JP2000223036A - Electromagnetic wave shielding transparent plate and plasma display device - Google Patents

Electromagnetic wave shielding transparent plate and plasma display device

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JP2000223036A
JP2000223036A JP1970799A JP1970799A JP2000223036A JP 2000223036 A JP2000223036 A JP 2000223036A JP 1970799 A JP1970799 A JP 1970799A JP 1970799 A JP1970799 A JP 1970799A JP 2000223036 A JP2000223036 A JP 2000223036A
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JP
Japan
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electromagnetic wave
wave shielding
transparent plate
conductive
pattern
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JP1970799A
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Japanese (ja)
Inventor
Kayoko Ueda
佳代子 上田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な透明性を有すると共に、広い角度域に
おいてモアレ縞の発生を顕著に低減することができて広
角度域にわたって視認性に優れた電磁波遮蔽透明板及び
該透明板を用いたプラズマディスプレイ装置を提供す
る。 【解決手段】 透明基板上に導電性格子状パターン3が
設けられた電磁波遮蔽透明板において、導電性格子状パ
ターン3の格子間隔dを130μm以下とする、又は導
電性格子状パターン3を構成する線の幅mを35μm以
下とする。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding transparent plate which has sufficient transparency, can significantly reduce the occurrence of moire fringes in a wide angle range, and has excellent visibility over a wide angle range. Provided is a plasma display device using a plate. SOLUTION: In an electromagnetic wave shielding transparent plate in which a conductive grid pattern 3 is provided on a transparent substrate, the grid interval d of the conductive grid pattern 3 is set to 130 μm or less, or the conductive grid pattern 3 is formed. The width m of the line is 35 μm or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばコンピュ
ーター、テレビ等のディスプレイパネルや、プラズマデ
ィスプレイのディスプレイパネルの前面に配置して使用
される電磁波遮蔽透明板及びこれを用いたプラズマディ
スプレイ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding transparent plate which is used by being disposed on the front of a display panel of a computer, a television, or the like, or a display panel of a plasma display, and a plasma display device using the same. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種のコンピューターディスプレイや、
ゲーム機、テレビ等のディスプレイからは電磁波が多量
に発生しており、近年この電磁波による他の機器への障
害が問題となっている。
2. Description of the Related Art Various computer displays,
2. Description of the Related Art A large amount of electromagnetic waves are generated from displays such as game consoles and televisions, and in recent years, there has been a problem that the electromagnetic waves may interfere with other devices.

【0003】そこで、近年、このような電磁波を遮蔽す
るために、ディスプレイパネルの前面に電磁波遮蔽透明
板を装着したり、配置することが広くおこなわれてい
る。
Therefore, in recent years, in order to shield such electromagnetic waves, it has been widely practiced to mount or dispose an electromagnetic wave shielding transparent plate on the front surface of the display panel.

【0004】ところで、このようなディスプレイパネル
の前面板として用いられる電磁波遮蔽透明板は、電磁波
を遮蔽する機能の他に、透明性をも具備するものでなけ
ればならない。このような電磁波遮蔽透明板としては、
例えば透明基板上に導電性材料を格子状に形成したもの
や、あるいは透明基板上に透明導電膜を積層したものが
公知である。
Incidentally, an electromagnetic wave shielding transparent plate used as a front panel of such a display panel must have transparency in addition to a function of shielding electromagnetic waves. As such an electromagnetic wave shielding transparent plate,
For example, a material in which a conductive material is formed in a lattice shape on a transparent substrate or a material in which a transparent conductive film is laminated on a transparent substrate are known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前者の電磁波遮蔽透明
板としては、例えば導電性繊維を格子状に編んだものを
透明基板に貼着一体化したもの等が挙げられるが、この
ような電磁波遮蔽透明板は、電磁波遮蔽機能には優れる
ものの、光線透過率が低く、従ってこれを装着したディ
スプレイにおいて画面が暗くなるという問題があった。
一方、光線透過率を増大させるために格子間隔を拡げる
とディスプレイの画素との相互作用によりモアレ縞が発
生し、視認性が顕著に低下するという問題があった。即
ち、従来の電磁波遮蔽透明板においては、ディスプレイ
等の対象物に対して装着等した際にモアレ縞が発生する
のを全く防止できないか、又はモアレ縞の発生を防止で
きる角度域(ディスプレイ等の対象面に平行な面内にお
ける角度)(図4参照)が極めて小さく、装着時又は装
着後において適正装着位置(角度)より僅かでもずれた
りするとモアレ縞が観察されて視認性が低下するという
問題があった。
As the former electromagnetic wave shielding transparent plate, there is, for example, a transparent plate in which conductive fibers are knitted in a lattice shape and integrated on a transparent substrate. The transparent plate has an excellent electromagnetic wave shielding function, but has a low light transmittance, and thus has a problem that a screen on a display equipped with the transparent plate becomes dark.
On the other hand, if the lattice spacing is increased to increase the light transmittance, there is a problem that moire fringes are generated due to interaction with the pixels of the display, and the visibility is significantly reduced. That is, in the conventional electromagnetic wave shielding transparent plate, generation of moiré fringes when mounted on an object such as a display or the like cannot be prevented at all, or an angle range (such as a display or the like) in which moiré fringes can be prevented from being generated. The angle in a plane parallel to the target surface (see FIG. 4) is extremely small, and if even slightly deviated from the proper mounting position (angle) during or after mounting, moire fringes are observed and visibility deteriorates. was there.

【0006】この発明は、かかる技術的背景に鑑みてな
されたものであって、十分な透明性を有すると共に、広
い角度域においてモアレ縞の発生を顕著に低減すること
ができて視認性に優れた電磁波遮蔽透明板及びこのよう
な特性を具備した電磁波遮蔽性に優れたプラズマディス
プレイ装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a technical background, and has sufficient transparency, can significantly reduce the occurrence of moire fringes in a wide angle range, and has excellent visibility. It is an object of the present invention to provide a transparent electromagnetic wave shielding plate and a plasma display device having such characteristics and excellent in electromagnetic wave shielding properties.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者らは鋭意研究の結果、導電性格子状パター
ンの格子間隔を特定範囲内に入るように設計することに
より、または導電性格子状パターンを構成する線の幅を
特定範囲内に規定することにより、上記所望の電磁波遮
蔽透明板が得られることを見出すに至り、この発明を完
成したものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above-mentioned object, the present inventors have made intensive studies and, as a result, designed the conductive grid-like pattern so that the lattice spacing falls within a specific range, or obtained the conductive pattern. By defining the widths of the lines constituting the conductive lattice pattern within a specific range, it has been found that the desired electromagnetic wave shielding transparent plate can be obtained, and the present invention has been completed.

【0008】即ち、この発明に係る電磁波遮蔽透明板
は、透明基板上に導電性格子状パターンが設けられた電
磁波遮蔽透明板において、前記導電性格子状パターンの
格子間隔が130μm以下であることを特徴とするもの
である。格子間隔を130μm以下とすることにより、
モアレ発生のない又は殆どない角度域を広くすることが
できるから、視認性に優れたものとなすことができる。
That is, in the electromagnetic wave shielding transparent plate according to the present invention, in the electromagnetic wave shielding transparent plate in which the conductive lattice pattern is provided on the transparent substrate, the lattice spacing of the conductive lattice pattern is 130 μm or less. It is a feature. By setting the lattice spacing to 130 μm or less,
Since the angle range in which moire does not occur or hardly occurs can be widened, visibility can be improved.

【0009】また、この発明に係る別の電磁波遮蔽透明
板は、透明基板上に導電性格子状パターンが設けられた
電磁波遮蔽透明板において、前記導電性格子状パターン
を構成する線の幅が35μm以下であることを特徴とす
るものである。線幅を35μm以下とすることにより、
モアレ発生のない又は殆どない角度域を広くすることが
できるから、視認性に優れたものとなすことができる。
Further, another electromagnetic wave shielding transparent plate according to the present invention is an electromagnetic wave shielding transparent plate in which a conductive lattice pattern is provided on a transparent substrate, wherein a line constituting the conductive lattice pattern has a width of 35 μm. It is characterized by the following. By setting the line width to 35 μm or less,
Since the angle range in which moire does not occur or hardly occurs can be widened, visibility can be improved.

【0010】上記いずれの電磁波遮蔽透明板において
も、導電性格子状パターンの開口率は70%以上100
%未満であるのが好ましく、これにより前記視認性向上
の効果が十分に確保されつつ、装着時の画面も明るいも
のとなされる。
In any of the above electromagnetic wave shielding transparent plates, the aperture ratio of the conductive lattice pattern is 70% or more and 100% or more.
% Is preferable, whereby the effect of improving the visibility is sufficiently ensured, and the screen at the time of mounting is bright.

【0011】上記導電性格子状パターンが、透明基板上
に予め積層された金属箔等の導電性薄膜をエッチング処
理することにより形成されたものである場合には、細線
の形成も十分な精度をもってなし得て、細線を形成する
ような設計であっても十分な品質が確保される。
In the case where the conductive lattice pattern is formed by etching a conductive thin film such as a metal foil previously laminated on a transparent substrate, fine lines can be formed with sufficient accuracy. Sufficient quality can be ensured even if the design is such that a fine wire can be formed.

【0012】上記導電性格子状パターンが、透明基板上
に導電性ペーストが格子状に印刷されて形成されたもの
である場合には、ペーストを用いた印刷であることから
細線の形成も十分な精度をもってなし得て、細線を形成
するような設計であっても十分な品質が確保される。
When the conductive grid pattern is formed by printing a conductive paste in a grid pattern on a transparent substrate, the printing using the paste is sufficient to form fine lines. Sufficient quality can be ensured even with a design that can be performed with precision and forms a fine line.

【0013】また、導電性格子状パターンの表面に金属
層が積層されているのが好ましく、これにより電磁波遮
蔽性が一層向上される。
Further, it is preferable that a metal layer is laminated on the surface of the conductive lattice pattern, whereby the electromagnetic wave shielding property is further improved.

【0014】上記電磁波遮蔽透明板は、十分な透明性を
有すると共に、広い角度域においてモアレ縞の発生を顕
著に低減することができて広角度域にわたって視認性に
優れたものであるから、優れた視認性が要求されるプラ
ズマディスプレイ装置の前面板として特に好適であり、
この電磁波遮蔽透明板がディスプレイパネルの前面に装
着されてなるプラズマディスプレイ装置は、電磁波遮蔽
機能が十分に発揮されると共に、モアレ縞の発生が防止
されて視認性に優れ、かつ明るい高品位な画像の形成が
可能となる。
The above-mentioned electromagnetic wave shielding transparent plate has sufficient transparency, and is capable of significantly reducing the occurrence of moire fringes in a wide angle range and has excellent visibility over a wide angle range. It is particularly suitable as a front plate of a plasma display device requiring high visibility,
The plasma display device in which this electromagnetic wave shielding transparent plate is mounted on the front surface of the display panel has a sufficient electromagnetic wave shielding function, prevents the occurrence of moiré fringes, has excellent visibility, and has a bright, high-quality image. Can be formed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図1に、この発明の一実施形態に
係る電磁波遮蔽透明板の断面図を示す。この実施形態の
電磁波遮蔽透明板(1)は、透明基板(2)上に導電性
格子状パターン(3)が積層一体化されてなるものであ
る。該導電性格子状パターン(3)の要部拡大図を図2
に示す。図2において、(d)は格子間隔であり、
(m)はパターンを構成する線の幅である。
FIG. 1 is a sectional view of an electromagnetic wave shielding transparent plate according to an embodiment of the present invention. The electromagnetic wave shielding transparent plate (1) of this embodiment is formed by laminating and integrating a conductive lattice pattern (3) on a transparent substrate (2). FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the conductive lattice pattern (3).
Shown in In FIG. 2, (d) is the lattice spacing,
(M) is the width of the line constituting the pattern.

【0016】この発明において、導電性格子状パターン
(3)は透明基板(2)の表面に直接設けられていても
良いし(図1)、あるいは図3に示すように導電性格子
状パターン(3)が表面に設けられた透明フィルム
(4)が透明基板(2)上に積層一体化された構成(即
ち透明基板(2)上に透明フィルム(4)を介して導電
性格子状パターン(3)が設けられた構成)であっても
良く、更には2枚の透明基板(2)(2)間に導電性格
子状パターン(3)が介装一体化された構成であっても
良く、要は透明基板(2)の上に導電性格子状パターン
(3)が設けられてなるものである。
In the present invention, the conductive grid pattern (3) may be provided directly on the surface of the transparent substrate (2) (FIG. 1), or as shown in FIG. 3) A transparent film (4) provided on the surface is laminated and integrated on a transparent substrate (2) (that is, a conductive grid pattern (4) is formed on the transparent substrate (2) via the transparent film (4)). 3) may be provided, or a configuration in which a conductive grid pattern (3) is interposed and integrated between two transparent substrates (2) and (2) may be used. In short, a conductive lattice pattern (3) is provided on a transparent substrate (2).

【0017】透明基板(2)を構成する素材としては、
透明材料であれば特に限定されず、例えばガラス、合成
樹脂等が挙げられる。合成樹脂としては、例えばアクリ
ル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレ
フタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポ
リプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル
サルフォン等が挙げられる。中でも、透明基板(2)を
構成する素材としては、透明性に優れることから、ガラ
ス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が好適で
ある。かかる透明基板(2)は、一層からなる単板であ
っても良いし、2以上の同一または異なる層からなる積
層板であっても良い。
Materials constituting the transparent substrate (2) include:
The material is not particularly limited as long as it is a transparent material, and examples thereof include glass and synthetic resin. Examples of the synthetic resin include an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene, and a polyether sulfone. Among them, glass, an acrylic resin, or a polycarbonate resin is preferable as a material constituting the transparent substrate (2) because of its excellent transparency. Such a transparent substrate (2) may be a single plate composed of one layer or a laminated plate composed of two or more same or different layers.

【0018】かかる透明基板(2)の厚さは、特に限定
されないが、通常0.5〜20mmの範囲であり、好ま
しくは1〜10mmの範囲である。透明基板(2)の大
きさ(面積)は、例えば対象物がディスプレイである場
合には、該ディスプレイの画面サイズに応じて適宜に設
定すれば良い。
The thickness of the transparent substrate (2) is not particularly limited, but is generally in the range of 0.5 to 20 mm, preferably in the range of 1 to 10 mm. When the object is a display, for example, the size (area) of the transparent substrate (2) may be appropriately set according to the screen size of the display.

【0019】透明基板(2)には、添加剤等が含有され
ていても良く、例えば電磁波遮蔽透明板(1)がプラズ
マディスプレイパネルの前面板として用いられる場合に
は、該パネルの前面から発生する近赤外線を吸収させる
ための近赤外線吸収剤を含有せしめることが多い。
The transparent substrate (2) may contain additives and the like. For example, when the electromagnetic wave shielding transparent plate (1) is used as a front plate of a plasma display panel, the transparent substrate (2) is generated from the front of the panel. A near-infrared absorbing agent for absorbing near-infrared rays is often included.

【0020】また、透明基板(2)を構成する素材とし
て合成樹脂を用いる場合には、表面硬度を向上させる観
点から、該基板(2)表面にハードコート層を設けるも
のとしても良い。
When a synthetic resin is used as a material constituting the transparent substrate (2), a hard coat layer may be provided on the surface of the substrate (2) from the viewpoint of improving the surface hardness.

【0021】また、前述した図3に示すような構成を採
用する場合において、透明フィルム(4)を構成する素
材としては、透明材料であれば特に限定されないが、通
常合成樹脂が用いられ、例えばポリエチレンテレフタレ
ート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリプロ
ピレン等のポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等が
挙げられる。かかる透明フィルム(4)の厚さは、特に
限定されないが、通常0.04〜0.3mmの範囲であ
る。
In the case where the structure shown in FIG. 3 is adopted, the material constituting the transparent film (4) is not particularly limited as long as it is a transparent material. Examples include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, and acrylic resins. The thickness of the transparent film (4) is not particularly limited, but is usually in a range of 0.04 to 0.3 mm.

【0022】また、上記透明基板(2)、透明フィルム
(4)は、染料、顔料等の着色剤により着色されていて
も良い。このような着色は、多くの場合、ディスプレイ
の見やすさを向上させる目的で行われる。
The transparent substrate (2) and the transparent film (4) may be colored with a coloring agent such as a dye or a pigment. Such coloring is often performed for the purpose of improving the visibility of the display.

【0023】一方、透明基板(2)上に設けられる導電
性格子状パターン(3)は、その格子間隔(d)または
構成線の幅(m)が特定範囲内になるように形成される
必要がある。即ち、導電性格子状パターン(3)の格子
間隔が130μm以下となるように形成されるか、又は
導電性格子状パターン(3)を構成する線の幅が35μ
m以下となるように形成される必要がある。このような
構成とすることにより、モアレ発生のない又は殆どない
角度域を広くすることができ、従って広角度域にわたっ
て視認性に優れたものとなすことができる。
On the other hand, the conductive grid pattern (3) provided on the transparent substrate (2) needs to be formed so that the grid spacing (d) or the width (m) of the constituent lines is within a specific range. There is. That is, the conductive grid pattern (3) is formed so that the grid spacing is 130 μm or less, or the width of a line forming the conductive grid pattern (3) is 35 μm.
m. With such a configuration, it is possible to widen an angle range where moiré does not occur or almost does not occur, and thus it is possible to achieve excellent visibility over a wide angle range.

【0024】中でも、導電性格子状パターン(3)の格
子間隔は、60〜130μmの範囲内とするのがより好
ましく、このような範囲とすることにより広角度域にわ
たって視認性を一段と向上させることができる。また、
導電性格子状パターン(3)を構成する線の幅は、10
〜30μmの範囲内とするのがより好ましく、これによ
り広角度域にわたって視認性を一段と向上させることが
できる。
Above all, the lattice spacing of the conductive lattice pattern (3) is more preferably in the range of 60 to 130 μm, and by setting such a range, the visibility can be further improved over a wide angle range. Can be. Also,
The width of the line constituting the conductive grid pattern (3) is 10
The thickness is more preferably in the range of 30 μm to 30 μm, whereby visibility can be further improved over a wide angle range.

【0025】また、導電性格子状パターン(3)の開口
率は70%以上100%未満とするのが好ましい。この
ような範囲とすることにより、装着時の画面の明るさを
向上させることができる。なお、開口率(%)とは下記
式で求められる値である。
The aperture ratio of the conductive lattice pattern (3) is preferably set to 70% or more and less than 100%. By setting such a range, the brightness of the screen at the time of mounting can be improved. The aperture ratio (%) is a value obtained by the following equation.

【0026】 開口率(%)=(d−m)2 ÷d2 ×100 (d:格子間隔、m:パターンを構成する線の幅)Aperture ratio (%) = (dm) 2 ÷ d 2 × 100 (d: lattice spacing, m: width of a line constituting the pattern)

【0027】開口率を70%以上100%未満とするに
は、上記式において、開口率が所望の値になるように、
d≦130μmまたはm≦35μmの範囲において、d
およびmを決定すればよい。中でも、開口率は70〜9
0%とするのがより好ましい。90%を超えると電磁波
遮蔽性が低下する傾向があるためである。
In order to set the aperture ratio to 70% or more and less than 100%, in the above equation, the aperture ratio is set to a desired value.
In the range of d ≦ 130 μm or m ≦ 35 μm, d
And m may be determined. Among them, the aperture ratio is 70-9
More preferably, it is 0%. If it exceeds 90%, the electromagnetic wave shielding property tends to decrease.

【0028】導電性格子状パターン(3)の形成方法と
しては、所定の格子間隔および線幅を形成できる方法で
あれば特に限定されない。
The method of forming the conductive grid pattern (3) is not particularly limited as long as it can form a predetermined grid interval and line width.

【0029】例えば、導電性繊維を格子状に編んだもの
(例えば繊維表面に金属のメッキを施した織布等)を透
明基板(2)上に貼着一体化する方法、あるいは導電性
繊維を格子状に編んだものを2枚の透明基板(2)
(2)間に介装一体化する方法等が挙げられる。
For example, a method in which conductive fibers are woven in a lattice shape (for example, a woven cloth having a metal surface plated on the fibers) is bonded and integrated on a transparent substrate (2), or Two transparent substrates (2) woven in a lattice
(2) A method of interposing and integrating between them, and the like.

【0030】35μm以下の線幅の格子パターンを形成
するための好ましい方法としては、透明基板(2)上に
積層された金属箔等の導電性薄膜をエッチング処理する
ことにより格子状に加工する方法、透明基板(2)上に
導電性ペーストを格子状に印刷する方法が挙げられる。
前記導電性薄膜としては、銅、アルミニウム等の金属の
薄膜、あるいはITO(インジウム−スズ酸化物)薄膜
等が挙げられ、また導電性ペーストとしては銀ペース
ト、銅ペースト等が挙げられる。上記前者、後者のいず
れの方法も、細線の形成も十分な精度をもって行うこと
ができ、細線を形成するような設計であっても十分な品
質を確保することができる。中でも、凹版オフセット印
刷法が特に好ましい。
As a preferable method for forming a grid pattern having a line width of 35 μm or less, a method in which a conductive thin film such as a metal foil laminated on a transparent substrate (2) is processed into a grid by etching. A method of printing a conductive paste in a grid pattern on the transparent substrate (2).
Examples of the conductive thin film include thin films of metals such as copper and aluminum, and ITO (indium-tin oxide) thin films. Examples of the conductive paste include silver paste and copper paste. In both of the former method and the latter method, fine lines can be formed with sufficient accuracy, and sufficient quality can be ensured even in a design that forms fine lines. Among them, the intaglio offset printing method is particularly preferable.

【0031】導電性格子状パターン(3)の厚さは、特
に限定されないが、3〜35μmの範囲であるのが好ま
しい。厚さが3μm未満では電磁波遮蔽性が十分に得ら
れなくなるので好ましくないし、35μmを超えると格
子状のパターンの形成が困難となる傾向にあるので好ま
しくない。中でも、導電性格子状パターン(3)の厚さ
は4〜20μmの範囲であるのが、より好ましい。
The thickness of the conductive grid pattern (3) is not particularly limited, but is preferably in the range of 3 to 35 μm. When the thickness is less than 3 μm, electromagnetic wave shielding properties cannot be sufficiently obtained, and thus it is not preferable. When the thickness is more than 35 μm, formation of a lattice pattern tends to be difficult, which is not preferable. Among them, the thickness of the conductive lattice pattern (3) is more preferably in the range of 4 to 20 μm.

【0032】導電性格子状パターン(3)は、ディスプ
レイ装着時の視認性を向上させる観点から、黒色に着色
されていても良い。このように導電性格子状パターンを
黒色化する方法としては、公知の方法を用いることがで
きる。例えば黒色ニッケルメッキ処理、クロメートメッ
キ処理、黒色合金メッキ処理等のメッキを用いる方法、
また導電性格子状パターンを印刷法で形成する場合に
は、導電ペーストに予め黒色の染料や顔料を練り込んだ
ものを印刷する方法等が挙げられる。
The conductive grid pattern (3) may be colored black from the viewpoint of improving the visibility when the display is mounted. A known method can be used as a method for blacking the conductive grid pattern in this way. For example, a method using plating such as black nickel plating, chromate plating, black alloy plating,
In the case where the conductive grid pattern is formed by a printing method, a method of printing a conductive paste into which a black dye or pigment has been kneaded in advance may be used.

【0033】また、導電性格子状パターン(3)の表面
に、銅、ニッケル等の金属層を積層した構成とするのが
好ましく、これにより電磁波遮蔽性をより向上させるこ
とができる。このようなパターン(3)上への金属の積
層は、例えばメッキ法により行うことができる。なお、
このようにパターン(3)上に金属を積層する場合に
は、金属積層後の線幅が増大する傾向があるため、金属
積層後において所定の線幅となるように、金属積層前の
格子状パターン(3)の線径を設定する必要がある。
It is preferable that a metal layer such as copper or nickel is laminated on the surface of the conductive grid pattern (3), so that the electromagnetic wave shielding property can be further improved. The lamination of the metal on the pattern (3) can be performed by, for example, a plating method. In addition,
When the metal is laminated on the pattern (3) in this manner, the line width after the metal lamination tends to increase. Therefore, the lattice shape before the metal lamination is adjusted so that the predetermined line width is obtained after the metal lamination. It is necessary to set the wire diameter of the pattern (3).

【0034】この発明の電磁波遮蔽透明板(1)は、装
着対象となるディスプレイ等の特性、形態、使用環境等
に応じて種々の機能を付与せしめたものとしても良い。
このように種々の機能を付与させる方法としては、例え
ば透明基板(2)の少なくとも一方の面に機能性フィル
ムを積層する方法等が挙げられる。前記機能性フィルム
としては、フィルム表面の光反射を防止する反射防止層
が設けられた反射防止フィルム、着色剤や添加剤によっ
て着色された着色フィルム、近赤外線を吸収または反射
する近赤外線遮蔽フィルム、指紋等の汚染物質が表面に
付着することを防止する防汚性フィルム、透明導電膜が
形成されたフィルム等が挙げられる。
The electromagnetic wave shielding transparent plate (1) of the present invention may be provided with various functions according to the characteristics, form, use environment and the like of the display to be mounted.
As a method for imparting various functions as described above, for example, a method of laminating a functional film on at least one surface of the transparent substrate (2) and the like can be mentioned. As the functional film, an antireflection film provided with an antireflection layer for preventing light reflection on the film surface, a colored film colored by a coloring agent or an additive, a near-infrared shielding film that absorbs or reflects near-infrared light, Examples include an antifouling film that prevents contaminants such as fingerprints from adhering to the surface, and a film on which a transparent conductive film is formed.

【0035】この発明に係る電磁波遮蔽透明板(1)
は、例えば各種ディスプレイ用前面板として好適に用い
られるが、特にこの用途に限定されるものではない。中
でも、優れた視認性が要求される大型のディスプレイ装
置であるプラズマディスプレイパネル用の電磁波遮蔽前
面板として特に好適に用いられる。この発明の電磁波遮
蔽透明板(1)がディスプレイパネルの前面に装着され
たプラズマディスプレイ装置は、電磁波遮蔽機能を十分
に発揮すると共に、モアレ縞発生がなくて視認性に優れ
た、かつ明るい高品位な画像を形成させることができ
る。
Electromagnetic wave shielding transparent plate (1) according to the present invention
Is suitably used, for example, as a front panel for various displays, but is not particularly limited to this use. Among them, it is particularly suitably used as an electromagnetic wave shielding front plate for a plasma display panel which is a large display device requiring excellent visibility. The plasma display device in which the electromagnetic wave shielding transparent plate (1) of the present invention is mounted on the front surface of the display panel has a sufficient electromagnetic wave shielding function, is free from moiré fringes, has excellent visibility, and is bright and high quality. Image can be formed.

【0036】[0036]

【実施例】次に、この発明の具体的実施例について説明
するが、この発明はこれら実施例のものに限定されるも
のではない。
EXAMPLES Next, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0037】<実施例1>繊維表面に銅・ニッケルメッ
キを施したポリエステル製の黒色織布(格子間隔78μ
m、線径28μm)を、上下2枚の透明アクリル板(厚
さ1.5mm、住友化学工業株式会社製「スミペックス
000」)間に挟んだ後、熱プレス(プレス条件:温度
130℃、圧力40kg/cm2 、プレス時間30分)
を行って一体化して、電磁波遮蔽透明板を得た。
<Example 1> A black polyester woven fabric having a copper / nickel plating on the fiber surface (with a lattice spacing of 78 μm)
m, wire diameter 28 μm) is sandwiched between two upper and lower transparent acrylic plates (1.5 mm in thickness, “SUMIPEX 000” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and then hot-pressed (press conditions: temperature 130 ° C., pressure) (40 kg / cm 2 , press time 30 minutes)
To obtain an electromagnetic wave shielding transparent plate.

【0038】<実施例2>銅・ニッケルメッキを施した
ポリエステル製の黒色織布として、格子間隔102μ
m、線径36μmのものを用いた以外は、実施例1と同
様にして電磁波遮蔽透明板を得た。
<Example 2> As a polyester / black woven cloth plated with copper / nickel, a lattice spacing of 102 μm was used.
m, and an electromagnetic wave shielding transparent plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a wire having a wire diameter of 36 μm was used.

【0039】<実施例3>銅・ニッケルメッキを施した
ポリエステル製の黒色織布として、格子間隔127μ
m、線径31μmのものを用いた以外は、実施例1と同
様にして電磁波遮蔽透明板を得た。
<Example 3> As a black woven cloth made of polyester plated with copper and nickel, a lattice spacing of 127 μm was used.
m, and an electromagnetic wave shielding transparent plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that a material having a wire diameter of 31 μm was used.

【0040】<実施例4>銅・ニッケルメッキを施した
ポリエステル製の黒色織布として、格子間隔188μ
m、線径34μmのものを用いた以外は、実施例1と同
様にして電磁波遮蔽透明板を得た。
<Example 4> As a polyester-black woven cloth plated with copper and nickel, a lattice spacing of 188 μm was used.
m, and a transparent plate for shielding electromagnetic waves was obtained in the same manner as in Example 1, except that a wire having a wire diameter of 34 μm was used.

【0041】<実施例5>透明アクリル板(厚さ3m
m、200mm×200mm、住友化学工業株式会社製
「スミペックス000」)上に、銅箔積層PETフィル
ム(200mm×200mm、厚さ50μmのPETフ
ィルム上に厚さ18μmの銅箔が接着剤により積層一体
化されたもの)を、PET面をアクリル板側にして接着
剤を介して積層一体化した。次いで、銅箔上にレジスト
を塗布し、所定のメッシュパターンのマスクを介して露
光した後、不要部分のレジストを除去した。更にエッチ
ング処理を行い、不要部分の銅箔を除去した後、残った
銅箔パターン上のレジストを剥離し、導電性格子状パタ
ーンを形成させた。得られた銅箔による格子状パターン
の格子間隔は195μm、線幅は18μmであった。な
お、導電性格子状パターンの形成においては、格子の構
成線方向と、得られる電磁波遮蔽透明板の構成辺の方向
とが45度の角度で交差するようにした。
Example 5 A transparent acrylic plate (thickness 3 m)
m, 200 mm × 200 mm, Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumipex 000”), copper foil laminated PET film (200 mm × 200 mm, 50 μm thick PET film, 18 μm thick copper foil laminated and integrated with adhesive Were laminated and integrated via an adhesive with the PET surface facing the acrylic plate. Next, a resist was applied on the copper foil and exposed through a mask having a predetermined mesh pattern, and then unnecessary portions of the resist were removed. Further, an etching process was performed to remove an unnecessary portion of the copper foil, and then the resist on the remaining copper foil pattern was peeled off to form a conductive lattice pattern. The lattice interval of the lattice pattern of the obtained copper foil was 195 μm, and the line width was 18 μm. In forming the conductive grid pattern, the direction of the constituent lines of the grid and the direction of the constituent sides of the obtained electromagnetic wave shielding transparent plate intersect at an angle of 45 degrees.

【0042】<実施例6>ガラス基板(厚さ1.1m
m、300mm×400mm)上に、凹版オフセット印
刷法を用いて銀ペーストを格子状に厚さ4μmで印刷し
た。この時の格子間隔は254μm、線幅27μmであ
った。次いで、前記銀ペーストによる格子パターンの表
面を、銅メッキ、更には黒ニッケルメッキ処理を行うこ
とにより、黒色化して、電磁波遮蔽透明板を得た。得ら
れた導電性格子状パターンの格子間隔は254μm、線
幅は33μmであった。なお、導電性格子状パターンの
形成においては、格子の構成線方向と、得られる電磁波
遮蔽透明板の構成辺の方向とが平行状になるようにし
た。
Example 6 Glass substrate (1.1 m thick)
m, 300 mm × 400 mm), and a silver paste was printed in a grid pattern at a thickness of 4 μm using an intaglio offset printing method. At this time, the lattice spacing was 254 μm and the line width was 27 μm. Next, the surface of the lattice pattern made of the silver paste was blackened by performing copper plating and further black nickel plating to obtain an electromagnetic wave shielding transparent plate. The grid spacing of the obtained conductive grid pattern was 254 μm, and the line width was 33 μm. In forming the conductive grid pattern, the direction of the constituent lines of the grid was parallel to the direction of the constituent sides of the obtained electromagnetic wave shielding transparent plate.

【0043】<比較例1>銅・ニッケルメッキを施した
ポリエステル製の黒色織布として、格子間隔423μ
m、線径55μmのものを用いた以外は、実施例1と同
様にして電磁波遮蔽透明板を得た。
<Comparative Example 1> As a polyester / black woven cloth plated with copper / nickel, a lattice spacing of 423 μm was used.
m and a wire diameter of 55 μm, except that an electromagnetic wave shielding transparent plate was obtained in the same manner as in Example 1.

【0044】<比較例2>銅・ニッケルメッキを施した
ポリエステル製の黒色織布として、格子間隔254μ
m、線径44μmのものを用いた以外は、実施例1と同
様にして電磁波遮蔽透明板を得た。
<Comparative Example 2> A copper-nickel-plated polyester black woven fabric was used, with a lattice spacing of 254 μm.
m, and an electromagnetic wave shielding transparent plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a wire having a wire diameter of 44 μm was used.

【0045】上記のようにして製作された各電磁波遮蔽
透明板に対し、下記評価法に従い、評価を行った。その
結果を表1に示す。なお、実施例1〜4、比較例1、2
においては、評価用のサンプルとしては、得られた電磁
波遮蔽透明板を300mm×280mmの大きさに切り
出したものを使用した。この際、格子の構成線方向と、
サンプルの構成辺の方向とが平行状になるように切り出
した。
Each of the electromagnetic wave shielding transparent plates manufactured as described above was evaluated according to the following evaluation method. Table 1 shows the results. Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2
In the above, a sample obtained by cutting out the obtained electromagnetic wave shielding transparent plate into a size of 300 mm × 280 mm was used as a sample for evaluation. At this time, the directions of the constituent lines of the lattice,
The sample was cut out so that the direction of the constituent side of the sample became parallel.

【0046】<モアレ消失角度域の評価法>図4に示す
ように、得られた電磁波遮蔽透明板(1)を、プラズマ
ディスプレイ前面(9)に密着させながら該ディスプレ
イ前面(9)と平行な面内において回転させ、その際モ
アレが消失している角度領域を目視にて観察した。そし
て、電磁波遮蔽透明板(1)を90度回転させた場合に
モアレが消失した角度範囲の合計値をモアレ消失角度域
(α)として記載した。
<Evaluation Method of Moire Elimination Angle Range> As shown in FIG. 4, the obtained electromagnetic wave shielding transparent plate (1) is brought into close contact with the plasma display front surface (9) while being in close contact with the display front surface (9). It was rotated in the plane, and at that time, an angle region where moiré disappeared was visually observed. Then, the total value of the angle range in which the moiré disappeared when the electromagnetic wave shielding transparent plate (1) was rotated 90 degrees was described as the moiré disappearance angle range (α).

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】表から明らかなように、この発明の実施例
1〜6の電磁波遮蔽透明板は、広い角度域においてモア
レ縞の発生を防止することができて視認性に優れてい
た。
As is clear from the table, the electromagnetic wave shielding transparent plates of Examples 1 to 6 of the present invention were able to prevent generation of moiré fringes in a wide angle range and were excellent in visibility.

【0049】これに対し、この発明の範囲を逸脱する比
較例1、2では、モアレ縞の発生を防止することができ
る角度範囲が狭く、十分な視認性が得られなかった。
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, which deviate from the scope of the present invention, the angle range in which the occurrence of moiré fringes can be prevented was narrow, and sufficient visibility could not be obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように、この発明の電磁波遮蔽透
明板は、導電性格子状パターンの格子間隔が130μm
以下に規定されているから、モアレ発生のない又は殆ど
ない角度域を広くすることができ、広角度域にわたって
視認性に優れたものとなすことができる。従って、例え
ばディスプレイ等の対象物に対して装着した際又は装着
後において装着位置(角度)がずれたりしてもモアレ縞
が観察されるようなことがなく、優れた視認性を確保す
ることができるものである。
As described above, according to the electromagnetic wave shielding transparent plate of the present invention, the grid spacing of the conductive grid pattern is 130 μm.
As defined below, an angle range where no or almost no moiré is generated can be widened, and visibility can be improved over a wide angle range. Therefore, even when the mounting position (angle) shifts after or after mounting on an object such as a display, moire fringes are not observed, and excellent visibility can be secured. You can do it.

【0051】また、この発明の別の電磁波遮蔽透明板
は、導電性格子状パターンを構成する線の幅が35μm
以下に規定されているから、モアレ発生のない又は殆ど
ない角度域を広くすることができ、広角度域にわたって
視認性に優れたものとなすことができる。従って、例え
ばディスプレイ等の対象物に対して装着した際又は装着
後において装着位置(角度)がずれたりしてもモアレ縞
が観察されるようなことがなく、優れた視認性を確保す
ることができるものである。
Further, another electromagnetic wave shielding transparent plate according to the present invention has a line width of 35 μm constituting the conductive grid pattern.
As defined below, an angle range where no or almost no moiré is generated can be widened, and visibility can be improved over a wide angle range. Therefore, even when the mounting position (angle) shifts after or after mounting on an object such as a display, moire fringes are not observed, and excellent visibility can be secured. You can do it.

【0052】上記において、導電性格子状パターンの開
口率が70%以上100%未満である場合には、前記視
認性向上の効果を十分に確保しつつ、装着時の画面の明
るさを一段と向上させることができる。
In the above, when the aperture ratio of the conductive lattice pattern is 70% or more and less than 100%, the brightness of the screen at the time of mounting is further improved while sufficiently securing the effect of improving the visibility. Can be done.

【0053】また、導電性格子状パターンが、透明基板
上に予め積層された金属箔等の導電性薄膜をエッチング
処理することにより形成されたものである場合には、細
線の形成も十分な精度をもって行うことができ、細線を
形成するような設計であっても十分な品質を確保するこ
とができる。
In the case where the conductive grid pattern is formed by etching a conductive thin film such as a metal foil previously laminated on a transparent substrate, the formation of fine lines can be performed with sufficient accuracy. Thus, sufficient quality can be ensured even if the design is such that a thin line is formed.

【0054】また、導電性格子状パターンが、透明基板
上に導電性ペーストが格子状に印刷されて形成されたも
のである場合には、ペーストを用いた印刷であることか
ら細線の形成も十分な精度をもって行うことができ、細
線を形成するような設計であっても十分な品質を確保す
ることができる。また、エッチング処理を要しないか
ら、処理後の廃液が排出されるようなことがなく、環境
面からも好適である。
When the conductive grid pattern is formed by printing a conductive paste in a grid pattern on a transparent substrate, the printing using the paste is sufficient to form fine lines. It can be performed with high precision, and sufficient quality can be ensured even if the design is such that a thin line is formed. Further, since no etching treatment is required, waste liquid after the treatment is not discharged, which is preferable from an environmental point of view.

【0055】更に、導電性格子状パターンの表面に金属
層が積層されてなる場合には、電磁波遮蔽性を一層向上
させることができる。
Further, when a metal layer is laminated on the surface of the conductive lattice pattern, the electromagnetic wave shielding property can be further improved.

【0056】また、この発明に係るプラズマディスプレ
イ装置は、上記電磁波遮蔽透明板がディスプレイパネル
の前面に装着されてなるものであるから、電磁波を十分
に遮蔽すると共に、モアレ縞の発生がなくて視認性に優
れた、かつ明るい高品位な画像を形成させることができ
る。
Further, in the plasma display device according to the present invention, the electromagnetic wave shielding transparent plate is mounted on the front surface of the display panel, so that the electromagnetic wave can be sufficiently shielded and there is no generation of moire fringes. It is possible to form a bright, high-quality image having excellent properties.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態に係る電磁波遮蔽透明板
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an electromagnetic wave shielding transparent plate according to an embodiment of the present invention.

【図2】導電性格子状パターンの一形態を示す要部拡大
図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part showing one mode of a conductive lattice pattern.

【図3】別の実施形態に係る電磁波遮蔽透明板を示す断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an electromagnetic wave shielding transparent plate according to another embodiment.

【図4】モアレ消失角度域の評価法を示す説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a method for evaluating a moiré disappearing angle range.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電磁波遮蔽透明板 2…透明基板 3…導電性格子状パターン 1: transparent electromagnetic wave shielding plate 2: transparent substrate 3: conductive grid pattern

フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AB01B AB01C AB17 AB33B AK25 AK41 BA02 BA03 BA10A BA10C BA32 DC15B DG01 DG12 EH71 EJ15B EJ20 EJ42 GB41 HB08B HB31B JD08 JG01B JL10 JN01A YY00B 5C040 MA08 5E321 AA04 BB23 BB24 BB41 GG05 GH01 Continued on the front page F-term (reference) 4F100 AB01B AB01C AB17 AB33B AK25 AK41 BA02 BA03 BA10A BA10C BA32 DC15B DG01 DG12 EH71 EJ15B EJ20 EJ42 GB41 HB08B HB31B JD08 JG01B JL10 JN01A YY00B 5C040 MA08 BB04A08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に導電性格子状パターンが設
けられた電磁波遮蔽透明板において、 前記導電性格子状パターンの格子間隔が130μm以下
であることを特徴とする電磁波遮蔽透明板。
1. An electromagnetic wave shielding transparent plate having a conductive lattice pattern provided on a transparent substrate, wherein the lattice spacing of the conductive lattice pattern is 130 μm or less.
【請求項2】 透明基板上に導電性格子状パターンが設
けられた電磁波遮蔽透明板において、 前記導電性格子状パターンを構成する線の幅が35μm
以下であることを特徴とする電磁波遮蔽透明板。
2. An electromagnetic wave shielding transparent plate in which a conductive grid pattern is provided on a transparent substrate, wherein a width of a line forming the conductive grid pattern is 35 μm.
An electromagnetic wave shielding transparent plate characterized by the following.
【請求項3】 前記導電性格子状パターンの開口率が7
0%以上100%未満である請求項1または2に記載の
電磁波遮蔽透明板。
3. The conductive grid-like pattern having an aperture ratio of 7
The electromagnetic wave shielding transparent plate according to claim 1, which is 0% or more and less than 100%.
【請求項4】 前記導電性格子状パターンが、透明基板
上に予め積層された金属箔等の導電性薄膜をエッチング
処理することにより形成されたものである請求項1〜3
のいずれか1項に記載の電磁波遮蔽透明板。
4. The conductive grid-like pattern is formed by etching a conductive thin film such as a metal foil previously laminated on a transparent substrate.
The electromagnetic wave shielding transparent plate according to any one of the above.
【請求項5】 前記導電性格子状パターンが、透明基板
上に導電性ペーストが格子状に印刷されて形成されたも
のである請求項1〜3のいずれか1項に記載の電磁波遮
蔽透明板。
5. The electromagnetic wave shielding transparent plate according to claim 1, wherein the conductive grid pattern is formed by printing a conductive paste in a grid pattern on a transparent substrate. .
【請求項6】 前記導電性格子状パターンの表面に、金
属層が積層されてなる請求項1〜5のいずれか1項に記
載の電磁波遮蔽透明板。
6. The electromagnetic wave shielding transparent plate according to claim 1, wherein a metal layer is laminated on the surface of the conductive lattice pattern.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の電
磁波遮蔽透明板が、ディスプレイパネルの前面に装着さ
れてなるプラズマディスプレイ装置。
7. A plasma display device, wherein the electromagnetic wave shielding transparent plate according to claim 1 is mounted on a front surface of a display panel.
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