JP2000227564A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents
マルチビーム走査光学装置Info
- Publication number
- JP2000227564A JP2000227564A JP11028792A JP2879299A JP2000227564A JP 2000227564 A JP2000227564 A JP 2000227564A JP 11028792 A JP11028792 A JP 11028792A JP 2879299 A JP2879299 A JP 2879299A JP 2000227564 A JP2000227564 A JP 2000227564A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanned
- scanning
- scanning direction
- interval
- focal length
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 47
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 abstract description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マルチビーム走査光学装置において、ズーム
コリメータレンズを用いて被走査面上でのビーム間隔を
補正し、該補正に伴う被走査面上でのビーム径あるいは
光量の変動を解消すること。 【解決手段】 レーザダイオード１０の二つの点光源か
ら放射されたレーザビームを、ズームコリメータレンズ
１１で集光すると共に開口型絞り１２を透過させ、ポリ
ゴンミラー１４の回転に基づいて同時に感光体ドラム
（被走査面）２５上を走査する光学装置。ビームの間隔
は検出器２０で検出され、その検出値に基づいてズーム
コリメータレンズ１１の焦点距離を変更し、ビーム間隔
を補正する。ビーム径は絞り１２によって一定に規制さ
れ、かつ、レーザダイオード１０の発光光量も補正され
る。
コリメータレンズを用いて被走査面上でのビーム間隔を
補正し、該補正に伴う被走査面上でのビーム径あるいは
光量の変動を解消すること。 【解決手段】 レーザダイオード１０の二つの点光源か
ら放射されたレーザビームを、ズームコリメータレンズ
１１で集光すると共に開口型絞り１２を透過させ、ポリ
ゴンミラー１４の回転に基づいて同時に感光体ドラム
（被走査面）２５上を走査する光学装置。ビームの間隔
は検出器２０で検出され、その検出値に基づいてズーム
コリメータレンズ１１の焦点距離を変更し、ビーム間隔
を補正する。ビーム径は絞り１２によって一定に規制さ
れ、かつ、レーザダイオード１０の発光光量も補正され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マルチビーム走査
光学装置、詳しくは、複数の光源から放射されたレーザ
ビームを副走査方向に所定の間隔で同時に被走査面上を
等速走査するマルチビーム走査光学装置に関する。
光学装置、詳しくは、複数の光源から放射されたレーザ
ビームを副走査方向に所定の間隔で同時に被走査面上を
等速走査するマルチビーム走査光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術と課題】一般に、感光体上に画像を記録す
るためのマルチビーム走査光学装置においては、温度等
の環境条件の変化や組立て誤差等に起因して、複数のレ
ーザビームの副走査方向の間隔が変動する。この対策と
して、特開平８−２３４１２６号公報、実開平４−１２
０９１７号公報には、ビームの間隔変動を検出してズー
ムコリメータレンズの焦点距離を変化させ、光路長を一
定の状態で被走査面上でのビーム間隔を補正する方法が
提案されている。
るためのマルチビーム走査光学装置においては、温度等
の環境条件の変化や組立て誤差等に起因して、複数のレ
ーザビームの副走査方向の間隔が変動する。この対策と
して、特開平８−２３４１２６号公報、実開平４−１２
０９１７号公報には、ビームの間隔変動を検出してズー
ムコリメータレンズの焦点距離を変化させ、光路長を一
定の状態で被走査面上でのビーム間隔を補正する方法が
提案されている。
【０００３】ところで、ズームコリメータレンズを用い
ることは、光路長を一定に保持してビーム間隔を補正で
きる利点を有するものであるが、焦点距離を変化させる
ために、即ち、光学系全体の倍率が変化するため、被走
査面上でのビーム径が変動してしまう、あるいは光量が
変動してしまうという問題点を有していた。
ることは、光路長を一定に保持してビーム間隔を補正で
きる利点を有するものであるが、焦点距離を変化させる
ために、即ち、光学系全体の倍率が変化するため、被走
査面上でのビーム径が変動してしまう、あるいは光量が
変動してしまうという問題点を有していた。
【０００４】そこで、本発明の目的は、ズームコリメー
タレンズを用いて被走査面上でのビーム間隔を補正する
にも拘らず、被走査面上でのビーム径あるいは光量が変
動することのないマルチビーム走査光学装置を提供する
ことにある。
タレンズを用いて被走査面上でのビーム間隔を補正する
にも拘らず、被走査面上でのビーム径あるいは光量が変
動することのないマルチビーム走査光学装置を提供する
ことにある。
【０００５】
【発明の構成、作用及び効果】以上の目的を達成するた
め、本発明に係るマルチビーム走査光学装置は、複数の
各光源から放射されたレーザビームを集光して主走査方
向又は副走査方向の少なくともいずれか一方の焦点距離
を変化させるズーム光学素子と、そのビーム進行方向下
流側に配置されたレーザビームの一部を遮光する絞り手
段とを備えている。
め、本発明に係るマルチビーム走査光学装置は、複数の
各光源から放射されたレーザビームを集光して主走査方
向又は副走査方向の少なくともいずれか一方の焦点距離
を変化させるズーム光学素子と、そのビーム進行方向下
流側に配置されたレーザビームの一部を遮光する絞り手
段とを備えている。
【０００６】また、本発明に係るマルチビーム走査光学
装置は、前記ズーム光学素子と、複数の光源の光量を補
正する光量補正手段と、ズーム光学素子の焦点距離の変
化に応じて光量補正手段を制御する制御手段とを備えて
いる。
装置は、前記ズーム光学素子と、複数の光源の光量を補
正する光量補正手段と、ズーム光学素子の焦点距離の変
化に応じて光量補正手段を制御する制御手段とを備えて
いる。
【０００７】本発明においては、ズーム光学素子の焦点
距離を変化させることで複数のレーザビームの被走査面
上での間隔を補正する。補正はレーザビームの間隔を検
出し、この検出値に基づいて行われる。従って、検出手
段とフィードバック制御手段を設ければ、常時、検出／
補正を実行することができる。そして、本発明において
は、ズーム光学素子の下流側に設けた絞り手段によっ
て、間隔補正のために焦点距離が変化したとしても被走
査面上でのビーム径が一定に維持される。また、焦点距
離の変化に応じて光源の光量を補正することにより、通
常は焦点距離が長くなれば光量を増大させることによ
り、光量が一定に維持される。
距離を変化させることで複数のレーザビームの被走査面
上での間隔を補正する。補正はレーザビームの間隔を検
出し、この検出値に基づいて行われる。従って、検出手
段とフィードバック制御手段を設ければ、常時、検出／
補正を実行することができる。そして、本発明において
は、ズーム光学素子の下流側に設けた絞り手段によっ
て、間隔補正のために焦点距離が変化したとしても被走
査面上でのビーム径が一定に維持される。また、焦点距
離の変化に応じて光源の光量を補正することにより、通
常は焦点距離が長くなれば光量を増大させることによ
り、光量が一定に維持される。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るマルチビーム
走査光学装置の実施形態について添付図面を参照して説
明する。
走査光学装置の実施形態について添付図面を参照して説
明する。
【０００９】（第１実施形態、図１〜図６参照）第１実
施形態であるマルチビーム走査光学装置１は、概略、レ
ーザダイオード１０と、コリメータレンズ１１と、開口
型絞り１２と、シリンドリカルレンズ１３と、ポリゴン
ミラー１４と、走査レンズ１５と、像面上でのビーム間
隔の検出器２０とで構成されている。
施形態であるマルチビーム走査光学装置１は、概略、レ
ーザダイオード１０と、コリメータレンズ１１と、開口
型絞り１２と、シリンドリカルレンズ１３と、ポリゴン
ミラー１４と、走査レンズ１５と、像面上でのビーム間
隔の検出器２０とで構成されている。
【００１０】レーザダイオード１０は二つの点光源を有
し、Ｚ軸方向に所定の間隔でレーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂを放射する。コリメータレンズ１１はその焦点距離が
可変なズームレンズであり、レーザダイオードＬＢａ，
ＬＢｂを平行光又は収束光に集光する。コリメータレン
ズ１１で集光されたレーザビームＬＢａ，ＬＢｂは開口
型絞り１２でそれぞれ部分的に遮光され、所定のビーム
径に規制される。レーザビームＬＢａ，ＬＢｂの副走査
方向Ｚの間隔は互いに像面上で数１０μｍオーダーの間
隔を持つように設定される。例えば、印字密度が４００
ｄｐｉの場合は、像面上での間隔は６３．５μｍ、６０
０ｄｐｉの場合は４２．３μｍ、８００ｄｐｉの場合は
３１．８μｍである。
し、Ｚ軸方向に所定の間隔でレーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂを放射する。コリメータレンズ１１はその焦点距離が
可変なズームレンズであり、レーザダイオードＬＢａ，
ＬＢｂを平行光又は収束光に集光する。コリメータレン
ズ１１で集光されたレーザビームＬＢａ，ＬＢｂは開口
型絞り１２でそれぞれ部分的に遮光され、所定のビーム
径に規制される。レーザビームＬＢａ，ＬＢｂの副走査
方向Ｚの間隔は互いに像面上で数１０μｍオーダーの間
隔を持つように設定される。例えば、印字密度が４００
ｄｐｉの場合は、像面上での間隔は６３．５μｍ、６０
０ｄｐｉの場合は４２．３μｍ、８００ｄｐｉの場合は
３１．８μｍである。
【００１１】シリンドリカルレンズ１３は、副走査方向
Ｚにのみパワーを持ち、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂを
ポリゴンミラー１４の偏向面上に主走査方向Ｙに線状に
集光する。ポリゴンミラー１４は矢印ａ方向に一定の角
速度で回転駆動され、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂはこ
の回転に基づいてポリゴンミラー１４の各偏向面で等角
速度に偏向され、走査レンズ１５、シリンドリカルレン
ズ１６、折り返しミラー１７を介して感光体ドラム２５
上で結像すると共に、主走査方向Ｙに走査する。即ち、
この光学装置１では１回の走査で感光体ドラム２５上に
２ラインを同時に書き込む。
Ｚにのみパワーを持ち、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂを
ポリゴンミラー１４の偏向面上に主走査方向Ｙに線状に
集光する。ポリゴンミラー１４は矢印ａ方向に一定の角
速度で回転駆動され、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂはこ
の回転に基づいてポリゴンミラー１４の各偏向面で等角
速度に偏向され、走査レンズ１５、シリンドリカルレン
ズ１６、折り返しミラー１７を介して感光体ドラム２５
上で結像すると共に、主走査方向Ｙに走査する。即ち、
この光学装置１では１回の走査で感光体ドラム２５上に
２ラインを同時に書き込む。
【００１２】走査レンズ１５は周知のもので、像面上で
の主走査速度を等速に補正する機能や像面湾曲を補正す
る機能を有している。シリンドリカルレンズ１６は前記
シリンドリカルレンズ１３と協働してポリゴンミラー１
４の面倒れ誤差を補正する機能を有している。
の主走査速度を等速に補正する機能や像面湾曲を補正す
る機能を有している。シリンドリカルレンズ１６は前記
シリンドリカルレンズ１３と協働してポリゴンミラー１
４の面倒れ誤差を補正する機能を有している。
【００１３】感光体ドラム２５は矢印ｂ方向に一定速度
で回転駆動され、この副走査とレーザビームＬＢａ，Ｌ
Ｂｂの主走査（矢印Ｙ方向）によって感光体ドラム２５
上に２次元の画像（静電潜像）が書き込まれる。
で回転駆動され、この副走査とレーザビームＬＢａ，Ｌ
Ｂｂの主走査（矢印Ｙ方向）によって感光体ドラム２５
上に２次元の画像（静電潜像）が書き込まれる。
【００１４】ところで、以上の構成からなるマルチビー
ム走査光学装置１においては、レーザダイオード１０の
点光源位置の誤差や、温度変化による光学素子の焦点距
離の変化等によって、被走査面上でのビーム間隔が変動
する。
ム走査光学装置１においては、レーザダイオード１０の
点光源位置の誤差や、温度変化による光学素子の焦点距
離の変化等によって、被走査面上でのビーム間隔が変動
する。
【００１５】ここで、図２を参照して、光源が主走査方
向又は副走査方向に変位（ΔＹ，ΔＺ）した場合の被走
査面上でのレーザビームの変位（ΔＹ’，ΔＺ’）につ
いて説明する。
向又は副走査方向に変位（ΔＹ，ΔＺ）した場合の被走
査面上でのレーザビームの変位（ΔＹ’，ΔＺ’）につ
いて説明する。
【００１６】図２（Ａ）は光源がΔＹ変位した場合を示
し、被走査面上でのビームの変位ΔＹ’，ΔＸ’は以下
の式（１），（２）によって表される。 ΔＹ’＝βm・ΔＹ …（１） ΔＸ’＝βm 2・ΔＸ …（２） 但し、βm＝ｆf／ｆco
し、被走査面上でのビームの変位ΔＹ’，ΔＸ’は以下
の式（１），（２）によって表される。 ΔＹ’＝βm・ΔＹ …（１） ΔＸ’＝βm 2・ΔＸ …（２） 但し、βm＝ｆf／ｆco
【００１７】図２（Ｂ）は光源がΔＺ変位した場合を示
し、被走査面上でのビームの変位ΔＺ’，ΔＸ’は以下
の式（３），（４）によって表される。 ΔＺ’＝βs・ΔＺ …（３） ΔＸ’＝βs 2・ΔＸ …（４） 但し、βs＝（ｆcy／ｆco）・βf
し、被走査面上でのビームの変位ΔＺ’，ΔＸ’は以下
の式（３），（４）によって表される。 ΔＺ’＝βs・ΔＺ …（３） ΔＸ’＝βs 2・ΔＸ …（４） 但し、βs＝（ｆcy／ｆco）・βf
【００１８】即ち、前式（１）〜（４）から明らかなよ
うに、被走査面上でのビームの変位ΔＺ’，ΔＸ’は、
コリメータレンズ１１の焦点距離ｆcoを調整することで
補正することができる。従って、本第１実施形態では、
コリメータレンズ１１をズームレンズとし、以下に説明
するビーム間隔検出器２０によって検出されたビーム間
隔誤差に基づいてコリメータレンズ１１の焦点距離を調
整するようにした。
うに、被走査面上でのビームの変位ΔＺ’，ΔＸ’は、
コリメータレンズ１１の焦点距離ｆcoを調整することで
補正することができる。従って、本第１実施形態では、
コリメータレンズ１１をズームレンズとし、以下に説明
するビーム間隔検出器２０によって検出されたビーム間
隔誤差に基づいてコリメータレンズ１１の焦点距離を調
整するようにした。
【００１９】図３は、偏向後に被走査面と等価位置でレ
ーザビームＬＢａ，ＬＢｂの変位量ΔＹ’，ΔＺ’を検
出する機構を示す。この検出器２０は、ミラー２６から
の反射ビームを受光する三角形の検出面を有する光セン
サ２１，２２，２３，２４を主走査方向に並設したもの
で、図３中、ＬＢａ，ＬＢｂは各レーザビームの走査軌
跡を示している。主走査方向の変位量ΔＹ’は光センサ
２１，２３の検出時間ｔ１を各レーザビームＬＢａ，Ｌ
Ｂｂごとに測定し、二つの測定値の差に基づいて算出す
る。副走査方向の変位量ΔＺ’は、光センサ２２，２４
によるレーザビームＬＢａの検出時間ｔ２と、レーザビ
ームＬＢｂの検出時間ｔ３に基づいて算出する。
ーザビームＬＢａ，ＬＢｂの変位量ΔＹ’，ΔＺ’を検
出する機構を示す。この検出器２０は、ミラー２６から
の反射ビームを受光する三角形の検出面を有する光セン
サ２１，２２，２３，２４を主走査方向に並設したもの
で、図３中、ＬＢａ，ＬＢｂは各レーザビームの走査軌
跡を示している。主走査方向の変位量ΔＹ’は光センサ
２１，２３の検出時間ｔ１を各レーザビームＬＢａ，Ｌ
Ｂｂごとに測定し、二つの測定値の差に基づいて算出す
る。副走査方向の変位量ΔＺ’は、光センサ２２，２４
によるレーザビームＬＢａの検出時間ｔ２と、レーザビ
ームＬＢｂの検出時間ｔ３に基づいて算出する。
【００２０】さらに、副走査方向の走査位置を確定する
ため、いまひとつの光センサ２５をレーザビームＬＢａ
の走査軌跡上に設け、レーザビームＬＢａが所定の位置
で走査されていることを検出する。
ため、いまひとつの光センサ２５をレーザビームＬＢａ
の走査軌跡上に設け、レーザビームＬＢａが所定の位置
で走査されていることを検出する。
【００２１】検出された時間ｔ１，ｔ２，ｔ３は制御回
路２７へ入力され、制御回路２７で変位量を算出すると
共に補正値をも算出する。この補正値はコリメータレン
ズ１１のズーム駆動回路２８へ転送され、コリメータレ
ンズ１１の焦点距離を変更する。
路２７へ入力され、制御回路２７で変位量を算出すると
共に補正値をも算出する。この補正値はコリメータレン
ズ１１のズーム駆動回路２８へ転送され、コリメータレ
ンズ１１の焦点距離を変更する。
【００２２】このように、コリメータレンズ１１の焦点
距離を変更することで被走査面上でのビーム位置を補正
することができる。但し、焦点距離の変更に伴って被走
査面上でのビーム径と光量が変化するため、これらの少
なくともいずれか一つを補償することが実用上必要とな
る。
距離を変更することで被走査面上でのビーム位置を補正
することができる。但し、焦点距離の変更に伴って被走
査面上でのビーム径と光量が変化するため、これらの少
なくともいずれか一つを補償することが実用上必要とな
る。
【００２３】被走査面上でのビーム径Ｄmに関しては、
以下の式（５）によって表わされる （図４参照）。 Ｄm＝ｋ1λ（ｆf／Ｄo） ＝ｋ2λＦNO …（５） ｋ1，ｋ2：比例定数 λ：波長 Ｄo：ｆθレンズへの入射ビーム径 ｆf：ｆθレンズの焦点距離 ＦNO：ｆθレンズのＦNO
以下の式（５）によって表わされる （図４参照）。 Ｄm＝ｋ1λ（ｆf／Ｄo） ＝ｋ2λＦNO …（５） ｋ1，ｋ2：比例定数 λ：波長 Ｄo：ｆθレンズへの入射ビーム径 ｆf：ｆθレンズの焦点距離 ＦNO：ｆθレンズのＦNO
【００２４】前式（５）から明らかなように、コリメー
タレンズ１１の焦点距離ｆcoが変化しても、走査レンズ
１５に入射するビーム径Ｄoが一定であれば、被走査面
上でのビーム径Ｄmは変化しない。従って、本第１実施
形態ではコリメータレンズ１１の下流側に開口型絞り１
２を設け、前記ビーム径Ｄoを一定とするようにした。
なお、絞り手段は種々のタイプの絞りを採用することが
できる。
タレンズ１１の焦点距離ｆcoが変化しても、走査レンズ
１５に入射するビーム径Ｄoが一定であれば、被走査面
上でのビーム径Ｄmは変化しない。従って、本第１実施
形態ではコリメータレンズ１１の下流側に開口型絞り１
２を設け、前記ビーム径Ｄoを一定とするようにした。
なお、絞り手段は種々のタイプの絞りを採用することが
できる。
【００２５】一方、焦点距離ｆcoの変化に伴って光源か
らのビーム拡がり角θが変化するため、その変化に応じ
て光量を補正することが必要となる。図５はコリメータ
レンズ１１の焦点距離に対する光量利用率の関係を示
す。即ち、焦点距離ｆcoが大きくなると光量利用率が低
下するため、その低下分をレーザダイオード１０の駆動
電流を上昇させて光量を補償する。
らのビーム拡がり角θが変化するため、その変化に応じ
て光量を補正することが必要となる。図５はコリメータ
レンズ１１の焦点距離に対する光量利用率の関係を示
す。即ち、焦点距離ｆcoが大きくなると光量利用率が低
下するため、その低下分をレーザダイオード１０の駆動
電流を上昇させて光量を補償する。
【００２６】被走査面上での光エネルギーＩが図６に示
すガウス分布を示す場合、光エネルギーＩは以下の式
（６）で表わされ、制御回路２７は式（６）を用いてエ
ネルギー損失分の補正値を算出し、光量補正回路２９へ
転送する。光量補正回路２９は光源の駆動電圧を制御
し、その発光光量を補正する。
すガウス分布を示す場合、光エネルギーＩは以下の式
（６）で表わされ、制御回路２７は式（６）を用いてエ
ネルギー損失分の補正値を算出し、光量補正回路２９へ
転送する。光量補正回路２９は光源の駆動電圧を制御
し、その発光光量を補正する。
【００２７】
【数１】
【００２８】（第２実施形態、図７参照）図７におい
て、第２実施形態であるマルチビーム走査光学装置２
は、二つのレーザダイオード１０ａ，１０ｂを互いに直
交するＸ軸方向、Ｚ軸方向にレーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂを放射するように配置し、レーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂをビームスプリッタ１８で結合するようにしたもので
ある。また、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂの間隔は２次
元ＣＣＤ１９で検出するようにした。なお、図１と同じ
部材には同じ符号を付し、その説明は省略する。
て、第２実施形態であるマルチビーム走査光学装置２
は、二つのレーザダイオード１０ａ，１０ｂを互いに直
交するＸ軸方向、Ｚ軸方向にレーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂを放射するように配置し、レーザビームＬＢａ，ＬＢ
ｂをビームスプリッタ１８で結合するようにしたもので
ある。また、レーザビームＬＢａ，ＬＢｂの間隔は２次
元ＣＣＤ１９で検出するようにした。なお、図１と同じ
部材には同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００２９】ビームスプリッタ１８は二つのプリズムを
半透膜を介して接合したもので、レーザビームＬＢａの
直進光及びレーザビームＬＢｂの反射光が次段のズーム
コリメータレンズ１１に入射する。２次元ＣＣＤ１９は
レーザビームＬＢａのビームスプリッタ１８での反射光
及びレーザビームＬＢｂのビームスプリッタ１８の透過
光を受光し、各ビームの変位を検出する。この検出デー
タは制御回路２７へ入力され、制御回路２７でビームの
変位量及びそれに対するコリメータレンズ１１の焦点距
離の補正値を算出し、ズーム駆動回路２８へ転送する。
また、焦点距離の補正に伴って、レーザダイオード１０
ａ，１０ｂの発光光量も補正する。
半透膜を介して接合したもので、レーザビームＬＢａの
直進光及びレーザビームＬＢｂの反射光が次段のズーム
コリメータレンズ１１に入射する。２次元ＣＣＤ１９は
レーザビームＬＢａのビームスプリッタ１８での反射光
及びレーザビームＬＢｂのビームスプリッタ１８の透過
光を受光し、各ビームの変位を検出する。この検出デー
タは制御回路２７へ入力され、制御回路２７でビームの
変位量及びそれに対するコリメータレンズ１１の焦点距
離の補正値を算出し、ズーム駆動回路２８へ転送する。
また、焦点距離の補正に伴って、レーザダイオード１０
ａ，１０ｂの発光光量も補正する。
【００３０】（他の実施形態）なお、本発明に係るマル
チビーム走査光学装置は、前記実施形態に限定するもの
ではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することがで
きる。特に、複数のレーザビームの間隔の検出手段は種
々の方法を採用できる。また、２ビームのみならず３ビ
ームあるいはそれ以上のマルチビーム方式にあっても本
発明を適用することができる。さらに、光路を構成する
各種光学素子の種類、配置関係は任意である。
チビーム走査光学装置は、前記実施形態に限定するもの
ではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することがで
きる。特に、複数のレーザビームの間隔の検出手段は種
々の方法を採用できる。また、２ビームのみならず３ビ
ームあるいはそれ以上のマルチビーム方式にあっても本
発明を適用することができる。さらに、光路を構成する
各種光学素子の種類、配置関係は任意である。
【００３１】また、前記各実施形態では、コリメータレ
ンズの焦点距離の変化に伴って、被走査面上でのビーム
径の一定化と光源の光量補正を合わせて実施するように
したが、いずれか一方のみを実施しても感光体上に画像
を描画するという実用上のスペックを満足することがで
きる。
ンズの焦点距離の変化に伴って、被走査面上でのビーム
径の一定化と光源の光量補正を合わせて実施するように
したが、いずれか一方のみを実施しても感光体上に画像
を描画するという実用上のスペックを満足することがで
きる。
【００３２】特に、本マルチビーム走査光学装置を組み
込んだプリンタとしてその画質を考慮するのであれば、
感光体上でのビーム位置の補正に伴う画像劣化を補償す
るためには、現像器の現像バイアス電圧を変更する等画
像形成用デバイスの種々のパラメータを変更することも
可能である。具体的には、ビーム径を大きくするには現
像バイアス電圧を高く設定し、ビーム径を小さくするに
は低く設定すればよい。
込んだプリンタとしてその画質を考慮するのであれば、
感光体上でのビーム位置の補正に伴う画像劣化を補償す
るためには、現像器の現像バイアス電圧を変更する等画
像形成用デバイスの種々のパラメータを変更することも
可能である。具体的には、ビーム径を大きくするには現
像バイアス電圧を高く設定し、ビーム径を小さくするに
は低く設定すればよい。
【図１】本発明の第１実施形態であるマルチビーム走査
光学装置を示す概略構成図。
光学装置を示す概略構成図。
【図２】被走査面上でのレーザビームの変位を示す光路
図。
図。
【図３】ビーム間隔の検出方法の一例を示す説明図。
【図４】ビーム径の計算式を説明するための光路図。
【図５】コリメータレンズの焦点距離に対する光量利用
率を示すグラフ。
率を示すグラフ。
【図６】光エネルギーの分布を示すグラフ。
【図７】本発明の第２実施形態であるマルチビーム走査
光学装置を示す概略構成図。
光学装置を示す概略構成図。
１，２…マルチビーム走査光学装置 １０，１０ａ，１０ｂ…レーザダイオード １１…ズームコリメータレンズ １２…開口型絞り １８…ビームスプリッタ １９…２次元ＣＣＤ ２０…ビーム間隔検出器 ２７…制御手段 ２８…ズーム駆動回路 ２９…光量補正回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立部 秀成 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 鈴木 利和 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H045 AA01 BA22 BA32 CA03 CA88 CB22 DA02
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の光源から放射されたレーザビーム
を副走査方向に所定の間隔で同時に被走査面上を等速走
査するマルチビーム走査光学装置において、 前記光源から放射されたレーザビームを集光し、主走査
方向又は副走査方向の少なくともいずれか一方の焦点距
離を変化させるズーム光学素子と、 前記ズーム光学素子のビーム進行方向下流側に配置され
てレーザビームの一部を遮光する絞り手段と、 を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項２】 複数の光源から放射されたレーザビーム
を副走査方向に所定の間隔で同時に被走査面上を等速走
査するマルチビーム走査光学装置において、 前記複数の光源の光量を補正する光量補正手段と、 前記光源から放射されたレーザビームを集光し、主走査
方向又は副走査方向の少なくともいずれか一方の焦点距
離を変化させるズーム光学素子と、 前記ズーム光学素子の焦点距離の変化に応じて前記光量
補正手段を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項３】 レーザビームの主走査方向又は副走査方
向の少なくともいずれか一方のビーム間隔を検出する検
出手段と、 前記検出手段の検出結果に基づいて前記ズーム光学素子
を駆動する制御手段と、 を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
マルチビーム走査光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028792A JP2000227564A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | マルチビーム走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028792A JP2000227564A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | マルチビーム走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000227564A true JP2000227564A (ja) | 2000-08-15 |
Family
ID=12258286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11028792A Pending JP2000227564A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | マルチビーム走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000227564A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002088823A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Q-Vis Limited | Optical beam delivery configuration |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02269305A (ja) * | 1989-04-11 | 1990-11-02 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置 |
| JPH04101112A (ja) * | 1990-08-21 | 1992-04-02 | Canon Inc | マルチビーム走査光学系 |
| JPH0553068A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Fuji Xerox Co Ltd | マルチビーム走査光学系 |
| JPH07174995A (ja) * | 1993-10-01 | 1995-07-14 | Xerox Corp | ラスター走査装置 |
| JPH0980332A (ja) * | 1995-09-18 | 1997-03-28 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
-
1999
- 1999-02-05 JP JP11028792A patent/JP2000227564A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02269305A (ja) * | 1989-04-11 | 1990-11-02 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置 |
| JPH04101112A (ja) * | 1990-08-21 | 1992-04-02 | Canon Inc | マルチビーム走査光学系 |
| JPH0553068A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Fuji Xerox Co Ltd | マルチビーム走査光学系 |
| JPH07174995A (ja) * | 1993-10-01 | 1995-07-14 | Xerox Corp | ラスター走査装置 |
| JPH0980332A (ja) * | 1995-09-18 | 1997-03-28 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002088823A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Q-Vis Limited | Optical beam delivery configuration |
| US7173745B2 (en) | 2001-04-27 | 2007-02-06 | Q-Vis Limited | Optical beam delivery configuration |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8081203B2 (en) | Light-amount detecting device, light source device, optical scanning unit and image forming apparatus | |
| US5245462A (en) | Laser beam scanning apparatus | |
| JP2006259098A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2006091157A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS61124919A (ja) | 結像光学装置 | |
| US7995088B2 (en) | Optical scanning apparatus and image forming apparatus comprising the same | |
| US6519070B2 (en) | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image forming apparatus using the same | |
| US6963433B2 (en) | Multibeam scanning optical device and image forming apparatus using the same | |
| CN1316283C (zh) | 多束激光扫描单元和激光束偏转补偿方法 | |
| JP2000227564A (ja) | マルチビーム走査光学装置 | |
| JP5392447B2 (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
| JP2002287057A (ja) | マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JP2004348135A (ja) | 光走査装置 | |
| US7450287B2 (en) | Optical scanning device and method for detecting synchronization signal | |
| US6628444B2 (en) | Scanning optical device and image forming apparatus having the same | |
| JP7103039B2 (ja) | 光走査装置及びこれを用いた画像形成装置 | |
| JP2000227562A (ja) | マルチビーム走査光学装置 | |
| JP2017154436A (ja) | 画像形成装置および光走査装置の制御方法 | |
| JP2001108930A (ja) | 走査光学装置及びその制御方法 | |
| JPH08286135A (ja) | 光走査装置 | |
| US6753991B2 (en) | Optical recording apparatus | |
| JP2000227563A (ja) | マルチビーム走査光学装置 | |
| JP3859415B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH10154852A (ja) | 積層型マルチ半導体レーザ素子及びこの半導体レーザ素子を用いたレーザビーム走査光学装置 | |
| JP2013167683A (ja) | 偏向走査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050614 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050701 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050801 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050823 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051021 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060120 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060228 |