JP2000219733A - 芳香族ポリカーボネート - Google Patents
芳香族ポリカーボネートInfo
- Publication number
- JP2000219733A JP2000219733A JP11023736A JP2373699A JP2000219733A JP 2000219733 A JP2000219733 A JP 2000219733A JP 11023736 A JP11023736 A JP 11023736A JP 2373699 A JP2373699 A JP 2373699A JP 2000219733 A JP2000219733 A JP 2000219733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molecular weight
- aromatic polycarbonate
- aromatic
- average molecular
- number average
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
つ色調にも優れた芳香族ポリカーボネートを提供するこ
と。 【解決手段】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとのエステル交換法により製造される数平均分子量5
300以上の芳香族ポリカーボネートであって、220
℃、常圧、窒素下、20時間等温結晶化処理後の結晶化
度が10%以下である芳香族ポリカーボネート。
Description
シ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換法により製
造され、結晶化物の混入が少ないため透明性に優れ、か
つ色調にも優れた芳香族ポリカーボネートを提供するこ
とに関するものである。
性ポリマーであり、その特徴を生かして透明材料として
用いられている。炭酸ジエステルと芳香族ジヒドロキシ
化合物を重縮合させてポリカ−ボネ−トを製造する、い
わゆるエステル交換法は、ホスゲン法(界面重合法)に
比べて、工程が比較的単純であり、操作、コスト面で優
位性が発揮できるだけでなく、毒性の強いホスゲンや、
塩化メチレン等のハロゲン系溶剤を使用しないという点
において、環境保全の面からも優れている。
用いられる触媒やオリゴマー等が結晶核となり、さらに
ガラス転位点以上の温度に長時間ポリマーがさらされる
ため、結晶が容易に成長することがあった。成長した結
晶は製造装置を閉塞させたり、製品中へ混入し製品の透
明度を低下させ、また光学用途において記録/再生時の
エラーを増加させたりする等の問題を生じる原因であっ
た。重合装置の立ち上げ時の結晶生成防止については、
特開平10−147637号公報には、重合装置の昇温
速度を特定範囲にすることが開示されている。また、特
開平6−65365号公報には、ポリマーの着色低減の
ために、重合槽の加熱熱媒温度を特定温度範囲にするこ
とが開示されている。しかしながら、長時間運転時に発
生する結晶の発生を抑制し、かつ良好な色調のポリマー
を得るには、これらの提案の方法は不十分なものであっ
た。
ドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換法の
製造より、結晶化物の混入が少ないため透明度に優れ、
かつ色調にも優れた芳香族ポリカーボネートを提供する
ことを目的とする。
特には光ディスク等の光学用材料の透明性を低下させた
り、記録/再生エラーを引き起こす原因について鋭意検
討を行った結果、ポリマー中への微結晶又は結晶核の混
入を防止し、ポリマーの結晶化度を特定値以下とするこ
とにより、透明度、色調に優れる芳香族ポリカーボネー
トが得られることを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。
合物と炭酸ジエステルとのエステル交換法により製造さ
れる数平均分子量5300以上、特には数平均分子量が
5300〜9000の芳香族ポリカーボネートであっ
て、220℃、常圧、窒素下、20時間等温結晶化処理
後の結晶化度が10%以下である芳香族ポリカーボネー
トを提供するものである。
00以上5300未満の芳香族ポリカーボネートが通過
する配管の温度(T:単位℃)を、その分子量(Mn)
に応じて、下記式(1)で示される温度範囲内で、しか
も240℃以上320℃以下に維持して製造されること
を特徴とする芳香族ポリカーボネートを提供するもので
ある。 3.6×105 ≦(−4Mn2 +4.2×104 Mn−5.0×107 )/ (T−140)≦5.4×105 ・・・・(1)
する。本発明の芳香族ポリカーボネートは、数平均分子
量が5300以上であって、しかも、220℃、常圧、
窒素下、20時間等温結晶化処理後の結晶化度が10%
以下であることが必要である。好ましくは、結晶化度が
5%以下であり、さらに好ましくは3%以下である。こ
のようなポリカーボネートは、結晶化物や結晶核等の異
物の混入が著しく少ない。そのため、成形品やシートに
した場合、透明性に非常に優れたものが得られる。ま
た、光ディスク基板等に用いると、記録/再生のエラー
が著しく低下するため、特に好ましい。このような光学
用途用の材料としては、数平均分子量5300〜900
0が好ましい。数平均分子量が5300未満では機械的
強度が足りず好ましくない。また、光学用途としては、
数平均分子量が9000を超すと、流動性が低下した
り、複屈折が大きくなるため好ましくない。
理後の結晶化度であって、融解熱量を測定し、完全結晶
の融解熱量を100%として求めることができる(J.Po
lym.Sci.Polym.Lett.Ed.,8,645(1970)参照)。また、所
定の等温結晶化処理は、窒素シール又は窒素フローの窒
素雰囲気下、常圧、220℃の温度に20時間保持する
ことによって行われる。実際には、ポリマーをガラス容
器中又はDSC機器の金属パン中に収容し、上記結晶化
処理を行うことが一般的である。
は、結晶核、微結晶、その他の結晶生成を促す異物より
発生し、これら異物のうち大きなものは公知の方法によ
り製造工程各部にフィルターを設け、濾過して除去する
ことができる。しかし、特に結晶核は非常に微細である
ため、フィルターだけでは十分には濾過できない。見か
け上透明のポリマーが得られたとしても、結晶核が混入
している場合、製品に成形後、時間とともに徐々に結晶
が成長し、製品の透明性が失われる。このような結晶核
は、特定分子量のポリマーが特定温度範囲で長時間熱履
歴を受けると成長しやすい。製造プロセス中、ポリマー
が最も滞留しやすい配管類の温度を、数平均分子量に応
じて特定の値に制御することにより、結晶の生成を抑制
し、かつポリマーの色調を良好に保つことができる。す
なわち、数平均分子量(Mn)3000以上5300未
満の芳香族ポリカーボネートが通過する配管温度(T:
単位℃)を、その数平均分子量に応じて、下記式(1)
で示される温度範囲内で、しかも240℃以上320℃
以下に維持することが好ましい。 3.6×105 ≦(−4Mn2 +4.2×104 Mn−5.0×107 )/ (T−140)≦5.4×105 ・・・・(1)
2×104 Mn−5.0×107 )/(T−140)」
の値が、5.4×105 を超えると、配管温度がその数
平均分子量に対して低くなりすぎ、結晶が生成し易くな
り、製品の透明度の低下や、配管の閉塞を引き起こしや
すくなる。3.6×105 未満では、相対的に配管温度
が高くなりすぎ、ポリマー着色の原因となるため好まし
くない。「(−4Mn 2 +4.2×104 Mn−5.0
×107 )/(T−140)」の下限値は、3.9×1
05 以上が好ましく、4.1×105 以上が特に好まし
い。また上限値は、5.1×105 以下が好ましく、
4.7×105 以下が特に好ましい。数平均分子量が3
000未満のオリゴマーは、高温では結晶が生成しない
か、又は生成してもその後の重合過程で結晶が融解す
る。数平均分子量が5300以上では結晶成長速度が遅
いため、結晶が生成しないか、高融点化する前にその後
の重合過程で結晶が融解する。しかし、数平均分子量が
3000以上5300未満の芳香族ポリカーボネートで
は、結晶成長速度が速いため、式(1)を満たす範囲の
配管温度に維持しないと、結晶が著しく発生したり、ポ
リマーが着色したりする。
初の反応器と最後の反応器との間を、必要に応じて、他
の反応器及び/又は予熱槽、ホールドタンク(一時貯
槽)等の中間槽を介して、連結している配管のうち、数
平均分子量3000以上5300未満のポリマーが通過
する配管である。また、本発明では、上記の配管自体だ
けでなく、該配管途中に設けられたバルブ、ポンプ類、
分析や非常用に設けられたバイパス配管類、圧力計、流
量計等測定装置類等の、上記通過するポリマーと接触す
る部分も、上記配管自身と同様に考え、温度制御の対象
とするのが好ましい。さらに、本発明において配管の温
度とは、内部をポリマーが通過する配管の外壁面の温度
を言う。配管を熱媒で加熱している場合は、一般には、
熱媒温度にほぼ等しくなる。温度の測定は通常に使用さ
れる方法で容易に測定できる。
路も複雑となり易いので、攪拌設備を有する反応槽と比
較しポリマーが滞留し易く、特には周辺部より低温の配
管内壁面に、結晶が発生し易い。従って、配管類は極力
滞留部ができないように、径、長さ、表面粗度、曲率等
を考慮して設計し、低温部が存在しないように、配管表
面が均一に加熱、保温される構造のものを採用し、結晶
や結晶核の発生を抑制、消失するようにすることが好ま
しい。
ってもよく、例えば、オイル、スチームによる熱媒加熱
や、鋳込みヒーター等の電気加熱等が挙げられる。ま
た、配管温度を維持できるのであれば、保温のみでもよ
い。これらの配管の材質は、特に限定されないが、ステ
ンレス製であることが一般的であり、例えばSUS30
4、SUS304L、SUS310S、SUS316、
SUS316L等が挙げられる。また、該配管表面は各
種処理を行ってもよく、例えばバフ研磨、電解研磨、酸
処理、加熱処理、各種メッキ、コーティング処理等によ
り表面処理を行ってもよい。
製造する原料として、炭酸ジエステルと芳香族ジヒドロ
キシ化合物とが用いられる。炭酸ジエステルは、式
(2)で表される。
の、置換されていてもよい、脂肪族基又は芳香族基であ
り、AとA’とは、同一でも異なってもよい。)
例としては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチル
カーボネート、ジ−t−ブチルカーボネート、ジフェニ
ルカーボネート及びジトリルカーボネート等の置換ジフ
ェニルカーボネート等があるが、好ましくはジフェニル
カーボネート、置換ジフェニルカーボネートがあり、特
にジフェニルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジ
エステルは、単独でも、2種以上を混合して用いてもよ
い。
に、好ましくは50%以下、さらに好ましくは30モル
%以下の量でジカルボン酸、あるいはジカルボン酸エス
テルを使用してもよい。このようなジカルボン酸あるい
はジカルボン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフ
ェニル等が用いられる。このようなカルボン酸、あるい
はカルボン酸エステルを炭酸ジエステルと併用した場合
には、ポリエステルカーボネートが得られる。
化合物は、式(3)で示される。
2価の炭化水素基、ハロゲン置換の2価の炭化水素基、
−S−基、−SO2 −基、−SO−基、−O−基又は−
CO−基を示し、Xは、ハロゲン原子、炭素数1〜14
のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、炭素数1
〜8のオキシアルキル基又は炭素数6〜18のオキシア
リール基を示す。mは、0又は1であり、yは、0〜4
の整数である。)
合物としては、例えば、2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン[=ビスフェノールA]、2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジエ
チルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−(3,5−ジフェニル)フェニル)プロパン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン、2,4’−ジヒドロキシ−ジフェニルメ
タン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス
(4−ヒドロキシ−5−ニトロフェニル)メタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、3,3−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、2,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)スルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジク
ロロジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−
2,5−ジエトキシジフェニルエーテル等が例示され
る。これらの中でも、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンが好ましい。また、これらの芳香族ジ
ヒドロキシ化合物は、単独で又は2種以上を混合して、
用いることができる。
物との混合比率は、所望する芳香族ポリカーボネートの
分子量と末端ヒドロキシ基量により決められる。末端ヒ
ドロキシ基量は、製品ポリカーボネートの熱安定性と加
水分解安定性に大きな影響を及ぼし、実用的な物性を持
たせるためには1,000ppm以下にすることが必要
となる。従って、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対
して炭酸ジエステルを等モル量以上用いるのが一般的で
あり、1.01〜1.30モル、好ましくは1.01〜
1.20モルの量で用いられるのが望ましい。
ートを製造する際には、通常エステル交換触媒が使用さ
れる。エステル交換触媒としては、主として、アルカリ
金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物が使用さ
れ、補助的に、塩基性ホウ素化合物、塩基性リン化合
物、塩基性アンモニウム化合物あるいはアミン系化合物
等の塩基性化合物を併用することも可能である。これら
の触媒は、1種類で使用してもよく、2種以上を組み合
わせて使用してもよい。
物1モルに対して、1×10-8〜1×10-5モルの範囲
で用いられる。この量より少なければ、所定の分子量、
末端ヒドロキシ基量のポリカーボネートを製造するのに
長時間必要な重合活性が得られず、この量より多い場合
は、ポリマー色相が悪化し、ゲルの発生による異物量も
増大する傾向となる。特に、アルカリ金属化合物及び/
又はアルカリ土類金属化合物を用いる場合、それらの金
属量として1×10-8〜2×10-6モルの範囲が好まし
く、0.5×10-7〜1×10-6モルの範囲が特に好ま
しい。
ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムの水酸化
物、炭酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩、リン酸水素塩、フェ
ニルリン酸塩等の無機アルカリ金属化合物や、ステアリ
ン酸、安息香酸等の有機酸類、メタノール、エタノール
等のアルコール類,石炭酸、ビスフェノールA等のフェ
ノール類との塩等の有機アルカリ金属化合物等が挙げら
れる。
ウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バ
リウムの水酸化物、炭酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩等の無
機アルカリ土類金属化合物や、有機酸類、アルコール
類、フェノール類との塩等の有機アルカリ土類金属化合
物等が挙げられる。
トラメチルホウ素、テトラエチルホウ素、テトラプロピ
ルホウ素、テトラブチルホウ素、トリメチルエチルホウ
素、トリメチルベンジルホウ素、トリメチルフェニルホ
ウ素、トリエチルメチルホウ素、トリエチルベンジルホ
ウ素、トリエチルフェニルホウ素、トリブチルベンジル
ホウ素、トリブチルフェニルホウ素、テトラフェニルホ
ウ素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリフェニ
ルホウ素、ブチルトリフェニルホウ素、等の水素化物、
ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩、バリウム塩、或いはストロンチウ
ム塩等が挙げられる。
エチルホスフィン、トリ−n−プロピルホスフィン、ト
リイソプロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、
あるいは四級ホスホニウム塩等が挙げられる。
ば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロ
キシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメ
チルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルメ
チルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルア
ンモニウムヒドロキシド、トリエチルフェニルアンモニ
ウムヒドロキシド、トリブチルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリブチルフェニルアンモニウムヒドロキ
シド、テトラフェニルアンモニウムヒドロキシド、ベン
ジルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド、メチルト
リフェニルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリフェ
ニルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
ミノピリジン、2−アミノピリジン、N,N−ジメチル
−4−アミノピリジン、4−ジエチルアミノピリジン、
2−ヒドロキシピリジン、2−メトキシピリジン、4−
メトキシピリジン、2−ジメチルアミノイミダゾール、
2−メトキシイミダゾール、イミダゾール、2−メルカ
プトイミダゾール、2−メチルイミダゾール、アミノキ
ノリン等が挙げられる。
階以上の多段工程で製造される。一般的には反応温度1
40〜320℃、反応時間0.1〜5時間、常圧より減
圧度を上げながら副生するモノフェノール化合物をライ
ンから連続的に除去しながら反応を行う。必要に応じて
窒素等の不活性ガスを流通させることもできる。また、
モノフェノール化合物に同伴する原料を反応槽に戻すた
めに分留塔を反応器に付設することもできる。最終的に
は2mmHg以下の減圧下、250〜320℃の温度で
重縮合反応を行い数平均分子量14000以上に高分子
量化する。
ッチ式と連続式の組合せのいずれでもよい。使用する装
置は、槽型、管型又は塔型のいずれの形式であってもよ
く、例えば、各種の攪拌翼を具備した竪型重合槽、横型
1軸タイプの重合槽又は/及び横型2軸タイプの重合槽
等を使用することができる。
が好ましく、例えば、運転開始前に原料調整槽、反応器
及び配管内を窒素ガス等の不活性ガスで置換しておく。
通常、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの
溶融混合物を、竪型反応器に供給する。触媒は、原料と
は別のラインで第1反応槽に直接供給してもよいし、第
1反応槽に入る手前の配管内で、スタティックミキサー
等により原料と混合した状態で供給させてもよい。必要
に応じて、触媒を溶解あるいは懸濁するための溶媒が用
いられる。好ましい溶媒としては、水、アセトン、フェ
ノール等が挙げられる。
き出し口は、反応槽底部にあるのが好ましい。また、各
槽から反応液を連続して抜き出す方法は、落差を利用す
る方法、圧力差を利用する方法、ギアポンプ等の送液ポ
ンプを用いる方法等、反応液の物性に適応した方法で行
うのが好ましい。
ネートは、通常ペレットとして回収されるが、その際、
樹脂中に残存するモノマーや副生物等の低分子量成分を
除去するため、ベント式押出機を通すことも可能であ
る。
には、ポリカーボネート中に残存する触媒を中和するた
めに、酸性化合物、特にはイオウ含有酸性化合物を、触
媒金属に対して0.5〜10当量、好ましくは1〜5当
量を添加することができる。すなわち通常0.01〜2
0ppm、好ましくは0.1〜10ppm、さらに好ま
しくは3〜7ppm添加する。
ホン酸、スルフィン酸又はそれらのエステル誘導体であ
り、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸及びドデシルベンゼンスルホン酸、それらのメ
チル、エチル、ブチル、t−ブチル、オクチル、ドデシ
ル、フェニル、ベンジル、フェネチル等のエステル類、
ベンゼンスルフィン酸、トルエンスルフィン酸、ナフタ
レンスルホン酸等が挙げられる。これらの化合物の内、
p−トルエンスルホン酸のエステル又はベンゼンスルホ
ン酸のエステルが好ましく、これらの化合物を2種以上
使用してもよい。さらに、これらの化合物のアルカリ金
属塩を、これらの化合物と併用すると、分散性が向上し
失活効果が高まるので好ましい。併用する量としては、
非アルカリ金属塩に対してアルカリ金属塩を、重量比で
0.3〜3倍程度の量用いることが好ましい。
への添加方法は、任意の方法により行うことができる。
例えば、イオウ含有酸性化合物を、直接又は希釈剤で希
釈して、溶融又は固体状態にあるポリカーボネートに添
加し、分散させることができる。具体的には、重縮合反
応器中、反応器からの移送ライン中、押出機中に供給し
て混合することができ、通常は押出機中に供給される。
また、ミキサー等で、ポリカーボネートや、他種ポリマ
ーのペレット、フレーク、粉末等と混合後、押出機に供
給して混練することもできる。以上の中では、ポリカー
ボネートのフレークに、イオウ含有酸性化合物の原液を
添加し、ミキサー等で混合後、マスターバッチとして添
加することが好ましい。さらに、添加の際には、重量フ
ィーダー等を用いて、添加量を精度良く制御することが
好ましい。
う場合又は水添加、熱安定剤、離型剤、染料、顔料、紫
外線吸収剤、帯電防止剤、防曇剤、有機・無機充填剤等
を添加する場合は、これらの添加及び処理は、イオウ含
有酸性化合物と同時に行ってもよいが、イオウ含有酸性
化合物を最初に添加、混練することが好ましい。
るが、本発明は以下の実施例になんら制限を受けるもの
ではない。なお分析は以下の方法で行った。
用いて測定を行った。なお、較正曲線は、標準単分散ポ
リスチレンを用いて作成した。 (測定条件) GPC:HLC−8020 (東ソー(株)製) 検出器:示差屈折率計RI−8010 (東ソー(株)製) カラム:TSK−GEL GMHHR (東ソー(株)製) 溶媒:テトラハイドロフラン 温度:25℃ 流速:1ml/min 換算式:Mpc=0.3591(Mps)1.0388 (Mpc、Mpsは、それぞれ、ポリカーボネート、ポリスチレン の分子量)
間以上乾燥した後、(株)日本製鋼所製J−100射出
成形機で3mm厚の射出成形品を製作し、スガ試験機S
C−1によりYI値を測定した。
れ、窒素シール下、20時間、アルミブロックバスを用
いて220℃に加熱して等温結晶化した。結晶化度は、
DSCより得られるサンプル結晶の融解熱量(△H)
と、完全結晶の融解熱量(26.2cal/g)(J.Po
lym.Sci.Polym.Lett.Ed.,8,645(1970))より、下記式に
て求めた。 結晶化度(%)=(ΔH/26.2)×100
ボネートとを一定のモル比(DPC/BPA=1.06
5)に混合調製した140℃で溶融混合した物を、14
0℃に加熱した原料導入管を介して常圧、窒素雰囲気
下、210℃に制御した第1竪型攪拌重合槽内に連続供
給し、平均滞留時間が60分になるように槽底部のポリ
マー排出ラインに設けられたバルブ開度を制御しつつ液
面レベルを一定に保った。また、上記原料混合物の供給
を開始すると同時に、触媒として炭酸セシウム水溶液を
ビスフェノールA1モルに対し、1×10-6モルの流量
で連続供給した。
2、3、4の竪型重合槽並びに第5の横型重合槽に逐次
連続供給された。反応の間、各槽の平均滞留時間が60
分になるように液面レベルを制御し、また同時に副生す
るフェノールの留去も行った。第2〜5間での各反応槽
の重合条件は、それぞれ第2重合槽(210℃、100
Torr)、第3重合槽(240℃、15Torr)、
第4重合槽(260℃、0.5Torr)、第5重合槽
(270℃、0.5Torr)で反応の進行とともに高
温、高真空、低攪拌速度に条件を設定した。ポリカーボ
ネートの製造は50kg/Hrで、300時間連続運転
を行った。
ルA1モルに対して1×10ー6モル使用し、ビスフェ
ノールAとジフェニルカーボネートとを一定のモル比
(DPC/BPA=1.04)に混合調製し、各反応槽
条件をそれぞれ第1重合槽(220℃、100Tor
r)第2重合槽(240℃、15Torr)、第3重合
槽(265℃、0.5Torr)、第4重合槽(280
℃、0.5Torr)、第5重合槽(280℃、0.2
Torr)とした以外は製造例1と同様に反応を行っ
た。
って各反応槽間の配管温度をオイルで制御した。重合1
00時間後と240時間後に最終製品中に結晶が混入し
ているかを、100×100×3mmの射出シートを成
形して、結晶の混入による白化の程度を目視により観察
し、また色相も測定した。また等温結晶化後の結晶化度
を示差走査熱量計(DSC)にて融解熱量から測定し
た。結果を表−1に示した。
混入を防止し、透明性に優れ、かつ色調にも優れたエス
テル交換法芳香族ポリカーボネートが得られる。
Claims (3)
- 【請求項1】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとのエステル交換法により製造される数平均分子量5
300以上の芳香族ポリカーボネートであって、220
℃、常圧、窒素下、20時間等温結晶化処理後の結晶化
度が10%以下である芳香族ポリカーボネート。 - 【請求項2】数平均分子量(Mn)3000以上530
0未満の芳香族ポリカーボネートが通過する配管の温度
(T:単位℃)を、その分子量(Mn)に応じて、下記
式(1)で示される温度範囲内で、しかも240℃以上
320℃以下に維持して製造されることを特徴とする請
求項1記載の芳香族ポリカーボネート。 3.6×105 ≦(−4Mn2 +4.2×104 Mn−5.0×107 )/ (T−140)≦5.4×105 ・・・・(1) - 【請求項3】数平均分子量が5300〜9000である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の芳香族ポリカ
ーボネート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02373699A JP3711209B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 芳香族ポリカーボネート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02373699A JP3711209B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 芳香族ポリカーボネート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000219733A true JP2000219733A (ja) | 2000-08-08 |
| JP3711209B2 JP3711209B2 (ja) | 2005-11-02 |
Family
ID=12118607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02373699A Expired - Lifetime JP3711209B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 芳香族ポリカーボネート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3711209B2 (ja) |
-
1999
- 1999-02-01 JP JP02373699A patent/JP3711209B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3711209B2 (ja) | 2005-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3249825B2 (ja) | 異種結合単位を含有するポリカーボネート及びその製造方法 | |
| CN101874056B (zh) | 制备聚碳酸酯的单体溶液 | |
| CN104837890B (zh) | 经高分子量化的芳香族聚碳酸酯树脂的制造方法 | |
| JPH07228681A (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JPWO1997032916A1 (ja) | 異種結合単位を含有するポリカーボネート及びその製造方法 | |
| US7985823B2 (en) | Production method of polycarbonate resin | |
| JP6237785B2 (ja) | 高分子量芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法 | |
| JP3544623B2 (ja) | 光学用ポリカーボネートの製造法 | |
| JPH09278877A (ja) | 熱可塑性ポリカーボネートの2段階製造法 | |
| JP2000159879A (ja) | 芳香族ポリカーボネート | |
| JP2000186137A (ja) | ポリカーボネート及び光学材料 | |
| JP3218134B2 (ja) | ポリカーボネートの製造法 | |
| JP4053291B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート及びその製造方法 | |
| CN108699229B (zh) | 高分子量芳香族聚碳酸酯树脂的制造方法 | |
| JP3681565B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JP3783921B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JP3530706B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JP2000219733A (ja) | 芳香族ポリカーボネート | |
| WO2002006374A1 (fr) | Procede de production de polycarbonate aromatique et procede de stockage de matieres premieres constituees de ce dernier | |
| JPH11310631A (ja) | ポリカーボネートの製造法 | |
| JP2001240667A (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| TWI813537B (zh) | 高分子量芳香族聚碳酸酯樹脂的製造方法 | |
| JP2001200047A (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JP2001302782A (ja) | 芳香族ポリカーボネートの製造方法 | |
| JP3685968B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050418 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050517 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050708 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050708 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050809 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050812 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090819 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100819 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100819 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110819 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120819 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130819 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |