JP2000210629A - 洗浄方法および装置 - Google Patents
洗浄方法および装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】被洗浄物の洗浄面を均一に清浄化することがで
きるようにした洗浄方法および装置を提供する。 【解決手段】基板３を保持する保持手段２と、該保持手
段２を回転させる回転手段１と、前記保持手段２に保持
され前記回転手段１により回転される基板３が描く円内
に、基板３に向けて開口する洗浄液流通部から洗浄液５
を供給する超音波スプレ４と、該超音波スプレ４に設け
られ洗浄液５に超音波を印加する超音波印加手段とを備
えた洗浄装置において、前記洗浄液流通部を、前記円の
中心を含みその半径方向に延び、前記円の内周部より外
縁部が大きくなるスリット状に形成した超音波スプレ４
を設けた。
きるようにした洗浄方法および装置を提供する。 【解決手段】基板３を保持する保持手段２と、該保持手
段２を回転させる回転手段１と、前記保持手段２に保持
され前記回転手段１により回転される基板３が描く円内
に、基板３に向けて開口する洗浄液流通部から洗浄液５
を供給する超音波スプレ４と、該超音波スプレ４に設け
られ洗浄液５に超音波を印加する超音波印加手段とを備
えた洗浄装置において、前記洗浄液流通部を、前記円の
中心を含みその半径方向に延び、前記円の内周部より外
縁部が大きくなるスリット状に形成した超音波スプレ４
を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被洗浄物の洗浄方
法および装置にかかり、特に、液晶表示装置のガラス基
板などのような、平板状の基板の洗浄に好適な洗浄方法
および装置に関するものである。
法および装置にかかり、特に、液晶表示装置のガラス基
板などのような、平板状の基板の洗浄に好適な洗浄方法
および装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】平板状の基板を回転させながら洗浄する
洗浄方法および装置として、たとえば、特開平８−３１
８２３５号公報、特開平９−２０１５５７号公報、特開
平１０−４１２６３号公報等に開示された洗浄方法およ
び洗浄装置が提案されている。
洗浄方法および装置として、たとえば、特開平８−３１
８２３５号公報、特開平９−２０１５５７号公報、特開
平１０−４１２６３号公報等に開示された洗浄方法およ
び洗浄装置が提案されている。
【０００３】これらの装置は、回転する基板に、その回
転中心と外縁の間を往復移動するノズルから超音波が印
加された洗浄液を供給して洗浄するように構成され、洗
浄液の超音波振動と供給圧力および遠心力による洗浄液
の流れなど物理的な作用で洗浄を行なっている。
転中心と外縁の間を往復移動するノズルから超音波が印
加された洗浄液を供給して洗浄するように構成され、洗
浄液の超音波振動と供給圧力および遠心力による洗浄液
の流れなど物理的な作用で洗浄を行なっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような洗浄方法で
は、回転する基盤にその半径方向に移動するノズルから
洗浄液を供給するため、基板の回転速度に対しノズルの
移動速度が速いと、基板上には渦巻状に洗浄液が供給さ
れることになり洗浄むらが発生する。
は、回転する基盤にその半径方向に移動するノズルから
洗浄液を供給するため、基板の回転速度に対しノズルの
移動速度が速いと、基板上には渦巻状に洗浄液が供給さ
れることになり洗浄むらが発生する。
【０００５】また、基板が回転しているためその内周部
と外縁部では大きな差（たとえば、基板を１０ｒｐｍで
回転させた場合、その中心から１０ｍｍの位置は１０．
５ｍｍ／ｓｅｃの速度で移動し、中心から２００ｍｍの
位置は２０９．４ｍｍ／ｓｅｃの速度で移動する。）が
発生する。このため、洗浄液の供給位置が重なるように
ノズルを低速で移動しても、基板の内周部と外縁部では
単位面積当りに供給される洗浄液の量に大きな差を生
じ、基板全体の清浄度が低下することになる。
と外縁部では大きな差（たとえば、基板を１０ｒｐｍで
回転させた場合、その中心から１０ｍｍの位置は１０．
５ｍｍ／ｓｅｃの速度で移動し、中心から２００ｍｍの
位置は２０９．４ｍｍ／ｓｅｃの速度で移動する。）が
発生する。このため、洗浄液の供給位置が重なるように
ノズルを低速で移動しても、基板の内周部と外縁部では
単位面積当りに供給される洗浄液の量に大きな差を生
じ、基板全体の清浄度が低下することになる。
【０００６】上記の事情に鑑み、本発明の目的は、被洗
浄物の洗浄面を均一に清浄化することができるようにし
た洗浄方法および装置を提供することにある。
浄物の洗浄面を均一に清浄化することができるようにし
た洗浄方法および装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本出願の請求項１に記載の発明は、回転する被洗浄
物外縁部が描く円内に、超音波が印加された洗浄液を供
給して被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、被洗浄物
に対し、前記円の中心を含みその半径方向に延びるスリ
ット状の洗浄液流通部から、被洗浄物が描く円内の内周
部の単位面積当りに供給される洗浄液の量に対し、被洗
浄物の外縁部の単位面積当りに供給される洗浄液の量
を、同量かそれより多く供給し、被洗浄物を洗浄するよ
うにした。
め、本出願の請求項１に記載の発明は、回転する被洗浄
物外縁部が描く円内に、超音波が印加された洗浄液を供
給して被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、被洗浄物
に対し、前記円の中心を含みその半径方向に延びるスリ
ット状の洗浄液流通部から、被洗浄物が描く円内の内周
部の単位面積当りに供給される洗浄液の量に対し、被洗
浄物の外縁部の単位面積当りに供給される洗浄液の量
を、同量かそれより多く供給し、被洗浄物を洗浄するよ
うにした。
【０００８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の発明において、前記被洗浄物が描く円内の内周
部の単位面積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出
力より、被洗浄物の外縁部の単位面積当りに供給する洗
浄液に印加する超音波出力を大きくして被洗浄物を洗浄
するようにした。
に記載の発明において、前記被洗浄物が描く円内の内周
部の単位面積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出
力より、被洗浄物の外縁部の単位面積当りに供給する洗
浄液に印加する超音波出力を大きくして被洗浄物を洗浄
するようにした。
【０００９】また、請求項３に記載の発明は、被洗浄物
を保持する保持手段と、該保持手段を回転させる回転手
段と、前記保持手段に保持され前記回転手段により回転
される被洗浄物が描く円内に、被洗浄物に向けて開口す
る洗浄液流通部から洗浄液を供給する噴射手段と、該噴
射手段に設けられ洗浄液に超音波を印加する超音波印加
手段とを備えた洗浄装置において、前記洗浄液流通部
を、前記円の中心を含みその半径方向に延び、前記円の
内周部より外縁部が大きくなるスリット状に形成した。
を保持する保持手段と、該保持手段を回転させる回転手
段と、前記保持手段に保持され前記回転手段により回転
される被洗浄物が描く円内に、被洗浄物に向けて開口す
る洗浄液流通部から洗浄液を供給する噴射手段と、該噴
射手段に設けられ洗浄液に超音波を印加する超音波印加
手段とを備えた洗浄装置において、前記洗浄液流通部
を、前記円の中心を含みその半径方向に延び、前記円の
内周部より外縁部が大きくなるスリット状に形成した。
【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項３
に記載の発明において、前記超音波印加手段の出力が、
前記被洗浄物が描く円内の内周側の単位面積当りに供給
する洗浄液に印加する超音波出力より、被洗浄物の外縁
部の単位面積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出
力を大きくなるように配置されている。
に記載の発明において、前記超音波印加手段の出力が、
前記被洗浄物が描く円内の内周側の単位面積当りに供給
する洗浄液に印加する超音波出力より、被洗浄物の外縁
部の単位面積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出
力を大きくなるように配置されている。
【００１１】また、請求項５に記載の発明は、請求項３
に記載の発明において、前記保持手段に、被洗浄物を複
数点で支える突起が形成されている。
に記載の発明において、前記保持手段に、被洗浄物を複
数点で支える突起が形成されている。
【００１２】さらに、請求項６に記載の発明は、請求項
３に記載の発明において、前記保持手段が、保持手段の
保持面と被洗浄物との対向面に流体を流すことにより発
生するベルヌーイ効果を利用して被洗浄物を保持する。
３に記載の発明において、前記保持手段が、保持手段の
保持面と被洗浄物との対向面に流体を流すことにより発
生するベルヌーイ効果を利用して被洗浄物を保持する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１ないし図９は、本発明の実施
の形態を示すもので、図１は、本発明による洗浄装置の
構成図、図２（ａ）は、図１における保持具の第１の形
態を示す断面図、（ｂ）は、図１における保持具の第２
の形態を示す断面図、図３は、図１における超音波スプ
レの構成図、図４（ａ）は、図３における超音波スプレ
の洗浄液流通部の第１の形態を示す底面図、図４（ｂ）
は、図３における超音波スプレの洗浄液流通部の第２の
形態を示す底面図、図５は、基板の回転数と異物洗浄率
の関係を示す特性図、図６は、超音波スプレと基板の間
隔と洗浄率の関係を示す特性図、図７は、基板の単位面
積当りの洗浄液供給比率と平均洗浄率の関係を示す特性
図、図８は、基板の単位面積当りの超音波出力比と平均
洗浄率の関係を示す特性図、図９は、超音波スプレの配
置の他の形態を示す平面図である。
に基づいて説明する。図１ないし図９は、本発明の実施
の形態を示すもので、図１は、本発明による洗浄装置の
構成図、図２（ａ）は、図１における保持具の第１の形
態を示す断面図、（ｂ）は、図１における保持具の第２
の形態を示す断面図、図３は、図１における超音波スプ
レの構成図、図４（ａ）は、図３における超音波スプレ
の洗浄液流通部の第１の形態を示す底面図、図４（ｂ）
は、図３における超音波スプレの洗浄液流通部の第２の
形態を示す底面図、図５は、基板の回転数と異物洗浄率
の関係を示す特性図、図６は、超音波スプレと基板の間
隔と洗浄率の関係を示す特性図、図７は、基板の単位面
積当りの洗浄液供給比率と平均洗浄率の関係を示す特性
図、図８は、基板の単位面積当りの超音波出力比と平均
洗浄率の関係を示す特性図、図９は、超音波スプレの配
置の他の形態を示す平面図である。
【００１４】図１において、１は回転手段。２は保持具
で、回転手段１に結合され、矢印方向に回転駆動され
る。３は被洗浄物となる基板で、保持具２に着脱可能に
保持されている。４は超音波スプレで、保持具２に保持
された基板３と対向するように配置されている。５は洗
浄液で、超音波スプレ４で超音波が印加され基板３に向
けて噴射される。
で、回転手段１に結合され、矢印方向に回転駆動され
る。３は被洗浄物となる基板で、保持具２に着脱可能に
保持されている。４は超音波スプレで、保持具２に保持
された基板３と対向するように配置されている。５は洗
浄液で、超音波スプレ４で超音波が印加され基板３に向
けて噴射される。
【００１５】前記保持具２は、仕上げ加工された平面で
基板３を支持するものであってもよいし、図２（ａ）に
示すように、複数の突起２１で基板３を支えるようにし
たもの、あるいは、図２（ｂ）に示すように、保持具２
の軸心に形成された穴２２から支持された基板３に向け
て流体を流すことにより発生するベルヌーイ効果を利用
して基板３を保持するようにしたものであってもよい。
基板３を支持するものであってもよいし、図２（ａ）に
示すように、複数の突起２１で基板３を支えるようにし
たもの、あるいは、図２（ｂ）に示すように、保持具２
の軸心に形成された穴２２から支持された基板３に向け
て流体を流すことにより発生するベルヌーイ効果を利用
して基板３を保持するようにしたものであってもよい。
【００１６】図２（ｂ）に示すように、非接触で基板３
を支持すると、洗浄により基板３から剥離した異物粒子
が基板３に再付着するのを防止することができ、洗浄性
を向上させることができる。
を支持すると、洗浄により基板３から剥離した異物粒子
が基板３に再付着するのを防止することができ、洗浄性
を向上させることができる。
【００１７】前記超音波スプレ４は、図３に示すよう
に、内部に超音波振動子４１が配置され、底面に洗浄液
５を噴射する洗浄液流通口４２が形成されている。洗浄
液５は、洗浄液供給手段４３から供給される。また、超
音波振動子４１は、超音波発振器４４に接続されてい
る。
に、内部に超音波振動子４１が配置され、底面に洗浄液
５を噴射する洗浄液流通口４２が形成されている。洗浄
液５は、洗浄液供給手段４３から供給される。また、超
音波振動子４１は、超音波発振器４４に接続されてい
る。
【００１８】前記洗浄液流通口４２は、図４（ａ）に示
すように、前記基板３の回転中心部から外縁部に向けて
拡開する細長い台形形状の開口、あるいは、図４
（ａ）、（ｂ）に示すように、前記基板３の回転中心部
から外縁部に向けて拡開する階段状の開口とすることが
できる。
すように、前記基板３の回転中心部から外縁部に向けて
拡開する細長い台形形状の開口、あるいは、図４
（ａ）、（ｂ）に示すように、前記基板３の回転中心部
から外縁部に向けて拡開する階段状の開口とすることが
できる。
【００１９】このような構成で、まず、保持具２に基板
３を保持させた状態で、基板３を回転させることなく、
超音波振動子４１に１ＭＨｚの発振周波数を印加して、
基板３と超音波スプレ４の間隔を変えて、基板３と超音
波スプレ４の間隔と洗浄性の関係を求めた。ただし、洗
浄液は、基板３の内周部と外縁部とも同量とした。
３を保持させた状態で、基板３を回転させることなく、
超音波振動子４１に１ＭＨｚの発振周波数を印加して、
基板３と超音波スプレ４の間隔を変えて、基板３と超音
波スプレ４の間隔と洗浄性の関係を求めた。ただし、洗
浄液は、基板３の内周部と外縁部とも同量とした。
【００２０】その結果を図６に示す。図６で、洗浄率
は、洗浄前に付着していた異物粒子の数をＮ、洗浄後に
付着している異物粒子の数をｎとし、 洗浄率＝（Ｎ−ｎ）／Ｎ で求めている。
は、洗浄前に付着していた異物粒子の数をＮ、洗浄後に
付着している異物粒子の数をｎとし、 洗浄率＝（Ｎ−ｎ）／Ｎ で求めている。
【００２１】この結果から、以下の実験では、基板３と
超音波スプレ４の間隔を、洗浄率９８％以上の高い洗浄
率が得られた５ｍｍに設定した。
超音波スプレ４の間隔を、洗浄率９８％以上の高い洗浄
率が得られた５ｍｍに設定した。
【００２２】次ぎに、前記の条件（基板３と超音波スプ
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、洗浄液は、基板３の中心部と外縁部とも同量）
で、基板３の回転数を変えて、基板全面での洗浄性の関
係を求めた。
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、洗浄液は、基板３の中心部と外縁部とも同量）
で、基板３の回転数を変えて、基板全面での洗浄性の関
係を求めた。
【００２３】その結果を図５に示す。図５で、洗浄率
は、洗浄前に基板３全面に付着していた異物粒子の数を
Ｎ、洗浄後に基板全面に付着している異物粒子の数をｎ
とし、 洗浄率＝（Ｎ−ｎ）／Ｎ で求めている。
は、洗浄前に基板３全面に付着していた異物粒子の数を
Ｎ、洗浄後に基板全面に付着している異物粒子の数をｎ
とし、 洗浄率＝（Ｎ−ｎ）／Ｎ で求めている。
【００２４】この結果から、基板３の回転数を、基板全
面での平均異物洗浄率が８５％の洗浄率が得られる１０
ｒｐｍに設定した。
面での平均異物洗浄率が８５％の洗浄率が得られる１０
ｒｐｍに設定した。
【００２５】次ぎに、前記の条件（基板３と超音波スプ
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、基板３の回転数１０ｒｐｍ）で、基板３の回転に
よって形成される円の内周部と外縁部の単位面積当りの
洗浄液の供給量を変えて、基板全面での洗浄性の関係を
求めた。
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、基板３の回転数１０ｒｐｍ）で、基板３の回転に
よって形成される円の内周部と外縁部の単位面積当りの
洗浄液の供給量を変えて、基板全面での洗浄性の関係を
求めた。
【００２６】その結果を図７に示す。図７で、洗浄液供
給比率は、外縁部の単位面積当りに供給される洗浄液の
量をＬ、内周部の単位面積当りに供給される洗浄液の量
をｌとし、 洗浄液供給比率＝（Ｌ／ｌ）×１００ で求めている。
給比率は、外縁部の単位面積当りに供給される洗浄液の
量をＬ、内周部の単位面積当りに供給される洗浄液の量
をｌとし、 洗浄液供給比率＝（Ｌ／ｌ）×１００ で求めている。
【００２７】この結果から、基板３の回転によって形成
される円の内周部と外縁部の単位面積当りの洗浄液の供
給量が等しいとき、基板全面での平均洗浄率が最も高く
なっている。また、この結果の傾向からすると、外縁部
の単位面積当りの洗浄液の供給量をさらに増やせば、さ
らに洗浄性を向上させることができる。
される円の内周部と外縁部の単位面積当りの洗浄液の供
給量が等しいとき、基板全面での平均洗浄率が最も高く
なっている。また、この結果の傾向からすると、外縁部
の単位面積当りの洗浄液の供給量をさらに増やせば、さ
らに洗浄性を向上させることができる。
【００２８】次ぎに、前記の条件（基板３と超音波スプ
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、基板３の回転数１０ｒｐｍ、洗浄液の供給比率１
００％）で、基板３の回転によって形成される円の内周
部と外縁部の単位面積当りの超音波の出力を変えて基板
全面での洗浄性の関係を求めた。
レ４の間隔５ｍｍ、超音波振動子４１の発振周波数１Ｍ
Ｈｚ、基板３の回転数１０ｒｐｍ、洗浄液の供給比率１
００％）で、基板３の回転によって形成される円の内周
部と外縁部の単位面積当りの超音波の出力を変えて基板
全面での洗浄性の関係を求めた。
【００２９】その結果を図８に示す。図８で、超音波出
力比は、外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力
をＳ、内周部の単位面積当りに照射される超音波出力を
ｓとし、 超音波出力比＝（Ｓ／ｓ）×１００ で求めている。
力比は、外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力
をＳ、内周部の単位面積当りに照射される超音波出力を
ｓとし、 超音波出力比＝（Ｓ／ｓ）×１００ で求めている。
【００３０】この結果から、基板３の回転によって形成
される円の内周部と外縁部の単位面積当りに照射される
超音波出力が等しいとき、基板全面での平均洗浄率が最
も高くなっている。また、この結果の傾向からすると、
外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力をさらに
大きくすれば、洗浄性をさらに向上させることができ
る。
される円の内周部と外縁部の単位面積当りに照射される
超音波出力が等しいとき、基板全面での平均洗浄率が最
も高くなっている。また、この結果の傾向からすると、
外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力をさらに
大きくすれば、洗浄性をさらに向上させることができ
る。
【００３１】上記の結果から、回転する基板３が描く円
内に、超音波が印加された洗浄液５を供給して洗浄する
洗浄方法においては、基板３と超音波スプレ４の間隔を
５ｍｍ以下、基板３の回転数１０ｒｐｍ以下とし、前記
円の中心を含みその半径方向に延びるスリット状の洗浄
液流通部４２から、基板３が描く円内の内周部の単位面
積当りに供給する洗浄液５の量より、外周側の単位面積
当りに供給する洗浄液５の量を多くすることにより、よ
り清浄な洗浄面を得ることができる。
内に、超音波が印加された洗浄液５を供給して洗浄する
洗浄方法においては、基板３と超音波スプレ４の間隔を
５ｍｍ以下、基板３の回転数１０ｒｐｍ以下とし、前記
円の中心を含みその半径方向に延びるスリット状の洗浄
液流通部４２から、基板３が描く円内の内周部の単位面
積当りに供給する洗浄液５の量より、外周側の単位面積
当りに供給する洗浄液５の量を多くすることにより、よ
り清浄な洗浄面を得ることができる。
【００３２】また、基板３の回転によって形成される円
の内周部と外縁部の単位面積当りに照射される超音波出
力を等しくするか、外縁部の単位面積当りに照射される
超音波出力を大きくすれば、洗浄性をさらに向上させる
ことができる。
の内周部と外縁部の単位面積当りに照射される超音波出
力を等しくするか、外縁部の単位面積当りに照射される
超音波出力を大きくすれば、洗浄性をさらに向上させる
ことができる。
【００３３】前記超音波スプレ４は、図１に示すよう
に、単体で形成してもよいし、図９（ａ）、（ｂ）に示
すように、複数個に分割し、基板の回転により描かれる
円１３内に、上記の洗浄条件を満たすように配置しても
よい。
に、単体で形成してもよいし、図９（ａ）、（ｂ）に示
すように、複数個に分割し、基板の回転により描かれる
円１３内に、上記の洗浄条件を満たすように配置しても
よい。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、回
転する被洗浄物外縁部が描く円内に、超音波が印加され
た洗浄液を供給して洗浄する洗浄方法において、前記円
の中心を含みその半径方向に延びるスリット状の洗浄液
流通部から、被洗浄物が描く円内の内周部の単位面積当
りに供給される洗浄液の量に対し、外縁部の単位面積当
りに供給される洗浄液の量を同量かそれより多く供給し
被洗浄物を洗浄するようにしたので、回転する基盤の内
周部と外縁部との洗浄性の差を無くし、基板全体を清浄
に洗浄することができる。
転する被洗浄物外縁部が描く円内に、超音波が印加され
た洗浄液を供給して洗浄する洗浄方法において、前記円
の中心を含みその半径方向に延びるスリット状の洗浄液
流通部から、被洗浄物が描く円内の内周部の単位面積当
りに供給される洗浄液の量に対し、外縁部の単位面積当
りに供給される洗浄液の量を同量かそれより多く供給し
被洗浄物を洗浄するようにしたので、回転する基盤の内
周部と外縁部との洗浄性の差を無くし、基板全体を清浄
に洗浄することができる。
【００３５】また、基板の回転によって形成される円の
内周部と外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力
を等しくするか、外縁部の単位面積当りに照射される超
音波出力を大きくすれば、洗浄性をさらに向上させるこ
とができる。
内周部と外縁部の単位面積当りに照射される超音波出力
を等しくするか、外縁部の単位面積当りに照射される超
音波出力を大きくすれば、洗浄性をさらに向上させるこ
とができる。
【図１】本発明による洗浄装置の構成図。
【図２】（ａ）は、図１における保持具の第１の形態を
示す断面図、（ｂ）は、図１における保持具の第２の形
態を示す断面図。
示す断面図、（ｂ）は、図１における保持具の第２の形
態を示す断面図。
【図３】図１における超音波スプレの構成図。
【図４】（ａ）は、図３における超音波スプレの洗浄液
流通部の第１の形態を示す底面図、（ｂ）は、図３にお
ける超音波スプレの洗浄液流通部の第２の形態を示す底
面図。
流通部の第１の形態を示す底面図、（ｂ）は、図３にお
ける超音波スプレの洗浄液流通部の第２の形態を示す底
面図。
【図５】基板の回転数と異物洗浄率の関係を示す特性
図。
図。
【図６】超音波スプレと基板の間隔と洗浄率の関係を示
す特性図。
す特性図。
【図７】基板の単位面積当りの洗浄液供給比率と平均洗
浄率の関係を示す特性図。
浄率の関係を示す特性図。
【図８】基板の単位面積当りの超音波出力比と平均洗浄
率の関係を示す特性図。
率の関係を示す特性図。
【図９】（ａ）は、超音波スプレの配置の第２の形態を
示す平面図、（ｂ）は、超音波スプレの配置の第３の形
態を示す平面図。
示す平面図、（ｂ）は、超音波スプレの配置の第３の形
態を示す平面図。
１…回転手段、２…保持具、３…被洗浄物となる基板、
４…超音波スプレ、５…洗浄液。
４…超音波スプレ、５…洗浄液。
Claims (6)
- 【請求項１】回転する被洗浄物外縁部が描く円内に、超
音波が印加された洗浄液を供給して被洗浄物を洗浄する
洗浄方法において、被洗浄物に対し、前記円の中心を含
みその半径方向に延びるスリット状の洗浄液流通部か
ら、被洗浄物が描く円内の内周部の単位面積当りに供給
される洗浄液の量に対し、被洗浄物の外縁部の単位面積
当りに供給される洗浄液の量を同量かそれより多く供給
し、被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】前記被洗浄物が描く円内の内周部の単位面
積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出力より、被
洗浄物の外縁部の単位面積当りに供給する洗浄液に印加
する超音波出力を大きくして被洗浄物を洗浄することを
特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。 - 【請求項３】被洗浄物を保持する保持手段と、該保持手
段を回転させる回転手段と、前記保持手段に保持され前
記回転手段により回転される被洗浄物が描く円内に、被
洗浄物に向けて開口する洗浄液流通部から洗浄液を供給
する噴射手段と、該噴射手段に設けられ洗浄液に超音波
を印加する超音波印加手段とを備えた洗浄装置におい
て、前記洗浄液流通部を、前記円の中心を含みその半径
方向に延び、前記円の内周部より外縁部が大きくなるス
リット状に形成した噴射手段を設けたことを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項４】前記超音波印加手段の出力が、前記被洗浄
物が描く円内の内周部の単位面積当りに供給する洗浄液
に印加する超音波出力より、被洗浄物の外縁部の単位面
積当りに供給する洗浄液に印加する超音波出力が大きく
なるように配置されていることを特徴とする請求項３に
記載の洗浄装置。 - 【請求項５】前記保持手段に、被洗浄物を複数点で支え
る突起が形成されていることを特徴とする請求項３に記
載の洗浄装置。 - 【請求項６】前記保持手段が、保持手段の保持面と被洗
浄物との対向面に流体を流すことにより発生するベルヌ
ーイ効果を利用して被洗浄物を保持することを特徴とす
る請求項３に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014505A JP2000210629A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 洗浄方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014505A JP2000210629A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 洗浄方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000210629A true JP2000210629A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11862935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11014505A Pending JP2000210629A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 洗浄方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000210629A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7958899B2 (en) * | 2007-08-21 | 2011-06-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
-
1999
- 1999-01-22 JP JP11014505A patent/JP2000210629A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7958899B2 (en) * | 2007-08-21 | 2011-06-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
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