JP2000223629A - ベアicの放熱構造 - Google Patents
ベアicの放熱構造Info
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- JP2000223629A JP2000223629A JP11025553A JP2555399A JP2000223629A JP 2000223629 A JP2000223629 A JP 2000223629A JP 11025553 A JP11025553 A JP 11025553A JP 2555399 A JP2555399 A JP 2555399A JP 2000223629 A JP2000223629 A JP 2000223629A
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/07251—Connecting or disconnecting of bump connectors characterised by changes in properties of the bump connectors during connecting
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電源系など発熱量の大きいベアICの場合、
通常の状態では放熱が効果的に行われず、ベアICの表
面上に放熱版を追加したり、ベアICが実装された基板
が搭載される筐体に空冷システムを設けるなど、表面に
露出した一つの面からの放熱効果を向上させる取り組み
が行われている。 【解決手段】 ベアIC2のパッシベーション膜部に配
置されたグラファイトシート7によって、ベアICから
の発熱をベアICが実装された基板1側に逃すことで放
熱効果を向上させる。
通常の状態では放熱が効果的に行われず、ベアICの表
面上に放熱版を追加したり、ベアICが実装された基板
が搭載される筐体に空冷システムを設けるなど、表面に
露出した一つの面からの放熱効果を向上させる取り組み
が行われている。 【解決手段】 ベアIC2のパッシベーション膜部に配
置されたグラファイトシート7によって、ベアICから
の発熱をベアICが実装された基板1側に逃すことで放
熱効果を向上させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電源系を中心とし
た高発熱ベアICの実装を必要とする電気回路基板にお
けるベアICの放熱構造に関するものである。
た高発熱ベアICの実装を必要とする電気回路基板にお
けるベアICの放熱構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のベアIC接続工法によると、ベア
IC上に形成されたバンプを基板側に設けられたランド
に接合し、ベアICと基板との間隙を樹脂で封止、固定
する方法がある。
IC上に形成されたバンプを基板側に設けられたランド
に接合し、ベアICと基板との間隙を樹脂で封止、固定
する方法がある。
【0003】図6は従来例の基板上に実装されたベアI
Cの平面図、図7は図6のD−D矢視断面図である。図
6,図7において、4箇所の電極を持つベアIC2に対
し、それぞれの電極にバンプ3を形成、基板1上に設け
られたランド4に接合することで、ベアIC2と基板1
上に形成された電気回路(配線パターン5)との導通を
取っている。この後、ベアIC2と基板との間隙に封止
樹脂6を流し込み、熱硬化させることで電気的接合部の
保護とベアICの固定を行っている。
Cの平面図、図7は図6のD−D矢視断面図である。図
6,図7において、4箇所の電極を持つベアIC2に対
し、それぞれの電極にバンプ3を形成、基板1上に設け
られたランド4に接合することで、ベアIC2と基板1
上に形成された電気回路(配線パターン5)との導通を
取っている。この後、ベアIC2と基板との間隙に封止
樹脂6を流し込み、熱硬化させることで電気的接合部の
保護とベアICの固定を行っている。
【0004】この場合、表面に露出しているのはベアI
C2の表面aのみであり、裏面b、及び4つの側面cは
封止樹脂6で覆われている。
C2の表面aのみであり、裏面b、及び4つの側面cは
封止樹脂6で覆われている。
【0005】封止樹脂はベアICの接合部保護とベアI
Cの固定など、信頼性確保を目的に使われており、一般
に封止に使われる樹脂は熱伝導性の良い物は使われてい
ないため、ベアICでの発熱は封止樹脂層で閉じ込めら
れることになる。
Cの固定など、信頼性確保を目的に使われており、一般
に封止に使われる樹脂は熱伝導性の良い物は使われてい
ないため、ベアICでの発熱は封止樹脂層で閉じ込めら
れることになる。
【0006】そのため、電源系など発熱量の大きいベア
ICの場合、通常の状態では放熱が効果的に行われず、
図8の断面図に示すようにベアIC2の表面a上に放熱
板9を追加したり、ベアICが実装された基板が搭載さ
れる筐体に空冷システムを設けるなど、表面に露出した
一つの面からの放熱効果を向上させる取り組みが行われ
ている。
ICの場合、通常の状態では放熱が効果的に行われず、
図8の断面図に示すようにベアIC2の表面a上に放熱
板9を追加したり、ベアICが実装された基板が搭載さ
れる筐体に空冷システムを設けるなど、表面に露出した
一つの面からの放熱効果を向上させる取り組みが行われ
ている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
対応策では、放熱板の追加で部品高さが増加し、また、
空冷システムの追加で筐体サイズが増加する。一般的に
ベアICが実装される商品には軽薄短小が求められてお
り、商品に求められている必要条件を満たすことが困難
であるという問題があった。
対応策では、放熱板の追加で部品高さが増加し、また、
空冷システムの追加で筐体サイズが増加する。一般的に
ベアICが実装される商品には軽薄短小が求められてお
り、商品に求められている必要条件を満たすことが困難
であるという問題があった。
【0008】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、高発
熱ベアICを、放熱効果を維持したまま省スペースで実
装できる放熱構造を提供することを目的としている。
熱ベアICを、放熱効果を維持したまま省スペースで実
装できる放熱構造を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
し目的を達成するためベアICのパッシベーション膜部
に熱伝導性の高いグラファイトシートを配置し、ベアI
Cからの発熱をベアICが実装された基板側に逃がすこ
とで実装スペースを増やさず放熱効果を向上させること
ができる。
し目的を達成するためベアICのパッシベーション膜部
に熱伝導性の高いグラファイトシートを配置し、ベアI
Cからの発熱をベアICが実装された基板側に逃がすこ
とで実装スペースを増やさず放熱効果を向上させること
ができる。
【0010】また、ベアICのパッシベーション膜部に
配置されたグラファイトシートに接するように基板側に
設けた放熱用パターンによって、ベアICからの発熱を
ベアICが実装された基板側に逃がすことで実装スペー
スを増やさず放熱効果を向上させることができる。
配置されたグラファイトシートに接するように基板側に
設けた放熱用パターンによって、ベアICからの発熱を
ベアICが実装された基板側に逃がすことで実装スペー
スを増やさず放熱効果を向上させることができる。
【0011】また、基板上に設けられた放熱用パターン
をベアICの外側まで引き出し、ベアICからの発熱を
ベアIC外部の基板表面に逃がすことで、実装スペース
を増やさず放熱効果を向上させることができる。
をベアICの外側まで引き出し、ベアICからの発熱を
ベアIC外部の基板表面に逃がすことで、実装スペース
を増やさず放熱効果を向上させることができる。
【0012】また、ベアICの外側まで引き出された放
熱用パターン上に配置されたグラファイトシートによっ
て、実装スペースを増やさずにベアICからの発熱を基
板上のより広い面積で放熱することができる。
熱用パターン上に配置されたグラファイトシートによっ
て、実装スペースを増やさずにベアICからの発熱を基
板上のより広い面積で放熱することができる。
【0013】また、ベアICの接続された配線パターン
の表面に配置されたグラファイトシートによって、実装
スペースを増やさず、基板上のより広い面積で放熱効果
を向上させることができる。
の表面に配置されたグラファイトシートによって、実装
スペースを増やさず、基板上のより広い面積で放熱効果
を向上させることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態を図
1から図5を用いて説明する。
1から図5を用いて説明する。
【0015】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1におけるベアICの平面図、図2は図1のA−A矢
視断面図である。図1および図2において、7は熱伝導
性の高いグラファイートである。その他、前記図6ない
し図8と同じ部材には同じ符号を付し、その説明を省略
する。
態1におけるベアICの平面図、図2は図1のA−A矢
視断面図である。図1および図2において、7は熱伝導
性の高いグラファイートである。その他、前記図6ない
し図8と同じ部材には同じ符号を付し、その説明を省略
する。
【0016】図1および図2に示すように、それぞれの
電極にバンプ3が形成されたベアIC2のパッシベーシ
ョン膜部にバンプ3と同じほぼ高さ(ベアIC実装後の
高さ)のグラファイトシート7を配置(貼付)し、この
ベアICのバンプ3を基板1上に設けられたランド4に
接合することで、ベアIC2と基板1上に形成された電
気回路(配線パターン5)との導通を取り、ベアIC2
と基板1との間隙に封止樹脂6を流し込み、熱硬化させ
ることで電気的接合部の保護とベアICの固定を行う。
こうしてベアICの放熱構造が実現される。
電極にバンプ3が形成されたベアIC2のパッシベーシ
ョン膜部にバンプ3と同じほぼ高さ(ベアIC実装後の
高さ)のグラファイトシート7を配置(貼付)し、この
ベアICのバンプ3を基板1上に設けられたランド4に
接合することで、ベアIC2と基板1上に形成された電
気回路(配線パターン5)との導通を取り、ベアIC2
と基板1との間隙に封止樹脂6を流し込み、熱硬化させ
ることで電気的接合部の保護とベアICの固定を行う。
こうしてベアICの放熱構造が実現される。
【0017】本実施の形態によって従来構造と異なる点
は図2に示すように、通常はベアIC2と基板1の間に
は封止樹脂6が充填されるが、封止樹脂6に代わってグ
ラファイトシート7が挟まっている形となる。
は図2に示すように、通常はベアIC2と基板1の間に
は封止樹脂6が充填されるが、封止樹脂6に代わってグ
ラファイトシート7が挟まっている形となる。
【0018】ベアIC2で発生した熱は、ベアIC表面
aから空気中へ放熱とあわせて、ベアIC裏面bからグ
ラファイトシート7を介して基板1に伝わり、基板全体
を活用した放熱が可能になる。熱伝導性の低い封止樹脂
に変わり、熱伝導牲の高いグラファイトシートがベアI
Cと基板の間を満たすことになり、結果的にベアICの
発熱がより基板に伝わることとなる。
aから空気中へ放熱とあわせて、ベアIC裏面bからグ
ラファイトシート7を介して基板1に伝わり、基板全体
を活用した放熱が可能になる。熱伝導性の低い封止樹脂
に変わり、熱伝導牲の高いグラファイトシートがベアI
Cと基板の間を満たすことになり、結果的にベアICの
発熱がより基板に伝わることとなる。
【0019】なお、本実施の形態は、ベアICと基板の
間にグラファイトシートを挟み込んだ構造にすることが
ねらいであり、あらかじめグラファイトシートが貼付さ
れた基板にベアICを実装する等、放熱構造を実現する
ための実装の手順は特に問わない。
間にグラファイトシートを挟み込んだ構造にすることが
ねらいであり、あらかじめグラファイトシートが貼付さ
れた基板にベアICを実装する等、放熱構造を実現する
ための実装の手順は特に問わない。
【0020】(実施の形態2)図3は本発明の実施の形
態2におけるベアICの平面図、図4は図3のB−B矢
視断面図、図5は図3のC−C矢視断面図である。図3
ないし図5において、8は放熱用パターンであり、その
他図1、図2と同じ部材には同じ符号を付し、その説明
を省略する。
態2におけるベアICの平面図、図4は図3のB−B矢
視断面図、図5は図3のC−C矢視断面図である。図3
ないし図5において、8は放熱用パターンであり、その
他図1、図2と同じ部材には同じ符号を付し、その説明
を省略する。
【0021】まず、ベアIC2の実装される基板表面a
部分に、通常の配線パターン5と放熱用パターン8を設
ける。なお、この放熱用パターン8はベアIC2の外側
まで引き出されている。配線パターン5と放熱用パター
ン8はショートしないようパターンニングすることを基
本とし、ベアIC直下部分だけではなく、スペースが許
せるなら、ベアICの発熱量にあわせて広範囲にパター
ンニングするものとする。
部分に、通常の配線パターン5と放熱用パターン8を設
ける。なお、この放熱用パターン8はベアIC2の外側
まで引き出されている。配線パターン5と放熱用パター
ン8はショートしないようパターンニングすることを基
本とし、ベアIC直下部分だけではなく、スペースが許
せるなら、ベアICの発熱量にあわせて広範囲にパター
ンニングするものとする。
【0022】次に、配線パターン5と放熱用パターン8
の表面にグラファイトシート7を配置(貼付)する。但
し、配線パターン上に貼付されるグラファイトシートは
ランド4部分に重ならないものとし、また、ベアIC直
下部分放熱パターンに貼付されるグラファイトシート7
の厚さはベアIC2が実装された後のバンプ3の高さに
等しいものとする。
の表面にグラファイトシート7を配置(貼付)する。但
し、配線パターン上に貼付されるグラファイトシートは
ランド4部分に重ならないものとし、また、ベアIC直
下部分放熱パターンに貼付されるグラファイトシート7
の厚さはベアIC2が実装された後のバンプ3の高さに
等しいものとする。
【0023】次に、上記基板に対して、通常の方法にて
ベアICの実装を行う。こうしてベアICの放熱構造が
実現される。
ベアICの実装を行う。こうしてベアICの放熱構造が
実現される。
【0024】ベアICで発生した熱は、ベアIC表面a
から空気中へ放熱とあわせて、ベアIC裏面bからグラ
ファイトシート7を介して基板裏面bの放熱用パターン
8に伝わり、ベアIC直下部分以外の領域に伝わる。放
熱用パターンによって、より広範囲に、またグラファイ
トシートによってより効果的な放熱が可能になる。
から空気中へ放熱とあわせて、ベアIC裏面bからグラ
ファイトシート7を介して基板裏面bの放熱用パターン
8に伝わり、ベアIC直下部分以外の領域に伝わる。放
熱用パターンによって、より広範囲に、またグラファイ
トシートによってより効果的な放熱が可能になる。
【0025】また、配線パターン5の表面に貼付された
グラファイトシートによっても同様の放熱効果を得るこ
とが出来る。
グラファイトシートによっても同様の放熱効果を得るこ
とが出来る。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ベアIC
のパッシベーション膜部に熱伝導牲の高いグラファイト
シートを配置し、ベアICからの発熱をベアICが実装
された基板側に逃がすことで実装スペースを増やさず放
熱効果を向上させることができる。
のパッシベーション膜部に熱伝導牲の高いグラファイト
シートを配置し、ベアICからの発熱をベアICが実装
された基板側に逃がすことで実装スペースを増やさず放
熱効果を向上させることができる。
【0027】また、ベアICのパッシベーション膜部に
配置されたグラファイトシートに接するように基板側に
設けた放熱用パターンによって、ベアICからの発熱を
ベアICが実装された基板側に逃がすことで実装スペー
スを増やさず放熱効果を向上させることができる。
配置されたグラファイトシートに接するように基板側に
設けた放熱用パターンによって、ベアICからの発熱を
ベアICが実装された基板側に逃がすことで実装スペー
スを増やさず放熱効果を向上させることができる。
【0028】また、基板上に設けられた放熱用パターン
をベアICの外側まで引き出し、ベアICからの発熱を
ベアIC外部の基板表面に逃がすことで、実装スペース
を増やさず放熱効果を向上させることができる。
をベアICの外側まで引き出し、ベアICからの発熱を
ベアIC外部の基板表面に逃がすことで、実装スペース
を増やさず放熱効果を向上させることができる。
【0029】また、ベアICの外側まで引き出された放
熱用パターン上に配置されたグラファイトシートによっ
て、実装スペースを増やさずにベアICからの発熱を基
板上のより広い面積で放熱することができる。
熱用パターン上に配置されたグラファイトシートによっ
て、実装スペースを増やさずにベアICからの発熱を基
板上のより広い面積で放熱することができる。
【0030】また、ベアICの接続された配線パターン
の表面に配置されたグラファイトシートによって、実装
スペースを増やさず、基板上のより広い面積で放熱効果
を向上させることができる。
の表面に配置されたグラファイトシートによって、実装
スペースを増やさず、基板上のより広い面積で放熱効果
を向上させることができる。
【図1】本発明の実施の形態1におけるベアICの放熱
構造の平面図
構造の平面図
【図2】図1のA−A矢視断面図
【図3】本発明の実施の形態2におけるベアICの放熱
構造の平面図
構造の平面図
【図4】図3のB−B矢視断面図
【図5】図3のC−C矢視断面図
【図6】従来例の基板上に実装されたベアICの平面図
【図7】図6のD−D矢視断面図である
【図8】従来例の表面に放熱板を有する基板上に実装さ
れたベアICの断面図
れたベアICの断面図
1 基板 2 ベアIC 3 バンプ 4 ランド 5 配線パターン 6 封止樹脂 7 グラファイトシート 8 放熱用パターン 9 放熱板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北山 喜文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5F036 AA01 BB21 BD11
Claims (5)
- 【請求項1】 ベアICからの発熱をベアICが実装さ
れた基板側に逃がして放熱効果を向上させるためベアI
Cのパッシベーション膜部に熱伝導性の高いグラファイ
トシートを配置したことを特徴とするベアICの放熱構
造。 - 【請求項2】 ベアICからの発熱をベアICが実装さ
れた基板側に逃がして放熱効果を向上させるためベアI
Cのパッシベーション膜部に配置されたグラファイトシ
ートに接するように基板側に放熱用パターンを設けたこ
とを特徴とするベアICの放熱構造。 - 【請求項3】 ベアICからの発熱をベアIC外部の基
板表面に逃がして放熱効果を向上させるため基板上に設
けられた放熱用パターンをベアICの外側まで引き出し
たことを特徴とするベアICの放熱構造。 - 【請求項4】 ベアICからの発熱を基板上のより広い
面積で放熱するためベアICの外側まで引き出された放
熱用パターン上にグラファイトシートを配置したことを
特徴とするべアICの放熱構造。 - 【請求項5】 基板上のより広い面積で放熱効果を向上
させためベアICの接続された配線パターンの表面にグ
ラファイトシートを配置したことを特徴とするベアIC
の放熱構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11025553A JP2000223629A (ja) | 1999-02-02 | 1999-02-02 | ベアicの放熱構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11025553A JP2000223629A (ja) | 1999-02-02 | 1999-02-02 | ベアicの放熱構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000223629A true JP2000223629A (ja) | 2000-08-11 |
Family
ID=12169158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11025553A Pending JP2000223629A (ja) | 1999-02-02 | 1999-02-02 | ベアicの放熱構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000223629A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10201781A1 (de) * | 2002-01-17 | 2003-08-07 | Infineon Technologies Ag | Hochfrequenz-Leistungsbauteil und Hochfrequenz-Leistungsmodul sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| WO2004044982A1 (ja) * | 2002-11-12 | 2004-05-27 | Fujitsu Limited | 実装構造 |
| JP2007011265A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR20160065676A (ko) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 삼성전자주식회사 | 열전도 필름을 가진 반도체 패키지 |
-
1999
- 1999-02-02 JP JP11025553A patent/JP2000223629A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10201781A1 (de) * | 2002-01-17 | 2003-08-07 | Infineon Technologies Ag | Hochfrequenz-Leistungsbauteil und Hochfrequenz-Leistungsmodul sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| US6867492B2 (en) | 2002-01-17 | 2005-03-15 | Infineon Technologies Ag | Radio-frequency power component, radio-frequency power module, method for producing a radio-frequency power component, and method for producing a radio-frequency power module |
| DE10201781B4 (de) * | 2002-01-17 | 2007-06-06 | Infineon Technologies Ag | Hochfrequenz-Leistungsbauteil und Hochfrequenz-Leistungsmodul sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| WO2004044982A1 (ja) * | 2002-11-12 | 2004-05-27 | Fujitsu Limited | 実装構造 |
| US7285429B2 (en) | 2002-11-12 | 2007-10-23 | Fujitsu Limited | Mounting device for high frequency microwave devices |
| JP2007011265A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR101138261B1 (ko) * | 2005-06-29 | 2012-04-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| US8514362B2 (en) | 2005-06-29 | 2013-08-20 | Lg Display Co. Ltd. | Liquid crystal display device including protection pad |
| KR20160065676A (ko) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 삼성전자주식회사 | 열전도 필름을 가진 반도체 패키지 |
| KR102335771B1 (ko) | 2014-12-01 | 2021-12-06 | 삼성전자주식회사 | 열전도 필름을 가진 반도체 패키지 |
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