JP2000219661A - 光エネルギー蓄積・光−熱エネルギー変換材料 - Google Patents
光エネルギー蓄積・光−熱エネルギー変換材料Info
- Publication number
- JP2000219661A JP2000219661A JP11023023A JP2302399A JP2000219661A JP 2000219661 A JP2000219661 A JP 2000219661A JP 11023023 A JP11023023 A JP 11023023A JP 2302399 A JP2302399 A JP 2302399A JP 2000219661 A JP2000219661 A JP 2000219661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- different
- same
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/78—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
- C07C217/80—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton having amino groups and etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/215—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring having unsaturation outside the six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
- C07D307/81—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
- C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
- C07C2602/42—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing seven carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】可視光を充分に吸光し室温下に安定に存在する
クワドリシクランを与えるノルボルナジエニル誘導体を
提供する。 【解決手段】下記の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ原子を有す
る芳香族基、または低級アルコキシ、モノ低級アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ基、
ヒドロキシ基及びチオール基からなる群から選ばれる１
〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は
同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
り、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素数１〜４のペ
ルフルオロアルキル基である。〕で表されるノルボルナ
ジエニル誘導体。
クワドリシクランを与えるノルボルナジエニル誘導体を
提供する。 【解決手段】下記の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ原子を有す
る芳香族基、または低級アルコキシ、モノ低級アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ基、
ヒドロキシ基及びチオール基からなる群から選ばれる１
〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は
同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
り、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素数１〜４のペ
ルフルオロアルキル基である。〕で表されるノルボルナ
ジエニル誘導体。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は太陽エネルギー利用
技術に関する光エネルギー蓄積・光ー熱エネルギー変換
材料及び光反応による材料の吸光波長および屈折率変化
を利用した光デバイス材料に関するものである。さらに
詳しくは、この発明は、太陽エネルギーを長期間に亘っ
て蓄積でき、エネルギー必要時に熱として放出する太陽
エネルギー変換材料に関するものである。またこれ以外
にも光エネルギーの蓄積・変換材料や光デバイス材料と
して利用できうる、実用性も良好な機能性材料に関する
ものである。
技術に関する光エネルギー蓄積・光ー熱エネルギー変換
材料及び光反応による材料の吸光波長および屈折率変化
を利用した光デバイス材料に関するものである。さらに
詳しくは、この発明は、太陽エネルギーを長期間に亘っ
て蓄積でき、エネルギー必要時に熱として放出する太陽
エネルギー変換材料に関するものである。またこれ以外
にも光エネルギーの蓄積・変換材料や光デバイス材料と
して利用できうる、実用性も良好な機能性材料に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術とその課題】従来よりノルボルナジエン
（ＮＢＤ）系化合物は、太陽光エネルギーを熱エネルギ
ーとして長期間貯蔵できる、光エネルギー蓄積・光ー熱
エネルギー変換材料として注目されてきた。
（ＮＢＤ）系化合物は、太陽光エネルギーを熱エネルギ
ーとして長期間貯蔵できる、光エネルギー蓄積・光ー熱
エネルギー変換材料として注目されてきた。
【０００３】
【化５】
【０００４】また最近ではＮＢＤが光エネルギーを吸収
しクワドリシクラン（Ｑｃ）に構造変化することによる
吸光波長変化を利用した光記録材料、および屈折率変化
を利用した光導波路などの光デバイスとしての機能が注
目されてきている（堀江一之、高分子、４７巻、４６１
ｐ、１９９８年）。
しクワドリシクラン（Ｑｃ）に構造変化することによる
吸光波長変化を利用した光記録材料、および屈折率変化
を利用した光導波路などの光デバイスとしての機能が注
目されてきている（堀江一之、高分子、４７巻、４６１
ｐ、１９９８年）。
【０００５】しかしながら、ＮＢＤは吸光波長が紫外領
域にしか無いため、太陽光ではほとんどＱｃに変換され
ない。
域にしか無いため、太陽光ではほとんどＱｃに変換され
ない。
【０００６】これを解決するために光増感剤の検討も行
われているが、太陽光の大部分を占める可視光領域を充
分に利用することはできない。
われているが、太陽光の大部分を占める可視光領域を充
分に利用することはできない。
【０００７】またＮＢＤ分子中に長波長光を吸収出来る
ような置換基を導入することも検討されたが、長波長光
を吸収するほど蓄熱体であるＱｃの熱安定性が減少する
ため、５００ｎｍ程度まで吸光し、かつ室温でも安定に
Ｑｃを与えるようなＮＢＤ誘導体は存在しなかった（吉
田善一ら、 Chemistry Letters, 1987, 195）。
ような置換基を導入することも検討されたが、長波長光
を吸収するほど蓄熱体であるＱｃの熱安定性が減少する
ため、５００ｎｍ程度まで吸光し、かつ室温でも安定に
Ｑｃを与えるようなＮＢＤ誘導体は存在しなかった（吉
田善一ら、 Chemistry Letters, 1987, 195）。
【０００８】本発明は可視光を充分に吸光し室温下に安
定に存在するＱｃを与えるＮＢＤ誘導体を提供すること
を目的とする。
定に存在するＱｃを与えるＮＢＤ誘導体を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】分子内に歪を持った化合
物はペルフルオロアルキル基で修飾すると、熱的に安定
になることが知られている（小林義郎ら、有合化、３７
巻、１８３ｐ、１９７９年）。これをＱｃに応用するた
め本発明者は電子供与性の優れた置換基とペルフルオロ
アルキル基を分子内に有する、ドナー・アクセプター型
ＮＢＤ誘導体を合成することに成功した。また今回合成
されたドナー・アクセプター型ＮＢＤ誘導体は電子吸引
性基がシアノ基、エステル基、カルボキシル基などの他
のものに比較してドナー・アクセプター間のＣＴによる
吸光度が非常に大きいことが見いだされた（前者がモル
吸光係数〜１０００に対して、ペルフルオロアルキル基
では１００００以上）。
物はペルフルオロアルキル基で修飾すると、熱的に安定
になることが知られている（小林義郎ら、有合化、３７
巻、１８３ｐ、１９７９年）。これをＱｃに応用するた
め本発明者は電子供与性の優れた置換基とペルフルオロ
アルキル基を分子内に有する、ドナー・アクセプター型
ＮＢＤ誘導体を合成することに成功した。また今回合成
されたドナー・アクセプター型ＮＢＤ誘導体は電子吸引
性基がシアノ基、エステル基、カルボキシル基などの他
のものに比較してドナー・アクセプター間のＣＴによる
吸光度が非常に大きいことが見いだされた（前者がモル
吸光係数〜１０００に対して、ペルフルオロアルキル基
では１００００以上）。
【００１０】本発明は、以下の項１〜項８を提供するも
のである。 項１． 下記の一般式（１）
のである。 項１． 下記の一般式（１）
【００１１】
【化６】
【００１２】〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテ
ロ原子を有する芳香族基、または低級アルコキシ、モノ
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アル
キルチオ基、ヒドロキシ基及びチオール基からなる群か
ら選ばれる１〜３個の置換基を有するフェニル基であ
り、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって炭素数１〜４の低級ア
ルキル基であり、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若し
くは炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素
数１〜４のペルフルオロアルキル基である。〕で表され
るノルボルナジエニル誘導体。 項２． Ｒ1、Ｒ2が同一又は異なって低級アルコキシ、
モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノおよび
低級アルキルチオ基からなる群から選ばれる１〜３個の
置換基を有するフェニル基である項１に記載のノルボル
ナジエニル誘導体。 項３． 項１又は２記載の化合物からなる光エネルギー
蓄積・光ー熱エネルギー変換材料。 項４． 項１または２に記載の材料のフォトクロミズム
機能を利用した光記録材料。 項５． 項１又は２に記載の材料の光屈折率変化を利用
した光デバイス材料。 項６． 一般式（２）
ロ原子を有する芳香族基、または低級アルコキシ、モノ
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アル
キルチオ基、ヒドロキシ基及びチオール基からなる群か
ら選ばれる１〜３個の置換基を有するフェニル基であ
り、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって炭素数１〜４の低級ア
ルキル基であり、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若し
くは炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素
数１〜４のペルフルオロアルキル基である。〕で表され
るノルボルナジエニル誘導体。 項２． Ｒ1、Ｒ2が同一又は異なって低級アルコキシ、
モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノおよび
低級アルキルチオ基からなる群から選ばれる１〜３個の
置換基を有するフェニル基である項１に記載のノルボル
ナジエニル誘導体。 項３． 項１又は２記載の化合物からなる光エネルギー
蓄積・光ー熱エネルギー変換材料。 項４． 項１または２に記載の材料のフォトクロミズム
機能を利用した光記録材料。 項５． 項１又は２に記載の材料の光屈折率変化を利用
した光デバイス材料。 項６． 一般式（２）
【００１３】
【化７】
【００１４】〔式中Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ
原子を有する芳香族基、または炭素数１〜４のアルコキ
シ、アルキルアミノ、アルキルチオ基ヒドロキシ基及び
チオール基からなる群から選ばれる１〜３個の置換基を
有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって
炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒ5、Ｒ6は同一
又は異なって水素若しくは炭素数１〜４の低級アルキル
基である。〕で表されるシクロペンタジエン誘導体。 項７． 一般式（２）のシクロペンタジエンを一般式
（３）のアルキン化合物と反応させることを特徴とする
一般式（１）で表されるノルボルナジエニル誘導体の製
造法。
原子を有する芳香族基、または炭素数１〜４のアルコキ
シ、アルキルアミノ、アルキルチオ基ヒドロキシ基及び
チオール基からなる群から選ばれる１〜３個の置換基を
有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって
炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒ5、Ｒ6は同一
又は異なって水素若しくは炭素数１〜４の低級アルキル
基である。〕で表されるシクロペンタジエン誘導体。 項７． 一般式（２）のシクロペンタジエンを一般式
（３）のアルキン化合物と反応させることを特徴とする
一般式（１）で表されるノルボルナジエニル誘導体の製
造法。
【００１５】
【化８】
【００１６】〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテ
ロ原子を有する芳香族基、または低級アルコキシ、モノ
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アル
キルチオ基、ヒドロキシ基及びチオール基からなる群か
ら選ばれる１〜３個の置換基を有するフェニル基であ
り、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって炭素数１〜４の低級ア
ルキル基であり、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若し
くは炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素
数１〜４のペルフルオロアルキル基である。〕 項８． 一般式（４）で表される化合物をＲ1Ｍおよび
Ｒ2Ｍと順次反応させることを特徴とする一般式（２）
の化合物の製造法：
ロ原子を有する芳香族基、または低級アルコキシ、モノ
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アル
キルチオ基、ヒドロキシ基及びチオール基からなる群か
ら選ばれる１〜３個の置換基を有するフェニル基であ
り、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって炭素数１〜４の低級ア
ルキル基であり、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若し
くは炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素
数１〜４のペルフルオロアルキル基である。〕 項８． 一般式（４）で表される化合物をＲ1Ｍおよび
Ｒ2Ｍと順次反応させることを特徴とする一般式（２）
の化合物の製造法：
【００１７】
【化９】
【００１８】〔式中のＭはリチウム、マグネシウム、亜
鉛、銅、セリウムなどの金属を示す。Ｒ1、Ｒ2は同一又
は異なってヘテロ原子を有する芳香族基、または低級ア
ルコキシ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルア
ミノおよび低級アルキルチオ基からなる群から選ばれる
１〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4
は同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
る。Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。〕
鉛、銅、セリウムなどの金属を示す。Ｒ1、Ｒ2は同一又
は異なってヘテロ原子を有する芳香族基、または低級ア
ルコキシ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルア
ミノおよび低級アルキルチオ基からなる群から選ばれる
１〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4
は同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
る。Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。〕
【００１９】
【発明の実施の形態】低級アルキル基としては、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルな
どの炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルな
どの炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。
【００２０】低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキ
シ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブト
キシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。
トキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキ
シ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブト
キシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。
【００２１】モノ低級アルキルアミノ基としては、メチ
ルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプ
ロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、
ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノなどの
炭素数１〜４のアルキルアミノ基が挙げられる。
ルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプ
ロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、
ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノなどの
炭素数１〜４のアルキルアミノ基が挙げられる。
【００２２】ジアルキルアミノ基としては、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジｎ−プロピルアミノ、ジイソ
プロピルアミノ、ジｎ−ブチルアミノ、ジイソブチルア
ミノ、ジｓｅｃ−ブチルアミノ、ジｔｅｒｔ−ブチルア
ミノが挙げられる。
ミノ、ジエチルアミノ、ジｎ−プロピルアミノ、ジイソ
プロピルアミノ、ジｎ−ブチルアミノ、ジイソブチルア
ミノ、ジｓｅｃ−ブチルアミノ、ジｔｅｒｔ−ブチルア
ミノが挙げられる。
【００２３】ヘテロ原子を有する芳香族基としては、チ
エニル、ピロリル、ピリジル、ピラゾリル、ピリミジニ
ル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラ
ニル、インドリル、イソインドリル、キノリル、イソキ
ノリル、ベンゾイミダゾリル、キナゾリル、カルバゾリ
ル、ナフチリジル、アクリジニルなどのヘテロ原子（硫
黄原子、窒素原子、酸素原子）を１〜２個含む単環、二
環又は三環式の芳香族基が挙げられる。
エニル、ピロリル、ピリジル、ピラゾリル、ピリミジニ
ル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラ
ニル、インドリル、イソインドリル、キノリル、イソキ
ノリル、ベンゾイミダゾリル、キナゾリル、カルバゾリ
ル、ナフチリジル、アクリジニルなどのヘテロ原子（硫
黄原子、窒素原子、酸素原子）を１〜２個含む単環、二
環又は三環式の芳香族基が挙げられる。
【００２４】低級アルキルチオ基としては、メチルチ
オ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチル
チオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオなどの炭素数１〜４のアル
キルチオ基が挙げられる。
オ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチル
チオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオなどの炭素数１〜４のアル
キルチオ基が挙げられる。
【００２５】低級ペルフルオロアルキル基としては、ト
リフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ｎ−ヘプタ
フルオロプロピル、イソヘプタフルオロプロピル、ｎ−
ノナフルオロブチル、イソノナフルオロブチル、ｓｅｃ
−ノナフルオロブチル、ｔｅｒｔ−ノナフルオロブチル
などの炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基が挙げら
れる。
リフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ｎ−ヘプタ
フルオロプロピル、イソヘプタフルオロプロピル、ｎ−
ノナフルオロブチル、イソノナフルオロブチル、ｓｅｃ
−ノナフルオロブチル、ｔｅｒｔ−ノナフルオロブチル
などの炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基が挙げら
れる。
【００２６】Ｍで表される金属としては、リチウム、マ
グネシウム、亜鉛、銅、セリウムが例示される。
グネシウム、亜鉛、銅、セリウムが例示される。
【００２７】本発明の一般式（１）のＮＢＤ誘導体は、
例えば下記＜反応工程式１＞に従い製造することができ
る。 ＜反応工程式１＞
例えば下記＜反応工程式１＞に従い製造することができ
る。 ＜反応工程式１＞
【００２８】
【化１０】
【００２９】〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及
びＲfは、前記に定義された通りである。〕 一般式（２）で表されるシクロペンタジエン誘導体１モ
ルに対し、一般式（３）で表されるアルキン化合物１〜
１．１モルを溶媒の存在下に１００〜１５０℃で３〜２
４時間反応させることにより、一般式（１）で表される
ＮＢＤ誘導体を得ることができる。反応は封管中で行う
こともできる。溶媒としては、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類が挙げられる。
びＲfは、前記に定義された通りである。〕 一般式（２）で表されるシクロペンタジエン誘導体１モ
ルに対し、一般式（３）で表されるアルキン化合物１〜
１．１モルを溶媒の存在下に１００〜１５０℃で３〜２
４時間反応させることにより、一般式（１）で表される
ＮＢＤ誘導体を得ることができる。反応は封管中で行う
こともできる。溶媒としては、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類が挙げられる。
【００３０】一般式（２）で表されるシクロペンタジエ
ン誘導体は、例えば下記＜反応工程式２＞に従い製造す
ることができる。 ＜反応工程式２＞
ン誘導体は、例えば下記＜反応工程式２＞に従い製造す
ることができる。 ＜反応工程式２＞
【００３１】
【化１１】
【００３２】〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及
びＭは、前記に定義された通りである。〕 一般式（４）で表されるジケトン誘導体１モルに対し、
Ｒ1Ｍで表される化合物１〜１．１モルを溶媒の存在下
に−７８℃から室温程度の温度下に１〜２４時間反応さ
せ、生成物を脱水することにより、一般式（５）で表さ
れる化合物を得る。次いで、一般式（５）で表される化
合物１モルと、Ｒ2Ｍで表される化合物１〜２モルを溶
媒の存在下に−７８℃から室温程度の温度下に１〜２４
時間反応させ、生成物を脱水することにより、一般式
（２）で表されるシクロペンタジエン化合物を得ること
ができる。一般式（４）の化合物とＲ1Ｍを反応させた
後、一般式（５）の化合物を単離することなく反応粗生
成物にＲ2Ｍを加えて一般式（２）で表されるシクロペ
ンタジエン化合物を得ることもでき、一般式（５）の化
合物をいったん単離した後、Ｒ2Ｍを反応させて一般式
（２）で表されるシクロペンタジエン化合物を得ること
もできる。
びＭは、前記に定義された通りである。〕 一般式（４）で表されるジケトン誘導体１モルに対し、
Ｒ1Ｍで表される化合物１〜１．１モルを溶媒の存在下
に−７８℃から室温程度の温度下に１〜２４時間反応さ
せ、生成物を脱水することにより、一般式（５）で表さ
れる化合物を得る。次いで、一般式（５）で表される化
合物１モルと、Ｒ2Ｍで表される化合物１〜２モルを溶
媒の存在下に−７８℃から室温程度の温度下に１〜２４
時間反応させ、生成物を脱水することにより、一般式
（２）で表されるシクロペンタジエン化合物を得ること
ができる。一般式（４）の化合物とＲ1Ｍを反応させた
後、一般式（５）の化合物を単離することなく反応粗生
成物にＲ2Ｍを加えて一般式（２）で表されるシクロペ
ンタジエン化合物を得ることもでき、一般式（５）の化
合物をいったん単離した後、Ｒ2Ｍを反応させて一般式
（２）で表されるシクロペンタジエン化合物を得ること
もできる。
【００３３】一般式（４）のジケトン化合物は、Naoshi
ma, Y., et al., Agr. Biol. Chem., 1974, 38, 2273.
に従い容易に得られる。
ma, Y., et al., Agr. Biol. Chem., 1974, 38, 2273.
に従い容易に得られる。
【００３４】本発明のＮＢＤ誘導体は、太陽光などの光
エネルギーを吸収してクワドリシクラン（Ｑｃ）に構造
変化することによる吸光波長変化を利用した光記録材
料、屈折率変化を利用した光導波路などの光デバイスと
して有用である。
エネルギーを吸収してクワドリシクラン（Ｑｃ）に構造
変化することによる吸光波長変化を利用した光記録材
料、屈折率変化を利用した光導波路などの光デバイスと
して有用である。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、ドナー・アクセプター
間のＣＴによる吸光度が非常に大きく、クワドリシクラ
ンの安定性の高い、太陽光エネルギー利用に対して非常
に優れたＮＢＤ化合物を提供することができる。
間のＣＴによる吸光度が非常に大きく、クワドリシクラ
ンの安定性の高い、太陽光エネルギー利用に対して非常
に優れたＮＢＤ化合物を提供することができる。
【００３６】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例を用いて
より詳細に説明する。 実施例１ 2, 3 -ビス (4 - ジメチルアミノフェニル)
- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエン（化合
物３）の合成。
より詳細に説明する。 実施例１ 2, 3 -ビス (4 - ジメチルアミノフェニル)
- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエン（化合
物３）の合成。
【００３７】4 - ブロモ - N, N - ジメチルアニリン
４.９８ｇ（２４.９m mol）のエーテル溶液（８０ｍ
ｌ）中に０℃で１.５９Ｍｎ−ブチルリチウムを滴下
し、この温度で１.５時間攪拌した。この反応溶液に 4,
4 - ジメチルシクロペンタンジオン（3, 3 -ジメチル
グルタル酸から既報により合成した。Naoshima, Y., et
al., Agr. Biol. Chem., 1974, 38, 2273.）１.１８ｇ
（９.３６m mol）のエーテル溶液（４０ｍｌ）を０℃で
滴下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開
け、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、生成物をカ
ラムクロマト（Si O2, n-hexane : EtOAc = 5 : 1）で
精製し、化合物１を１.０２ｇ（４４％）得た。
４.９８ｇ（２４.９m mol）のエーテル溶液（８０ｍ
ｌ）中に０℃で１.５９Ｍｎ−ブチルリチウムを滴下
し、この温度で１.５時間攪拌した。この反応溶液に 4,
4 - ジメチルシクロペンタンジオン（3, 3 -ジメチル
グルタル酸から既報により合成した。Naoshima, Y., et
al., Agr. Biol. Chem., 1974, 38, 2273.）１.１８ｇ
（９.３６m mol）のエーテル溶液（４０ｍｌ）を０℃で
滴下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開
け、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、生成物をカ
ラムクロマト（Si O2, n-hexane : EtOAc = 5 : 1）で
精製し、化合物１を１.０２ｇ（４４％）得た。
【００３８】
【化１２】
【００３９】化合物１1 H-NMR (CDCl3) δ：1.10 (s, 3 H), 1.20 (s, 3 H),
2.23 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 2.35 (d, J = 15.8 Hz, 1
H), 2.38 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 2.45 (d, J = 15.8 H
z, 1H), 2.70 (s, 1 H), 2.93 (s, 6 H), 6.70 (d, J
= 9.1 Hz, 2 H), 7.22 (d, J = 9.1 Hz, 2 H). MS m/z 247 (M+). HRMS 計算値 C15H21NO2 247.157,実
測値 247.158. IR (KBr): 3448, 2950, 1741, 1618, 1528, 1365 cm
-1 . 4 - ブロモ - N, N - ジメチルアニリン４.９８ｇ（２
４.９mmol）のエーテル溶液（８０ｍｌ）中に０℃で１.
５９Ｍｎ−ブチルリチウムを滴下し、この温度で１.５
時間攪拌した。この反応溶液に化合物１（８２２ｍｇ、
３.３ mmol）のＴＨＦ溶液（１０ｍｌ）を０℃で滴下
し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開け、
エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、生成物をカラム
クロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 4 : 1）で精製
し、化合物２を２８３ｍｇ（２３％）得、原料を３０９
ｍｇ（３８％）回収した。
2.23 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 2.35 (d, J = 15.8 Hz, 1
H), 2.38 (d, J = 13.8 Hz, 1H), 2.45 (d, J = 15.8 H
z, 1H), 2.70 (s, 1 H), 2.93 (s, 6 H), 6.70 (d, J
= 9.1 Hz, 2 H), 7.22 (d, J = 9.1 Hz, 2 H). MS m/z 247 (M+). HRMS 計算値 C15H21NO2 247.157,実
測値 247.158. IR (KBr): 3448, 2950, 1741, 1618, 1528, 1365 cm
-1 . 4 - ブロモ - N, N - ジメチルアニリン４.９８ｇ（２
４.９mmol）のエーテル溶液（８０ｍｌ）中に０℃で１.
５９Ｍｎ−ブチルリチウムを滴下し、この温度で１.５
時間攪拌した。この反応溶液に化合物１（８２２ｍｇ、
３.３ mmol）のＴＨＦ溶液（１０ｍｌ）を０℃で滴下
し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開け、
エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、生成物をカラム
クロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 4 : 1）で精製
し、化合物２を２８３ｍｇ（２３％）得、原料を３０９
ｍｇ（３８％）回収した。
【００４０】
【化１３】
【００４１】化合物２1 H-NMR (CDCl3) δ：1.35 (s, 6 H), 1.74 (s, 2 H),
1.89 (d, J = 13.9 Hz, 2H), 2.76 (d, J = 13.9 Hz, 2
H), 2.93 (s, 12H), 6.63 (d, J = 9.0 Hz, 4 H),7.08
(d, J = 9.0 Hz, 4 H). MS m/z 368 (M+). HRMS Calcd for C23H32N2O2 368.24
6, found 368.245. 化合物２（２８２ｍｇ、０.７６mmol）とｐ−トルエン
スルホン酸（２６０ｍｇ、１.３７mmol）のトルエン溶
液（１０ｍｌ）を３０分間加熱還流した。反応後、１０
％水酸化ナトリウムで液性をアルカリにした後、エーテ
ル抽出した。脱水後、溶媒を留去し、生成物をカラムク
ロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製
し、化合物３（１５６ｍｇ、８６％）を得た。
1.89 (d, J = 13.9 Hz, 2H), 2.76 (d, J = 13.9 Hz, 2
H), 2.93 (s, 12H), 6.63 (d, J = 9.0 Hz, 4 H),7.08
(d, J = 9.0 Hz, 4 H). MS m/z 368 (M+). HRMS Calcd for C23H32N2O2 368.24
6, found 368.245. 化合物２（２８２ｍｇ、０.７６mmol）とｐ−トルエン
スルホン酸（２６０ｍｇ、１.３７mmol）のトルエン溶
液（１０ｍｌ）を３０分間加熱還流した。反応後、１０
％水酸化ナトリウムで液性をアルカリにした後、エーテ
ル抽出した。脱水後、溶媒を留去し、生成物をカラムク
ロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製
し、化合物３（１５６ｍｇ、８６％）を得た。
【００４２】
【化１４】
【００４３】化合物３1 H-NMR (CDCl3) δ：1.28 (s, 6 H), 2.93 (s, 12H),
6.19 (s, 2 H), 6.65 (d,J = 8.9 Hz, 4 H), 7.08 (d,
J = 8.9 Hz, 4 H). MS m/z 332 (M+). HRMS Calcd for C23H28N2 322.225,
found 322.224. 実施例２ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（4 - ジメチルアミノフ
ェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロメチル）- 2, 5 -
ノルボルナジエン(化合物４）の合成 化合物３（７８.５ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で１４時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-hexane : EtOAc = 20 : 1）で精製して
化合物４を得た。
6.19 (s, 2 H), 6.65 (d,J = 8.9 Hz, 4 H), 7.08 (d,
J = 8.9 Hz, 4 H). MS m/z 332 (M+). HRMS Calcd for C23H28N2 322.225,
found 322.224. 実施例２ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（4 - ジメチルアミノフ
ェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロメチル）- 2, 5 -
ノルボルナジエン(化合物４）の合成 化合物３（７８.５ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で１４時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-hexane : EtOAc = 20 : 1）で精製して
化合物４を得た。
【００４４】
【化１５】
【００４５】化合物４1 H-NMR (CDCl3) δ：1.22 (s, 3 H), 1.32 (s, 3 H),
2.91 (s, 12H), 3.77 (s,2 H), 6.34 (d, J = 9.0 Hz, 4 H), 7.13 (d, J = 9.0 Hz, 4 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm：-60.21(bs) MS m/z 494 (M+). HRMS Calcd for C27H28N2F6 494.21
6, found 494.215. IR (KBr): 1610, 1524, 1345, 1299, 1175, 1133 cm-1
. 実施例３ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（4 - メトキ
シフェニル）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 -
ジエン（化合物６）の合成 化合物１の２.４５ｇ（９.９m mol）とｐートルエンス
ルホン酸２.０７ｇ（１０.９mmol）のトルエン溶液（７
０ｍｌ）を３０分間加熱還流した。反応後、１０％水酸
化ナトリウムで液性をアルカリにした後、エーテル抽出
した。脱水後、溶媒を留去し、生成物をカラムクロマト
（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製し、化
合物５を１.９６ｇ（８６％）得た。
2.91 (s, 12H), 3.77 (s,2 H), 6.34 (d, J = 9.0 Hz, 4 H), 7.13 (d, J = 9.0 Hz, 4 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm：-60.21(bs) MS m/z 494 (M+). HRMS Calcd for C27H28N2F6 494.21
6, found 494.215. IR (KBr): 1610, 1524, 1345, 1299, 1175, 1133 cm-1
. 実施例３ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（4 - メトキ
シフェニル）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 -
ジエン（化合物６）の合成 化合物１の２.４５ｇ（９.９m mol）とｐートルエンス
ルホン酸２.０７ｇ（１０.９mmol）のトルエン溶液（７
０ｍｌ）を３０分間加熱還流した。反応後、１０％水酸
化ナトリウムで液性をアルカリにした後、エーテル抽出
した。脱水後、溶媒を留去し、生成物をカラムクロマト
（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製し、化
合物５を１.９６ｇ（８６％）得た。
【００４６】
【化１６】
【００４７】化合物５1 H-NMR (CDCl3) δ：1.27 (s, 6 H), 2.44 (s, 2 H),
2.97 (s, 6 H), 6.72 (d,J = 9.1 Hz, 2 H), 7.41 (s,
1H), 7.65 (d, J = 9.1 Hz, 2 H). MS m/z 229 (M+). HRMS Calcd for C15H19NO 229.147,
found 229.146. 4 - ブロモアニソール（280.6 mg, 1.5 mmol）とマグネ
シウム（36.3 mg, 1.5mmol ）から調整したグリニャー
試薬（THF 2 ml）中に化合物５のＴＨＦ溶液（３ ml）
を０℃で滴下した。これを室温で１９時間攪拌した。反
応液を d. HCl- 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でア
ルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtO
Ac = 10 : 1）で精製し、化合物６（ 72.5 mg、22.3
%）と原料回収（25.7 mg 11.2 %）を得た。
2.97 (s, 6 H), 6.72 (d,J = 9.1 Hz, 2 H), 7.41 (s,
1H), 7.65 (d, J = 9.1 Hz, 2 H). MS m/z 229 (M+). HRMS Calcd for C15H19NO 229.147,
found 229.146. 4 - ブロモアニソール（280.6 mg, 1.5 mmol）とマグネ
シウム（36.3 mg, 1.5mmol ）から調整したグリニャー
試薬（THF 2 ml）中に化合物５のＴＨＦ溶液（３ ml）
を０℃で滴下した。これを室温で１９時間攪拌した。反
応液を d. HCl- 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でア
ルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtO
Ac = 10 : 1）で精製し、化合物６（ 72.5 mg、22.3
%）と原料回収（25.7 mg 11.2 %）を得た。
【００４８】
【化１７】
【００４９】化合物61 H-NMR (CDCl3) δ：1.29 (s, 6 H), 2.93 (s, 6 H),
3.79 (s, 3 H), 6.20 (d,J = 2.6 Hz, 1 H), 6.22 (d,
J = 2.6 Hz, 1 H), 6.62 (d, J = 8.8 Hz, 2 H),6.78
(d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.04 (d, J = 8.9 Hz, 2 H),
7.12 (d, J = 8.8Hz, 2 H). IR (KBr): 2957, 1609, 1508, 1351, 1245, 1176, 103
9, 821 cm-1 . 実施例４ 7, 7 -ジメチル - 5 - (4 - メトキシフェニル) - 6 -
（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフ
ルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
７）の合成 化合物６（７８.５ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で１５時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マトで精製して化合物７を得た。
3.79 (s, 3 H), 6.20 (d,J = 2.6 Hz, 1 H), 6.22 (d,
J = 2.6 Hz, 1 H), 6.62 (d, J = 8.8 Hz, 2 H),6.78
(d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.04 (d, J = 8.9 Hz, 2 H),
7.12 (d, J = 8.8Hz, 2 H). IR (KBr): 2957, 1609, 1508, 1351, 1245, 1176, 103
9, 821 cm-1 . 実施例４ 7, 7 -ジメチル - 5 - (4 - メトキシフェニル) - 6 -
（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフ
ルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
７）の合成 化合物６（７８.５ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で１５時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マトで精製して化合物７を得た。
【００５０】
【化１８】
【００５１】化合物71 H-NMR (CDCl3) δ：1.17 (s, 3 H), 1.27 (s, 3 H),
2.87 (s, 6 H), 3.59 (d,J = 3.5 Hz, 1 H), 3.63(d, J
= 3.5 Hz, 1 H), 3.71 (s, 3 H), 6.54 (d, J =8.9 H
z, 2 H), 6.73 (d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.08 (d, J =
8.9 Hz, 2 H), 7.22 (d, J = 8.9 Hz, 2 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm：-61.26(q, J = 9.0 Hz, 3 F),
-61.50(q, J = 9.0 Hz,3 F). MS m/z 481 (M+). HRMS Calcd for C26H25NOF6 481.18
4, found 481.184. 実施例５ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2, 4 -ジメ
トキシフェニル） - 5,5 - ジメチルシクロペント1, 3
-ジエン（化合物８）の合成 1 - ブロモ - 2, 4 - ジメトキシベンゼン（1. 133 g,
5. 22 mmol）とｎ−ブチルリチウム（1. 56 M, ヘキサ
ン溶液、3. 3 ml, 5. 21 mmol）から調製した有機リチ
ウム試薬（エーテル ３０ ml）中に化合物５のエーテ
ル溶液（７ ml）を−７８℃で滴下した。これを室温で
４時間攪拌した。反応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌
後、５％ NaOH でアルカリ性にした後、エーテル抽出し
た。脱水、溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（Si
O2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1−n-ヘキサン : CH2C
l2 = 1 : 1）で精製し、化合物８（ 249. 2 mg、41. 1
%）を得た。
2.87 (s, 6 H), 3.59 (d,J = 3.5 Hz, 1 H), 3.63(d, J
= 3.5 Hz, 1 H), 3.71 (s, 3 H), 6.54 (d, J =8.9 H
z, 2 H), 6.73 (d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.08 (d, J =
8.9 Hz, 2 H), 7.22 (d, J = 8.9 Hz, 2 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm：-61.26(q, J = 9.0 Hz, 3 F),
-61.50(q, J = 9.0 Hz,3 F). MS m/z 481 (M+). HRMS Calcd for C26H25NOF6 481.18
4, found 481.184. 実施例５ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2, 4 -ジメ
トキシフェニル） - 5,5 - ジメチルシクロペント1, 3
-ジエン（化合物８）の合成 1 - ブロモ - 2, 4 - ジメトキシベンゼン（1. 133 g,
5. 22 mmol）とｎ−ブチルリチウム（1. 56 M, ヘキサ
ン溶液、3. 3 ml, 5. 21 mmol）から調製した有機リチ
ウム試薬（エーテル ３０ ml）中に化合物５のエーテ
ル溶液（７ ml）を−７８℃で滴下した。これを室温で
４時間攪拌した。反応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌
後、５％ NaOH でアルカリ性にした後、エーテル抽出し
た。脱水、溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（Si
O2, n-ヘキサン : EtOAc = 10 : 1−n-ヘキサン : CH2C
l2 = 1 : 1）で精製し、化合物８（ 249. 2 mg、41. 1
%）を得た。
【００５２】
【化１９】
【００５３】化合物 81 H-NMR (CDCl3) δ：1.30 (s, 6 H), 2.89 (s, 6 H),
3.31 (s, 3 H), 3.81 (s,3 H), 6.19 (d, J = 2.6 Hz,
1 H), 6.22 (d, J = 2.6 Hz, 1 H), 6.35 (d, J= 2.9 H
z, 1 H), 6.45 (dd, J = 8.2, 2.9 Hz, 1 H), 6.60 (d,
J = 9.0 Hz, 2H), 7.00 (d, J = 9.0 Hz, 2 H), 7.11
(d, J = 8.2 Hz, 1 H). IR (KBr): 2957, 1611, 1508, 1458, 1208, 1157, 821
cm-1 . 実施例６ 7, 7 -ジメチル - 5 - (2, 4 -ジトキシフェニル) - 6
-（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
９）の合成 化合物８（２０９.４２ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフ
ルオロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを
溶媒として用い、封管中１２０℃で１５時間加熱した。
冷後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムク
ロマトで精製して化合物９を得た。
3.31 (s, 3 H), 3.81 (s,3 H), 6.19 (d, J = 2.6 Hz,
1 H), 6.22 (d, J = 2.6 Hz, 1 H), 6.35 (d, J= 2.9 H
z, 1 H), 6.45 (dd, J = 8.2, 2.9 Hz, 1 H), 6.60 (d,
J = 9.0 Hz, 2H), 7.00 (d, J = 9.0 Hz, 2 H), 7.11
(d, J = 8.2 Hz, 1 H). IR (KBr): 2957, 1611, 1508, 1458, 1208, 1157, 821
cm-1 . 実施例６ 7, 7 -ジメチル - 5 - (2, 4 -ジトキシフェニル) - 6
-（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
９）の合成 化合物８（２０９.４２ｍｇ、０.２４mmol）とヘキサフ
ルオロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを
溶媒として用い、封管中１２０℃で１５時間加熱した。
冷後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムク
ロマトで精製して化合物９を得た。
【００５４】
【化２０】
【００５５】化合物91 H-NMR (CDCl3) δ：1.24 (s, 3 H), 1.36 (s, 3 H),
2.91 (s, 6 H), 3.65 (d,J = 3.3 Hz, 1 H), 3.75 (s,
3 H), 3.76 (d, J = 3.3 Hz, 1 H), 3.80 (s, 3H), 6.3
6 (dd, J = 2.4, 8.4 Hz, 1 H), 6.49 (d, J = 2.4 Hz,
1 H), 6.58 (d,J = 9.0 Hz, 2 H), 6.89 (d, J = 8.4
Hz, 1 H), 7.13 (d, J = 9.0 Hz, 2 H). 19F-NMR (CDC
l3) ppm：-61.28(q, J = 8.1 Hz, 3 F), -61.46(q, J =
8.1 Hz, 3F). MS m/z 511 (M+). HRMS Calcd for C27H27NO2F6 511.19
5, found 511.193. 実施例７ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（4 - メチル
チオフェニル） - 5, 5- ジメチルシクロペント1, 3 -
ジエンの合成（化合物１０） 4 - ブロモチオアニソール（1. 016 g, 5. 0 mmol）と
マグネシウム（144 mg,6 mmol ）から調整したグリニャ
ー試薬（ＴＨＦ ６ ml）中に化合物５のＴＨＦ溶液
（２ ml）を０℃で滴下した。これを室温で４時間攪拌
した。反応液を d.HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ Na
OH でアルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、
溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサ
ン : EtOAc= 50 : 1）で精製し化合物１０（ 119. 6 m
g、23. 8 %）を得た。
2.91 (s, 6 H), 3.65 (d,J = 3.3 Hz, 1 H), 3.75 (s,
3 H), 3.76 (d, J = 3.3 Hz, 1 H), 3.80 (s, 3H), 6.3
6 (dd, J = 2.4, 8.4 Hz, 1 H), 6.49 (d, J = 2.4 Hz,
1 H), 6.58 (d,J = 9.0 Hz, 2 H), 6.89 (d, J = 8.4
Hz, 1 H), 7.13 (d, J = 9.0 Hz, 2 H). 19F-NMR (CDC
l3) ppm：-61.28(q, J = 8.1 Hz, 3 F), -61.46(q, J =
8.1 Hz, 3F). MS m/z 511 (M+). HRMS Calcd for C27H27NO2F6 511.19
5, found 511.193. 実施例７ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（4 - メチル
チオフェニル） - 5, 5- ジメチルシクロペント1, 3 -
ジエンの合成（化合物１０） 4 - ブロモチオアニソール（1. 016 g, 5. 0 mmol）と
マグネシウム（144 mg,6 mmol ）から調整したグリニャ
ー試薬（ＴＨＦ ６ ml）中に化合物５のＴＨＦ溶液
（２ ml）を０℃で滴下した。これを室温で４時間攪拌
した。反応液を d.HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ Na
OH でアルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、
溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサ
ン : EtOAc= 50 : 1）で精製し化合物１０（ 119. 6 m
g、23. 8 %）を得た。
【００５６】
【化２１】
【００５７】化合物101 H-NMR (CDCl3) δ：1.43 (s, 6 H), 2.60, (s, 3 H),
3.06 (s, 6 H), 6.35 (d, J = 2.5 Hz, 1 H), 6.42 (d,
J = 2.5 Hz, 1 H), 6.75 (d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.17
(d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.26 (s, 4 H). MS m/z 335 (M+). HRMS Calcd for C22H25NS 335.171,
found 335.171. IR (KBr): 1615, 1520, 1356, 817 cm-1 . 実施例８ 7, 7 -ジメチル - 5 - (4 - メチルチオフェニル) - 6
-（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
１１）の合成 化合物１０（１１９.６ｍｇ、０.３５７mmol）とヘキサ
フルオロ−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌ
を溶媒として用い、封管中１２０℃で１４時間加熱し
た。冷後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラ
ムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 50 : 1）で
精製して化合物１１（121. 56 mg, 68.5 %）を得た。
3.06 (s, 6 H), 6.35 (d, J = 2.5 Hz, 1 H), 6.42 (d,
J = 2.5 Hz, 1 H), 6.75 (d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.17
(d, J = 8.9 Hz, 2 H), 7.26 (s, 4 H). MS m/z 335 (M+). HRMS Calcd for C22H25NS 335.171,
found 335.171. IR (KBr): 1615, 1520, 1356, 817 cm-1 . 実施例８ 7, 7 -ジメチル - 5 - (4 - メチルチオフェニル) - 6
-（4 - ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
１１）の合成 化合物１０（１１９.６ｍｇ、０.３５７mmol）とヘキサ
フルオロ−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌ
を溶媒として用い、封管中１２０℃で１４時間加熱し
た。冷後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラ
ムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 50 : 1）で
精製して化合物１１（121. 56 mg, 68.5 %）を得た。
【００５８】
【化２２】
【００５９】化合物111 H-NMR (CDCl3) δ：1.25 (s, 3 H), 1.34 (s, 3 H),
2.47 (s, 3 H), 2.95 (s,6 H), 3.68 (d, J = 3.6 Hz,
1 H), 3.72 (d, J = 3.6 Hz, 1 H), 6.31 (d, J= 9.0 H
z, 2 H), 7.10 - 7.26 (m, 6 H). MS m/z 497 (M+). HRMS Calcd for C26H25NSF6 497.16
1, found 497.160. 実施例９ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - チオフ
ェン）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエン
の合成（化合物１２） 2 - ブロモチオフェン（489. 1 mg, 3. 0 mmol）とｎ−
ブチルリチウム（1. 51 M,ヘキサン溶液、1. 98 ml, 3
mmol ）から調整した有機リチウム試薬（エーテル３ m
l）中に化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（３
ml）を−７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌し
た。反応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaO
H でアルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶
媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン
: EtOAc = 20 : 1）で精製し化合物１２（ 82. 1 mg、
27. 8 %）を得た。
2.47 (s, 3 H), 2.95 (s,6 H), 3.68 (d, J = 3.6 Hz,
1 H), 3.72 (d, J = 3.6 Hz, 1 H), 6.31 (d, J= 9.0 H
z, 2 H), 7.10 - 7.26 (m, 6 H). MS m/z 497 (M+). HRMS Calcd for C26H25NSF6 497.16
1, found 497.160. 実施例９ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - チオフ
ェン）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエン
の合成（化合物１２） 2 - ブロモチオフェン（489. 1 mg, 3. 0 mmol）とｎ−
ブチルリチウム（1. 51 M,ヘキサン溶液、1. 98 ml, 3
mmol ）から調整した有機リチウム試薬（エーテル３ m
l）中に化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（３
ml）を−７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌し
た。反応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaO
H でアルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶
媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン
: EtOAc = 20 : 1）で精製し化合物１２（ 82. 1 mg、
27. 8 %）を得た。
【００６０】
【化２３】
【００６１】化合物121 H-NMR (CDCl3) δ：1.29 (s, 6 H), 2.97 (s, 6 H),
6.17 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 2.5 Hz, 1
H), 6.63 (dd, J = 1.1, 3.6 Hz, 1 H), 6.70 (d,J =
8.6 Hz, 2 H), 6.89 (dd, J = 5.1, 3.6 Hz, 1 H), 7.1
2 (dd, J = 5.1, 1.1 Hz, 1 H), 7.15 (d, J = 8.6 Hz,
2 H). MS m/z 295 (M+). HRMS Calcd for C19H21NS 295.139,
found 295.140. 実施例１０ 7, 7 -ジメチル - 5 - (２−チオフェン) - 6 -（4 -
ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロ
メチル）- 2, 5 -ノルボルナジエン（化合物１３）の合
成 化合物１３（８２ｍｇ、０.２８mmol）とヘキサフルオ
ロ−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で２０時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン: EtOAc = 20 : 1）で精製して
化合物１３（101. 56 mg, 80.1 %）を得た。
6.17 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 2.5 Hz, 1
H), 6.63 (dd, J = 1.1, 3.6 Hz, 1 H), 6.70 (d,J =
8.6 Hz, 2 H), 6.89 (dd, J = 5.1, 3.6 Hz, 1 H), 7.1
2 (dd, J = 5.1, 1.1 Hz, 1 H), 7.15 (d, J = 8.6 Hz,
2 H). MS m/z 295 (M+). HRMS Calcd for C19H21NS 295.139,
found 295.140. 実施例１０ 7, 7 -ジメチル - 5 - (２−チオフェン) - 6 -（4 -
ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロ
メチル）- 2, 5 -ノルボルナジエン（化合物１３）の合
成 化合物１３（８２ｍｇ、０.２８mmol）とヘキサフルオ
ロ−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で２０時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン: EtOAc = 20 : 1）で精製して
化合物１３（101. 56 mg, 80.1 %）を得た。
【００６２】
【化２４】
【００６３】化合物131 H-NMR (CDCl3) δ：1.25 (s, 3 H), 1.33 (s, 3 H),
2.98 (s, 6 H), 3.66 (d,J = 3.6 Hz, 1 H), 3.71 (d,
J = 3.6 Hz, 1 H), 6.72 (d, J = 8.9 Hz, 2 H),6.95
(dd, J = 5.1, 3.7 Hz, 1 H), 7.04 (dd, J = 3.7, 1.2
Hz, 1 H), 7.15(dd, J = 5.1, 1.2 Hz, 1 H), 7.27
(d, J = 8.7 Hz, 2 H). MS m/z 457 (M+). HRMS Calcd for C23H21NSF6 457.13
0, found 457.130. 実施例１１ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - ベンゾ
フラン）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエ
ンの合成（化合物１４） ベンゾフラン（236. 26 mg, 2. 0 mmol）とｎーブチル
リチウム（1. 51 M,ヘキサン溶液、1. 32 ml, 2 mmol
）から調整した有機リチウム試薬（エーテル2 ml）中
に化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（2 ml）を
−７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌した。反
応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でア
ルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン: EtOA
c = 50 : 1）で精製し、化合物１４（ 24. 99 mg、7. 6
%）を得た。
2.98 (s, 6 H), 3.66 (d,J = 3.6 Hz, 1 H), 3.71 (d,
J = 3.6 Hz, 1 H), 6.72 (d, J = 8.9 Hz, 2 H),6.95
(dd, J = 5.1, 3.7 Hz, 1 H), 7.04 (dd, J = 3.7, 1.2
Hz, 1 H), 7.15(dd, J = 5.1, 1.2 Hz, 1 H), 7.27
(d, J = 8.7 Hz, 2 H). MS m/z 457 (M+). HRMS Calcd for C23H21NSF6 457.13
0, found 457.130. 実施例１１ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - ベンゾ
フラン）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3 - ジエ
ンの合成（化合物１４） ベンゾフラン（236. 26 mg, 2. 0 mmol）とｎーブチル
リチウム（1. 51 M,ヘキサン溶液、1. 32 ml, 2 mmol
）から調整した有機リチウム試薬（エーテル2 ml）中
に化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（2 ml）を
−７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌した。反
応液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でア
ルカリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン: EtOA
c = 50 : 1）で精製し、化合物１４（ 24. 99 mg、7. 6
%）を得た。
【００６４】
【化２５】
【００６５】化合物141 H-NMR (CDCl3) δ：1.33 (s, 6 H), 2.99 (s, 6 H),
6.16 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.19 (s, 1H), 6.74 (d, J
= 8.9 Hz, 2 H), 6.85 (d, J = 2.6 Hz, 1 H),6.89 (d
d, J = 5.1, 3.6 Hz, 1 H), 7.04 - 7.32 (m, 1 H), 7.
26 (d, J = 8.9Hz, 2 H), 7.37 - 7.48 (m, 2 H). MS m/z 329 (M+). HRMS Calcd for C23H23NO 329.178,
found 329.178. 実施例１２ 7, 7 -ジメチル - 5 - (２ーベンゾフラン) - 6 -（4 -
ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオ
ロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物１５）
の合成 化合物１５（８２ｍｇ、０.２８mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で２０時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 20 : 1）で精製し
て化合物１５（101. 56 mg, 80.1 %）を得た。
6.16 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.19 (s, 1H), 6.74 (d, J
= 8.9 Hz, 2 H), 6.85 (d, J = 2.6 Hz, 1 H),6.89 (d
d, J = 5.1, 3.6 Hz, 1 H), 7.04 - 7.32 (m, 1 H), 7.
26 (d, J = 8.9Hz, 2 H), 7.37 - 7.48 (m, 2 H). MS m/z 329 (M+). HRMS Calcd for C23H23NO 329.178,
found 329.178. 実施例１２ 7, 7 -ジメチル - 5 - (２ーベンゾフラン) - 6 -（4 -
ジメチルアミノフェニル）- 2, 3 -ビス（トリフルオ
ロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物１５）
の合成 化合物１５（８２ｍｇ、０.２８mmol）とヘキサフルオ
ロー２ーブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒
として用い、封管中１２０℃で２０時間加熱した。冷
後、エーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、カラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 20 : 1）で精製し
て化合物１５（101. 56 mg, 80.1 %）を得た。
【００６６】
【化２６】
【００６７】化合物151 H-NMR (CDCl3) δ：1.28 (s, 3 H), 1.31 (s, 3 H),
3.03 (s, 6 H), 3.78 (d,J = 3.6 Hz, 1 H), 3.95 (d,
J = 3.6 Hz, 1 H), 6.70 - 6.80 (m, 3 H), 7.10- 7.43
(m, 3 H), 7.45 - 7.60 (m, 3 H). MS m/z 491 (M+). HRMS Calcd for C27H23NOF6 491.16
8, found 491.168. 実施例１３ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - N - メ
チルピロール）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3
- ジエンの合成（化合物１６） N - メチルピロール（810 mg, 10 mmol）とｔ−ブチル
リチウム（1. 64 M,ヘキサン溶液、6.25 ml, 1 mmol）
から調整した有機リチウム試薬（ＴＨＦ 10 ml）中に
化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（5 ml）を−
７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌した。反応
液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でアル
カリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtO
Ac = 20 : 1）で精製し化合物１６（ 94. 6 mg、32. 4
%）を得た。
3.03 (s, 6 H), 3.78 (d,J = 3.6 Hz, 1 H), 3.95 (d,
J = 3.6 Hz, 1 H), 6.70 - 6.80 (m, 3 H), 7.10- 7.43
(m, 3 H), 7.45 - 7.60 (m, 3 H). MS m/z 491 (M+). HRMS Calcd for C27H23NOF6 491.16
8, found 491.168. 実施例１３ 2 -（4 - ジメチルアミノフェニル）- 3 -（2 - N - メ
チルピロール）- 5, 5 -ジメチルシクロペント - 1, 3
- ジエンの合成（化合物１６） N - メチルピロール（810 mg, 10 mmol）とｔ−ブチル
リチウム（1. 64 M,ヘキサン溶液、6.25 ml, 1 mmol）
から調整した有機リチウム試薬（ＴＨＦ 10 ml）中に
化合物５（229 mg, 1 mmol）のＴＨＦ溶液（5 ml）を−
７８℃で滴下した。これを室温で１時間攪拌した。反応
液を d. HCl - 氷水中に開け攪拌後、５％ NaOH でアル
カリ性にした後、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去
後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtO
Ac = 20 : 1）で精製し化合物１６（ 94. 6 mg、32. 4
%）を得た。
【００６８】
【化２７】
【００６９】化合物161 H-NMR (CDCl3) δ：1.29 (s, 6 H), 2.91 (s, 6 H),
3.16 (s, 3 H), 6.03 (dd, J = 3.5, 1.8 Hz, 1 H), 6.
12 (dd, J = 2.7, 3.5 Hz, 1H), 6.25 (s, 2 H),6.54 -
6.63 (m, 3 H), 6.99 (d, J = 9.0 Hz, 2 H). MS m/z 292 (M+). HRMS Calcd for C20H24N2 292.194,
found 292.193. IR (KBr): 2957, 1610, 1515, 1353, 822, 709 cm-1 . 実施例１４ 7, 7 -ジメチル - 5 -（4 - ジメチルアミノフェニル）
- 6 - (Nーメチルー２ーピロール)- 2, 3 - ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
１７）の合成 化合物１６（34ｍｇ、0. 116 mmol）とヘキサフルオロ
−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒と
して用い、封管中 50 ℃で 15 時間加熱した。冷後、エ
ーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、化合物１７（40.
05 mg, 76 %）を得た。
3.16 (s, 3 H), 6.03 (dd, J = 3.5, 1.8 Hz, 1 H), 6.
12 (dd, J = 2.7, 3.5 Hz, 1H), 6.25 (s, 2 H),6.54 -
6.63 (m, 3 H), 6.99 (d, J = 9.0 Hz, 2 H). MS m/z 292 (M+). HRMS Calcd for C20H24N2 292.194,
found 292.193. IR (KBr): 2957, 1610, 1515, 1353, 822, 709 cm-1 . 実施例１４ 7, 7 -ジメチル - 5 -（4 - ジメチルアミノフェニル）
- 6 - (Nーメチルー２ーピロール)- 2, 3 - ビス（トリ
フルオロメチル） - 2, 5 - ノルボルナジエン（化合物
１７）の合成 化合物１６（34ｍｇ、0. 116 mmol）とヘキサフルオロ
−２−ブチン（０.５ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒と
して用い、封管中 50 ℃で 15 時間加熱した。冷後、エ
ーテルで反応物を抽出し溶媒留去後、化合物１７（40.
05 mg, 76 %）を得た。
【００７０】
【化２８】
【００７１】化合物171 H-NMR (CDCl3) δ：1.25 (s, 3 H), 1.34 (s, 3 H),
2.96 (s, 6 H), 3.00 (s,3H), 3.55 (d, J = 3.6 Hz, 1
H), 3.82 (d, J = 3.6 Hz, 1 H), 6.11 (dd, J= 3.5,
1.8 Hz, 1 H), 6.21 (dd, J = 2.7, 3.5 Hz, 1H), 6.55
- 6.80 (m, 3 H), 7.01 (d, J = 9.0 Hz, 2 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm : -61.16 (q, J = 9.0 Hz, 3 F),
-61.85 (q, J = 9.0 Hz, 3 F). 実施例１５ 2, 3 -ビス (２ -ベンゾフラン) - 5, 5 -
ジメチルシクロペント -1, 3 - ジエン（化合物１
８））の合成。
2.96 (s, 6 H), 3.00 (s,3H), 3.55 (d, J = 3.6 Hz, 1
H), 3.82 (d, J = 3.6 Hz, 1 H), 6.11 (dd, J= 3.5,
1.8 Hz, 1 H), 6.21 (dd, J = 2.7, 3.5 Hz, 1H), 6.55
- 6.80 (m, 3 H), 7.01 (d, J = 9.0 Hz, 2 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm : -61.16 (q, J = 9.0 Hz, 3 F),
-61.85 (q, J = 9.0 Hz, 3 F). 実施例１５ 2, 3 -ビス (２ -ベンゾフラン) - 5, 5 -
ジメチルシクロペント -1, 3 - ジエン（化合物１
８））の合成。
【００７２】ベンゾフラン１.７７ｇ（１５mmol）のエ
ーテル溶液（１５ｍｌ）中に０℃でｎ−ブチルリチウム
（１.５４Ｍ、ヘキサン溶液、9. 74ｍｌ、１５mmol）を
滴下し、室温で１時間攪拌した。この反応溶液に 4, 4
- ジメチルシクロペンタンジオン（630 mg, 5 mmol）の
ＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を０℃で滴下し、室温で１５時間
攪拌した。反応液を氷水中に開け、エーテル抽出した。
脱水、溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-
ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製し、化合物１８を8
55 mｇ（70％）得た。
ーテル溶液（１５ｍｌ）中に０℃でｎ−ブチルリチウム
（１.５４Ｍ、ヘキサン溶液、9. 74ｍｌ、１５mmol）を
滴下し、室温で１時間攪拌した。この反応溶液に 4, 4
- ジメチルシクロペンタンジオン（630 mg, 5 mmol）の
ＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を０℃で滴下し、室温で１５時間
攪拌した。反応液を氷水中に開け、エーテル抽出した。
脱水、溶媒留去後、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-
ヘキサン : EtOAc = 10 : 1）で精製し、化合物１８を8
55 mｇ（70％）得た。
【００７３】
【化２９】
【００７４】化合物181 H-NMR (CDCl3) δ：1.18 (s, 3 H), 1.21 (s, 3 H),
2.21 (dd, J = 14.3, 1.7Hz, 1H), 2.37 (dd, J = 17.
4, 1.7 Hz, 1H), 2.60 (d, J = 17.4 Hz, 1H), 2.63
(d, J = 14.3 Hz, 1H), 3.32 (s, 1 H), 6.69 (d, 0.9
Hz, 1 H), 7.15 - 7.35 (m, 2 H), 7.42 - 7.55 (m, 2
H). MS m/z 244 (M+). HRMS Calcd for C15H16O3 244.110,
found 244.110. IR (KBr): 3348, 2959, 1752, 1457, 1251 cm-1 . 化合物１8（855 mｇ, 3. 5 m mol）とｐ−トルエンスル
ホン酸（15 mｇ, 0. 08 mmol）のトルエン溶液（２０ｍ
ｌ）を３０分間加熱還流した。溶媒を留去し、生成物を
カラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 20 :
1）で精製し、化合物１９を（485 mｇ, 61％）得た。
2.21 (dd, J = 14.3, 1.7Hz, 1H), 2.37 (dd, J = 17.
4, 1.7 Hz, 1H), 2.60 (d, J = 17.4 Hz, 1H), 2.63
(d, J = 14.3 Hz, 1H), 3.32 (s, 1 H), 6.69 (d, 0.9
Hz, 1 H), 7.15 - 7.35 (m, 2 H), 7.42 - 7.55 (m, 2
H). MS m/z 244 (M+). HRMS Calcd for C15H16O3 244.110,
found 244.110. IR (KBr): 3348, 2959, 1752, 1457, 1251 cm-1 . 化合物１8（855 mｇ, 3. 5 m mol）とｐ−トルエンスル
ホン酸（15 mｇ, 0. 08 mmol）のトルエン溶液（２０ｍ
ｌ）を３０分間加熱還流した。溶媒を留去し、生成物を
カラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 20 :
1）で精製し、化合物１９を（485 mｇ, 61％）得た。
【００７５】
【化３０】
【００７６】化合物191 H-NMR (CDCl3) δ：1.33 (s, 6 H), 2.48 (s, 2 H),
7.22 (dd, J = 7.2, 1.3Hz, 1 H), 7.30 (dd, J = 7.7,
1.6 Hz, 1 H), 7.42 - 7.49 (m, 2 H), 7.57 -7.63
(m, 1 H), 7.80(s, 1H). MS m/z 226 (M+). HRMS Calcd for C15H14O2 226.099,
found 226.099. IR (KBr): 2956, 1713, 1449, 1364, 1250, 1112 cm
-1 . ベンゾフラン（496 mｇ, 4. 2 m mol）のエーテル溶液
（５ｍｌ）中に０℃でｎ−ブチルリチウム（１.５４
Ｍ、ヘキサン溶液、2. 73ｍｌ、4. 2 mmol）を滴下し、
室温で１時間攪拌した。この反応溶液に化合物１９（48
5 mg, 2. 1 mmol）のＴＨＦ溶液（3 ｍｌ）を０℃で滴
下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開
け、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、粗生成物に
ｐートルエンスルホン酸１０ｍｇを加え、トルエン中３
０分間加熱還流した。溶媒留去後、生成物をカラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 50 : 1）で精製
し、化合物２０を 547 mｇ（80％）得た。
7.22 (dd, J = 7.2, 1.3Hz, 1 H), 7.30 (dd, J = 7.7,
1.6 Hz, 1 H), 7.42 - 7.49 (m, 2 H), 7.57 -7.63
(m, 1 H), 7.80(s, 1H). MS m/z 226 (M+). HRMS Calcd for C15H14O2 226.099,
found 226.099. IR (KBr): 2956, 1713, 1449, 1364, 1250, 1112 cm
-1 . ベンゾフラン（496 mｇ, 4. 2 m mol）のエーテル溶液
（５ｍｌ）中に０℃でｎ−ブチルリチウム（１.５４
Ｍ、ヘキサン溶液、2. 73ｍｌ、4. 2 mmol）を滴下し、
室温で１時間攪拌した。この反応溶液に化合物１９（48
5 mg, 2. 1 mmol）のＴＨＦ溶液（3 ｍｌ）を０℃で滴
下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水中に開
け、エーテル抽出した。脱水、溶媒留去後、粗生成物に
ｐートルエンスルホン酸１０ｍｇを加え、トルエン中３
０分間加熱還流した。溶媒留去後、生成物をカラムクロ
マト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 50 : 1）で精製
し、化合物２０を 547 mｇ（80％）得た。
【００７７】
【化３１】
【００７８】化合物201 H-NMR (CDCl3) δ：1.38 (s, 6 H), 6.70 (d, J = 0.9
Hz, 2 H), 6.82 (s, 2H), 7.17 - 7.34 (m, 4 H), 7.4
5 - 7.64 (m, 4 H). MS m/z 326 (M+). HRMS Calcd for C23H18O2 326.131,
found 326.130. IR (KBr): 2962, 1451, 1256, 749 cm-1 . 実施例１６ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（2 - ベンゾフラン）-
2, 3 -ビス（トリフルオロメチル） - 2, 5 - ノルボル
ナジエン(化合物２１）の合成 化合物２０（150 ｍｇ、0.46 mmol）とヘキサフルオロ
−２−ブチン（1 ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒として
用い、封管中１１０℃で１４時間加熱した。溶媒留去
後、カラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 200
: 1）で精製して化合物２１（179 mg, 79.8 %）を得
た。
Hz, 2 H), 6.82 (s, 2H), 7.17 - 7.34 (m, 4 H), 7.4
5 - 7.64 (m, 4 H). MS m/z 326 (M+). HRMS Calcd for C23H18O2 326.131,
found 326.130. IR (KBr): 2962, 1451, 1256, 749 cm-1 . 実施例１６ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（2 - ベンゾフラン）-
2, 3 -ビス（トリフルオロメチル） - 2, 5 - ノルボル
ナジエン(化合物２１）の合成 化合物２０（150 ｍｇ、0.46 mmol）とヘキサフルオロ
−２−ブチン（1 ｍｌ）をトルエン５ｍｌを溶媒として
用い、封管中１１０℃で１４時間加熱した。溶媒留去
後、カラムクロマト（SiO2, n-ヘキサン : EtOAc = 200
: 1）で精製して化合物２１（179 mg, 79.8 %）を得
た。
【００７９】
【化３２】
【００８０】化合物211 H-NMR (CDCl3) δ：1.29 (s, 3 H), 1.34 (s, 3 H),
4.16 (s, 2H), 7.22 - 7.40 (m, 6 H), 7.55 (d, J =
8.2 Hz, 2 H), 7.61 - 7.68 (m, 2 H). MS m/z 488 (M+). HRMS Calcd for C27H18O2F6 488.12
1, found 488.120. 実施例１７ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（4 - メトキシフェニ
ル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロメチル）- 2, 5 -ノル
ボルナジエン（化合物２２）の合成 既報（吉田善一ら、Chemistry Letters, 1987, 195）よ
り合成した 2, 3 - ビス（4 - メトキシフェニル）- 5,
5 -ジメチルシクロペンタ- 1, 3 -ジエン（304 mg, 1
mmol）とヘキサフルオロー２ーブチン（0.2 ｍｌ）のト
ルエン溶液を封管中１００℃で６時間加熱した。冷後、
溶媒を留去し、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキ
サン : Et2O = 30 : 1）で精製し、化合物２２（427 m
g, 91.2 %）を得た。
4.16 (s, 2H), 7.22 - 7.40 (m, 6 H), 7.55 (d, J =
8.2 Hz, 2 H), 7.61 - 7.68 (m, 2 H). MS m/z 488 (M+). HRMS Calcd for C27H18O2F6 488.12
1, found 488.120. 実施例１７ 7, 7 -ジメチル - 5, 6 - ビス（4 - メトキシフェニ
ル）- 2, 3 -ビス（トリフルオロメチル）- 2, 5 -ノル
ボルナジエン（化合物２２）の合成 既報（吉田善一ら、Chemistry Letters, 1987, 195）よ
り合成した 2, 3 - ビス（4 - メトキシフェニル）- 5,
5 -ジメチルシクロペンタ- 1, 3 -ジエン（304 mg, 1
mmol）とヘキサフルオロー２ーブチン（0.2 ｍｌ）のト
ルエン溶液を封管中１００℃で６時間加熱した。冷後、
溶媒を留去し、生成物をカラムクロマト（SiO2, n-ヘキ
サン : Et2O = 30 : 1）で精製し、化合物２２（427 m
g, 91.2 %）を得た。
【００８１】
【化３３】
【００８２】化合物２２1 H-NMR (CDCl3) δ：1.26 (s, 3 H), 1.36 (s, 3 H),
3.69 (s, 2 H), 3.80 (s,6 H), 6.81 (d, J = 9.0 Hz,
4 H), 7.18 (d, J = 9.0 Hz, 4 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm : -61.46 (bs). MS m/z 468 (M+). HRMS Calcd for C25H22O2F6 468.15
2, found 468.154. IR (KBr): 1607, 1514, 1302, 1253, 1180, 1138, 1036
cm-1 . 実施例１８ NBD 化合物の吸光度比較 以上新規に合成したペルフルオロアルキル基を有するNB
D 化合物の紫外可視領域の吸光度を測定し（0. 1 mM,ア
セトニトリル溶液）、既報の化合物と比較した。結果を
表１及び図１に示す。表１及び図１に示されるように、
ペルフルオロアルキル基を有するものはモル吸光係数が
非常に大きい。特に太陽光スペクトル領域である 300 n
m < で格段の向上が見られる。
3.69 (s, 2 H), 3.80 (s,6 H), 6.81 (d, J = 9.0 Hz,
4 H), 7.18 (d, J = 9.0 Hz, 4 H).19 F-NMR (CDCl3) ppm : -61.46 (bs). MS m/z 468 (M+). HRMS Calcd for C25H22O2F6 468.15
2, found 468.154. IR (KBr): 1607, 1514, 1302, 1253, 1180, 1138, 1036
cm-1 . 実施例１８ NBD 化合物の吸光度比較 以上新規に合成したペルフルオロアルキル基を有するNB
D 化合物の紫外可視領域の吸光度を測定し（0. 1 mM,ア
セトニトリル溶液）、既報の化合物と比較した。結果を
表１及び図１に示す。表１及び図１に示されるように、
ペルフルオロアルキル基を有するものはモル吸光係数が
非常に大きい。特に太陽光スペクトル領域である 300 n
m < で格段の向上が見られる。
【００８３】
【表１】
【００８４】なお、化合物２３、２４は既報（吉田善一
ら、Chemistry Letters, 1987, 195）に従い合成した。
化合物２３、２４の構造を以下に示す。
ら、Chemistry Letters, 1987, 195）に従い合成した。
化合物２３、２４の構造を以下に示す。
【００８５】
【化３４】
【００８６】実施例１９：Ｑｃ化合物の熱安定性の比較 NBD 化合物をポリメチルメタアクリレート（５％重量）
中にクロロホルムを溶媒として分散し、石英上にキャス
ト法により製膜した。これを減圧下に乾燥した後、検体
とした上記検体をウシオ社製キセノンランプによる光照
射によりNBD からＱｃに変換した。その後、紫外可視分
光光度計による吸光度測定によりＱｃの室温下での半減
期を測定した。今回新規に得られた NBD化合物より得ら
れるＱｃ化合物は、既存のＱｃと比較して熱安定性が非
常に高いことが判明した。
中にクロロホルムを溶媒として分散し、石英上にキャス
ト法により製膜した。これを減圧下に乾燥した後、検体
とした上記検体をウシオ社製キセノンランプによる光照
射によりNBD からＱｃに変換した。その後、紫外可視分
光光度計による吸光度測定によりＱｃの室温下での半減
期を測定した。今回新規に得られた NBD化合物より得ら
れるＱｃ化合物は、既存のＱｃと比較して熱安定性が非
常に高いことが判明した。
【００８７】
【表２】
【００８８】これまでの報告例の中で最も優れたNBD 化
合物とされる化合物２３、２４と吸光度とＱｃ熱安定性
を比較したが（実施例１８、１９）、以上の２物性両方
の向上から、本発明で得られた新規なNBD 化合物が太陽
光エネルギー利用及び光デバイスとしての利用目的に対
して極めて有用であることが実証された。
合物とされる化合物２３、２４と吸光度とＱｃ熱安定性
を比較したが（実施例１８、１９）、以上の２物性両方
の向上から、本発明で得られた新規なNBD 化合物が太陽
光エネルギー利用及び光デバイスとしての利用目的に対
して極めて有用であることが実証された。
【図１】紫外〜可視光に対する吸光度を示すグラフであ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｄ 307/81 Ｃ０７Ｄ 307/81 333/20 333/20 Ｃ０９Ｋ 5/00 Ｃ０９Ｋ 5/00 Ｅ Ｆターム(参考） 4C023 CA07 4C037 PA09 4C069 AC07 BB06 BB08 BB34 CC04 4H006 AA01 AA03 AB92 AB93 AB99 BJ20 BJ30 BJ50 BM10 BM71 BP30 BU46
Claims (8)
- 【請求項１】下記の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ原子を有す
る芳香族基、または低級アルコキシ、モノ低級アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ基、
ヒドロキシ基及びチオール基からなる群から選ばれる１
〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は
同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
り、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素数１〜４のペ
ルフルオロアルキル基である。〕で表されるノルボルナ
ジエニル誘導体。 - 【請求項２】Ｒ1、Ｒ2が同一又は異なって低級アルコキ
シ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノお
よび低級アルキルチオ基からなる群から選ばれる１〜３
個の置換基を有するフェニル基である請求項１に記載の
ノルボルナジエニル誘導体。 - 【請求項３】請求項１又は２記載の化合物からなる光エ
ネルギー蓄積・光ー熱エネルギー変換材料。 - 【請求項４】請求項１または２に記載の材料のフォトク
ロミズム機能を利用した光記録材料。 - 【請求項５】請求項１又は２に記載の材料の光屈折率変
化を利用した光デバイス材料。 - 【請求項６】一般式（２） 【化２】 〔式中Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ原子を有する
芳香族基、または炭素数１〜４のアルコキシ、アルキル
アミノ、アルキルチオ基ヒドロキシ基及びチオール基か
らなる群から選ばれる１〜３個の置換基を有するフェニ
ル基であり、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって炭素数１〜４
の低級アルキル基である。Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって
水素若しくは炭素数１〜４の低級アルキル基である。〕
で表されるシクロペンタジエン誘導体。 - 【請求項７】一般式（２）のシクロペンタジエンを一般
式（３）のアルキン化合物と反応させることを特徴とす
る一般式（１）で表されるノルボルナジエニル誘導体の
製造法。 【化３】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘテロ原子を有す
る芳香族基、または低級アルコキシ、モノ低級アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ基、
ヒドロキシ基及びチオール基からなる群から選ばれる１
〜３個の置換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は
同一又は異なって炭素数１〜４の低級アルキル基であ
り、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって水素若しくは炭素数１
〜４の低級アルキル基である。Ｒfは炭素数１〜４のペ
ルフルオロアルキル基である。〕 - 【請求項８】一般式（４）で表される化合物をＲ1Ｍお
よびＲ2Ｍと順次反応させることを特徴とする一般式
（２）の化合物の製造法： 【化４】 〔式中のＭはリチウム、マグネシウム、亜鉛、銅、セリ
ウムなどの金属を示す。Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なってヘ
テロ原子を有する芳香族基、または低級アルコキシ、モ
ノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノおよび低
級アルキルチオ基からなる群から選ばれる１〜３個の置
換基を有するフェニル基であり、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異
なって炭素数１〜４の低級アルキル基である。Ｒ5、Ｒ6
は同一又は異なって水素若しくは炭素数１〜４の低級ア
ルキル基である。〕
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11023023A JP2000219661A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 光エネルギー蓄積・光−熱エネルギー変換材料 |
| PCT/JP2000/000437 WO2000044701A1 (en) | 1999-01-29 | 2000-01-27 | Material for light energy storage/light-heat energy conversion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11023023A JP2000219661A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 光エネルギー蓄積・光−熱エネルギー変換材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000219661A true JP2000219661A (ja) | 2000-08-08 |
Family
ID=12098898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11023023A Pending JP2000219661A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 光エネルギー蓄積・光−熱エネルギー変換材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000219661A (ja) |
| WO (1) | WO2000044701A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57149251A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | Norbornadiene derivative, its preparation and energy converting agent comprising it as active ingredient |
| JPS5910529A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | ノルボルナジエン誘導体の製造方法 |
| JPS63168645A (ja) * | 1986-12-30 | 1988-07-12 | Zenichi Yoshida | 光記録体 |
-
1999
- 1999-01-29 JP JP11023023A patent/JP2000219661A/ja active Pending
-
2000
- 2000-01-27 WO PCT/JP2000/000437 patent/WO2000044701A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2000044701A1 (en) | 2000-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Van Pham et al. | A convenient synthesis of 2, 5-thienylene oligomers; some of their spectroscopic and electrochemical properties | |
| JP2021042212A (ja) | ジアリールエテン化合物およびそれらの使用 | |
| CN101497610B (zh) | 含2,1,3-苯并噻二唑单元的二噻吩乙烯类化合物 | |
| CN103641742B (zh) | 一种新型液晶发光材料及其制备方法 | |
| Kitagawa et al. | Correlation between steric substituent constants and thermal cycloreversion reactivity of diarylethene closed-ring isomers | |
| JPH08245579A (ja) | ジアリールエテン系フォトクロミック化合物および該化合物を用いた光学記録材料 | |
| CN101970401A (zh) | 白三烯b4抑制剂 | |
| CN109879852B (zh) | 一种萘并吡喃枝化三蝶烯类化合物、制备方法及其应用 | |
| CN103333674B (zh) | 具有电场调制功能的二芳基乙烯类光致变色化合物及合成方法 | |
| CN107033121A (zh) | 杂合四芳基乙烯化合物、聚合物及其制备方法与应用 | |
| CN101845041B (zh) | 光致变色苯并呋喃噻吩混联型全氟环戊烯化合物及合成方法和应用 | |
| CN106905354B (zh) | 一种基于乙炔基桥联的D-π-A-π-D型BODIPY类衍生物及其制备方法 | |
| CN114907334B (zh) | 二噻吩乙烯内酯类化合物以及制备、光调控方法 | |
| Lygaitis et al. | Synthesis and photophysical properties of bipolar low-molar-mass amorphous materials | |
| CN114014886B (zh) | 硅稠环萘并吡喃光致变色化合物及其制备方法及应用 | |
| CN104558005B (zh) | 微波合成具有D‑π‑A结构的二阶非线性光学发色团的方法 | |
| WO2000044701A1 (en) | Material for light energy storage/light-heat energy conversion | |
| JP6269956B2 (ja) | フリルチアゾール化合物 | |
| CN102079742B (zh) | 光致变色萘环-噻吩混联型全氟环戊烯化合物及合成方法和应用 | |
| CN102093334B (zh) | 一组稠环噻吩类化合物的合成方法 | |
| RU2788650C2 (ru) | Несимметричные люминесцентные донорно-акцепторные молекулы на основе трифениламин-тиофенового блока с различными электроноакцепторными группами и способ их получения | |
| US10005787B2 (en) | Highly photo-stable bis-triazole fluorophores | |
| JP2007261961A (ja) | （チオフェン・フェニレン）コオリゴマー化合物 | |
| CN104710481A (zh) | 含二苯乙炔基环戊二烯铁盐类双光子吸收材料及制备方法 | |
| CN103880850A (zh) | 一种四聚吲哚衍生物材料及其制备方法与应用 |