
きるため、高精細なパターニングや大面積のパターニン
グを行うことが可能になる。
を用いることなく、発光層をパターニングすることがで
きるため、高精細なパターニングや大面積のパターニン
グを行うことが可能になる。
【００２３】請求項２に記載されているように、第三の
過程において、発光素子は、例えば、ストリップ状の金
属片の表面に、金属陰極と、赤、緑又は青色の光を発す
る有機発光層とを順次積層させることにより、形成する
ことができる。
過程において、発光素子は、例えば、ストリップ状の金
属片の表面に、金属陰極と、赤、緑又は青色の光を発す
る有機発光層とを順次積層させることにより、形成する
ことができる。
【００２４】発光素子をこのように形成することによ
り、各発光色ごとに別々に発光素子を形成することがで
きるので、メタルマスクやフォトリソグラフィの方法と
比較して、無駄になる材料を少なくすることができ、生
産コストを抑制することができる。
り、各発光色ごとに別々に発光素子を形成することがで
きるので、メタルマスクやフォトリソグラフィの方法と
比較して、無駄になる材料を少なくすることができ、生
産コストを抑制することができる。
【００２５】また、各発光色毎に発光素子を形成するこ
とができるので、各発光色の材料が混ざり合うことがな
く、混色が起きない。
とができるので、各発光色の材料が混ざり合うことがな
く、混色が起きない。
【００２６】さらに、不良の発光素子は工程途中に一つ
一つ交換することができるので、ロスコストを少なく、
ひいては、製品歩留まりを高くすることができる。
一つ交換することができるので、ロスコストを少なく、
ひいては、製品歩留まりを高くすることができる。
【００２７】また、陰極として金属ストリップを用いる
ことができるので、陰極の配線抵抗を極めて小さくする
ことができる。
ことができるので、陰極の配線抵抗を極めて小さくする
ことができる。
【００２８】請求項３に記載されているように、第三の
過程において、発光層の表面には、光を散乱させる光散
乱層を形成することが好ましい。
過程において、発光層の表面には、光を散乱させる光散
乱層を形成することが好ましい。
【００２９】あるいは、請求項４に記載されているよう
に、金属片の表面には、光を乱反射させるための凹凸を
形成することが好ましい。
に、金属片の表面には、光を乱反射させるための凹凸を
形成することが好ましい。
【００３０】このように、金属ストリップの表面に凹凸
を形成することにより、陰極の反射特性を制御すること
が可能になり、高コントラスト表示を達成することがで
きる。
を形成することにより、陰極の反射特性を制御すること
が可能になり、高コントラスト表示を達成することがで
きる。
【００３１】請求項５は、陽極基板と、絶縁基板と、陽
極基板上に形成され、第一の方向に延びる複数本のライ
ン状の透明電極と、透明電極上に形成された正孔輸送層
と、正孔輸送層と絶縁基板の間に配置され、第一の方向
と交差する第二の方向に延び、かつ、赤、緑及び青色の
光を発する発光層をそれぞれ有し、発光層が正孔輸送層
と接している三種類の発光素子と、からなる有機エレク
トロルミネセント表示装置を提供する。
極基板上に形成され、第一の方向に延びる複数本のライ
ン状の透明電極と、透明電極上に形成された正孔輸送層
と、正孔輸送層と絶縁基板の間に配置され、第一の方向
と交差する第二の方向に延び、かつ、赤、緑及び青色の
光を発する発光層をそれぞれ有し、発光層が正孔輸送層
と接している三種類の発光素子と、からなる有機エレク
トロルミネセント表示装置を提供する。
【００３２】請求項６に記載されているように、発光素
子は、ストリップ状の金属片と、金属片の表面上に形成
された金属陰極と、金属陰極上に形成され、赤、緑及び
青色の光を発する有機発光層と、からなるものであるこ
とが好ましい。
子は、ストリップ状の金属片と、金属片の表面上に形成
された金属陰極と、金属陰極上に形成され、赤、緑及び
青色の光を発する有機発光層と、からなるものであるこ
とが好ましい。
【００３３】請求項７に記載されているように、発光層
の表面には、光を散乱させる光散乱層が形成されている
ことが好ましい。
の表面には、光を散乱させる光散乱層が形成されている
ことが好ましい。
【００３４】請求項８に記載されているように、金属片
の表面には、光を乱反射させるための凹凸が形成されて
いることが好ましい。
の表面には、光を乱反射させるための凹凸が形成されて
いることが好ましい。
【００３５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る有機ＥＬ表示装置の縦断面図である。
る有機ＥＬ表示装置の縦断面図である。
【００３６】図１に示すように、本実施形態に係る有機
ＥＬ表示装置は、板ガラスからなる陽極基板１を備えて
おり、この陽極基板１上には、複数本のライン状の透明
電極２と、透明電極２上に形成された正孔輸送層３とが
形成されている。
ＥＬ表示装置は、板ガラスからなる陽極基板１を備えて
おり、この陽極基板１上には、複数本のライン状の透明
電極２と、透明電極２上に形成された正孔輸送層３とが
形成されている。
【００３７】ライン状の透明電極２は、図１の左右の方
向に相互に平行に延びている。
向に相互に平行に延びている。
【００３８】本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、さ
らに、絶縁基板１０を備えており、この絶縁基板１０上
には、三原色の光を発光する発光素子１６が並べて配置
されている。
らに、絶縁基板１０を備えており、この絶縁基板１０上
には、三原色の光を発光する発光素子１６が並べて配置
されている。
【００３９】各発光素子１６は、図１の紙面と垂直の方
向に延びている金属ストリップ１１と、金属ストリップ
１１の周囲に形成された金属陰極（図示せず）と、金属
陰極上に形成された、発光性有機化合物からなる有機発
光層１２と、からなっている。金属陰極及び有機発光層
１２は、金属ストリップ１１の一側面が露出するように
金属ストリップ１１を覆っており、各発光素子１６は、
露出した金属ストリップ１１の一側面が絶縁基板１０に
接するようにして、それぞれ絶縁基板１０に取り付けら
れている。
向に延びている金属ストリップ１１と、金属ストリップ
１１の周囲に形成された金属陰極（図示せず）と、金属
陰極上に形成された、発光性有機化合物からなる有機発
光層１２と、からなっている。金属陰極及び有機発光層
１２は、金属ストリップ１１の一側面が露出するように
金属ストリップ１１を覆っており、各発光素子１６は、
露出した金属ストリップ１１の一側面が絶縁基板１０に
接するようにして、それぞれ絶縁基板１０に取り付けら
れている。
【００４０】さらに、各発光素子１６は、赤、緑及び青
の光を発する発光素子がこの順番になるように、交互に
絶縁基板１０上に取り付けられている。
の光を発する発光素子がこの順番になるように、交互に
絶縁基板１０上に取り付けられている。
【００４１】陽極基板１と絶縁基板１０とは、正孔輸送
層３と有機発光層１２とが相互に接するようにして、接
着剤層１３を介して相互に張り合わされている。
層３と有機発光層１２とが相互に接するようにして、接
着剤層１３を介して相互に張り合わされている。
【００４２】本実施形態に係る有機ＥＬ素子によれば、
発光素子１６を構成する有機発光層１２のパターニング
をフォトリソグラフィやメタルマスクを使わずに行うこ
とができるため、カラー有機ＥＬ表示素子を容易に製作
することができる。
発光素子１６を構成する有機発光層１２のパターニング
をフォトリソグラフィやメタルマスクを使わずに行うこ
とができるため、カラー有機ＥＬ表示素子を容易に製作
することができる。
【００４３】また、図７に示すように、発光素子１６を
形成する金属ストリップ１１の表面には、光を乱反射さ
せる光散乱層としての凹凸１１ａを形成することができ
る。光散乱層としての凹凸１１ａを設けることにより、
透明電極２側から照射される外光が金属ストリップ１１
の表面において鏡面反射せず、乱反射する。この結果、
外光を発する照明器具や太陽の映り込みを防止すること
ができ、画像のコントラストを向上させることができ
る。
形成する金属ストリップ１１の表面には、光を乱反射さ
せる光散乱層としての凹凸１１ａを形成することができ
る。光散乱層としての凹凸１１ａを設けることにより、
透明電極２側から照射される外光が金属ストリップ１１
の表面において鏡面反射せず、乱反射する。この結果、
外光を発する照明器具や太陽の映り込みを防止すること
ができ、画像のコントラストを向上させることができ
る。
【００４４】次いで、図１に示した本実施形態に係る有
機ＥＬ素子の製造方法を以下に説明する。図２は、有機
ＥＬ素子の製造方法における各過程を示すフローチャー
トである。
機ＥＬ素子の製造方法を以下に説明する。図２は、有機
ＥＬ素子の製造方法における各過程を示すフローチャー
トである。
【００４５】先ず、図３に示すように、厚さ０．３ｍｍ
乃至１．１ｍｍの板ガラスからなる陽極基板１にスパッ
ター法によりＩＴＯ（酸化インジウム錫）膜を約５０ｎ
ｍ乃至３００ｎｍの厚みで成膜する（図２のステップ１
００）。
乃至１．１ｍｍの板ガラスからなる陽極基板１にスパッ
ター法によりＩＴＯ（酸化インジウム錫）膜を約５０ｎ
ｍ乃至３００ｎｍの厚みで成膜する（図２のステップ１
００）。
【００４６】板ガラスとしては、水分の吸着が少ない無
アルカリガラス、例えば、コーニング社の７０５９ガラ
スや１７３７ガラスが望ましいが、基板乾燥を充分行う
ことによって安価な低アルカリガラス板あるいはソーダ
ライムガラス板を用いることもできる。
アルカリガラス、例えば、コーニング社の７０５９ガラ
スや１７３７ガラスが望ましいが、基板乾燥を充分行う
ことによって安価な低アルカリガラス板あるいはソーダ
ライムガラス板を用いることもできる。
【００４７】このガラス基板１に成膜されたＩＴＯ膜
を、フォトリソグラフィ法によるウェットエッチングに
より、相互に間隔をあけて縦方向（図３の左右方向）に
延びるようにストライプ状にパターニングし、透明電極
２を形成した（図２のステップ１１０）。
を、フォトリソグラフィ法によるウェットエッチングに
より、相互に間隔をあけて縦方向（図３の左右方向）に
延びるようにストライプ状にパターニングし、透明電極
２を形成した（図２のステップ１１０）。
【００４８】ＩＴＯ膜のパターン形状は任意に選択する
ことができる。例えば、本実施形態においては、各透明
電極２の幅は３３０μｍとし、隣接する透明電極２相互
間の間隔を３０μｍとした。
ことができる。例えば、本実施形態においては、各透明
電極２の幅は３３０μｍとし、隣接する透明電極２相互
間の間隔を３０μｍとした。
【００４９】このようにしてパターニングされた透明電
極２を有する陽極基板１を、透明電極２を下にして真空
蒸着装置内に入れる。すなわち、透明電極２が蒸着源に
向かい合うようにする。蒸着源の抵抗加熱ボートまたは
坩堝に正孔輸送性の有機化合物としてのＮ，Ｎ'-ジフェ
ニル-Ｎ，Ｎ'-ビス(α-ナフチル)-１，１'-ビフェニル-
４，４'-ジアミン（以下、「α−ＮＰＤ」と呼ぶ）を秤
量して入れる。抵抗加熱ボートまたは坩堝には加熱用ヒ
ーターが組み込まれている。
極２を有する陽極基板１を、透明電極２を下にして真空
蒸着装置内に入れる。すなわち、透明電極２が蒸着源に
向かい合うようにする。蒸着源の抵抗加熱ボートまたは
坩堝に正孔輸送性の有機化合物としてのＮ，Ｎ'-ジフェ
ニル-Ｎ，Ｎ'-ビス(α-ナフチル)-１，１'-ビフェニル-
４，４'-ジアミン（以下、「α−ＮＰＤ」と呼ぶ）を秤
量して入れる。抵抗加熱ボートまたは坩堝には加熱用ヒ
ーターが組み込まれている。
【００５０】次いで、真空ポンプで真空蒸着装置内を１
×１０-4Ｐａ以下程度まで排気する。
×１０-4Ｐａ以下程度まで排気する。
【００５１】この後、図４に示すようなメタルマスク１
４を陽極基板１と蒸着源との間において、陽極基板１に
対して固定されるように配置する。メタルマスク１４に
は、図４に示すように、陽極基板１に有機ＥＬ層を蒸着
させる範囲を四角形にくり抜いて、複数のスリット１５
が形成されている。本実施形態においては、各スリット
１５は、メタルマスク１４を陽極基板１と重ね合わせた
ときに、各透明電極２とそれぞれ重なり合うように設け
られている。
４を陽極基板１と蒸着源との間において、陽極基板１に
対して固定されるように配置する。メタルマスク１４に
は、図４に示すように、陽極基板１に有機ＥＬ層を蒸着
させる範囲を四角形にくり抜いて、複数のスリット１５
が形成されている。本実施形態においては、各スリット
１５は、メタルマスク１４を陽極基板１と重ね合わせた
ときに、各透明電極２とそれぞれ重なり合うように設け
られている。
【００５２】メタルマスク１４を陽極基板１と蒸着源と
の間に配置させた後、α−ＮＰＤを入れた抵抗加熱ボー
トまたは坩堝に組み込まれているヒーターに電流を流
し、α−ＮＰＤを加熱し、透明電極２上ににα−ＮＰＤ
を膜厚５０ｎｍになるまで蒸着させる。
の間に配置させた後、α−ＮＰＤを入れた抵抗加熱ボー
トまたは坩堝に組み込まれているヒーターに電流を流
し、α−ＮＰＤを加熱し、透明電極２上ににα−ＮＰＤ
を膜厚５０ｎｍになるまで蒸着させる。
【００５３】このようにして、透明電極２上にα−ＮＰ
Ｄをを蒸着させ、正孔輸送層３が形成される（図２のス
テップ１２０）。
Ｄをを蒸着させ、正孔輸送層３が形成される（図２のス
テップ１２０）。
【００５４】一方、厚み約２０μｍ、幅約１００μｍの
金属ストリップ１１を製作する（図２のステップ２０
０）。
金属ストリップ１１を製作する（図２のステップ２０
０）。
【００５５】この金属ストリップ１１を、図５に示すよ
うに、真空蒸着装置内に入れ、蒸着源１７内の蒸着材料
１８を加熱することにより、金属陰極（図示せず）と有
機発光層１２とを金属ストリップ１１に蒸着させ、発光
素子１６を製作する（図２のステップ２１０）。
うに、真空蒸着装置内に入れ、蒸着源１７内の蒸着材料
１８を加熱することにより、金属陰極（図示せず）と有
機発光層１２とを金属ストリップ１１に蒸着させ、発光
素子１６を製作する（図２のステップ２１０）。
【００５６】金属ストリップ１１は、例えば、直径約５
０μｍの銅線を圧延ローラーで圧延して製作する。
０μｍの銅線を圧延ローラーで圧延して製作する。
【００５７】金属ストリップ１１の材質としては、導電
性があれば、銅以外の金属を用いることもできる。例え
ば、鉄、銀、金、アルミニウム、クロム、コバルト、ス
ズ、ニッケル、白金などでも良く、またこれらの合金で
も良い。
性があれば、銅以外の金属を用いることもできる。例え
ば、鉄、銀、金、アルミニウム、クロム、コバルト、ス
ズ、ニッケル、白金などでも良く、またこれらの合金で
も良い。
【００５８】また、金属をストリップ状に加工する方法
も線材の圧延法に限定されるものではない。例えば、薄
板から切断して製作する方法や型に入れて抜く方法、溶
融金属を細長い穴から抜き出して冷却して製作する方法
などをも選択することができる。
も線材の圧延法に限定されるものではない。例えば、薄
板から切断して製作する方法や型に入れて抜く方法、溶
融金属を細長い穴から抜き出して冷却して製作する方法
などをも選択することができる。
【００５９】金属陰極は次のようにして形成される。先
ず、アルミニウムを抵抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、
真空蒸着装置内で膜厚５０ｎｍになるまで金属ストリッ
プ１１に蒸着する。次に、リチウムとアルミニウムを別
々の抵抗加熱ボートまたは坩堝に入れて同時に加熱し、
リチウムとアルミニウムとを膜厚２０ｎｍになるまで金
属陰極上に共蒸着する。このようにして、アルミニウム
と、リチウム及びアルミニウムとの積層構造からなる金
属陰極が形成される。 金属陰極を形成した後、蒸着源
の抵抗加熱ボートまたは坩堝にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム錯体（以下、「Ａｌｑ３」という）を
秤量して入れ、前述と同様にして、ヒーターによりＡｌ
ｑ３を加熱し、膜厚５０ｎｍになるまで金属陰極上にＡ
ｌｑ３を蒸着する。
ず、アルミニウムを抵抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、
真空蒸着装置内で膜厚５０ｎｍになるまで金属ストリッ
プ１１に蒸着する。次に、リチウムとアルミニウムを別
々の抵抗加熱ボートまたは坩堝に入れて同時に加熱し、
リチウムとアルミニウムとを膜厚２０ｎｍになるまで金
属陰極上に共蒸着する。このようにして、アルミニウム
と、リチウム及びアルミニウムとの積層構造からなる金
属陰極が形成される。 金属陰極を形成した後、蒸着源
の抵抗加熱ボートまたは坩堝にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム錯体（以下、「Ａｌｑ３」という）を
秤量して入れ、前述と同様にして、ヒーターによりＡｌ
ｑ３を加熱し、膜厚５０ｎｍになるまで金属陰極上にＡ
ｌｑ３を蒸着する。
【００６０】以上のようにして金属ストリップ１１上
に、アルミニウムの蒸着とアルミニウム及びリチウムの
混合物の共蒸着とにより形成した金属陰極、緑色を発光
する有機発光層１２を順次積層させた緑色発光用発光素
子１６Ｇが形成される。
に、アルミニウムの蒸着とアルミニウム及びリチウムの
混合物の共蒸着とにより形成した金属陰極、緑色を発光
する有機発光層１２を順次積層させた緑色発光用発光素
子１６Ｇが形成される。
【００６１】次いで、有機発光層１２を形成する有機化
合物として、Ａｌｑ３と４−ジシアノメチレン−２−メ
チル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピ
ラン（以下、「ＤＣＭ」と呼ぶ）とを用い、ＤＣＭがＡ
ｌｑ３の５ｗｔ％になるように別々の蒸着源からそれら
を別個の金属ストリップ１１の金属陰極上に共蒸着す
る。有機発光層１２は膜厚が約５０ｎｍになるまで成膜
する。このようにして、赤色発光用発光素子１６Ｒが形
成される。
合物として、Ａｌｑ３と４−ジシアノメチレン−２−メ
チル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピ
ラン（以下、「ＤＣＭ」と呼ぶ）とを用い、ＤＣＭがＡ
ｌｑ３の５ｗｔ％になるように別々の蒸着源からそれら
を別個の金属ストリップ１１の金属陰極上に共蒸着す
る。有機発光層１２は膜厚が約５０ｎｍになるまで成膜
する。このようにして、赤色発光用発光素子１６Ｒが形
成される。
【００６２】同様にして、有機発光層１２を形成する有
機化合物としてペリレンを用い、ペリレンを秤量し、抵
抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、ヒーターにより加熱す
る。膜厚が約５０ｎｍとなるまで別個の金属ストリップ
１１の金属陰極上に蒸着し、青色発光用発光素子１６Ｂ
を作製する。
機化合物としてペリレンを用い、ペリレンを秤量し、抵
抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、ヒーターにより加熱す
る。膜厚が約５０ｎｍとなるまで別個の金属ストリップ
１１の金属陰極上に蒸着し、青色発光用発光素子１６Ｂ
を作製する。
【００６３】次いで、図６に示すように、絶縁基板１０
の上に、発光層１２が上になるようにして、すなわち、
各発光素子１６の金属ストリップ１１の露出面が絶縁基
板１０に接するようにして、赤、緑、青、赤、緑、青、
…と一定の順序に各発光素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを
並べる（図２のステップ２２０）。
の上に、発光層１２が上になるようにして、すなわち、
各発光素子１６の金属ストリップ１１の露出面が絶縁基
板１０に接するようにして、赤、緑、青、赤、緑、青、
…と一定の順序に各発光素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを
並べる（図２のステップ２２０）。
【００６４】絶縁基板１０には予め接着剤が塗布されて
おり、各発光素子１６はこの接着剤を介して絶縁基板１
０に固着される。
おり、各発光素子１６はこの接着剤を介して絶縁基板１
０に固着される。
【００６５】次いで、各発光素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６
Ｂの各有機発光層１２上に正孔輸送層３を対向させるよ
うにして、陽極基板１を絶縁基板１０上に載せる。この
時、透明電極２と金属ストリップ１１とは互いに交差す
る配置にする。すなわち、本実施形態においては、透明
電極２は図３の左右方向に延びているのに対して、金属
ストリップ１１は図６の紙面と垂直な方向に延びている
ので、透明電極２と金属ストリップ１１とが相互に直交
するように、陽極基板１は絶縁基板１０上に載せられる
（図２のステップ３００）。すなわち、透明電極２と金
属ストリップ１１とは互いに交差してマトリクス状に配
置される。
Ｂの各有機発光層１２上に正孔輸送層３を対向させるよ
うにして、陽極基板１を絶縁基板１０上に載せる。この
時、透明電極２と金属ストリップ１１とは互いに交差す
る配置にする。すなわち、本実施形態においては、透明
電極２は図３の左右方向に延びているのに対して、金属
ストリップ１１は図６の紙面と垂直な方向に延びている
ので、透明電極２と金属ストリップ１１とが相互に直交
するように、陽極基板１は絶縁基板１０上に載せられる
（図２のステップ３００）。すなわち、透明電極２と金
属ストリップ１１とは互いに交差してマトリクス状に配
置される。
【００６６】陽極基板１と絶縁基板１０とはそれらの周
囲において接着剤層１３を介して相互に張り合わされ
る。この後、陽極基板１及び絶縁基板１０の周囲を密閉
封止する（図２のステップ３１０）。
囲において接着剤層１３を介して相互に張り合わされ
る。この後、陽極基板１及び絶縁基板１０の周囲を密閉
封止する（図２のステップ３１０）。
【００６７】以上のようにして、図１に示したような本
実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が製作される。
実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が製作される。
【００６８】以上のようにして形成された本実施形態に
係る有機ＥＬ表示装置は次のように作動する。 金属ス
トリップ１１と透明電極２との間に金属陰極が相対的に
負の電位になるように電圧を印加すると、透明電極２か
らはホールが、金属ストリップ１１からは電子がそれぞ
れ有機発光層１２に注入される。これらのホールと電子
とは有機発光層１２の内部において再結合し、有機発光
層１２を構成する分子を励起する。このようにして励起
された分子が基底状態に戻る時に発光が起こる。
係る有機ＥＬ表示装置は次のように作動する。 金属ス
トリップ１１と透明電極２との間に金属陰極が相対的に
負の電位になるように電圧を印加すると、透明電極２か
らはホールが、金属ストリップ１１からは電子がそれぞ
れ有機発光層１２に注入される。これらのホールと電子
とは有機発光層１２の内部において再結合し、有機発光
層１２を構成する分子を励起する。このようにして励起
された分子が基底状態に戻る時に発光が起こる。
【００６９】従って、金属陰極を順番に走査する信号を
与え、順番に負極とし、さらに、透明電極２側に陰極の
走査のタイミングに合わせて、表示データに対応した信
号を与えることにより、その表示データに対応した画像
を表示することができる。
与え、順番に負極とし、さらに、透明電極２側に陰極の
走査のタイミングに合わせて、表示データに対応した信
号を与えることにより、その表示データに対応した画像
を表示することができる。
【００７０】陰極を走査する周期を６０ヘルツ以上にす
れば、人間の目の残像効果により、連続した動画像と認
識させることができる。
れば、人間の目の残像効果により、連続した動画像と認
識させることができる。
【００７１】さらに、発光素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ
は三原色を構成しているため、それぞれの輝度を調整す
ることにより、フルカラー表示を行うことも可能であ
る。輝度を調整するためには、各発光素子１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂに流れる電流値を制御する方法、表示データ
の時間幅を変化させるパルス幅変調方式などを応用する
ことができる。
は三原色を構成しているため、それぞれの輝度を調整す
ることにより、フルカラー表示を行うことも可能であ
る。輝度を調整するためには、各発光素子１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂに流れる電流値を制御する方法、表示データ
の時間幅を変化させるパルス幅変調方式などを応用する
ことができる。
【００７２】上記の有機ＥＬ素子の製造方法において
は、最初に、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層
３を形成し、次いで、絶縁基板１０上に各発光素子１６
を形成したが、これらの順序は任意である。すなわち、
最初に、絶縁基板１０上に各発光素子１６を形成し、次
いで、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層３を形
成してもよい。
は、最初に、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層
３を形成し、次いで、絶縁基板１０上に各発光素子１６
を形成したが、これらの順序は任意である。すなわち、
最初に、絶縁基板１０上に各発光素子１６を形成し、次
いで、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層３を形
成してもよい。
【００７３】以上のように、上記の有機ＥＬ素子の製造
方法によれば、有機発光層１２のパターニングをフォト
リソグラフィやメタルマスクを使わずに行えるため、カ
ラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することが可能であ
る。
方法によれば、有機発光層１２のパターニングをフォト
リソグラフィやメタルマスクを使わずに行えるため、カ
ラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することが可能であ
る。
【００７４】また、細長い金属ストリップ１１上に金属
陰極と有機発光層１２とを積層させて形成される発光素
子１６は各発光色毎に真空蒸着して製作されるので、メ
タルマスクやフォトリソグラフィの方法と比較して、無
駄になる材料が少なくなり、生産コストを抑制すること
ができる。
陰極と有機発光層１２とを積層させて形成される発光素
子１６は各発光色毎に真空蒸着して製作されるので、メ
タルマスクやフォトリソグラフィの方法と比較して、無
駄になる材料が少なくなり、生産コストを抑制すること
ができる。
【００７５】さらに、各発光色の有機発光層１２毎に別
々に蒸着することができるので、各発光色の材料が蒸着
中に混じり合うことが無く、混色が起きない。
々に蒸着することができるので、各発光色の材料が蒸着
中に混じり合うことが無く、混色が起きない。
【００７６】また、不良の発光素子１６は製造工程の途
中において一つ一つ交換可能であるので、ロスコストが
少なく、ひいては、製品歩留まりを高くすることができ
るため、生産コストを低減することができる。
中において一つ一つ交換可能であるので、ロスコストが
少なく、ひいては、製品歩留まりを高くすることができ
るため、生産コストを低減することができる。
【００７７】また、陰極として金属ストリップ１１を用
いることができるので、陰極の配線抵抗を極めて小さく
することができる。
いることができるので、陰極の配線抵抗を極めて小さく
することができる。
【００７８】図７及び図８は本発明の第二の実施形態に
係る有機ＥＬ表示装置を示す。図７は、本実施形態に係
る有機ＥＬ表示装置における発光素子１６の断面図であ
り、図８は本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の断面図
である。
係る有機ＥＬ表示装置を示す。図７は、本実施形態に係
る有機ＥＬ表示装置における発光素子１６の断面図であ
り、図８は本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の断面図
である。
【００７９】図７に示すように、本実施形態に係る有機
ＥＬ表示装置においては、金属ストリップ１１の陽極基
板１の方向を向く面が平滑ではなく、凹凸１１ａが形成
されている。図８に示すように、外光１９がこの凹凸１
１ａに当たると、反射光２０は乱反射する。
ＥＬ表示装置においては、金属ストリップ１１の陽極基
板１の方向を向く面が平滑ではなく、凹凸１１ａが形成
されている。図８に示すように、外光１９がこの凹凸１
１ａに当たると、反射光２０は乱反射する。
【００８０】金属ストリップ１１の表面上の凹凸１１ａ
は、金属ストリップ１１を圧延ローラーで圧延する時、
片方のローラーの表面に凸凹を設けておくことにより、
形成することができる。
は、金属ストリップ１１を圧延ローラーで圧延する時、
片方のローラーの表面に凸凹を設けておくことにより、
形成することができる。
【００８１】金属ストリップ１１の表面上に凹凸１１ａ
が形成されている点を除けば、本実施形態に係る有機Ｅ
Ｌ表示装置は前述の第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示
装置と同様の構造を有しており、かつ、同様の方法によ
り製造することができる。
が形成されている点を除けば、本実施形態に係る有機Ｅ
Ｌ表示装置は前述の第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示
装置と同様の構造を有しており、かつ、同様の方法によ
り製造することができる。
【００８２】本実施形態によれば、金属ストリップ１１
の有機発光層１２の側の面が光散乱性を有しているの
で、透明電極２側から照射される外光１９が金属ストリ
ップ１１の表面で鏡面反射せず、散乱する。従って、外
光１９を発する照明器具や太陽の映り込みがなくなり、
良好なコントラストの画像を得ることができる。
の有機発光層１２の側の面が光散乱性を有しているの
で、透明電極２側から照射される外光１９が金属ストリ
ップ１１の表面で鏡面反射せず、散乱する。従って、外
光１９を発する照明器具や太陽の映り込みがなくなり、
良好なコントラストの画像を得ることができる。
【００８３】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、発光素
子を構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラ
フィやメタルマスクを使わずに行うことができるため、
カラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することができ
る。
子を構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラ
フィやメタルマスクを使わずに行うことができるため、
カラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することができ
る。
【００８４】また、メタルマスクなどのシャドウマスク
を用いることなく、発光層をパターニングすることがで
きるため、高精細なパターニングや大面積のパターニン
グを行うことが可能になる。
を用いることなく、発光層をパターニングすることがで
きるため、高精細なパターニングや大面積のパターニン
グを行うことが可能になる。
【図１】本発明の第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図２】図１に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法のフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図３】第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置におけ
る陽極基板の断面図である。
る陽極基板の断面図である。
【図４】メタルマスクの平面図である。
【図５】発光素子の形成過程を示す、一部断面図を含む
正面図である。
正面図である。
【図６】第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置におけ
る絶縁基板の断面図である。
る絶縁基板の断面図である。
【図７】本発明の第二の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置における発光素子の断面図である。
置における発光素子の断面図である。
【図８】本発明の第二の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置の断面図である。
置の断面図である。
１ 陽極基板 ２ 透明電極 ３ 正孔輸送層 １０ 絶縁基板 １１ 金属ストリップ １１ａ 凹凸 １２ 有機発光層 １３ 接着剤層 １４ メタルマスク １５ スリット １６ 発光素子 １７ 蒸着源 １８ 蒸着材料 １９ 外光 ２０ 反射光
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１１月１５日（１９９９．１１．
１５）
１５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項２】 前記金属片の表面には、光を乱反射させ
るための凹凸が形成されることを特徴とする請求項１に
記載の有機エレクトロルミネセント表示装置の製造方
法。
るための凹凸が形成されることを特徴とする請求項１に
記載の有機エレクトロルミネセント表示装置の製造方
法。
【請求項３】 第一の方向に延びる複数本のライン状の
透明電極と、前記透明電極上に形成された正孔輸送層と
を有する陽極基板と、前記陽極基板に対向して配置されている 絶縁基板と、前記陽極基板と前記絶縁基板との間に並べて配置され
た、異なる発光色を有する有機発光層を有する三種類の
積層素子と、 からなる有機エレクトロルミネセント表示装置におい
て、 前記三種類の積層素子が、ストリップ状の金属片と、前
記金属片の一表面上に形成された金属陰極と、前記金属
陰極上に形成され、赤、緑及び青色の何れかの光を発す
る有機発光層と、からなり、前記有機発光層を前記陽極
基板側に配置し、かつ、その長手方向を前記第一の方向
と交差する第二の方向に配置したことを特徴とする 有機
エレクトロルミネセント表示装置。
透明電極と、前記透明電極上に形成された正孔輸送層と
を有する陽極基板と、前記陽極基板に対向して配置されている 絶縁基板と、前記陽極基板と前記絶縁基板との間に並べて配置され
た、異なる発光色を有する有機発光層を有する三種類の
積層素子と、 からなる有機エレクトロルミネセント表示装置におい
て、 前記三種類の積層素子が、ストリップ状の金属片と、前
記金属片の一表面上に形成された金属陰極と、前記金属
陰極上に形成され、赤、緑及び青色の何れかの光を発す
る有機発光層と、からなり、前記有機発光層を前記陽極
基板側に配置し、かつ、その長手方向を前記第一の方向
と交差する第二の方向に配置したことを特徴とする 有機
エレクトロルミネセント表示装置。
【請求項４】 前記金属片の表面には、光を乱反射させ
るための凹凸が形成されていることを特徴とする請求項
３に記載の有機エレクトロルミネセント表示装置。
るための凹凸が形成されていることを特徴とする請求項
３に記載の有機エレクトロルミネセント表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２０】この目的を達成するため、本発明のうち、
請求項１は、陽極基板上にパターニングされた透明電極
を形成する第一の過程と、透明電極上に正孔輸送層を形
成する第二の過程と、ストリップ状の金属片の一表面
に、金属陰極と、赤、緑又は青色の光を発する有機発光
層とを順次積層し、三種類の積層素子を形成する第三の
過程と、絶縁基板上に、三種類の積層素子を有機発光層
を上にして交互に並べて配置する第四の過程と、透明電
極と積層素子とが相互に交差し、かつ、正孔輸送層と有
機発光層とが相互に対向するように、陽極基板と絶縁基
板とを相互に重ね合わせる第五の過程と、相互に重ね合
わされた陽極基板及び絶縁基板の周囲を封止する第六の
過程と、からなる有機エレクトロルミネセント表示装置
の製造方法を提供する。
請求項１は、陽極基板上にパターニングされた透明電極
を形成する第一の過程と、透明電極上に正孔輸送層を形
成する第二の過程と、ストリップ状の金属片の一表面
に、金属陰極と、赤、緑又は青色の光を発する有機発光
層とを順次積層し、三種類の積層素子を形成する第三の
過程と、絶縁基板上に、三種類の積層素子を有機発光層
を上にして交互に並べて配置する第四の過程と、透明電
極と積層素子とが相互に交差し、かつ、正孔輸送層と有
機発光層とが相互に対向するように、陽極基板と絶縁基
板とを相互に重ね合わせる第五の過程と、相互に重ね合
わされた陽極基板及び絶縁基板の周囲を封止する第六の
過程と、からなる有機エレクトロルミネセント表示装置
の製造方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】本請求項に係る方法によれば、積層素子を
構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラフィ
やメタルマスクを使わずに行うことができるため、カラ
ー有機ＥＬ表示素子を容易に製作することができる。
構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラフィ
やメタルマスクを使わずに行うことができるため、カラ
ー有機ＥＬ表示素子を容易に製作することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】また、積層素子をこのように形成すること
により、各発光色ごとに別々に積層素子を形成すること
ができるので、メタルマスクやフォトリソグラフィの方
法と比較して、無駄になる材料を少なくすることがで
き、生産コストを抑制することができる。
により、各発光色ごとに別々に積層素子を形成すること
ができるので、メタルマスクやフォトリソグラフィの方
法と比較して、無駄になる材料を少なくすることがで
き、生産コストを抑制することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】また、各発光色毎に積層素子を形成するこ
とができるので、各発光色の材料が混ざり合うことがな
く、混色が起きない。
とができるので、各発光色の材料が混ざり合うことがな
く、混色が起きない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】さらに、不良の積層素子は工程途中に一つ
一つ交換することができるので、ロスコストを少なく、
ひいては、製品歩留まりを高くすることができる。
一つ交換することができるので、ロスコストを少なく、
ひいては、製品歩留まりを高くすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】請求項３は、第一の方向に延びる複数本の
ライン状の透明電極と、透明電極上に形成された正孔輸
送層とを有する陽極基板と、陽極基板に対向して配置さ
れている絶縁基板と、陽極基板と絶縁基板との間に並べ
て配置された、異なる発光色を有する有機発光層を有す
る三種類の積層素子と、からなる有機エレクトロルミネ
セント表示装置において、三種類の積層素子が、ストリ
ップ状の金属片と、金属片の一表面上に形成された金属
陰極と、金属陰極上に形成され、赤、緑及び青色の何れ
かの光を発する有機発光層と、からなり、有機発光層を
陽極基板側に配置し、かつ、その長手方向を第一の方向
と交差する第二の方向に配置したことを特徴とする有機
エレクトロルミネセント表示装置を提供する。
ライン状の透明電極と、透明電極上に形成された正孔輸
送層とを有する陽極基板と、陽極基板に対向して配置さ
れている絶縁基板と、陽極基板と絶縁基板との間に並べ
て配置された、異なる発光色を有する有機発光層を有す
る三種類の積層素子と、からなる有機エレクトロルミネ
セント表示装置において、三種類の積層素子が、ストリ
ップ状の金属片と、金属片の一表面上に形成された金属
陰極と、金属陰極上に形成され、赤、緑及び青色の何れ
かの光を発する有機発光層と、からなり、有機発光層を
陽極基板側に配置し、かつ、その長手方向を第一の方向
と交差する第二の方向に配置したことを特徴とする有機
エレクトロルミネセント表示装置を提供する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３８】本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、さ
らに、絶縁基板１０を備えており、この絶縁基板１０上
には、三原色の光を発光する積層素子１６が並べて配置
されている。
らに、絶縁基板１０を備えており、この絶縁基板１０上
には、三原色の光を発光する積層素子１６が並べて配置
されている。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３９】各積層素子１６は、図１の紙面と垂直の方
向に延びている金属ストリップ１１と、金属ストリップ
１１の周囲に形成された金属陰極（図示せず）と、金属
陰極上に形成された、発光性有機化合物からなる有機発
光層１２と、からなっている。金属陰極及び有機発光層
１２は、金属ストリップ１１の一側面が露出するように
金属ストリップ１１を覆っており、各積層素子１６は、
露出した金属ストリップ１１の一側面が絶縁基板１０に
接するようにして、それぞれ絶縁基板１０に取り付けら
れている。
向に延びている金属ストリップ１１と、金属ストリップ
１１の周囲に形成された金属陰極（図示せず）と、金属
陰極上に形成された、発光性有機化合物からなる有機発
光層１２と、からなっている。金属陰極及び有機発光層
１２は、金属ストリップ１１の一側面が露出するように
金属ストリップ１１を覆っており、各積層素子１６は、
露出した金属ストリップ１１の一側面が絶縁基板１０に
接するようにして、それぞれ絶縁基板１０に取り付けら
れている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】さらに、各積層素子１６は、赤、緑及び青
の光を発する積層素子がこの順番になるように、交互に
絶縁基板１０上に取り付けられている。
の光を発する積層素子がこの順番になるように、交互に
絶縁基板１０上に取り付けられている。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４２】本実施形態に係る有機ＥＬ素子によれば、
積層素子１６を構成する有機発光層１２のパターニング
をフォトリソグラフィやメタルマスクを使わずに行うこ
とができるため、カラー有機ＥＬ表示素子を容易に製作
することができる。
積層素子１６を構成する有機発光層１２のパターニング
をフォトリソグラフィやメタルマスクを使わずに行うこ
とができるため、カラー有機ＥＬ表示素子を容易に製作
することができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】また、図７に示すように、積層素子１６を
形成する金属ストリップ１１の表面には、光を乱反射さ
せる光散乱層としての凹凸１１ａを形成することができ
る。光散乱層としての凹凸１１ａを設けることにより、
透明電極２側から照射される外光が金属ストリップ１１
の表面において鏡面反射せず、乱反射する。この結果、
外光を発する照明器具や太陽の映り込みを防止すること
ができ、画像のコントラストを向上させることができ
る。
形成する金属ストリップ１１の表面には、光を乱反射さ
せる光散乱層としての凹凸１１ａを形成することができ
る。光散乱層としての凹凸１１ａを設けることにより、
透明電極２側から照射される外光が金属ストリップ１１
の表面において鏡面反射せず、乱反射する。この結果、
外光を発する照明器具や太陽の映り込みを防止すること
ができ、画像のコントラストを向上させることができ
る。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５１】この後、図４に示すようなメタルマスク１
４を陽極基板１と蒸着源との間において、陽極基板１に
対して固定されるように配置する。メタルマスク１４に
は、図４に示すように、陽極基板１の透明電極２の上層
に正孔輸送層３を蒸着させる範囲を四角形にくり抜い
て、複数のスリット１５が形成されている。本実施形態
においては、各スリット１５は、メタルマスク１４を陽
極基板１と重ね合わせたときに、各透明電極２とそれぞ
れ重なり合うように設けられている。
４を陽極基板１と蒸着源との間において、陽極基板１に
対して固定されるように配置する。メタルマスク１４に
は、図４に示すように、陽極基板１の透明電極２の上層
に正孔輸送層３を蒸着させる範囲を四角形にくり抜い
て、複数のスリット１５が形成されている。本実施形態
においては、各スリット１５は、メタルマスク１４を陽
極基板１と重ね合わせたときに、各透明電極２とそれぞ
れ重なり合うように設けられている。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５３】このようにして、透明電極２上にα−ＮＰ
Ｄを蒸着させ、正孔輸送層３が形成される（図２のステ
ップ１２０）。
Ｄを蒸着させ、正孔輸送層３が形成される（図２のステ
ップ１２０）。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５５】この金属ストリップ１１を、図５に示すよ
うに、真空蒸着装置内に入れ、蒸着源１７内の蒸着材料
１８を加熱することにより、金属陰極（図示せず）と有
機発光層１２とを金属ストリップ１１に蒸着させ、積層
素子１６を製作する（図２のステップ２１０）。
うに、真空蒸着装置内に入れ、蒸着源１７内の蒸着材料
１８を加熱することにより、金属陰極（図示せず）と有
機発光層１２とを金属ストリップ１１に蒸着させ、積層
素子１６を製作する（図２のステップ２１０）。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６０】以上のようにして金属ストリップ１１上
に、アルミニウムの蒸着とアルミニウム及びリチウムの
混合物の共蒸着とにより形成した金属陰極、緑色を発光
する有機発光層１２を順次積層させた緑色発光用積層素
子１６Ｇが形成される。
に、アルミニウムの蒸着とアルミニウム及びリチウムの
混合物の共蒸着とにより形成した金属陰極、緑色を発光
する有機発光層１２を順次積層させた緑色発光用積層素
子１６Ｇが形成される。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６１】次いで、有機発光層１２を形成する有機化
合物として、Ａｌｑ３と４−ジシアノメチレン−２−メ
チル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピ
ラン（以下、「ＤＣＭ」と呼ぶ）とを用い、ＤＣＭがＡ
ｌｑ３の５ｗｔ％になるように別々の蒸着源からそれら
を別個の金属ストリップ１１の金属陰極上に共蒸着す
る。有機発光層１２は膜厚が約５０ｎｍになるまで成膜
する。このようにして、赤色発光用積層素子１６Ｒが形
成される。
合物として、Ａｌｑ３と４−ジシアノメチレン−２−メ
チル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピ
ラン（以下、「ＤＣＭ」と呼ぶ）とを用い、ＤＣＭがＡ
ｌｑ３の５ｗｔ％になるように別々の蒸着源からそれら
を別個の金属ストリップ１１の金属陰極上に共蒸着す
る。有機発光層１２は膜厚が約５０ｎｍになるまで成膜
する。このようにして、赤色発光用積層素子１６Ｒが形
成される。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６２】同様にして、有機発光層１２を形成する有
機化合物としてペリレンを用い、ペリレンを秤量し、抵
抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、ヒーターにより加熱す
る。膜厚が約５０ｎｍとなるまで別個の金属ストリップ
１１の金属陰極上に蒸着し、青色発光用積層素子１６Ｂ
を作製する。
機化合物としてペリレンを用い、ペリレンを秤量し、抵
抗加熱ボートまたは坩堝に入れ、ヒーターにより加熱す
る。膜厚が約５０ｎｍとなるまで別個の金属ストリップ
１１の金属陰極上に蒸着し、青色発光用積層素子１６Ｂ
を作製する。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６３】次いで、図６に示すように、絶縁基板１０
の上に、発光層１２が上になるようにして、すなわち、
各積層素子１６の金属ストリップ１１の露出面が絶縁基
板１０に接するようにして、赤、緑、青、赤、緑、青、
…と一定の順序に各積層素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを
並べる（図２のステップ２２０）。
の上に、発光層１２が上になるようにして、すなわち、
各積層素子１６の金属ストリップ１１の露出面が絶縁基
板１０に接するようにして、赤、緑、青、赤、緑、青、
…と一定の順序に各積層素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを
並べる（図２のステップ２２０）。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６４】絶縁基板１０には予め接着剤が塗布されて
おり、各積層素子１６はこの接着剤を介して絶縁基板１
０に固着される。
おり、各積層素子１６はこの接着剤を介して絶縁基板１
０に固着される。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６５】次いで、各発光素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６
Ｂの各有機発光層１２上に正孔輸送層３を対向させるよ
うにして、陽極基板１を絶縁基板１０上に載せる。この
時、透明電極２と金属ストリップ１１とは互いに交差す
る配置にする。すなわち、本実施形態においては、透明
電極２は図３の左右方向に延びているのに対して、金属
ストリップ１１は図６の紙面と垂直な方向に延びている
ので、透明電極２と金属ストリップ１１とが相互に直交
するように、陽極基板１は絶縁基板１０上に載せられる
（図２のステップ３００）。すなわち、透明電極２と金
属ストリップ１１とは互いに交差してマトリクス状に配
置される。
Ｂの各有機発光層１２上に正孔輸送層３を対向させるよ
うにして、陽極基板１を絶縁基板１０上に載せる。この
時、透明電極２と金属ストリップ１１とは互いに交差す
る配置にする。すなわち、本実施形態においては、透明
電極２は図３の左右方向に延びているのに対して、金属
ストリップ１１は図６の紙面と垂直な方向に延びている
ので、透明電極２と金属ストリップ１１とが相互に直交
するように、陽極基板１は絶縁基板１０上に載せられる
（図２のステップ３００）。すなわち、透明電極２と金
属ストリップ１１とは互いに交差してマトリクス状に配
置される。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７１】さらに、積層素子１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ
は三原色を構成しているため、それぞれの輝度を調整す
ることにより、フルカラー表示を行うことも可能であ
る。輝度を調整するためには、各積層素子１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂに流れる電流値を制御する方法、表示データ
の時間幅を変化させるパルス幅変調方式などを応用する
ことができる。
は三原色を構成しているため、それぞれの輝度を調整す
ることにより、フルカラー表示を行うことも可能であ
る。輝度を調整するためには、各積層素子１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂに流れる電流値を制御する方法、表示データ
の時間幅を変化させるパルス幅変調方式などを応用する
ことができる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７２】上記の有機ＥＬ素子の製造方法において
は、最初に、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層
３を形成し、次いで、絶縁基板１０上に各積層素子１６
を形成したが、これらの順序は任意である。すなわち、
最初に、絶縁基板１０上に各積層素子１６を形成し、次
いで、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層３を形
成してもよい。
は、最初に、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層
３を形成し、次いで、絶縁基板１０上に各積層素子１６
を形成したが、これらの順序は任意である。すなわち、
最初に、絶縁基板１０上に各積層素子１６を形成し、次
いで、陽極基板１上に透明電極２及び正孔輸送層３を形
成してもよい。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７４】また、細長い金属ストリップ１１上に金属
陰極と有機発光層１２とを積層させて形成される積層素
子１６は各発光色毎に真空蒸着して製作されるので、メ
タルマスクやフォトリソグラフィの方法と比較して、無
駄になる材料が少なくなり、生産コストを抑制すること
ができる。
陰極と有機発光層１２とを積層させて形成される積層素
子１６は各発光色毎に真空蒸着して製作されるので、メ
タルマスクやフォトリソグラフィの方法と比較して、無
駄になる材料が少なくなり、生産コストを抑制すること
ができる。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７６】また、不良の積層素子１６は製造工程の途
中において一つ一つ交換可能であるので、ロスコストが
少なく、ひいては、製品歩留まりを高くすることができ
るため、生産コストを低減することができる。
中において一つ一つ交換可能であるので、ロスコストが
少なく、ひいては、製品歩留まりを高くすることができ
るため、生産コストを低減することができる。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７８】図７及び図８は本発明の第二の実施形態に
係る有機ＥＬ表示装置を示す。図７は、本実施形態に係
る有機ＥＬ表示装置における積層素子１６の断面図であ
り、図８は本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の断面図
である。
係る有機ＥＬ表示装置を示す。図７は、本実施形態に係
る有機ＥＬ表示装置における積層素子１６の断面図であ
り、図８は本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の断面図
である。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００８３】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、積層素
子を構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラ
フィやメタルマスクを使わずに行うことができるため、
カラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することができ
る。
子を構成する有機媒体のパターニングをフォトリソグラ
フィやメタルマスクを使わずに行うことができるため、
カラー有機ＥＬ表示装置を容易に製作することができ
る。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図２】図１に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法のフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図３】第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置におけ
る陽極基板の断面図である。
る陽極基板の断面図である。
【図４】メタルマスクの平面図である。
【図５】積層素子の形成過程を示す、一部断面図を含む
正面図である。
正面図である。
【図６】第一の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置におけ
る絶縁基板の断面図である。
る絶縁基板の断面図である。
【図７】本発明の第二の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置における積層素子の断面図である。
置における積層素子の断面図である。
【図８】本発明の第二の実施形態に係る有機ＥＬ表示装
置の断面図である。
置の断面図である。
【符号の説明】 １ 陽極基板 ２ 透明電極 ３ 正孔輸送層 １０ 絶縁基板 １１ 金属ストリップ １１ａ 凹凸 １２ 有機発光層 １３ 接着剤層 １４ メタルマスク １５ スリット１６ 積層素子 １７ 蒸着源 １８ 蒸着材料 １９ 外光 ２０ 反射光
【手続補正３７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正３８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
【手続補正４１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正内容】
【図８】
Claims (8)
- 【請求項１】 陽極基板上にパターニングされた透明電
極を形成する第一の過程と、 前記透明電極上に正孔輸送層を形成する第二の過程と、 赤、緑及び青色の光を発する発光層をそれぞれ有する三
種類の発光素子を形成する第三の過程と、 絶縁基板上に、前記発光層が上方を向くように前記三種
類の発光素子を配置する第四の過程と、 前記透明電極と前記発光素子とが相互に交差し、かつ、
前記正孔輸送層と前記発光層とが相互に対向するよう
に、前記陽極基板と前記絶縁基板とを相互に重ね合わせ
る第五の過程と、 相互に重ね合わされた前記陽極基板及び前記絶縁基板の
周囲を封止する第六の過程と、 からなる有機エレクトロルミネセント表示装置の製造方
法。 - 【請求項２】 前記第三の過程において、前記発光素子
は、ストリップ状の金属片の表面に、金属陰極と、赤、
緑又は青色の光を発する有機発光層とを順次積層させる
ことにより、形成されるものであることを特徴とする請
求項１に記載の有機エレクトロルミネセント表示装置の
製造方法。 - 【請求項３】 前記第三の過程において、前記発光層の
表面には、光を散乱させる光散乱層が形成されることを
特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネセン
ト表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 前記金属片の表面には、光を乱反射させ
るための凹凸が形成されることを特徴とする請求項２に
記載の有機エレクトロルミネセント表示装置の製造方
法。 - 【請求項５】 陽極基板と、 絶縁基板と、 前記陽極基板上に形成され、第一の方向に延びる複数本
のライン状の透明電極と、 前記透明電極上に形成された正孔輸送層と、 前記正孔輸送層と前記絶縁基板の間に配置され、前記第
一の方向と交差する第二の方向に延び、かつ、赤、緑及
び青色の光を発する発光層をそれぞれ有し、前記発光層
が前記正孔輸送層と接している三種類の発光素子と、 からなる有機エレクトロルミネセント表示装置。 - 【請求項６】 前記発光素子は、ストリップ状の金属片
と、前記金属片の表面上に形成された金属陰極と、前記
金属陰極上に形成され、赤、緑及び青色の光を発する有
機発光層と、からなるものであることを特徴とする請求
項５に記載の有機エレクトロルミネセント表示装置。 - 【請求項７】 前記発光層の表面には、光を散乱させる
光散乱層が形成されていることを特徴とする請求項５に
記載の有機エレクトロルミネセント表示装置。 - 【請求項８】 前記金属片の表面には、光を乱反射させ
るための凹凸が形成されていることを特徴とする請求項
６に記載の有機エレクトロルミネセント表示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11006075A JP2000208255A (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 有機エレクトロルミネセント表示装置及びその製造方法 |
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