JP2000214330A

JP2000214330A - 透明導電性偏光フィルム、タッチパネル及び液晶表示素子

Info

Publication number: JP2000214330A
Application number: JP1799199A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Nagahama; 博之長濱; Toshiyuki Otani; 寿幸大谷; Seiichiro Yokoyama; 誠一郎横山
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1999-01-27
Filing date: 1999-01-27
Publication date: 2000-08-04

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶表示素子にタッチパネル機能を付与する
際、視認性の低下や重量の増加を抑えながら、かつペン
入力耐久性等の性質を兼ね備えることのできる透明導電
性偏光フィルム、並びにこれを用いたタッチパネル、及
び液晶表示素子を提供する。【解決手段】偏光フィルム１１の少なくとも片方の面
に、非晶質である透明導電性薄膜１２を形成した透明導
電性偏光フィルム１であって、前記透明導電性薄膜１２
の表面張力が３５〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラスチックフィル
ムを用いた透明導電性偏光フィルム、並びにこれを用い
たタッチパネル、及び液晶表示素子に関するものであ
り、殊にタッチパネルに用いた際の視認性およびペン入
力耐久性に優れた透明導電性偏光フィルム等に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックフィルム上に透明かつ低抵
抗な化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、従
来、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプ
レイ、ＥＬディスプレイ、エレクトロクロミックディス
プレイなどの表示素子の電極、太陽電池などの光電変換
素子の窓電極、電磁波シールドの電磁波遮蔽膜、あるい
は透明タッチパネルなどの入力装置の電極として広く使
用される。

【０００３】このような透明導電性フィルムの透明導電
層としては、金、銀、白金、パラジウムなどの貴金属薄
膜と、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−ス
ズ、酸化亜鉛などの酸化物半導体薄膜とが知られてい
る。

【０００４】一方、近年の携帯情報端末の普及により、
入力や操作性の簡便さが要求され、表示画面上の任意の
点を押圧することにより入力できるペン入力タイプが広
く用いられるようになってきている。ペン入力の方式と
しては、静電容量方式や光センサー方式、タッチパネル
方式が知られている。特に、タッチパネル方式は、位置
検出がアナログ的であり、高分解能であることや、周辺
装置がコンパクトにできることなどの特徴があり、ワー
プロ、パソコン、電子手帳等、携帯用や個人用の情報端
末に多く使われてきている。

【０００５】上記のタッチパネルの用途に用いられる透
明導電性フィルムは、基本的には導電層（殊にＩＴＯ
層）／高分子フィルムの層構成を有し、透明タッチパネ
ルとして使用するときは、２枚の透明導電性フィルムの
導電層側をスペーサを介いて対向配置して用いる。

【０００６】そして、通常の透明タッチパネルは、液晶
表示素子の最上面に重ね合わせて用いられる。従って、
透明性、機械的性質、表面平滑性、耐溶剤性、耐スクラ
ッチ性、非透湿性、コストなどの総合性能を考慮する必
要があり、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ムが一般的に用いられている。

【０００７】更に、前記のように透明タッチパネルを配
設した液晶表示機器においては、光の反射を少なくする
ことによる視認性の向上、表示装置全体の軽量化、ま
た、ペン入力により位置検出精度が劣化しないなどの耐
久性の向上が要求されている。この様な要求に対し、透
明タッチパネルの光の反射を少なくすることによる視認
性の向上を目的として、透明タッチパネルの上面に更に
反射防止フィルムを設置する方法や、透明導電性フィル
ムの導電層の反対側の面に、反射防止層をドライコート
法やウェットコート法により設ける方法が提案されてい
る。同様に、視認性を向上させるために、例えば、特開
平８−１５５９８８号公報、特開平８−１６１１１６号
公報等で提案されているような、光等方性を有する透明
導電性フィルムを用いた透明タッチパネルを液晶表示素
子の偏光板の下に設置する方法が提案されている。

【０００８】次に、耐久特性として特に求められている
特性としては、位置検出回路とタッチパネルの接続に対
する接続部材の耐久性と、ペンによる押圧で透明導電性
フィルムの透明導電性薄膜にクラックや剥離が生じない
という透明導電性薄膜に対する耐久性である。ここで、
通常、位置検出回路とタッチパネルの接続には銀ペース
トが用いられている。

【０００９】銀ペーストと透明導電性薄膜とを強固に接
着するには、透明導電性薄膜上に銀ペースト塗布後の焼
成を１５０℃以上の高温で行えばよい。しかし、通常の
ポリエステルフィルムを１５０℃で熱処理すると、オリ
ゴマーの析出によりフィルムが白濁してしまう。そこで
オリゴマー析出防止層として、透明なプラスチックフィ
ルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された
層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性
フィルム（特開昭６０−１３１７１１号公報）が提案さ
れている。

【００１０】また、ペン入力用タッチパネルに透明導電
性フィルムを用いた場合、スペーサーを介して対向させ
た一対の導電性薄膜同士が、ペン入力による押圧で強く
接触するため、薄膜にクラックや剥離が生じてしまい、
電気抵抗が増大したり、断線を生じたりする。

【００１１】この様な、ペン入力の耐久特性の向上とし
ては、例えば、１２０μｍ以下の厚さの透明プラスチッ
ク上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基
体と貼りあわせた透明導電性フィルム（特開平２−６６
８０９号）が提案されている。また、加熱処理によりイ
ンジウム酸化物の結晶粒径を０．３μｍ以下とした透明
導電性フィルム（特許第２５２５４７５号公報）が提案
されている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
様に、タッチパネルを液晶表示素子の最上面に重ね合わ
せて用いる方法では、光の反射を少なくすることによる
視認性の向上には、自ずと限界があり、また、部品点
数、層数の増加による、表示面の輝度の低下、重量増と
いった問題がある。

【００１３】また、前述の視認性を向上させるための方
法として提案されている、光等方性を有する透明導電性
フィルムを用い、透明タッチパネルを液晶表示素子の偏
光板の下に設置する方法では、光等方性を有するベース
フィルムを用いる必要があるため、通常の二軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルムは用いることができ
ず、製造コストが高くなる。また、基本的にタッチパネ
ル部材を新たに追加することにかわりなく、部品点数、
層数の増加による、表示面の輝度の低下、重量増といっ
た問題がある。

【００１４】また、前述のペン入力の耐久性を向上させ
る方法として提案されている、透明プラスチック上に透
明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基体と貼り
あわせた透明導電性フィルムを用いる方法では、ペン入
力に対する耐久性が十分ではなく、また、粘着剤を用い
て貼り合わせるため、貼り合わせ時にゴミなどの異物が
混入し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなってし
まう。

【００１５】また、透明なプラスチックフィルム上に有
機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、
さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルムを
用いる方法では、この透明導電性フィルムは、耐久性を
得るために透明導電性薄膜を製膜した後に、有機ケイ素
化合物の加水分解により生成された層を架橋するために
１５０℃、１０時間もの熱処理が必要である。このた
め、結晶質の透明導電性薄膜となり、タッチパネル作製
時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、タ
ッチパネルの製造コストが高いものになる。

【００１６】また、加熱処理によりインジウム酸化物の
結晶粒径を０．３μｍ以下とした透明導電性フィルムを
用いる方法でも、透明導電性フィルムは結晶質の透明導
電性薄膜となる。このため、この場合もタッチパネル作
製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、
タッチパネルの製造コストが高いものになる。

【００１７】以上の様に、透明タッチパネルの視認性の
向上や、ペン入力に対する耐久性の向上の検討はなされ
ているものの、基本的に、既存のタッチパネルを液晶表
示素子に付加する構成はかわりなく、従来の構成では、
表示装置全体としての視認性、軽量性については不十分
である。また、耐久性についても、不十分である場合
や、また耐久性はあるが、加工性が悪い等、これらの特
性を併せ持つものについては実現できていない。

【００１８】従って、本発明は、上記課題を解決しよう
とするものであり、液晶表示素子にタッチパネル機能を
付与する際、視認性の低下や重量の増加を抑えながら、
かつペン入力耐久性等の性質を兼ね備えることのできる
透明導電性偏光フィルム、並びにこれを用いたタッチパ
ネル、及び液晶表示素子を提供することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、偏光フィルム上に
特定の透明導電性薄膜を形成した導電性偏光フィルムを
用いることにより、上記目的を達成できることを見出
し、本発明を完成するに至った。

【００２０】即ち、本発明の透明導電性偏光フィルム
は、偏光フィルムの少なくとも片方の面に、非晶質であ
る透明導電性薄膜を形成した透明導電性偏光フィルムで
あって、前記透明導電性薄膜の表面張力が３５〜６０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とする。

【００２１】上記において、前記偏光フィルムと前記透
明導電性薄膜との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上である
ことが好ましい。

【００２２】前記透明導電性薄膜としては、後述のよう
に種々のものが例示されるが、インジウム−スズ複合酸
化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの含有率が１０〜
６０重量％であることが好ましい。

【００２３】また、前記透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜を形成していない面に、ハードコート処理層
を積層してあることが好ましい。

【００２４】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、防眩処理層を積層してある
ことが好ましい。

【００２５】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、反射防止処理層を積層して
あることが好ましい。

【００２６】一方、本発明のタッチパネルは、透明導電
性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対
向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパ
ネルにおいて、前記パネル板の少なくとも片方が、上記
のいずれかに記載の透明導電性偏光フィルムからなるこ
とを特徴とする。

【００２７】他方、本発明の液晶表示素子は、液晶の配
向状態の制御により入射光に光学的変化を与える液晶パ
ネルと、その両側に配置される偏光板とを備えた液晶表
示素子において、視認側に配置される前記偏光板が、上
記のいずれかに記載の透明導電性偏光フィルムであると
共に、前記透明導電性薄膜を一方の電極として、他方の
電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが形成
されていることを特徴とする。

【００２８】〔作用効果〕本発明の透明導電性偏光フィ
ルムによると、偏光フィルムの少なくとも片方の面に透
明導電性薄膜を形成してあるため、これをタッチパネル
の一方の電極としつつ、偏光フィルムが液晶表示素子の
偏光板として機能するので、特にタッチパネル付き液晶
表示素子に用いる際、視認性をあまり低下させることが
なく、また、液晶表示装置全体の重量増を最低限に抑え
ることができる。しかも、透明導電性薄膜が非晶質であ
るため、導電性、透明性およびエッチング特性に優れ
る。また、偏光フィルム上の透明導電性薄膜の表面張力
が３５〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍであるため、導電接続のた
めの銀ペーストとの密着性に優れる。その結果、特にタ
ッチパネル付き液晶表示素子に用いる際、視認性の低下
や重量の増加を抑えながら、好適に液晶表示素子にタッ
チパネル機能を付与できる透明導電性偏光フィルムを提
供することができた。

【００２９】また、前記偏光フィルムと前記透明導電性
薄膜との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上である場合、偏
光フィルムと透明導電性薄膜との付着力が非常に強固で
あるため、ペン入力用タッチパネルに用いた際に、ペン
の押圧で対向の透明導電性薄同士が強く接触しても透明
導電性薄膜に剥離、クラックが生じることがなく、ペン
入力耐久性に極めて優れた透明導電性フィルムとなる。

【００３０】前記透明導電性薄膜が、インジウム−スズ
複合酸化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの含有率が
１０〜６０重量％である場合、別途活性化処理を行わな
くても表面張力を上記の範囲にすることができ、しかも
十分な導電性を有する薄膜を形成し易い。

【００３１】また、前記透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜を形成していない面に、ハードコート処理層
を積層してある場合、タッチパネルに用いた際のペンな
どからの傷つきを防止し易くなる。

【００３２】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、防眩処理層を積層してある
場合、タッチパネルに用いた際の視認性をさらに向上さ
せることができる。

【００３３】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、反射防止処理層を積層して
ある場合、タッチパネルに用いた際の視認性および可視
光線の透過率をさらに向上させることができる。

【００３４】一方、本発明のタッチパネルによると、パ
ネル板の少なくとも片方が、上記のいずれかに記載の透
明導電性偏光フィルムからなるため、上記と同様の作用
効果を奏することができる。従って、タッチパネルを配
設後の液晶表示装置のフィルム層数の増加を最低限に抑
えられ、薄型化、軽量化にも貢献することができる。更
には、液晶表示部と位置検出部の間隔が挟められること
により、位置検出精度の向上も図ることができる。

【００３５】他方、本発明の液晶表示素子によると、視
認側に配置される前記偏光板が、上記のいずれかに記載
の透明導電性偏光フィルムであると共に、前記透明導電
性薄膜を一方の電極として、他方の電極を有する透明パ
ネル板とともにタッチパネルが形成されているため、上
記と同様の作用効果を奏することができる。即ち、視認
性の低下や重量の増加を抑えながら、好適に液晶表示素
子にタッチパネル機能を付与でき、好ましくはペン入力
耐久性等の性質を兼ね備えることのできる液晶表示素子
を提供することができた。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について、透明導電
性偏光フィルム、タッチパネル、液晶表示素子の順で、
詳細に説明する。

【００３７】〔透明導電性偏光フィルム〕本発明の透明
導電性偏光フィルムは、例えば、次の如き材料、方法に
より製造することができる。

【００３８】本発明における偏光フィルムは、偏光機能
を有する偏光子と、必要によりその機能を維持するため
の透明保護フィルム等とにより構成される。偏光子とし
ては、偏光機能を有するものであれば特に限定されない
が、例としては、ポリビニルアルコール系フィルムや部
分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチ
レン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親
水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性
物質を吸着させて延伸したフィルム等が挙げられる。ま
た、ポリエン配向フィルムの例としては、ポリビニルア
ルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物
等が挙げられる。なお偏光子の厚さは、一般には５〜８
０μｍであるが、これに限定されない。

【００３９】本発明における透明保護フィルムは、上記
機能を有するものであれば特に限定されないが、例とし
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスルフォン、ポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、
ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンスルフィド、ポ
リフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタク
チックポリスチレン、ポリエステル、セルロース、ノル
ボルネン系ポリマー（環状ポリオレフィン）などがあげ
られる。なお透明保護フィルムの厚さは、一般には５０
〜３００μｍであるが、これに限定されない。

【００４０】本発明における透明導電性薄膜としては、
透明性、及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限
はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸
化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ
−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化
物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜がある。これ
らの化合物薄膜は、適当な作製条件とすることで、透明
性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜となることが知
られている。

【００４１】透明導電性薄膜の膜厚としては、４０〜８
０００Åの範囲が好ましく、さらに好ましくは５０〜５
０００Åである。透明導電性薄膜の膜厚が４０Åよりも
薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示
しにくい。また、８０００Åよりも厚い場合、透明性が
低下する傾向がある。

【００４２】透明導電性薄膜の作製方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーテ
ィング法、スプレー法、ゾルーゲル法などが知られてお
り、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法
を用いることが出来る。

【００４３】例えばスパッタリング法の場合、化合物を
用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲ
ットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。
この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導
入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用
してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、
基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても
よい。

【００４４】非晶質の透明導電性薄膜を得るには、基板
である偏光フィルムの製膜時の温度を１００℃以下にす
るのが好ましい。また、蒸着法、ＣＶＤ法などの他の作
製方法においても同様である。

【００４５】銀ペーストとの接着性を強固なものとする
ためには、透明導電性薄膜の表面張力を３５〜６０ｄｙ
ｎｅ／ｃｍにすることが好ましい。透明導電性薄膜の表
面張力を３５〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍにすることで、１２
０℃程度の焼成温度でも銀ペーストと透明導電性薄膜と
が強固に接着することが可能となる。透明導電性薄膜の
表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍよりも小さい場合は、１
２０℃の焼成温度では銀ペーストとの接着性が十分では
ない。また、透明導電性薄膜の表面張力が６０ｄｙｎｅ
／ｃｍよりも大きい場合は、透明導電性薄膜上に水分な
どの吸着水が増え、やはり銀ペーストとの接着性が十分
ではない。

【００４６】透明導電性薄膜の表面張力を３５〜６０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍをするには、透明導電性薄膜を酸性もしく
はアルカリ性溶液で処理し表面を活性にする方法、紫外
線、電子線を表面に照射し活性にする方法、コロナ処理
やプラズマ処理を施し活性にする方法が用いられる。

【００４７】酸性水溶液による洗浄に用いられる酸は、
塩酸、硫酸、フッ酸、硝酸などの単独酸もしくは混酸が
好ましい。また、アルカリ性水溶液による洗浄に用いら
れるアルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムなどを単独もしくは
混合したものを用いるのが好ましい。また、これらの酸
性もしくはアルカリ性の成分を含んでいる洗浄液を用い
てもよい。

【００４８】また、低圧もしくは高圧水銀ランプを用い
て、紫外線を照射し空気中の酸素を活性酸素とし、この
活性酸素が透明導電性薄膜表面と反応することで、表面
張力の高い透明導電性薄膜を得ることができる。このと
きの紫外線照射量としては５〜２０００ｍＪ／ｃｍ² の
範囲が好ましい。５ｍＪ／ｃｍ² よりも少ない照射量で
は表面を活性にしにくく、２０００ｍＪ／ｃｍ² よりも
多い照射量では処理に時間がかかりすぎ、工業的に好ま
しくない。

【００４９】また、電子線照射に用いる電子線源として
は、電子発生方式として、熱陰極型、電界放出型、冷陰
極型などを用い、高電圧発生方式としてはコッククロフ
ト・ウォルトン型、変圧器整流型、バンテクラフ型など
を用いるのが好ましい。また、電子線のエネルギーとし
ては、５０ＫｅＶ〜３０ＭｅＶの範囲が好ましい。５０
ＫｅＶよりも低いエネルギーでは透明導電性薄膜の表面
活性化の効果が十分ではなく、３０ＭｅＶよりも高エネ
ルギーの電子線源は非常に高価なものとなり、工業的に
好結果を得にくい。また、照射線量としては、０．１〜
５００Ｍｒａｄの範囲が好ましい。０．１Ｍｒａｄより
少ない照射線量では、透明導電性薄膜の表面活性化の効
果が十分ではなく、５００Ｍｒａｄよりも多い照射線量
は処理に時間がかかり、工業的に好結果を得にくい。

【００５０】また、表面張力の高い材料を透明導電性薄
膜に用いてもよい。例えば、透明導電性薄膜として好適
に用いられるインジウム−スズ複合酸化物薄膜のうち、
酸化スズの含有率を多くすることで、表面張力を高くす
ることが可能である。インジウム−スズ複合酸化物薄膜
中の好ましい酸化スズの含有率は１０〜６０重量％であ
り、より好ましくは１５〜５０重量％である。酸化スズ
含有率が１０重量％よりも少ない場合は、前述の活性化
処理を併用しなければ、表面張力を３５〜６０ｄｙｎｅ
／ｃｍの範囲内としにくく、６０重量％を越える含有率
の場合は、導電性が不十分な薄膜となる傾向がある。

【００５１】本発明における透明導電性偏光フィルムに
おいて、ペン入力耐久性を向上させるには、偏光フィル
ムと透明導電性薄膜との付着力を１０ｇ／１５ｍｍ以上
にするのが好ましい。

【００５２】偏光フィルムと透明導電性薄膜との接着性
を向上させるために、透明導電性薄膜を製膜する前に偏
光フィルム上を表面処理することが有効である。具体的
な手法としては、サンドブラストやエンボス加工により
表面積を増加させる物理的表面粗面化処理や、カルボニ
ル基やカルボキシル基、水酸基をフィルム上に増加する
ために、グローまたはコロナ放電を照射する放電処理、
オゾン処理、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加
させるために、酸またはアルカリでフィルムを処理する
化学薬品処理などが挙げられる。用いられる方法として
は、偏光フィルムにより最適な方法が選ばれる。また、
２種以上を併用してもよい。

【００５３】透明導電性薄膜と偏光フィルムとの付着力
を強固にするために、プライマー層を透明導電性薄膜と
偏光フィルムとの中間に設けてもよい。プライマー層に
用いる高分子樹脂は、透明導電性薄膜と偏光フイルムの
双方に卓越した接着性を提供するものであり、具体的に
は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、ウレタンアクリル樹脂、シリコンアクリル樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリシロキサン樹脂などが好ましく用いら
れる。

【００５４】プライマー層の厚さは、特に限定されない
が、０．００５〜１０μｍの範囲が好ましく、さらに好
ましくは０．０ｌ〜５μｍの範囲である。０．００５μ
ｍより薄い場合は、連続した膜になりにくいため透明導
電性薄膜の付着力が不足し、１０μｍよりも厚い場合
は、プライマー層の凝集被壊が起りやすくなるため、や
はり透明導電性薄膜の付着力が不足する傾向がある。

【００５５】プライマー層の偏光フィルム上への積層方
法としては、特に限定されないが、コーティング法が好
ましく用いられる。例えばコーティング法としては、エ
アドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、
正回転ロールコート法、リバースロールコート法、グラ
ビアコート法、キスコート法、ビードコート法、スリッ
トオリフェスコート法、キャストコート法などが挙げら
れる。また、架橋構造を付与する場合には、コーティン
グ後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギ
ーを印加する。

【００５６】プライマー層をコーティングするに先立
ち、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、偏光フ
ィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処
理を施してもよい。

【００５７】また、透明導電性偏光フィルムの透明導電
性薄膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用い
た際のペンなどからの傷つき防止のために、ハードコー
ト処理層を設けてもよい。このハードコート処理層とし
ては、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル
系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系
樹脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹脂を単体もしく
は混合した架橋性樹脂硬化物層が好ましく用いられる。

【００５８】ハードコート処理層の厚さは、１〜５０μ
ｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは、２〜３０μｍ
の範囲である。１μｍより薄い場合は、ハードコート処
理の機能が十分発現しない傾向があり、５０μｍをこえ
る厚さでは、樹脂コーティングの速度が著しく遅くな
り、生産性の面で好ましくない。

【００５９】ハードコート処理層を積層する方法として
は、透明導電性偏光フィルムの透明導電性薄膜を設けた
面の反対側の面に、上記の樹脂をグラビア方式、リバー
ス方式、ダイ方式などでコーティングした後、熱、紫外
線、電子線等のエネルギーを印加することで、硬化させ
る方法が挙げられる。

【００６０】また、タッチパネルの視認性向上のため
に、透明導電性偏光フィルムの透明導電性薄膜を設けた
面の反対側の面に、防眩処理層を設けてもよい。防眩処
理層の形成法としては、硬化性樹脂をコーティング、乾
燥後にエンボスロールで表面に凹凸を形成し、この後
熱、紫外線、電子線等のエネルギーを印加することで、
硬化させる方法が挙げられる。硬化性樹脂としては、ポ
リエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポ
リイミド系樹脂などの単体もしくは混合したものが好ま
しく用いられる。

【００６１】また、透明導電性偏光フィルムの透明導電
性薄膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用い
た際に視認性および可視光線の透過率をさらに向上させ
るために、反射防止処理層を設けてもよい。この反射防
止処理層には、透明保護フィルムの屈折率とは異なる屈
折率を有する材料を単層もしくは２層以上積層するのが
好ましい。単層構造の場合、透明保護フィルムよりも小
さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。また、２層
以上の多層構造とする場合は、透明保護フィルムと隣接
する層は、透明保護フィルムよりも大きな屈折率を有す
る材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率
を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防止処理
層を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも
上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、
例えば、ＣａＦ₂ ，ＭｇＦ₂ ，ＮａＡｌＦ₄ ，ＳｉＯ
₂ ，ＴｈＦ₄ ，ＺｒＯ₂ ，Ｎｄ₂ Ｏ₃ ，ＳｎＯ₂ ，Ｔｉ
Ｏ₂，ＣｅＯ₂ ，ＺｎＳ，Ｉｎ₂ Ｏ₃ などの誘電体が好
ましく用いられる。

【００６２】この反射防止処理層を積層する方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオン
プレーティング法などのドライコーティングプロセスで
も、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェ
ットコーティングプロセスでもよい。

【００６３】さらに、このハードコート処理層、防眩処
理層、反射防止処理層の積層に先立って、前処理とし
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチン
グ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処
理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。

【００６４】以上の如き本発明の透明導電性偏光フィル
ムの構造を模式的に例示すると、図１〜図４のようにな
る。図１は透明導電性偏光フィルム１が偏光フィルム１
１と透明導電性薄膜１２とにより構成される例であり、
図２〜図４は、偏光フィルム１１の透明導電性薄膜１２
を形成していない面に、それぞれハードコート処理層Ｈ
Ｃ、防眩処理層ＡＧ、又は反射防止処理層ＡＲを積層し
てある例である。

【００６５】本発明の透明導電性偏光フィルムは、主に
タッチパネル付き液晶表示素子の用途に使用されること
を前提としているが、偏光機能と透明導電性とが要求さ
れる用途であれば、何れの用途にも使用可能であり、例
えば通常の液晶表示素子、液晶を応用した各種の光学フ
ィルター、光学シャッター等が挙げられる。

【００６６】〔タッチパネル〕図５には、本発明の透明
導電性偏光フィルム１を用いた、タッチパネルの例を示
す。この例では、透明導電性薄膜１２ａ，１２ｂを有す
る一対のパネル板を、透明導電性薄膜１２ａ，１２ｂが
対向するようにスペーサー３を介して配置したタッチパ
ネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性偏
光フィルム１を用いたものである。このタッチパネル
は、透明導電性偏光フィルム側より、ペンにより文字入
力したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導
電性薄膜１２ａ，１２ｂ同士が接触し、電気的にＯＮに
なり、透明導電性薄膜１２ａ，１２ｂの端部からの抵抗
値等を検知することにより、ペンのタッチパネル上での
位置を検出できるようになる。このペン位置を連続的か
つ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力で
きる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導
電性偏光フィルムであるため、ペン入力耐久性に優れ、
長期にわたって安定なタッチパネルとなる。上記はアナ
ログ式タッチパネルの場合であるが、マトリックス式タ
ッチパネルの場合には、透明導電性薄膜１２ａ，１２ｂ
を所望のパターンにエッチング加工等することにより、
所望の入力が可能になる。

【００６７】なお、図５において、もう一方のパネル板
は、プラスチックフィルムやガラス板等の透明基板２の
上に透明導電性薄膜１２ｂを積層したものである。プラ
スチックフィルムやガラス板等の透明基板２としては、
従来のタッチパネルにおける入力しない側のパネル板と
同様の材料が使用可能である。また、当該透明導電性薄
膜１２ｂとしては、本発明の透明導電性偏光フィルムに
使用されるものの他、従来のタッチパネルにおける入力
しない側のパネル板と同様の材料が使用可能である。な
お、スペーサー３も従来と同様のものが使用可能であ
り、例えばエポキシビーズ等の樹脂ビーズや絶縁性の無
機微粒子等を用いることができる。

【００６８】〔液晶表示素子〕図６には、液晶の配向状
態の制御により入射光に光学的変化を与える液晶パネル
４と、その両側に配置される偏光板とを備えた液晶表示
素子において、視認側に配置される前記偏光板が、透明
導電性薄膜１２ａを有する偏光フィルム１であると共
に、その透明導電性薄膜１２ａを一方の電極として、他
方の電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが
形成されている液晶表示素子が例示されている。この例
では、透明電極４ｂ，４ｄを有する一対の透明基板４
ａ，４ｅを、透明電極４ｂ，４ｄが対向するようにスペ
ーサー４ｆを介して配置し、その間隙に液晶層４ｃを注
入した構造の液晶パネル４が示されている。なお、バッ
クライト側の偏光板は、図示していない。

【００６９】液晶パネル４としては、液晶の配向状態の
制御により入射光に光学的変化を与えるものであれば何
れでも良く、液晶の種類や分子配列形式、配向状態の制
御のための駆動形式などは特に制限されない。また、カ
ラー表示の有無やその表示方式、また、光源の有無や透
過・反射の形式なども特に制限がなく、何れでもよい。
タッチパネルとしては、図５に示すものと同様のものが
例示され、その際、透明導電性薄膜１２ａを有する偏光
フィルム１としては、本発明の透明導電性偏光フィルム
以外のものでも使用可能であるが、特に偏光フィルム１
が前述の如き本発明の透明導電性偏光フィルムであるも
のが好ましい。

【００７０】そして、図６に示す実施形態の他、（１）
透明基板４ａをタッチパネルのパネル板と兼用すべく、
透明基板４ａの視認側に透明導電性薄膜１２ｂを直接形
成する構造、（２）入力しない側のパネル板を、本発明
の透明導電性偏光フィルムで構成する構造、などが別の
実施形態として例示される。

【００７１】上記（１）によると、層数をより減少させ
ることができ、軽量化や視認性の向上を更に図ることが
できる。

【００７２】

【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。なお、「部」とあるのは、特
に断りのない限り重量部を表す。

【００７３】実施例１厚さが２１０μｍの偏光フィルム（サンリッツ（株）
製：ＬＬＣ２）を用い、この偏光フィルム上に、インジ
ウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マ
グネトロンスパッタリング法で、３００Å厚、酸化スズ
含有率８重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透
明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度はｌ×１
０^-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒ６０ｓｃｃｍ，
Ｏ₂ ２ｓｃｃｍ流した。また製膜中、偏光フィルムの
温度は２０℃とした。

【００７４】このようにして製膜した透明導電性薄膜を
ＵＶオゾン洗浄機（アイグラフィック株式会社製：ＯＣ
−２５０３１５Ｇ）を用い、ＵＶランプ２５Ｗ、３灯、
照射時間１５秒で処理した。

【００７５】このＵＶオゾン処理した透明導電性偏光フ
ィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板と
して、ガラス基板上に上記と同等の方法で４００Å厚の
透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパ
ネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μ
ｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作
製した。

【００７６】次に、得られたタッチパネルを用いて、図
６のような液晶表示素子を作製した。その際、液晶パネ
ル等としては、市販の液晶表示装置（透過型，白黒タイ
プ，ＴＮ液晶）から偏光板を取り外したものを使用し
た。

【００７７】実施例２厚さが２１０μｍの偏光フィルム（サンリッツ（株）
製：ＬＬＣ２）を用い、この偏光フィルム上に、インジ
ウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マ
グネトロンスパッタリング法で、３００Å厚のインジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜し
た。この時、酸化スズ含有率が１５、２５、３５、４
５、６０重量％であるインジウム−スズ複合酸化物ター
ゲットを用いた。各々のターゲットを用いた際のインジ
ウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有率は、１
４、２４、３３、４２、５６重量％であった。また、真
空度は１×１０^-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒ６
０ｓｃｃｍ，Ｏ₂ ２ｓｃｃｍ流した。また製膜中、偏
光フィルムの温度は２０℃とした。また、この透明導電
性偏光フィルムを用い、実施例１と同様にしてタッチパ
ネル、及び液晶表示素子を作製した。

【００７８】実施例３厚さが２１０μｍの偏光フィルム（サンリッツ（株）
製：ＬＬＣ２）を用い、この偏光フィルムをアルカリ性
洗浄剤（第一工業製薬（株）製：スキャット２０−Ｘ）
１０部、純水９０部からなる洗浄液中で３０秒間浸漬洗
浄した。

【００７９】この洗浄した偏光フィルム上に、インジウ
ム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグ
ネトロンスパッタリング法で、３００Å厚、酸化スズ含
有率２０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透
明導電性薄膜として製膜した。このターゲットを用いた
際のインジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有
率は、１８重量％であった。また真空度は１×１０^-3Ｔ
ｏｒｒとし、ガスとしてＡｒ４０ｓｃｃｍ，Ｏ₂
１ｓｃｃｍ流した。また製膜中、偏光フィルムの温度は
２０℃とした。この透明導電性偏光フィルムを用い、実
施例１と同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を
作製した。

【００８０】実施例４厚さが２１０μｍの偏光フィルム（サンリッツ（株）
製：ＬＬＣ２）を用い、この偏光フィルムの面上にプラ
イマー層として、ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）
製：バイロン２８０）３部をメチルエチルケトン５０
部、トルエン５０部、架橋剤（日本ポリウレタン工業
（株）製：コロネートＬ）１部で溶解した塗液を、グラ
ビア法でコートした。子備乾燥１２０℃、１分間処理し
た後、さらに硬化のために１３０℃、５分加熱処理し
た。硬化後のプライマー層の厚さは０．０８μｍであっ
た。

【００８１】このプライマー面上に、インジウム−スズ
複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロン
スパッタリング法で、３００Å厚、酸化スズ含有率２０
重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性
薄膜として製膜した。このターゲットを用いた際のイン
ジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有率は、１
８重量％であった。また真空度は１×１０^-3Ｔｏｒｒと
し、ガスとしてＡｒ４０ｓｃｃｍ，Ｏ₂ １ｓｃｃｍ流
した。また製膜中、偏光フィルムの温度は２０℃とし
た。この透明導電性偏光フィルムを用い、実施例１と同
様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。

【００８２】実施例５実施例４と同様にして作製した透明導電性偏光フィルム
を用い、この透明導電性偏光フィルムをＵＶオゾン洗浄
機（アイグラフィック株式会社製：ＯＣ−２５０３１５
Ｇ）を用い、ＵＶランプ２５Ｗ、３灯、照射時間１５秒
で処理し、実施例１と同様にしてタッチパネル、及び液
晶表示素子を作製した。

【００８３】実施例６実施例２と同様にして作製した偏光フィルム／インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上にハー
ドコート処理層（ＨＣ）を設けた。ハードコート剤とし
ては、エポキシアクリル樹脂１００部にベンゾフェノン
４部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバース
コート法で成膜後、８０℃、５分の予備乾燥、５００ｍ
Ｊ／ｃｍ ² の紫外線照射により硬化させた。硬化後の厚
さは５μｍである。また、この透明導電性偏光フィルム
を用い、実施例１と同様にしてタッチパネル、及び液晶
表示素子を作製した。但し、インジウム−スズ複合酸化
物ターゲットには、酸化スズ含有率２０重量％のものを
使用した。

【００８４】実施例７実施例２と同様にして作製した偏光フィルム／インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上に防眩
処理層（ＡＧ）を設けた。コート剤としては、エポキ
シアクリル樹脂１００部にベンゾフェノン２部を加えた
紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバースコート法で成
膜後、８０℃、５分の予備乾燥し、エンボスロールで表
面に凹凸を形成し５００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線照射によ
り硬化させた。硬化後の厚さは５μｍである。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用い、実施例１と同様にし
てタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。但し、
インジウム−スズ複合酸化物ターゲットには、酸化スズ
含有率２０重量％のものを使用した。

【００８５】実施例８実施例２と同様にして作製した偏光フィルム／インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上に厚さ
７３０Åで屈折率１．８９のＹ₂ Ｏ₃ を設け、さらに厚
さ１２００Åで屈折率２．３のＴｉＯ₂ を設け、さらに
厚さ９４０Åで屈析率１．４６のＳｉＯ ₂ を、それぞれ
高周波スパッタリング法で製膜し、反射防止処理層（Ａ
Ｒ）とした。この各々の誘電体薄膜を製膜する時、いず
れも真空度は１×１０^-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒ
５５ｓｃｃｍ，Ｏ₂ ５ｓｃｃｍ流した。また、基板
は製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。
また、この透明導電性偏光フィルムを用い、実施例１と
同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を作製し
た。但し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲットに
は、酸化スズ含有率２０重量％のものを使用した。

【００８６】比較例１ＵＶオゾン処理を行わなかった以外は、実施例１と同様
にして、透明導電性偏光フィルムを作製した。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用いて、実施例１と同様に
してタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。

【００８７】比較例２酸化スズ含有率が７０、８０、９０重量％であるターゲ
ットを用いた以外は、実施例２と同様にして透明導電性
偏光フィルムを作製した。また、この透明導電性偏光フ
ィルムを用いて、実施例１と同様にしてタッチパネル、
及び液晶表示素子を作製した。

【００８８】比較例３ＵＶオゾン処理を行わなかった以外は、実施例５と同様
にして、透明導電性偏光フィルムを作製した。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用いて、実施例１と同様に
してタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。但
し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲットには、酸化
スズ含有率９重量％のものを使用した。

【００８９】比較例４厚さが２１０μｍの偏光フィルム（サンリッツ（株）
製：ＬＬＣ２）を用い、この偏光フィルムの一方の面に
有機ケイ素化合物のブタノール、イソプロパノール混合
アルコール系溶液（濃度１重量％）を塗工した後、１０
０℃、１分で乾燥した。この後、有機ケイ素化合物上に
実施例２と同様にして、インジウム−スズ複合酸化物薄
膜からなる透明導電性薄膜を基板温度１２０℃で製膜し
た。この積層体をさらに１５０℃、１０時間で加熱処理
を行った。また、この透明導電性偏光フィルムを用い、
実施例１と同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子
を作製した。但し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲ
ットには、酸化スズ含有率２０重量％のものを使用し
た。

【００９０】比較例５基材フィルムとして、１８８μｍのポリエチレンテレフ
タレート（東洋紡績（株）製：Ａ４１００）を用い、実
施例３の条件で透明導電性薄膜を形成し、透明導電性フ
ィルムを作製した。この透明導電性フィルムを実施例１
の導電性偏光フィルムの代わりに用い、タッチパネルを
作製した。次に得られたタッチパネルを用い、下側から
液晶パネル、サンリッツ（株）製の偏光フィルム、タッ
チパネルの順に積層し、液晶表示素子を作製した。

【００９１】以上の実施例１〜８および比較例１〜５に
ついて、透明導電性薄膜中の組成分析、透明導電性薄膜
のエッチング時間、透明導電性薄膜の電子線回析像、光
線透過率、透明導電性薄膜の表面張力、透明導電性薄膜
の表面抵抗率、透明導電性薄膜の付着力、銀ペーストと
透明導電性薄膜との密着性を下記の方法で測定した。ま
た、透明導電性偏光フィルムを用いて作製したタッチパ
ネルについて、ペン入力耐久性試験を、さらにタッチパ
ネルを組み込んだ液晶表示素子について視認性の評価を
実施した。

【００９２】＜透明導電性薄膜中の組成分析＞インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズの重量％は、薄膜
中のインジウムとスズの組成を原子吸光分析で求め、イ
ンジウムとスズが薄膜中で完全酸化物であると仮定して
Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ の比重（Ｉｎ₂ Ｏ₃ は７．１８、
ＳｎＯ ₂ は６．９５）を用いて算出した値である。

【００９３】＜表面抵抗率＞三菱化学（株）製：Ｌｏｔ
ｅｓｔＡＭＣＰ−Ｔ４００を用い、ＪＩＳＫ７１９
４に準拠した４端子法にて測定した。

【００９４】＜光線透過率＞日本電色工業（株）製：Ｎ
ＤＨ−１００１ＤＰを用い、ＪＩＳＫ７１０５に準
拠した積分球式光線透過率法にて測定した。

【００９５】＜表面張力＞表面張力が既知である水、お
よびヨウ化メチレンの透明導電性薄膜に対する接触角：
θｗ、θｙを接触角計（協和界面科学株式会社製：ＣＡ
−Ｘ型）を用い、２５℃、５０％ＲＨの条件下で測定し
た。これらの測定値を用い、以下のようにして、透明導
電性薄膜の表面張力γｓを算出した。

【００９６】透明導電性薄膜の表面張力γｓは、分散性
成分γｓｄと極性成分γｓｐとの和である。すなわち、 γｓ＝γｓｄ十γｓｐ（式ｌ）また、Ｙｏｕｎｇの式より、 γｓ＝γｓｗ＋γｗ・ｃｏｓθｗ（式２） γｓ＝γｓｙ＋γｙ・ｃｏｓθｙ（式３）ここで、γｓｗは透明導電性薄膜（１２）と水との間に
働く張力、γｓｗは透明導電性薄膜（１２）とヨウ化メ
チレンとの関に働く張力、γｗは水の表面張力、γｙは
ヨウ化メチレンの表面張力である。

【００９７】また、Ｆｏｗｋｅｓの式より γｓｗ＝γｓ＋γｗ−２（γｓｄ・γｗｄ）１／２ ‐２（γｓｐ・γｗｐ）１／２（式４） γｓｙ＝γｓ＋γｙ−２（γｓｄ・γｙｄ）１／２ ‐２（γｓｐ・γｙｐ）１／２（式５）である。ここで、γｗｄは水の表面張力の分散性成分、
γｗｐは水の表面張力の極性成分、γｙｄはヨウ化メチ
レンの表面張力の分散性成分、γｙｐはヨウ化メチレン
の表面張力の極性成分である。

【００９８】式１から式５の連立方程式を解くことによ
り、透明導電性薄膜の表面張力γｓ＝γｓｄ十γｓｐを
算出できる。この時、水の表面張力（γｗ）：７２．８
ｄｙｎｅ／ｃｍ、ヨウ化メチレンの表面張力（γｙ）：
５０．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、水の表面張力の分散性成分
（γｗｄ）：２１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、水の表面張力の
極性成分（γｗｐ）：５１．０ｄｙｎｅ／ｃｍ、ヨウ化
メチレンの表面張力の分散性成分（γｙｄ）：４９．５
ｄｙｎｅ／ｃｍ、ヨウ化メチレンの表面張力の極性成分
（γｙｐ）：１．３ｄｙｎｅ／ｃｍを用いた。

【００９９】＜付着力＞厚さ４０μｍのアイオノマーフ
ィルムとポリエステル系接着剤を用いて、厚さ７５μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネートし
た付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積
層体のアイオノマー面と透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜面を対向させ、１３０℃でヒートシールし
た。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性偏光
フィルムとを１８０度剥離法で剥離し、この剥離力を付
着力とした。この時の剥離速度は１０００ｍｍ／分とし
た。＜結晶構造（電子線回析）＞プラスチックフィルムおよ
び硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独
膜を得るために、透明導電性偏光フィルムを構成する基
材フィルムの溶解する溶剤中に２日間浸漬する。溶液中
の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶液を乾
燥させるために１日間風乾した。この試料の電子線回析
像を透過型電子顧微鏡（日本電子（株）製：ＪＥＭ−２
０１０）にて測定した。電子線の条件は、加速電圧２０
０ｋＶ、波長０．００２５ｎｍで行った。この回析像か
ら透明導電性薄膜が結晶質であるか、非晶質であるかを
測定した。

【０１００】＜エッチング時間＞１０ｃｍ×１ｃｍのサ
イズに切り出した透明導電性フィルムの両端にテスター
を接続し、抵抗を測定しながら、４０℃、２０％硫酸水
溶液中に浸漬し、抵抗が１０ＭΩ以上となる時間をエッ
チング時間とした。

【０１０１】＜銀ペーストの密着性＞ステンレス製のス
クリーンメッシュ２００ｍｅｓｈ／ｉｎｃｈを用い、
銀ペースト（東洋紡績株式会社製：ＤＷ‐２５０Ｈ−
５）を透明導電性薄膜上に塗布し、１２０℃、３０分で
焼成した。焼成後の銀ペーストの厚さは２０μｍであ
る。銀ペーストと透明導電性薄膜の密着性をＪＩＳＤ
０２０２準拠しクロスカット密着法を用い、５枚の試験
片について測定しその平均値を算出した。

【０１０２】＜ペン入力耐久性＞まず、ペン入力試験前
のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。

【０１０３】本発明の透明導電性偏光フィルムを１００
ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、透明導電性薄膜形成面の
両端辺に幅５ｍｍの電極を銀ペーストを塗布して作製し
た。この電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、サン
プルの中心部５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間
隔で（ｘ１，ｙ１）〜（ｘ５０，ｙ５０）の２５００点
について電圧Ｖｉ，ｊ（ｉ，ｊ＝１〜５０）を測定し
た。

【０１０４】各電圧測定点での理論電圧Ｕｉ，ｊ＝Ｖ
１，１＋（Ｖ５０，５０‐Ｖ１，１）／５０×（ｊ−
１）からのズレを△ｉ，ｊ＝（Ｖｉ，ｊ−Ｕｉ，ｊ）／
Ｕｉ，ｊで定義し、この△ｉ，ｊの絶対値の最大値をリ
ニアリティと定義した。

【０１０５】ペン入力試験前のリニアリティを測定した
透明導電性偏光フィルムを用い、実施例および比較例に
記載されているようにしてタッチパネルを作製した。透
明導電性偏光フィルムで構成されたパネル板側から、ポ
リアセタール樹脂からなるペン先半径０．８ｍｍのタッ
チペンを用いて、リニアリティ測定を行った部位に、プ
ロッタ（ローランド（株）製：ＤＸＹ−１１５０）によ
り、２ｃｍ角サイズのカタカナのア〜ンまでの文字を２
００，０００字の筆記を行い、ペン入力試験を行った。
この時、ペン荷重２５０ｇｆ、文字筆記速度２，０００
字／時間とした。

【０１０６】ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリ
ニアリティを前述と同様の手法で測定し、リニアリティ
が３％を越えた筆記字数をペン入力耐久性とした。

【０１０７】＜視認性＞液晶表示素子としての視認性に
ついて、目視試験により相対的に評価した。

【０１０８】実施例１〜８、および比較例１〜５につい
ての測定結果を表１に示す。

【０１０９】

【表１】表１の結果が示すように、本発明の実施例によると、表
面抵抗が小さく、エッチング時間が短く、銀ペーストと
の密着性、ペン入力耐久性、及び視認製に優れる偏光フ
ィルム、タッチパネル等が得られた。

【０１１０】これに対して、透明導電性薄膜の表面張力
の小さい比較例１や比較例３では、銀ペーストとの密着
性が劣っていた。また、酸化スズの含有量が高く表面張
力が大き過ぎる比較例２−１〜３では、銀ペーストとの
密着性が劣ると共に、エッチング時間が長くなった。結
晶性の透明導電性薄膜を形成した比較例４では、エッチ
ング時間が極端に長くなった。ポリエチレンテレフタレ
ートを基材フィルムとする通常のタッチパネルを用いた
比較例５では、ペン入力耐久性と視認性が劣っていた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図

【図２】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図

【図３】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図

【図４】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図

【図５】本発明の導電性偏光フィルムを用いて作製した
タッチパネルの一例を模式的に示した断面図

【図６】本発明のタッチパネルを組み込んだ液晶表示素
子の一例を模式的に示した断面図

【符号の説明】

１透明導電性偏光フィルム２ガラス板３ビーズ４液晶パネル１１偏光フィルム１２透明導電性薄膜ＨＣハードコート処理層ＡＧ防眩処理層ＡＲ反射防止処理層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者横山誠一郎滋賀県大津市堅田二丁目１番１号東洋紡績株式会社総合研究所内Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA26 BA27 BB43 BB62 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA50X FB02 FC23 FD06 GA03 GA16 LA02 LA11 LA12 LA16 2H093 NA71 NC72 ND42 ND54 ND60 NE06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】偏光フィルム（１１）の少なくとも片方
の面に、非晶質である透明導電性薄膜（１２）を形成し
た透明導電性偏光フィルム（１）であって、前記透明導
電性薄膜（１２）の表面張力が３５〜６０ｄｙｎｅ／ｃ
ｍであることを特徴とする透明導電性偏光フィルム。
【請求項２】前記偏光フィルム（１１）と前記透明導
電性薄膜（１２）との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上で
ある請求項１に記載の透明導電性偏光フィルム。
【請求項３】前記透明導電性薄膜（１２）がインジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの
含有率が１０〜６０重量％である請求項１または２に記
載の透明導電性偏光フィルム。
【請求項４】前記透明導電性偏光フィルム（１）の透
明導電性薄膜（１２）を形成していない面に、ハードコ
ート処理層（ＨＣ）を積層してある請求項１〜３のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム。
【請求項５】前記透明導電性偏光フィルム（１）の透
明導電性薄膜（１２）を形成していない面に、防眩処理
層（ＡＧ）を積層してある請求項１〜３のいずれかに記
載の透明導電性偏光フィルム。
【請求項６】前記透明導電性偏光フィルム（１）の透
明導電性薄膜（１２）を形成していない面に、反射防止
処理層（ＡＲ）を積層してある請求項１〜３のいずれか
に記載の透明導電性偏光フィルム。
【請求項７】透明導電性薄膜（１２）を有する一対の
パネル板を、透明導電性薄膜（１２）が対向するように
スペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおい
て、前記パネル板の少なくとも片方が、請求項１〜６のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム（１）からなるこ
とを特徴とするタッチパネル。
【請求項８】液晶の配向状態の制御により入射光に光
学的変化を与える液晶パネル（４）と、その両側に配置
される偏光板とを備えた液晶表示素子において、視認側に配置される前記偏光板が、請求項１〜６のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム（１）であると共
に、前記透明導電性薄膜（１２）を一方の電極として、他方
の電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが形
成されていることを特徴とする液晶表示素子。