JP2000212734A - 電子ビ―ム物理蒸着装置 - Google Patents
電子ビ―ム物理蒸着装置Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 断熱皮膜のための付着方法において、特に付
着効率と剥離耐性の条件を改善する。 【解決手段】 電子ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）に
よってセラミック皮膜を付着するための装置。溶融セラ
ミックの液たまりからセラミックが付着されるが、この
溶融セラミックの液たまり（１１４）の寸法を増大させ
ることによってより広い表面範囲に渡ってよりいっそう
均一な厚みのセラミック皮膜が付着される。この装置は
付着されるセラミック皮膜の供給源となるセラミック物
質（１０）を囲むるつぼ部（１１２）を使用する。この
るつぼ部（１１２）はこのセラミック物質（１０）の断
面積より広い断面積の液溜め部（１１８）を形成するよ
うに構成される。基準に合ったインゴット品質を維持す
るため、液たまり（１１４）の大きさはセラミック物質
（１０）の直径を増大させる代わりに液溜め部（１１
８）の寸法を増大させることによって増大される。
着効率と剥離耐性の条件を改善する。 【解決手段】 電子ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）に
よってセラミック皮膜を付着するための装置。溶融セラ
ミックの液たまりからセラミックが付着されるが、この
溶融セラミックの液たまり（１１４）の寸法を増大させ
ることによってより広い表面範囲に渡ってよりいっそう
均一な厚みのセラミック皮膜が付着される。この装置は
付着されるセラミック皮膜の供給源となるセラミック物
質（１０）を囲むるつぼ部（１１２）を使用する。この
るつぼ部（１１２）はこのセラミック物質（１０）の断
面積より広い断面積の液溜め部（１１８）を形成するよ
うに構成される。基準に合ったインゴット品質を維持す
るため、液たまり（１１４）の大きさはセラミック物質
（１０）の直径を増大させる代わりに液溜め部（１１
８）の寸法を増大させることによって増大される。
Description
【０００１】
【発明の分野】この発明はセラミック皮膜を付着するた
めに使用されるタイプのコーティング装置に関する。さ
らに詳細に述べると、この発明は装置コーティング室内
で付着される皮膜厚みが許容変動基準内に維持される区
域を拡大するように構成されたるつぼ部を備えた電子ビ
ーム物理蒸着（ＥＢＰＶＤ）装置に関する。
めに使用されるタイプのコーティング装置に関する。さ
らに詳細に述べると、この発明は装置コーティング室内
で付着される皮膜厚みが許容変動基準内に維持される区
域を拡大するように構成されたるつぼ部を備えた電子ビ
ーム物理蒸着（ＥＢＰＶＤ）装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】ガスタービンエンジンはその効率を増大
するためにより高い作動温度が絶えず求められる。しか
しながら、作動温度が増加するに伴い、エンジン部品の
高温耐久性がそれに対応して増加しなければならない。
ニッケルおよびコバルト基超合金の形成によって高温性
能は著しく進歩したが、タービン、燃焼器およびオーグ
メンターのようなガスタービンエンジン高温部に配置さ
れる部品をこのような合金だけで形成するのは多くの場
合不十分である。一般的な解決法はそれらの使用温度を
最小にするためにそのような部品を断熱することであ
る。このために、高温部品の露出表面に形成される断熱
皮膜（ＴＢＣ）が広く実用化されている。
するためにより高い作動温度が絶えず求められる。しか
しながら、作動温度が増加するに伴い、エンジン部品の
高温耐久性がそれに対応して増加しなければならない。
ニッケルおよびコバルト基超合金の形成によって高温性
能は著しく進歩したが、タービン、燃焼器およびオーグ
メンターのようなガスタービンエンジン高温部に配置さ
れる部品をこのような合金だけで形成するのは多くの場
合不十分である。一般的な解決法はそれらの使用温度を
最小にするためにそのような部品を断熱することであ
る。このために、高温部品の露出表面に形成される断熱
皮膜（ＴＢＣ）が広く実用化されている。
【０００３】ＴＢＣが有効に働くためには、ＴＢＣの熱
伝導率が低く、物品に強力に接着することができ、そし
て多数の加熱、冷却のサイクルを経ても接着したままで
なくてはならない。この後の方の条件はＴＢＣを形成す
るために用いられる低熱伝導率物質（一般にセラミッ
ク）とタービンエンジン部品を形成するために用いられ
る物質（一般に超合金）の間で熱膨張係数の違いがある
ため特に厳しい要求である。このために、セラミックＴ
ＢＣは、その下に存在する超合金の酸化を抑制もしなが
ら、セラミック層の部品への接着性を増進するために形
成される金属接合皮膜上に一般に付着される。セラミッ
ク層および金属接合皮膜は、一緒になって、断熱皮膜系
と呼ばれるものを形成する。一般的な接合皮膜物質は拡
散アルミ化物およびＭＣｒＡｌＹのような耐酸化性合金
であり、ここに、Ｍは鉄、コバルトおよび／またはニッ
ケルである。
伝導率が低く、物品に強力に接着することができ、そし
て多数の加熱、冷却のサイクルを経ても接着したままで
なくてはならない。この後の方の条件はＴＢＣを形成す
るために用いられる低熱伝導率物質（一般にセラミッ
ク）とタービンエンジン部品を形成するために用いられ
る物質（一般に超合金）の間で熱膨張係数の違いがある
ため特に厳しい要求である。このために、セラミックＴ
ＢＣは、その下に存在する超合金の酸化を抑制もしなが
ら、セラミック層の部品への接着性を増進するために形
成される金属接合皮膜上に一般に付着される。セラミッ
ク層および金属接合皮膜は、一緒になって、断熱皮膜系
と呼ばれるものを形成する。一般的な接合皮膜物質は拡
散アルミ化物およびＭＣｒＡｌＹのような耐酸化性合金
であり、ここに、Ｍは鉄、コバルトおよび／またはニッ
ケルである。
【０００４】ＴＢＣとして種々のセラミック物質、特に
イットリア（Ｙ2Ｏ3）、マグネシア（ＭｇＯ）または他
の酸化物によって安定化したジルコニア（ＺｒＯ2 ）が
使用された。これらの特定物質は、プラズマ溶射法、フ
レーム溶射法または蒸着法によって容易に付着すること
ができることから、当業界で広く使用されている。断熱
皮膜系について、熱サイクルの影響下で剥離されること
の少ないより接着力のあるセラミック層を形成すること
に絶え間ない挑戦が行われた。１つの方式として、電子
ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）によって付着された柱
状結晶粒組織をもつセラミック皮膜によって剥離耐性の
改善が達成される。このような結晶粒組織は基材表面に
直角に配向される粒子間の空隙によって特徴づけられ、
その結果この組織は、損傷を与え剥離に繋がるような応
力を引き起こさずにセラミック層がその下層の基材と共
に膨張することを可能にして、歪み耐性を増進する。
イットリア（Ｙ2Ｏ3）、マグネシア（ＭｇＯ）または他
の酸化物によって安定化したジルコニア（ＺｒＯ2 ）が
使用された。これらの特定物質は、プラズマ溶射法、フ
レーム溶射法または蒸着法によって容易に付着すること
ができることから、当業界で広く使用されている。断熱
皮膜系について、熱サイクルの影響下で剥離されること
の少ないより接着力のあるセラミック層を形成すること
に絶え間ない挑戦が行われた。１つの方式として、電子
ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）によって付着された柱
状結晶粒組織をもつセラミック皮膜によって剥離耐性の
改善が達成される。このような結晶粒組織は基材表面に
直角に配向される粒子間の空隙によって特徴づけられ、
その結果この組織は、損傷を与え剥離に繋がるような応
力を引き起こさずにセラミック層がその下層の基材と共
に膨張することを可能にして、歪み耐性を増進する。
【０００５】図１は先行技術に従ったＥＢＰＶＤによっ
てセラミック皮膜を付着するコーティング装置２０を示
す。装置２０はコーティング室２２を含みその中にコー
ティングのための部品３０がつり下げられる。セラミッ
ク層３２は電子ビーム（ＥＢ）銃２８が発生する電子ビ
ーム２６でセラミックのインゴット１０を溶融して部品
３０上に付着される。このビーム２６は部品３０上で凝
結してセラミック層３２を形成するセラミック蒸気３４
の流れを生ずるのに十分な強度を持つ。図に示すよう
に、セラミック蒸気３４はインゴット１０の上端の周り
を囲っているるつぼ部１２によって形成される液溜め部
１８の中に含まれる溶融セラミックの液たまり１４から
気化する。図に示すタイプのるつぼ部は多くの場合銅か
ら作られているが、その他の物質が使用できることは予
見できることである。冷却通路１６はるつぼ部１２を許
容温度に維持する。るつぼ部１２は漏れないようにイン
ゴット１０の周りにぴったりと合っていなくてはならな
いから、液たまり１４の寸法はセラミックインゴット１
０の寸法によって決まり、それは一般的に約６．３セン
チメートルの直径を持つ。付着プロセスによって徐々に
消費されるので、インゴット１０は気密室２４を通して
徐々にコーティング室２２の中に送り込まれる。付着の
間、コーティング室２２は一般に約０．００５ｍｂａｒ
の圧力に保たれる。
てセラミック皮膜を付着するコーティング装置２０を示
す。装置２０はコーティング室２２を含みその中にコー
ティングのための部品３０がつり下げられる。セラミッ
ク層３２は電子ビーム（ＥＢ）銃２８が発生する電子ビ
ーム２６でセラミックのインゴット１０を溶融して部品
３０上に付着される。このビーム２６は部品３０上で凝
結してセラミック層３２を形成するセラミック蒸気３４
の流れを生ずるのに十分な強度を持つ。図に示すよう
に、セラミック蒸気３４はインゴット１０の上端の周り
を囲っているるつぼ部１２によって形成される液溜め部
１８の中に含まれる溶融セラミックの液たまり１４から
気化する。図に示すタイプのるつぼ部は多くの場合銅か
ら作られているが、その他の物質が使用できることは予
見できることである。冷却通路１６はるつぼ部１２を許
容温度に維持する。るつぼ部１２は漏れないようにイン
ゴット１０の周りにぴったりと合っていなくてはならな
いから、液たまり１４の寸法はセラミックインゴット１
０の寸法によって決まり、それは一般的に約６．３セン
チメートルの直径を持つ。付着プロセスによって徐々に
消費されるので、インゴット１０は気密室２４を通して
徐々にコーティング室２２の中に送り込まれる。付着の
間、コーティング室２２は一般に約０．００５ｍｂａｒ
の圧力に保たれる。
【０００６】ジルコニア基断熱皮膜、特にＥＢＰＶＤに
よって生成され柱状結晶粒組織を有するイットリア安定
化ジルコニア（ＹＳＺ）皮膜は、望ましい熱特性および
接着特性を持つことから当業界で広く用いられている。
それでもなお、断熱皮膜のための付着方法、特に、付着
効率と剥離耐性の条件を改善する努力が現在も進行中で
ある。
よって生成され柱状結晶粒組織を有するイットリア安定
化ジルコニア（ＹＳＺ）皮膜は、望ましい熱特性および
接着特性を持つことから当業界で広く用いられている。
それでもなお、断熱皮膜のための付着方法、特に、付着
効率と剥離耐性の条件を改善する努力が現在も進行中で
ある。
【０００７】
【発明の要約】この発明は、ガスタービンエンジンのタ
ービン、燃焼器、およびオーグメンター部品のように、
過酷な環境に置かれる物品上にセラミック皮膜を付着す
るコーティング装置である。このようなセラミック皮膜
を、セラミック皮膜の超合金基材に対する接着性を改善
する金属接合皮膜を含む断熱皮膜系の一部とすることが
好ましい。特に重要なセラミック皮膜はイットリア安定
化ジルコニア（ＹＳＺ）で形成され、そしてＥＢＰＶＤ
により付着された結果として柱状結晶粒組織を持つ。
ービン、燃焼器、およびオーグメンター部品のように、
過酷な環境に置かれる物品上にセラミック皮膜を付着す
るコーティング装置である。このようなセラミック皮膜
を、セラミック皮膜の超合金基材に対する接着性を改善
する金属接合皮膜を含む断熱皮膜系の一部とすることが
好ましい。特に重要なセラミック皮膜はイットリア安定
化ジルコニア（ＹＳＺ）で形成され、そしてＥＢＰＶＤ
により付着された結果として柱状結晶粒組織を持つ。
【０００８】この発明によれば、溶融セラミックの液た
まりの寸法を増大すると、より広い表面上にわたってよ
り均一な厚みのセラミック皮膜を付着することができ
る。これをさらに詳細に述べると、溶融した液たまりを
より広くすると、この明細書で使用されるようにコーテ
ィング装置内部で皮膜の厚みが確実にむらなくある一定
の変動基準、例えば約±１０％程度内に維持される区域
とされるコーティング装置内の区域が拡大することが明
らかにされた。この装置は、付着されるセラミック皮膜
の原料であるセラミックインゴットを囲むるつぼ部の使
用によりこの発明の目的を達成する。重要なことはるつ
ぼ部がセラミック物質の断面積より広い断面積の液溜め
部を形成するように構成されるということである。この
発明によれば、基準に合ったインゴット品質を維持する
ために、セラミック物質の直径を増大させる代わりに液
溜め部の大きさを増大させることによって液たまりの寸
法を増大させる。したがって、この発明のこの装置は、
コーティング室内で基準に合った皮膜を生成することが
できる区域を拡大し、これによってコーティング方法の
効率と均一性を改善し、皮膜品質を犠牲にすることなく
もっと多くの部品またはもっと大きな部品の同時コーテ
ィングを可能にする。特に、この発明を達成するため
に、溶融セラミックの固化およびるつぼ部−セラミック
取付の変更などのような、通常、インゴットに対して液
溜め部の大きさを変えようとする当業者の試みを思いと
どまらせるようなプロセス上の厄介な問題に対処してい
る。
まりの寸法を増大すると、より広い表面上にわたってよ
り均一な厚みのセラミック皮膜を付着することができ
る。これをさらに詳細に述べると、溶融した液たまりを
より広くすると、この明細書で使用されるようにコーテ
ィング装置内部で皮膜の厚みが確実にむらなくある一定
の変動基準、例えば約±１０％程度内に維持される区域
とされるコーティング装置内の区域が拡大することが明
らかにされた。この装置は、付着されるセラミック皮膜
の原料であるセラミックインゴットを囲むるつぼ部の使
用によりこの発明の目的を達成する。重要なことはるつ
ぼ部がセラミック物質の断面積より広い断面積の液溜め
部を形成するように構成されるということである。この
発明によれば、基準に合ったインゴット品質を維持する
ために、セラミック物質の直径を増大させる代わりに液
溜め部の大きさを増大させることによって液たまりの寸
法を増大させる。したがって、この発明のこの装置は、
コーティング室内で基準に合った皮膜を生成することが
できる区域を拡大し、これによってコーティング方法の
効率と均一性を改善し、皮膜品質を犠牲にすることなく
もっと多くの部品またはもっと大きな部品の同時コーテ
ィングを可能にする。特に、この発明を達成するため
に、溶融セラミックの固化およびるつぼ部−セラミック
取付の変更などのような、通常、インゴットに対して液
溜め部の大きさを変えようとする当業者の試みを思いと
どまらせるようなプロセス上の厄介な問題に対処してい
る。
【０００９】この発明の他の目的と利益とは、次の詳細
な説明から十分に了解されるであろう。
な説明から十分に了解されるであろう。
【００１０】
【発明の詳細な記述】この発明は一般に高温環境の中で
作動しようとする金属部品上の断熱皮膜系の一部として
付着されるセラミック皮膜に関する。このような部品の
顕著な例としてガスタービンエンジンの高圧および低圧
のタービンノズルと動翼、シュラウド、燃焼器ライナー
およびオーグメンター機器が含まれる。この発明の利益
はガスタービンエンジンの部品に関して述べられるが、
この発明の教示は一般にセラミック皮膜を付着すること
のできるどのような部品にも適用できる。
作動しようとする金属部品上の断熱皮膜系の一部として
付着されるセラミック皮膜に関する。このような部品の
顕著な例としてガスタービンエンジンの高圧および低圧
のタービンノズルと動翼、シュラウド、燃焼器ライナー
およびオーグメンター機器が含まれる。この発明の利益
はガスタービンエンジンの部品に関して述べられるが、
この発明の教示は一般にセラミック皮膜を付着すること
のできるどのような部品にも適用できる。
【００１１】図２は図１に示されるＥＢＰＶＤコーティ
ング装置２０で使用することができるタイプのるつぼ部
１１２を示す。従来と同様に、このるつぼ部１１２は銅
または別の適当な物質で形成することができ、水または
別の適当な冷却媒体が中を通って流れる冷却通路１１６
を含む。このるつぼ部１１２はインゴット１０をぴった
りと囲む鍔部１１２Ａを有するものとして示される。先
行技術とは異なり、この発明のるつぼ部１１２は図１に
示されるつぼ部１２の液溜め部より広い液溜め部１１８
を有する。この液溜め部１１８の断面積は好ましくはイ
ンゴット１０の断面積より約１０％から約５０％広く、
面積がこれより広いと、インゴット１０が電子ビーム２
６によって溶融されるに伴い、液溜め部１１８の中への
溶融セラミックの均一な流れを維持することが極めて難
しく、また液溜め部１１８の適度な充填状態を保つのが
難しいことが確認されている。液溜め部１１８の好まし
い断面積は直径約６．３センチメートル（約３１ｃ
ｍ2）の標準的なインゴットに対して約３８から約７０
ｃｍ2である。この好ましい断面積の限界内で、液溜め
部１１８の好ましい深さは約０．２〜１．０センチメー
トルである。必要という訳ではないが、液溜め部１１８
およびインゴット１０は円形で同心の断面を有するのが
好ましい。
ング装置２０で使用することができるタイプのるつぼ部
１１２を示す。従来と同様に、このるつぼ部１１２は銅
または別の適当な物質で形成することができ、水または
別の適当な冷却媒体が中を通って流れる冷却通路１１６
を含む。このるつぼ部１１２はインゴット１０をぴった
りと囲む鍔部１１２Ａを有するものとして示される。先
行技術とは異なり、この発明のるつぼ部１１２は図１に
示されるつぼ部１２の液溜め部より広い液溜め部１１８
を有する。この液溜め部１１８の断面積は好ましくはイ
ンゴット１０の断面積より約１０％から約５０％広く、
面積がこれより広いと、インゴット１０が電子ビーム２
６によって溶融されるに伴い、液溜め部１１８の中への
溶融セラミックの均一な流れを維持することが極めて難
しく、また液溜め部１１８の適度な充填状態を保つのが
難しいことが確認されている。液溜め部１１８の好まし
い断面積は直径約６．３センチメートル（約３１ｃ
ｍ2）の標準的なインゴットに対して約３８から約７０
ｃｍ2である。この好ましい断面積の限界内で、液溜め
部１１８の好ましい深さは約０．２〜１．０センチメー
トルである。必要という訳ではないが、液溜め部１１８
およびインゴット１０は円形で同心の断面を有するのが
好ましい。
【００１２】るつぼ部１１２について変更したこの発明
のＥＢＰＶＤコーティング装置（例えば、図１の装置２
０）は、一般にセラミック層３２の付着の間約５×１０
-3Ｔｏｒｒ（約０．００５ｍｂａｒ）の減圧度で運転さ
れる。ガスタービンエンジンに使用するのであれば、部
品３０は、他の物質を使用することもできるが、一般に
ニッケル基またはコバルト基の超合金で形成される。セ
ラミック皮膜３２は一般に、セラミック皮膜３２が付着
される金属接合皮膜（図示していない）を含む皮膜系の
一部である。先行技術によれば、接合皮膜は好ましくは
その下にある超合金基材を酸化から保護し、セラミック
皮膜３２の接着性を増進する耐酸化性の金属組成であ
る。当業界で知られるように、適当な接合皮膜物質は白
金および／またはニッケルアルミ化物金属間相を含む拡
散アルミ化物およびＮｉＣｒＡｌＹのようなＭＣｒＡｌ
Ｙ合金を含む。
のＥＢＰＶＤコーティング装置（例えば、図１の装置２
０）は、一般にセラミック層３２の付着の間約５×１０
-3Ｔｏｒｒ（約０．００５ｍｂａｒ）の減圧度で運転さ
れる。ガスタービンエンジンに使用するのであれば、部
品３０は、他の物質を使用することもできるが、一般に
ニッケル基またはコバルト基の超合金で形成される。セ
ラミック皮膜３２は一般に、セラミック皮膜３２が付着
される金属接合皮膜（図示していない）を含む皮膜系の
一部である。先行技術によれば、接合皮膜は好ましくは
その下にある超合金基材を酸化から保護し、セラミック
皮膜３２の接着性を増進する耐酸化性の金属組成であ
る。当業界で知られるように、適当な接合皮膜物質は白
金および／またはニッケルアルミ化物金属間相を含む拡
散アルミ化物およびＮｉＣｒＡｌＹのようなＭＣｒＡｌ
Ｙ合金を含む。
【００１３】接合皮膜を付着した後、電子ビーム銃２８
によって発生され、放出される電子ビーム２６によって
インゴット１０を溶融、気化させて形成した蒸気からセ
ラミック皮膜３２が析出、付着される。部品３０は、当
業界で周知のタイプの回転可能な支持体（図示していな
い）に、インゴット１０の上端部に近接するように固定
されることができる。この電子ビーム２６は方向をイン
ゴット１０の上端部に向けられ、インゴット１０の表面
を溶解させ、るつぼ部１１２の拡大した液溜め部１１８
の中で溶融液たまり１１４を形成させる。電子ビーム２
６によるインゴット１０の強度の加熱が、セラミック物
質の分子を気化させ、上方へ移動させ、そして次に部品
３０の表面上に付着（凝結）させるが、これらすべては
当業界に周知の方法で行う。
によって発生され、放出される電子ビーム２６によって
インゴット１０を溶融、気化させて形成した蒸気からセ
ラミック皮膜３２が析出、付着される。部品３０は、当
業界で周知のタイプの回転可能な支持体（図示していな
い）に、インゴット１０の上端部に近接するように固定
されることができる。この電子ビーム２６は方向をイン
ゴット１０の上端部に向けられ、インゴット１０の表面
を溶解させ、るつぼ部１１２の拡大した液溜め部１１８
の中で溶融液たまり１１４を形成させる。電子ビーム２
６によるインゴット１０の強度の加熱が、セラミック物
質の分子を気化させ、上方へ移動させ、そして次に部品
３０の表面上に付着（凝結）させるが、これらすべては
当業界に周知の方法で行う。
【００１４】この発明は好ましい実施態様の面で述べら
れてきたが、変更態様が当業者によって採用されること
ができることは明白である。例えば、粉末か、ペレット
かまたは顆粒状物質の形態のセラミック物質を図１およ
び図２に示されるインゴット１０の代わりに使用するこ
とができる。したがって、この発明の範囲は特許請求の
範囲によってのみ制限される。
れてきたが、変更態様が当業者によって採用されること
ができることは明白である。例えば、粉末か、ペレット
かまたは顆粒状物質の形態のセラミック物質を図１およ
び図２に示されるインゴット１０の代わりに使用するこ
とができる。したがって、この発明の範囲は特許請求の
範囲によってのみ制限される。
【図１】先行技術による断熱皮膜系のセラミック層を付
着するために用いられる電子ビーム物理蒸着装置の略図
である。
着するために用いられる電子ビーム物理蒸着装置の略図
である。
【図２】この発明による、図１の装置で使用するよう改
造されたるつぼ部の断面図である。
造されたるつぼ部の断面図である。
１０：セラミックのインゴット ２８：電子ビーム（ＥＢ）銃 ３０：部品 ３２：セラミック層 １１２：るつぼ部 １１４：溶融液たまり １１８：液溜め部
Claims (9)
- 【請求項１】 コーティング室と、そのコーティング室
内で電子ビームを発生する手段と、前記コーティング室
にある或る断面積をもった上端を有するセラミック物質
（１０）と、および前記セラミック物質（１０）の上端
を囲み、前記セラミック物質（１０）の断面積より広い
断面積を持つ液溜め部を形成するるつぼ部（１１２）と
を含む付着装置。 - 【請求項２】 前記液溜め部（１１８）の断面積が前記
セラミック物質（１０）の断面積より約１０％から約５
０％広い請求項１記載の付着装置。 - 【請求項３】 前記セラミック物質（１０）がインゴッ
トの形態である請求項１記載の付着装置。 - 【請求項４】 前記セラミック物質（１０）が粉末か、
ペレツトか、または顆粒状物質の形態である請求項１記
載の付着装置。 - 【請求項５】 前記るつぼ部（１１２）が中を通って冷
却媒体が流れる冷却チャネル（１１６）を有する請求項
１記載の付着装置。 - 【請求項６】 前記るつぼ部（１１２）の前記液溜め部
（１１８）がほぼ円形の断面域を有する請求項１記載の
付着装置。 - 【請求項７】 前記セラミック物質（１０）の上端がほ
ぼ円形の断面域を有する請求項６記載の付着装置。 - 【請求項８】 前記液溜め部（１１８）の円形断面域が
前記セラミック物質（１０）の円形断面域と同心である
請求項７記載の付着装置。 - 【請求項９】 前記液溜め部（１１８）が約０．２から
約１．０ｃｍの深さを持つ請求項１記載の付着装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/209,296 US6145470A (en) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | Apparatus for electron beam physical vapor deposition |
| US09/209296 | 1998-12-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000212734A true JP2000212734A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=22778200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11338915A Pending JP2000212734A (ja) | 1998-12-11 | 1999-11-30 | 電子ビ―ム物理蒸着装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6145470A (ja) |
| EP (1) | EP1008669A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000212734A (ja) |
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| US6145470A (en) | 2000-11-14 |
| EP1008669A1 (en) | 2000-06-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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