JP2000214404A - 高解像度スキャナ中のコマを補正する方法及び装置 - Google Patents
高解像度スキャナ中のコマを補正する方法及び装置Info
- Publication number
- JP2000214404A JP2000214404A JP11352723A JP35272399A JP2000214404A JP 2000214404 A JP2000214404 A JP 2000214404A JP 11352723 A JP11352723 A JP 11352723A JP 35272399 A JP35272399 A JP 35272399A JP 2000214404 A JP2000214404 A JP 2000214404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder mirror
- coma
- mirror
- angle
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 3
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012067 mathematical method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 走査装置の反射面の製造上の欠陥を補正しつ
つ光学走査系のクロス走査方向のコマを補正することを
目的とする。 【解決手段】 クロス走査軸上で合焦されるスポットの
中に一定の既知の量のコマを生成するよう第1の角度で
傾斜された第1のシリンダミラーによって光のビームを
走査装置の反射面の近傍でクロス走査軸上のスポットへ
合焦する段階と、上記反射面の位置を結像し、それによ
り上記スポットを第2の角度で傾斜された第2のシリン
ダミラーで第2の像位置へ再び結像し、上記第2のシリ
ンダミラーは、上記第1の一定の既知の量のコマに等し
く反対の符号を有するクロス走査軸上の第2の一定の既
知の量のコマで上記スポットを結像する段階とを有す
る、走査装置の反射面のピラミッドエラー及び光学走査
系のクロス走査方向のコマを補正する方法及び装置が提
供される。
つ光学走査系のクロス走査方向のコマを補正することを
目的とする。 【解決手段】 クロス走査軸上で合焦されるスポットの
中に一定の既知の量のコマを生成するよう第1の角度で
傾斜された第1のシリンダミラーによって光のビームを
走査装置の反射面の近傍でクロス走査軸上のスポットへ
合焦する段階と、上記反射面の位置を結像し、それによ
り上記スポットを第2の角度で傾斜された第2のシリン
ダミラーで第2の像位置へ再び結像し、上記第2のシリ
ンダミラーは、上記第1の一定の既知の量のコマに等し
く反対の符号を有するクロス走査軸上の第2の一定の既
知の量のコマで上記スポットを結像する段階とを有す
る、走査装置の反射面のピラミッドエラー及び光学走査
系のクロス走査方向のコマを補正する方法及び装置が提
供される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は概して高解像度光学
スキャナに関連し、更に特定的にはかかるスキャナによ
って形成される画像中のコマを除去する技術に関する。
スキャナに関連し、更に特定的にはかかるスキャナによ
って形成される画像中のコマを除去する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】光学スキャナは、反射的又は透過的な媒
体上の像をディジタル化するため、又は反射的又は透過
的な媒体上の像を印刷するためにレーザ機器中で広く使
用されている。ディジタル化するための用途では、レー
ザビームは変調されず、一方、印刷するための用途で
は、レーザビームは情報と共に変調される。光学スキャ
ナの1つの用途は、記録層を有するレンチキュラー材料
上に深さ又は動きの像を形成するためのものである。空
間的に多重化された像は、レーザ光学スキャナによって
記録層上に露光される。
体上の像をディジタル化するため、又は反射的又は透過
的な媒体上の像を印刷するためにレーザ機器中で広く使
用されている。ディジタル化するための用途では、レー
ザビームは変調されず、一方、印刷するための用途で
は、レーザビームは情報と共に変調される。光学スキャ
ナの1つの用途は、記録層を有するレンチキュラー材料
上に深さ又は動きの像を形成するためのものである。空
間的に多重化された像は、レーザ光学スキャナによって
記録層上に露光される。
【0003】光学スキャナ設計の技術では、光学走査装
置の製造中の欠陥について系を補正することが標準的な
慣習であった。かかる装置は通常は回転ポリゴンである
が、ガルバノメータであってもよい。ポリゴンを製造す
るときに生ずる典型的な欠陥は「ピラミッドエラー」と
称される。これは、クロス走査軸上のポリゴンファセッ
ト間の角度に差がある場合に生ずる。
置の製造中の欠陥について系を補正することが標準的な
慣習であった。かかる装置は通常は回転ポリゴンである
が、ガルバノメータであってもよい。ポリゴンを製造す
るときに生ずる典型的な欠陥は「ピラミッドエラー」と
称される。これは、クロス走査軸上のポリゴンファセッ
ト間の角度に差がある場合に生ずる。
【0004】従来技術では、ポリゴンファセットのクロ
ス走査軸とシリンダミラーを有する像平面とを共役の関
係とすることが一般的である。レーザスポットもまた像
平面と共役の関係とされねばならないため、レーザは或
るスポットサイズでポリゴンファセット上に合焦されね
ばならない。ポリゴンファセット上のスポットサイズ
は、最終像平面における所望のスポットサイズ及び共役
用シリンダミラーの倍率に依存する。像平面における所
望のスポットサイズが小さい場合(即ち高解像度スキャ
ナの場合)、ポリゴンファセット上の小さなスポット、
又は、共役用シリンダの大きな縮小倍率を伴ったポリゴ
ンファセット上のより大きなスポットのいずれかが必要
とされる。ポリゴン上のスポットが小さければ、ポリゴ
ンファセット上の工具の跡又は埃から反射する光の回折
を通じて像の中のアーティファクトが生ずる。従って、
共役用シリンダが、ポリゴン上のスポットの像のサイズ
を減少させるよう、1X以下の縮小倍率で動作すること
が所望である。
ス走査軸とシリンダミラーを有する像平面とを共役の関
係とすることが一般的である。レーザスポットもまた像
平面と共役の関係とされねばならないため、レーザは或
るスポットサイズでポリゴンファセット上に合焦されね
ばならない。ポリゴンファセット上のスポットサイズ
は、最終像平面における所望のスポットサイズ及び共役
用シリンダミラーの倍率に依存する。像平面における所
望のスポットサイズが小さい場合(即ち高解像度スキャ
ナの場合)、ポリゴンファセット上の小さなスポット、
又は、共役用シリンダの大きな縮小倍率を伴ったポリゴ
ンファセット上のより大きなスポットのいずれかが必要
とされる。ポリゴン上のスポットが小さければ、ポリゴ
ンファセット上の工具の跡又は埃から反射する光の回折
を通じて像の中のアーティファクトが生ずる。従って、
共役用シリンダが、ポリゴン上のスポットの像のサイズ
を減少させるよう、1X以下の縮小倍率で動作すること
が所望である。
【0005】しかしながら、共役用シリンダの倍率が1
Xから離れるにつれ、像の中にコマが生ずる。これは光
学系設計者にとってのジレンマである。像平面において
小さなスポットを有するためには、ポリゴンファセット
上の小さなスポット(従って回折アーティファクトが発
生する)、又は、実際にスポットを拡大させるような共
役用シリンダの中の大きな縮小倍率(従ってコマを発生
する)のいずれかを必要とする。この効果はまた、光が
シリンダミラーに当たる入射角によって増加される。ミ
ラーが光をその光源に向かって直接反射させれば、像は
コマを有さないが、像はアクセス可能でない。これに対
して、ミラーが幾らかの角度で光を曲げれば、像はアク
セス可能であり、軸を外れた像はコマを生ずる。
Xから離れるにつれ、像の中にコマが生ずる。これは光
学系設計者にとってのジレンマである。像平面において
小さなスポットを有するためには、ポリゴンファセット
上の小さなスポット(従って回折アーティファクトが発
生する)、又は、実際にスポットを拡大させるような共
役用シリンダの中の大きな縮小倍率(従ってコマを発生
する)のいずれかを必要とする。この効果はまた、光が
シリンダミラーに当たる入射角によって増加される。ミ
ラーが光をその光源に向かって直接反射させれば、像は
コマを有さないが、像はアクセス可能でない。これに対
して、ミラーが幾らかの角度で光を曲げれば、像はアク
セス可能であり、軸を外れた像はコマを生ずる。
【0006】図1の(A)は、いかにして、軸上の(即
ち入射角0度の)シリンダミラー20の曲面によって結
像された点光源10がコマのない像点30へ結像される
かを示す図である。図1の(B)は、いかにして、光学
軸に対して角度40に亘って傾斜されたシリンダミラー
20の曲面によって結像された点光源10が幾らかの量
のコマ50による収差のある像30を生成するかを示す
図である。コマの量は、面の曲率半径、対象とミラー面
との間の距離、ミラー面と像との間の距離、光学軸に対
するミラーの傾斜角、及び光の開口数に依存する。物体
距離及び像距離が等しい場合、倍率は1であり、コマは
ない。
ち入射角0度の)シリンダミラー20の曲面によって結
像された点光源10がコマのない像点30へ結像される
かを示す図である。図1の(B)は、いかにして、光学
軸に対して角度40に亘って傾斜されたシリンダミラー
20の曲面によって結像された点光源10が幾らかの量
のコマ50による収差のある像30を生成するかを示す
図である。コマの量は、面の曲率半径、対象とミラー面
との間の距離、ミラー面と像との間の距離、光学軸に対
するミラーの傾斜角、及び光の開口数に依存する。物体
距離及び像距離が等しい場合、倍率は1であり、コマは
ない。
【0007】光学誤差を補正するため、以下に示すよう
な多くの発明の開示がなされてきた。Kessler によって
発明された1988年7月26日発行の米国特許第4,
759,593号。Kelley外によって発明された199
8年6月16日発行の米国特許第5,768,001
号。
な多くの発明の開示がなされてきた。Kessler によって
発明された1988年7月26日発行の米国特許第4,
759,593号。Kelley外によって発明された199
8年6月16日発行の米国特許第5,768,001
号。
【0008】Galbraith によって発明された1992年
12月1日発行の米国特許第5,168,386号。Cl
ark によって発明された1989年7月18日発行の米
国特許第4,848,885号。Naglerによって発明さ
れた1989年5月23日発行の米国特許第4,83
2,429号。
12月1日発行の米国特許第5,168,386号。Cl
ark によって発明された1989年7月18日発行の米
国特許第4,848,885号。Naglerによって発明さ
れた1989年5月23日発行の米国特許第4,83
2,429号。
【0009】Sasadaによって発明された1993年11
月30日発行の米国特許第5,267,057号。Sasa
daによって発明された1993年8月10日発行の米国
特許第5,235,438号。Hardy によって発明され
た1986年12月30日発行の米国特許第4,63
3,272号。
月30日発行の米国特許第5,267,057号。Sasa
daによって発明された1993年8月10日発行の米国
特許第5,235,438号。Hardy によって発明され
た1986年12月30日発行の米国特許第4,63
3,272号。
【0010】Meeusen 外によって発明された1975年
7月29日発行の米国特許第3,897,132号。
7月29日発行の米国特許第3,897,132号。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
光学誤差を補正するための様々な技術を開示する特許は
いずれも上述の問題を十分に解決するものではない。
光学誤差を補正するための様々な技術を開示する特許は
いずれも上述の問題を十分に解決するものではない。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は従来技術の問題
を解決することを目的とする。本発明によれば、クロス
走査軸上で合焦されるスポットの中に一定の既知の量の
コマを生成するよう第1の角度で傾斜された第1のシリ
ンダミラーによって光のビームを走査装置の反射面の近
傍でクロス走査軸上のスポットへ合焦する段階と、上記
反射面の位置を結像し、それにより上記スポットを第2
の角度で傾斜された第2のシリンダミラーで第2の像位
置へ再び結像し、上記第2のシリンダミラーは、上記第
1の一定の既知の量のコマに等しく反対の符号を有する
クロス走査軸上の第2の一定の既知の量のコマで上記ス
ポットを結像する段階とを有する、走査装置の反射面の
ピラミッドエラー及び光学走査系のクロス走査方向のコ
マを補正する方法が提供される。
を解決することを目的とする。本発明によれば、クロス
走査軸上で合焦されるスポットの中に一定の既知の量の
コマを生成するよう第1の角度で傾斜された第1のシリ
ンダミラーによって光のビームを走査装置の反射面の近
傍でクロス走査軸上のスポットへ合焦する段階と、上記
反射面の位置を結像し、それにより上記スポットを第2
の角度で傾斜された第2のシリンダミラーで第2の像位
置へ再び結像し、上記第2のシリンダミラーは、上記第
1の一定の既知の量のコマに等しく反対の符号を有する
クロス走査軸上の第2の一定の既知の量のコマで上記ス
ポットを結像する段階とを有する、走査装置の反射面の
ピラミッドエラー及び光学走査系のクロス走査方向のコ
マを補正する方法が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】図2は、本発明の概念、即ち、い
かにして単一の点が、2つのシリンダミラーによって、
コマを有さない最終像へ結像されうるかを示す図であ
る。点光源10は、角度40に亘って傾斜され幾らかの
量のコマ50による収差を有する像30を生成する湾曲
したミラー20によって1以外の倍率で結像される。こ
の収差を有する像30は、角度70に亘って傾斜され収
差を有する像30をコマのない最終像80へ再び結像す
る第2のミラー面60へ向けられる。
かにして単一の点が、2つのシリンダミラーによって、
コマを有さない最終像へ結像されうるかを示す図であ
る。点光源10は、角度40に亘って傾斜され幾らかの
量のコマ50による収差を有する像30を生成する湾曲
したミラー20によって1以外の倍率で結像される。こ
の収差を有する像30は、角度70に亘って傾斜され収
差を有する像30をコマのない最終像80へ再び結像す
る第2のミラー面60へ向けられる。
【0014】図3は、本発明の望ましい実施例を示す図
である。1つ以上の周波数のレーザ光100は、変調さ
れたレーザダイオードといった光源110から生ずる。
リレーレンズ120はレーザ光100をビームウエスト
位置140へ結像する。光はビームウエスト位置140
から距離130に亘って進行し、シリンダミラー160
によって角度180で第2のシリンダミラー200へ向
かって反射される。第2のシリンダミラー200の出力
軸は、第1のシリンダミラー160の出力軸に直交す
る。第1及び第2のシリンダミラー160,200は、
アキシアル距離132に亘って離間されている。
である。1つ以上の周波数のレーザ光100は、変調さ
れたレーザダイオードといった光源110から生ずる。
リレーレンズ120はレーザ光100をビームウエスト
位置140へ結像する。光はビームウエスト位置140
から距離130に亘って進行し、シリンダミラー160
によって角度180で第2のシリンダミラー200へ向
かって反射される。第2のシリンダミラー200の出力
軸は、第1のシリンダミラー160の出力軸に直交す
る。第1及び第2のシリンダミラー160,200は、
アキシアル距離132に亘って離間されている。
【0015】第2のシリンダミラー200は、走査装置
の反射面、例えば回転ポリゴンファセット220の軸に
平行な平面上に合焦されたビームウエスト240を形成
する。ビームウエスト240は一定の量のコマを有す
る。ポリゴンファセット220は、レーザ光をポリゴン
ファセット220から軸方向距離136にあるビーム折
返しミラー230へ向けて方向付け走査する。ビーム折
返しミラー230は、走査ビームを角度250で、ビー
ム折返しミラー230からアキシアル距離138に配置
される第3のシリンダミラー260へ向ける。第3のシ
リンダミラー260はクロス走査方向に出力軸を有し、
レーザビームを角度300で方向付ける。ビームは、ク
ロス走査軸上で、シリンダミラー260から距離142
の像平面280へ合焦される。像平面280は記録媒体
400によって表わされている。
の反射面、例えば回転ポリゴンファセット220の軸に
平行な平面上に合焦されたビームウエスト240を形成
する。ビームウエスト240は一定の量のコマを有す
る。ポリゴンファセット220は、レーザ光をポリゴン
ファセット220から軸方向距離136にあるビーム折
返しミラー230へ向けて方向付け走査する。ビーム折
返しミラー230は、走査ビームを角度250で、ビー
ム折返しミラー230からアキシアル距離138に配置
される第3のシリンダミラー260へ向ける。第3のシ
リンダミラー260はクロス走査方向に出力軸を有し、
レーザビームを角度300で方向付ける。ビームは、ク
ロス走査軸上で、シリンダミラー260から距離142
の像平面280へ合焦される。像平面280は記録媒体
400によって表わされている。
【0016】走査装置は、また反復するガルボミラーで
ありうる。第3のシリンダミラー260は、上記第2の
シリンダ200によって導入されたコマが像平面280
において打ち消されるよう、クロス走査軸上でポリゴン
ファセット面220と最終像平面280とを共役の関係
とさせる。これは、以下の式、
ありうる。第3のシリンダミラー260は、上記第2の
シリンダ200によって導入されたコマが像平面280
において打ち消されるよう、クロス走査軸上でポリゴン
ファセット面220と最終像平面280とを共役の関係
とさせる。これは、以下の式、
【0017】
【数3】
【0018】が満たされるときに生ずる。本発明の1つ
の適用では、記録媒体400は、(例えば感光媒体とい
った)記録層402とレンチキュラーレンズ406を含
むレンチキュラー層404とを含むレンチキュラー媒体
(図4)である。変調されたレーザビームは、矢印B
(図3)の方向に媒体400を横切って、また媒体中の
レンチキュラーレンズのシリンダ長軸に平行に走査され
る。媒体400は、矢印Bの方向に直交する方向に走査
するよう矢印Aの方向に動く。
の適用では、記録媒体400は、(例えば感光媒体とい
った)記録層402とレンチキュラーレンズ406を含
むレンチキュラー層404とを含むレンチキュラー媒体
(図4)である。変調されたレーザビームは、矢印B
(図3)の方向に媒体400を横切って、また媒体中の
レンチキュラーレンズのシリンダ長軸に平行に走査され
る。媒体400は、矢印Bの方向に直交する方向に走査
するよう矢印Aの方向に動く。
【0019】本発明は、幾つかの望ましい実施例を特に
参照して詳述されたが、本発明の精神及び範囲を逸脱す
ることなく変形及び変更がなされうることが理解されよ
う。
参照して詳述されたが、本発明の精神及び範囲を逸脱す
ることなく変形及び変更がなされうることが理解されよ
う。
【0020】
【発明の効果】本発明は以下の利点を有する。 1.本発明は共役用シリンダが1X以外の倍率で動作す
ることを可能とする一方で最終像がコマを有さないよう
にする光学的解法を提供する。 2. 本発明はかかる系を設計する数学的方法を提供す
る。
ることを可能とする一方で最終像がコマを有さないよう
にする光学的解法を提供する。 2. 本発明はかかる系を設計する数学的方法を提供す
る。
【図1】(A)及び(B)は、光学走査系における誤差
の源を理解するために用いられる線図である。
の源を理解するために用いられる線図である。
【図2】本発明を理解するために用いられる線図であ
る。
る。
【図3】本発明の実施例を示す図である。
【図4】レンチキュラー記録媒体を示す断面図である。
10 点光源 20 シリンダミラー 30 コマのない像点 40 角度 50 コマ 60 第2のミラー面 70 角度 100 レーザ光 110 光源 120 リレーレンズ 130 距離 138 アキシアル距離 140 ビームウエスト位置 142 距離 160 第1のシリンダミラー 180 角度 200 第2のシリンダミラー 220 回転ポリゴンファセット 230 ビーム折返しミラー 240 合焦されたビームウエスト 250 角度 260 第3のシリンダミラー 280 像平面 300 角度 400 記録媒体 402 記録層 404 レンチキュラー層 406 レンチキュラーレンズ
Claims (3)
- 【請求項1】 クロス走査軸上で合焦されるスポットの
中に一定の既知の量のコマを生成するよう第1の角度で
傾斜された第1のシリンダミラーによって光のビームを
走査装置の反射面の近傍でクロス走査軸上のスポットへ
合焦する段階と、 該反射面の位置を結像し、それにより該スポットを第2
の角度で傾斜された第2のシリンダミラーで第2の像位
置へ再び結像し、該第2のシリンダミラーは、該第1の
一定の既知の量のコマに略等しく反対の符号を有するク
ロス走査軸上の第2の一定の既知の量のコマで該スポッ
トを結像する段階とを有する、 走査装置の反射面のピラミッドエラー及び光学走査系の
クロス走査方向のコマを補正する方法。 - 【請求項2】 曲率半径R1 を有する第1のシリンダミ
ラーから 【外1】 において光ビームを合焦させる段階と、 該ビームが該第1のシリンダミラーから 【外2】 に配置された反射面の位置において再び合焦するよう該
第1のシリンダミラーを該ビームの中心に対して角度I
1 に亘って傾斜させる段階と、 該ビームを該反射面上で反射させて、曲率半径R2 を有
し該反射面から 【外3】 に配置され入来する該ビームの中心に対して角度I2 に
亘って傾斜された第2のシリンダミラーへ向かわせる段
階と、 該ビームを該第2のシリンダミラー上で反射させ、該ビ
ームを該第2のシリンダミラーから 【外4】 に配置される像平面へ再び合焦させる段階とを含み、但
し、 【外5】 は、本質的には以下の式、 【数1】 によって関連される、 走査装置の反射面のピラミッドエラー及びクロス走査方
向のコマを補正する方法。 - 【請求項3】 曲率半径R1 を有する第1のシリンダミ
ラーから 【外6】 において光ビームを合焦させる手段と、 該ビームが該第1のシリンダミラーから 【外7】 に配置された反射面の位置において再び合焦するよう該
第1のシリンダミラーを該ビームの中心に対して角度I
1 に亘って傾斜させる手段と、 該ビームを該反射面上で反射させて、曲率半径R2 を有
し該反射面から 【外8】 に配置され入来する該ビームの中心に対して角度I2 に
亘って傾斜された第2のシリンダミラーへ向かわせる手
段と、 該ビームを該第2のシリンダミラー上で反射させ、該ビ
ームを該第2のシリンダミラーから 【外9】 に配置される像平面へ再び合焦させる手段とを含み、但
し、 【外10】 は、以下の式、 【数2】 によって関連される、走査装置の反射面のピラミッドエ
ラー及びクロス走査方向のコマを補正する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US211237 | 1998-12-14 | ||
| US09/211,237 US6052212A (en) | 1998-12-14 | 1998-12-14 | Method and apparatus for correcting coma in a high resolution scanner |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000214404A true JP2000214404A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=22786090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11352723A Pending JP2000214404A (ja) | 1998-12-14 | 1999-12-13 | 高解像度スキャナ中のコマを補正する方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6052212A (ja) |
| EP (1) | EP1011004A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000214404A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10251239A1 (de) * | 2002-11-04 | 2004-05-19 | Gaia Akkumulatorenwerke Gmbh | Modifizierte Anoden für Lithium-Polymerzellen |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1482721A1 (de) * | 2003-05-26 | 2004-12-01 | Agfa-Gevaert AG | Vorrichtung zum Erfassen von in einer Phosphorschicht enthaltenen Informationen |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2306185A1 (de) * | 1973-02-08 | 1974-08-15 | Agfa Gevaert Ag | Verfahren und vorrichtung zur kompensation des pyramidenfehlers eines spiegelrades |
| US4832429A (en) * | 1983-01-19 | 1989-05-23 | T. R. Whitney Corporation | Scanning imaging system and method |
| GB2141554A (en) * | 1983-06-15 | 1984-12-19 | Philips Electronic Associated | A slit imaging system using two concave mirrors |
| US4633272A (en) * | 1985-04-02 | 1986-12-30 | Eastman Kodak Company | Laser printing apparatus having a multiple formatted output |
| US4759593A (en) * | 1986-03-21 | 1988-07-26 | Eastman Kodak Company | High resolution optical scanner |
| US4848885A (en) * | 1988-05-09 | 1989-07-18 | Polaroid Corporation | Preobjective scanning system |
| US4921320A (en) * | 1988-09-22 | 1990-05-01 | Eastman Kodak Company | Optical scanner |
| JP2676167B2 (ja) * | 1990-08-21 | 1997-11-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像走査装置 |
| JP2572300B2 (ja) * | 1990-08-21 | 1997-01-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像走査装置 |
| US5168386A (en) * | 1990-10-22 | 1992-12-01 | Tencor Instruments | Flat field telecentric scanner |
| US5343326A (en) * | 1993-08-02 | 1994-08-30 | Xerox Corporation | Compact ros imaging system |
| US5491578A (en) * | 1994-12-19 | 1996-02-13 | Xerox Corporation | Optics for passive scan angle doubling |
| US5768001A (en) * | 1996-06-10 | 1998-06-16 | Agfa Division, Bayer Corp. | Rotating beam deflector having an integral wave front correction element |
-
1998
- 1998-12-14 US US09/211,237 patent/US6052212A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-11-17 EP EP99203848A patent/EP1011004A3/en not_active Withdrawn
- 1999-12-13 JP JP11352723A patent/JP2000214404A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10251239A1 (de) * | 2002-11-04 | 2004-05-19 | Gaia Akkumulatorenwerke Gmbh | Modifizierte Anoden für Lithium-Polymerzellen |
| DE10251239B4 (de) * | 2002-11-04 | 2009-01-29 | Dilo Trading Ag | Anode für Lithium-Polymerzellen und Verfahren zur Herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6052212A (en) | 2000-04-18 |
| EP1011004A2 (en) | 2000-06-21 |
| EP1011004A3 (en) | 2003-05-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3164232B2 (ja) | 光ビームを走査するための平らなフィ−ルドの、テレセントリック光学システム | |
| JP3433070B2 (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JPH09274152A (ja) | マルチビーム書込光学系 | |
| JPH08248340A (ja) | レーザビーム走査装置 | |
| JPH10170850A (ja) | プリオブジェクティブ型スキャナ | |
| JP4349500B2 (ja) | 光走査光学系 | |
| JPH08248345A (ja) | 光走査装置 | |
| KR20010014242A (ko) | 레이저 스캐너용 왜상 스캔 렌즈 | |
| JPH10239615A (ja) | デュアルフォーマット/解像度式スキャナ | |
| US6052212A (en) | Method and apparatus for correcting coma in a high resolution scanner | |
| JPH11264952A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2006523325A (ja) | ポストオブジェクティブ走査装置 | |
| JP2618889B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH01200221A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JP3192537B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH1164759A (ja) | 光走査光学装置 | |
| JPH04170510A (ja) | ポストオブジェクティブ型走査光学系及び画像形成装置 | |
| JPH0772402A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3542481B2 (ja) | マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JPH07318838A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS6184620A (ja) | 連続調画像のレ−ザ走査記録装置 | |
| JPH01200220A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JPH06265807A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JPS62127818A (ja) | 光学的光ビ−ム走査器 | |
| JPH01300218A (ja) | 光ビーム走査光学系 |