JP2000227516A - エポキシ系基板シートの製造方法及びその基板シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄型性に優れる液晶セル等の形成に有用な、
位相差シートとガスバリア層とエポキシ系硬化シートが
重畳した基板を効率よく形成すること。 【解決手段】 長尺の位相差シート（１）を順次走行さ
せつつ、その上に塗工液（２２，３２）をシート状に順
次展開してそれを皮膜化（２３，３３）する操作を介
し、前記位相差シートの上にガスバリア層（２）とエポ
キシ樹脂硬化層（３）が順次密着重畳した基板（６）を
連続製造するエポキシ系基板シートの製造方法、及び光
学補償用の位相差シートとエポキシ樹脂硬化層とがガス
バリア層を介してそれぞれ接着剤層の介在なく密着重畳
してなるエポキシ系基板シート。 【効果】 光学特性や薄型性、ガスバリア性等に優れる
多様な物性のエポキシ系基板シートを簡単な操作にて連
続製造でき、量産速度や厚さも容易に制御できて薄型で
液晶が変質しにくい液晶セルを効率よく形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、量産性に優れる重畳型の
エポキシ系基板シートの製造方法、及び薄型性に優れて
液晶セル等の形成に好適なエポキシ系基板シートに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、ガスバリア処理したエポキシ樹脂
の硬化シートに位相差シートを設けてなるエポキシ系基
板シートとしては、前記硬化シートをそのガスバリア処
理面を介して位相差シートと接着剤を介し積層したもの
が知られていた。かかる位相差シートは、液晶による位
相差にて生じる例えば色付き現象等を補償して解消する
ことなどを目的に付設される。またガスバリア処理は、
セル基板等として用いる場合に液晶等の封入物質が変質
することの防止などを目的に施される。

【０００３】しかしながら、前記の如く接着剤を介し接
着する工程等を要して製造効率に乏しいと共に、接着剤
層の介在で厚さが大きくなり、フレキシビリティが低下
する問題点があった。またエポキシ樹脂塗工液をエンド
レスベルトやロール等の流延支持体の上に直接展開して
硬化シートとした場合、支持体との接着力が強くて剥離
回収できなかったり、剥離の際に硬化シートを損傷する
などの問題よりエポキシ樹脂硬化シートを連続製造する
ことが困難で、金型による注形方式では硬化シートの製
造効率に乏しい問題点があった。

【０００４】

【発明の技術的課題】本発明は、位相差シートとガスバ
リア層とエポキシ系硬化シートが重畳した基板を効率よ
く形成できる製造方法を得て、薄型性に優れる液晶セル
等の形成に有用なエポキシ系基板シートの開発を課題と
する。

【０００５】

【課題の解決手段】本発明は、長尺の位相差シートを順
次走行させつつ、その上に塗工液をシート状に順次展開
してそれを皮膜化する操作を介し、前記位相差シートの
上にガスバリア層とエポキシ樹脂硬化層が順次密着重畳
した基板を連続製造することを特徴とするエポキシ系基
板シートの製造方法、及び光学補償用の位相差シートと
エポキシ樹脂硬化層とがガスバリア層を介してそれぞれ
接着剤層の介在なく密着重畳してなることを特徴とする
エポキシ系基板シートを提供するものである。

【０００６】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、位相差シー
ト上に塗工液を展開して皮膜化する一連の簡単な操作を
介して位相差シートとガスバリア層とエポキシ樹脂硬化
層が密着重畳してなるエポキシ系基板シートを連続して
効率よく製造でき、位相差シートの移動速度や塗工液展
開量の調節で得られるシートの量産速度や厚さを容易に
制御することができる。

【０００７】また位相差シートやガスバリア層との密着
による補強効果で、脆いエポキシ樹脂も使用できて剛性
に優れるエポキシ樹脂硬化層も形成でき、エポキシ樹脂
を幅広く選択できて多様な物性のエポキシ系基板シート
を得ることができる。さらに得られたエポキシ系基板シ
ートは、位相差シートとの界面を介し支持体より容易に
分離できて回収の際に流延支持体が損傷されにくくて長
寿命であり、流延支持体の表面状態が反映されにくくて
表面の粗い支持体を用いても位相差シートに基づく表面
状態を確保でき、接着状態を解除する剥離工程を経ない
ので光学欠陥等の損傷も発生しにくい。

【０００８】加えて、接着剤層の介在なく位相差シート
とガスバリア層とエポキシ樹脂硬化層の密着重畳状態を
形成できて薄型化が容易であり、フレキシビリティやガ
スバリア性に優れるエポキシ系基板シートを容易に得る
ことができ、それをセル基板に用いて薄型で液晶等が変
質しにくい液晶セルなどを効率よく形成することができ
る。

【０００９】

【発明の実施形態】本発明による製造方法は、長尺の位
相差シートを順次走行させつつ、その上に塗工液をシー
ト状に順次展開してそれを皮膜化する操作を介し、前記
位相差シートの上にガスバリア層とエポキシ樹脂硬化層
が順次密着重畳してなるエポキシ系基板シートを連続製
造するものである。

【００１０】前記の製造工程例を図１に示した。これ
は、流延法による連続製造法を示したものであり、１が
長尺の位相差シート、２がガスバリア層で、２１がその
塗工液をシート状に展開するダイ、３がエポキシ樹脂硬
化層で、３１がそのエポキシ樹脂塗工液をシート状に展
開するダイであり、２３．３３は皮膜化処理装置、４は
エンドレスベルトである。また、６がエポキシ系基板シ
ートであり、図２に例示の如く位相差シート１の上にガ
スバリア層２とエポキシ樹脂硬化層３が接着剤層の介在
なく順次密着重畳したものよりなる。

【００１１】前記において位相差シート１は、その巻回
ロール１１より駆動ドラム４１と従動ドラム４２にて太
矢印方向に回転走行させられるエンドレスベルト４を介
し順次繰り出されて、例えば０．１〜５０ｍ／分、就中
０．２〜５ｍ／分の速度で走行させられつつ、その上に
ダイ２１を介しガスバリア層形成用の塗工液がシート状
に順次展開され、その展開層２２が皮膜化処理装置２３
を介し皮膜化処理されてガスバリア層２となり、その皮
膜化過程で位相差シートと密着する。

【００１２】続いて前記のガスバリア層２の上に、ダイ
３１を介しエポキシ樹脂塗工液がシート状に順次展開さ
れ、その展開層３２が皮膜化処理装置３３を介し硬化処
理されてエポキシ樹脂硬化層３となり、その硬化過程で
位相差シート１の上のガスバリア層２と密着してエポキ
シ系基板シート６が連続製造され、送りロール５１，５
２を介して図外の切断工程に送られる。

【００１３】前記において皮膜化処理装置２３，３３と
しては、目的の塗工液を皮膜化しうる例えば加熱式や光
照射式等の適宜な処理装置を用いることができる。また
前記の例では、塗工液の展開層をそれぞれ皮膜化処理し
たが、本発明にては塗工液展開層の重畳層を形成した後
それらを一括して皮膜化処理する方式なども採ることが
できる。形成する各層の厚さ制御の点よりは、前記例の
如く塗工液の展開層毎に皮膜化処理することが好まし
い。

【００１４】位相差シートとしては、エポキシ系基板シ
ートの使用目的に応じた、例えば各種の樹脂からなる延
伸フィルムや厚さ方向の屈折率も制御したフィルム、液
晶ポリマー配向フィルムやその配向層をフィルムにて支
持したものなどの適宜な長尺体を用いることができ、特
に限定はない。

【００１５】従って位相差シートの位相差特性について
も任意であり、例えば１／２波長板や１／４波長板等の
各種波長板、液晶層の複屈折による着色や視角等の補償
を目的とした光学補償板などの前記使用目的に応じた適
宜な位相差を有するものであってよい。また位相差シー
トは、単層物であっもよいし、位相差等の光学特性の制
御を目的に同種又は異種の位相差層を２層又は３層以上
積層した重畳物からなるものなどであってもよい。

【００１６】位相差特性を維持する点よりは、ガスバリ
ア層形成用の塗工液やエポキシ樹脂塗工液を皮膜化処理
する際の温度、エポキシ系基板シートの使用目的などに
耐える耐熱性を有するものが好ましく用いうる。また取
扱性や目的物の製造効率等の点よりは柔軟性に優れるも
のが好ましい。

【００１７】ちなみに液晶表示装置の形成に用いる場合
には、その製造工程での熱処理なども考慮して、例えば
ポリカーボネートやポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ンの如きガラス転移温度が１２０℃以上の樹脂からなる
位相差フィルムなどが好ましく用いうる。なお位相差シ
ートの厚さは、目的とする位相差特性などにても相違す
るが、一般には薄型化や柔軟化などを目的に１mm以下、
就中５〜５００μm、特に１０〜３００μmとされる。

【００１８】また上記おいて位相差シートは、製造過程
でのエンドレスベルト等からなる流延支持体との接触で
表面が傷付くことなどの防止を目的に、位相差シートの
流延支持体と接する側に保護シートを設けた状態で用い
ることもできる。その保護シートには、樹脂フィルムや
発泡シート、紙や不織布等などの適宜なものを用いう
る。

【００１９】前記の保護シートは、例えば接着剤層等を
介した接着処理にて位相差シートと一体化していてもよ
いが、一般には粘着層等を介した仮着処理などにて必要
なときに容易に分離できる状態にあることが好ましい。
保護シートの厚さは適宜に決定できるが、一般には薄型
化や柔軟化などを目的に１mm以下、就中５〜５００μ
m、特に１０〜３００μmとされる。

【００２０】位相差シートの上に展開するガスバリア層
形成用の塗工液は、目的とするガスの透過を阻止しうる
液体化が可能な適宜な材料を用いて調製することができ
る。ちなみに液晶セルにおいては、水分や酸素がセル基
板を透過してセル内に侵入すると液晶の変質や気泡の形
成による外観不良、透明導電膜パターンの断線などを発
生させるおそれがある。

【００２１】従って液晶セルの場合には、水蒸気や酸素
ガスの透過阻止が重要となり、それらガスの透過を阻止
しうる材料が用いられる。その材料としては、シリカ等
の無機系材料も用いうるが、一般には塗工方式による皮
膜形成の容易性や耐変形性などの点よりポリマーが用い
られる。

【００２２】前記のポリマーとしては、上記の如く水蒸
気や酸素ガスの透過を阻止しうる適宜なものを用いうる
が、一般にはかかるガスの透過阻止能に優れる、就中、
酸素透過係数が小さい例えばポリビニルアルコールやそ
の部分けん化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体
やポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなどが用
いられる。特にガスバリア性や水分の拡散性ないし吸水
度の均一性などの点よりビニルアルコール系ポリマーが
好ましく用いうる。

【００２３】ポリマーからなるガスバリア層形成用の塗
工液は、例えばビニルアルコール系ポリマーの水溶液の
如く使用ポリマーを溶解しうる適宜な溶媒を用いてポリ
マー溶液を調製する方式などの、１種又は２種以上の形
成材料を必要に応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態
とすることにより調製することができる。

【００２４】また塗工液の展開には、例えばカーテンコ
ート法やロールコート法、ワイヤバーコート法やエクス
トルージョンコート法、スプレコート法などの適宜な方
式を採ることができる。就中、上記したダイ等を介した
流延法にては塗布効率などの点よりエクストルージョン
コート法が好ましく適用することができる。

【００２５】形成するガスバリア層の厚さは、適宜に決
定でき、特に限定はない。一般には透明性や着色防止、
ガスバリア性や薄型化、得られるエポキシ系基板シート
のフレキシビリティーなどの点より、１５μm以下、就
中１３μm以下、特に１〜１０μmの厚さとすることが好
ましい。

【００２６】ガスバリア層又はそれを形成するための塗
工液の上に展開するエポキシ樹脂塗工液の調製には、エ
ポキシ樹脂とその硬化剤が用いられ、必要に応じ硬化促
進剤やレべリング剤などが併用される。そのエポキシ樹
脂については特に限定はなく、形成するエポキシ系基板
シートの使用目的、熱硬化や光照射硬化等の目的とする
硬化処理方式などに応じて適宜なものを用いうる。

【００２７】ちなみに前記のエポキシ樹脂の例として
は、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型、ビスフ
ェノールＳ型やそれらの水添型の如きビスフェノール
型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型
の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート
型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪
族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテ
ル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ
型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変性型
などがあげられる。

【００２８】透明性等の光学特性などの点より好ましく
用いうるエポキシ樹脂は、脂環式型のものの如くベンゼ
ン環等の共役二重結合を含有せずに変色防止性の良好な
ものである。また通例、エポキシ当量が１００〜１００
０で、軟化点が１２０℃以下のエポキシ樹脂が、得られ
るエポキシ系基板シートの柔軟性や強度等の物性などの
点より好ましく用いうる。さらに塗工性やシート状への
展開性等に優れるエポキシ樹脂塗工液を得る点などより
は、塗工時の温度以下、就中、常温において液体状態を
示す二液混合型のものが好ましく用いうる。

【００２９】エポキシ樹脂は、１種又は２種以上を用い
ることができ、液状と固形状のエポキシ樹脂を併用する
こともできる。固形エポキシ樹脂の併用で強度や耐熱性
の向上を図ることができ、また塗工液の粘度も調節でき
て、特に塗工液を高粘度化でき展開層の厚さ制御などを
容易化することができる。

【００３０】一方、硬化剤についても特に限定はなく、
エポキシ樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種又は２種以上
用いることができる。ちなみにその例としては、テトラ
ヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有
機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミ
ン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、
それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジ
アミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホン
の如きアミン系化合物類があげられる。

【００３１】またジシアンジアミドやポリアミドの如き
アミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系
化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチ
ルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイ
ミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニル
イミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシル
イミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール
の如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例として
あげられる。

【００３２】さらにメチルイミダゾリンや２−エチル−
４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプ
ロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンや
フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプ
タデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミ
ダゾリンの如きイミダゾリン系化合物類、その他、フェ
ノール系化合物類やユリア系化合物類、ポリスルフィド
系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。

【００３３】加えて酸無水物系化合物類なども前記硬化
剤の例としてあげられ、低刺激性による作業環境性や得
られる硬化層の耐熱性向上による高温耐久性、変色防止
性などの点よりは、かかる酸無水物系硬化剤が好ましく
用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン
酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナ
ジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水
物やメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロ
フタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物、
メチルナジック酸無水物やドデセニルコハク酸無水物、
ジクロロコハク酸無水物やベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸無水物やクロレンディック酸無水物などがあげられ
る。

【００３４】就中、無水フタル酸やテトラヒドロフタル
酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサ
ヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、
分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ま
しく用いうる。

【００３５】硬化剤の使用量は、その種類やエポキシ樹
脂のエポキシ当量などに応じて適宜に決定でき、通例の
エポキシ樹脂硬化の場合に準じうる。ちなみに前記の酸
無水物系硬化剤では、得られる硬化層の色相や耐湿性の
低下防止などの点よりエポキシ基１当量に対し、０．５
〜１．５当量、就中０．６〜１．４当量、特に０．７〜
１．２当量の割合で酸無水物系硬化剤を使用することが
好ましい。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用
して使用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準
じうる。

【００３６】必要に応じて用いられる硬化促進剤につい
ても、特に限定はなく、エポキシ樹脂や硬化剤の種類な
どに応じて例えば、第三級アミン類やイミダゾール類、
第四級アンモニウム塩類や有機金属塩類、リン化合物類
や尿素系化合物類の如き適宜なものを１種又は２種以上
用いることができる。

【００３７】硬化促進剤の使用により硬化速度を促進し
て必要硬化処理時間を短縮でき、ひいては展開から硬化
処理までの必要ライン長を促進剤不使用の場合の数分の
１程度に短縮化することができる。従って硬化促進剤の
使用量は、促進効果などに応じて適宜に決定しうるが、
一般には変色防止性などの点よりエポキシ樹脂１００重
量部あたり、０．０５〜７重量部、就中０．１〜５重量
部、特に０．２〜３重量部が好ましい。

【００３８】また必要に応じてのレベリング剤は、エポ
キシ樹脂塗工液の展開層を空気との接触下に硬化処理す
る場合に、硬化剤等の飛散による表面張力のバラツキな
どで梨地状の表面となることを防止して平滑な表面が形
成されることなどを目的に配合するものであり、例えば
シリコーン系やアクリル系、フッ素系等の各種界面活性
剤などの表面張力を低下させうる適宜なものを１種又は
２種以上用いうる。

【００３９】エポキシ樹脂塗工液の調製に際しては、さ
らに必要に応じてエポキシ樹脂硬化体に配合されること
のある、例えばフェノール系やアミン系、有機硫黄系や
ホスフィン系等の老化防止剤、グリコール類やシリコー
ン類、アルコール類等の変性剤、発泡防止剤や水酸基含
有化合物、染料や変色防止剤、紫外線吸収剤などの適宜
な添加剤を配合することができる。前記の発泡防止剤
は、得られる硬化層中に光学特性の低下原因となる気泡
が混入することの防止などを目的に添加され、グリセリ
ン等の多価アルコールなどが好ましく用いうる。

【００４０】エポキシ樹脂塗工液は、配合成分を必要に
応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態とすることによ
り調製することができる。またその塗工液の展開は、上
記したガスバリア層形成用の塗工液の場合に準じうる。
従って上記したダイ等を介した流延法にては塗布効率な
どの点よりエクストルージョンコート法が好ましく適用
することができる。

【００４１】形成するエポキシ樹脂硬化層の厚さは、適
宜に決定しうるが一般には、曲げ強度等の剛性や表面平
滑性、低位相差性や薄型軽量性などの点より１００〜１
０００μm、就中１５０〜８００μm、特に２００〜５０
０μmが好ましい。また光学用途等の点よりは厚さ精度
が±１０％以下であることが好ましい。その厚さ精度
は、例えばエポキシ樹脂硬化層の形成過程において位相
差シートの表面を可及的に水平状態に維持する方式など
により達成することができる。かかる方式は、上記した
ガスバリア層の形成過程にも適用してその厚さ精度を高
めることが好ましい。

【００４２】形成されたエポキシ系基板シートの連続体
は、その使用目的などに応じて必要に応じレーザー光線
や超音波カッター、ダイシングやウォータージェットな
どの適宜な切断手段を介し適宜な寸法に切断して回収す
ることもできる。

【００４３】本発明によるエポキシ系基板シートは、例
えば位相差板などの各種用途に好ましく用いうる。就
中、光学特性や耐熱性に優れる点などより液晶セル用の
基板の如く、高温処理に耐えて曲げ強度等や軽量性等に
優れることが要求される光学用途などに好ましく用いる
ことができる。

【００４４】特に光学補償用の位相差シートとガスバリ
ア層とエポキシ樹脂硬化層とが密着重畳してなるエポキ
シ系基板シートは、接着剤層の介在がなくて薄型性に優
れており、液晶セルを形成するためのセル基板などとし
て好ましく用いることができる。

【００４５】

【実施例】実施例１ ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート１００部（重量
部、以下同じ）、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物１
２５部、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエ
チルホスホロジチオエート３．７５部、グリセリン２．
２５部及びシリコーン系界面活性剤（レベリング剤、楠
本化成社製、ディスパロンＬＳ−００９）０．０７部を
撹拌混合し、４９℃にて９０分間エージングしてエポキ
シ樹脂塗工液を調製した。

【００４６】次に図１に例示の流延法にて、厚さ６０μ
mの延伸ポリカーボネートフィルムからなる長尺の位相
差シートを０．５ｍ／分の一定速度で走行させつつ、そ
の上に５．５重量％ポリビニルアルコール水溶液をダイ
より７．６ｇ／分の割合で連続に吐出させてシート状に
流延展開し、その展開層を加熱装置を介し６０℃で１０
分間加熱乾燥して皮膜化処理し、前記位相差シートと密
着したポリビニルアルコールからなる厚さ３μmのガス
バリア層を形成した。

【００４７】続いて前記のガスバリア層の上に、上記し
たエポキシ樹脂塗工液をダイより１００ｇ／分の割合で
連続に吐出させてシート状に流延展開し、その展開層を
加熱装置を介し１２０℃で３０分間加熱硬化処理して、
厚さ４００μmのエポキシ樹脂硬化層が前記ガスバリア
層上に密着重畳したエポキシ系基板シートを連続的に得
た。

【００４８】前記のエポキシ系基板シートは、位相差シ
ートの位相差特性を良好に維持するものであった。また
そのシートの酸素透過率をＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に準
拠したオキシラント法により４０℃、４３％ＲＨの条件
で測定（以下同じ）したところ、０．２cc／ｍ^２・２４
時間・atmであった。

【００４９】実施例２ 位相差シートとして、厚さ６０μmの延伸ポリスルホン
フィルムを用いたほかは実施例１に準じて、位相差シー
トと厚さ３μmのガスバリア層と厚さ４００μmのエポキ
シ樹脂硬化層が密着重畳したエポキシ系基板シートを連
続的に得た。このシートは、位相差シートの位相差特性
を良好に維持するものであり、その酸素透過率は０．２
cc／ｍ^２・２４時間・atmであった。

【００５０】比較例 ガスバリア層を設けない他は実施例１に準じて、位相差
シートと厚さ４００μmのエポキシ樹脂硬化層が直接密
着したエポキシ系シートを連続的に得た。このシートの
酸素透過率は、８０cc／ｍ^２・２４時間・atmであっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】製造工程例の説明図

【図２】エポキシ系基板シート例の断面図

【符号の説明】

６：エポキシ系基板シート １：位相差シート ２：ガスバリア層 ３：エポキシ樹脂硬化層 ２１，３１：ダイ ２２：ガスバリア層形成用塗工液の展開層 ３２：エポキシ樹脂塗工液の展開層 ２３，３３：皮膜化処理装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下平 起市 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電 工株式会社内 (72)発明者 宮武 稔 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電 工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA07 BA25 BB25 BB42 BB62 BC09 BC22 4F100 AK21B AK45C AK53A AR00B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CC00A CC00B EH461 EH462 EJ082 EJ421 EJ422 EJ861 GB41 JA20B JD02B JL02 JN00C YY00B

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 長尺の位相差シートを順次走行させつ
   つ、その上に塗工液をシート状に順次展開してそれを皮
   膜化する操作を介し、前記位相差シートの上にガスバリ
   ア層とエポキシ樹脂硬化層が順次密着重畳した基板を連
   続製造することを特徴とするエポキシ系基板シートの製
   造方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、位相差シートがガラ
   ス転移温度１２０℃以上の樹脂よりなる単層物又は２層
   以上の重畳物、ガスバリア層がポリマー皮膜からなり、
   エポキシ樹脂硬化層の厚さが１００μm以上であるエポ
   キシ系基板シートの製造方法。
3. 【請求項３】 光学補償用の位相差シートとエポキシ樹
   脂硬化層とがガスバリア層を介してそれぞれ接着剤層の
   介在なく密着重畳してなることを特徴とするエポキシ系
   基板シート。