JP2000228465A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体素子の裏面が剥き出しの場合は外力や
異物でクラックが生じ易く、また反りが発生して表面研
磨が難しくなるという問題があり、裏面をも樹脂封止し
た場合は半導体装置が厚くなるという課題があった。 【解決手段】 樹脂封止の前に半導体素子1の裏面に保
護テープ20を接着し、半導体素子1の主面のみを樹脂
層5により樹脂封止するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置、特に樹
脂封止型半導体装置及びその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、携帯機器が急速に普及し、これに
伴ってその中に搭載される樹脂封止型半導体装置も薄
型、小型、軽量のものが要求されるようになっており、
これらに対応するために数多くのものが提案されてい
る。
【0003】その1つとして例えば図4に示すような従
来の半導体装置がある。半導体素子1の主面に形成した
電極パッド2に銅(Cu)の再配線3を電気的に接続さ
せ、更に、再配線3に接続して約150μm高さのCu
ポスト4を形成している。そしてそのCuポスト4の高
さに樹脂層5を形成して封止し、露出したCuポスト4
の先端部には半田ボール6等の金属で外部接続用端子が
形成されている。
【0004】ここまでの工程はすべて半導体素子1が複
数ならんでいるウエハ状態で処理され、最後にダイシン
グ処理されて個片化される。このような半導体装置は半
導体素子の大きさに極めて近い、いわゆるチップサイズ
パッケージの半導体装置となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の装置では、図5に従来の樹脂封止工程を示したよう
に、Cuポスト4を完全に覆うように樹脂封止する際、
複数の半導体素子1から成るウエハを上型7と下型8か
ら成るモールド金型にセットする。
【0006】このとき、モールド金型内のよごれなどの
異物が半導体素子1の裏面に接触して傷をつけ、更には
クラック9に至ることがある。
【0007】その後、樹脂キュアした後、Cuポスト4
の先端を露出するため、図6に従来の表面研磨工程を示
したように、研磨剤10によって表面研磨する。
【0008】研磨するために、ウエハを研磨ステージ1
1の真空孔12から真空引きで固定するが、ウエハが反
っているため真空引きがうまくいかず、表面研磨ができ
ない場合が生ずる。
【0009】このウエハの反りは、ウエハ(半導体素子
1)とその上に封止されている樹脂層5との膨張係数の
差で生じ、樹脂層5の厚み、材料の種類によって多かれ
少かれ起こるものである。
【0010】また、最近では、半導体素子の主面だけで
なく、裏面にも封止樹脂層を形成したものが提案されて
いるが、樹脂注入が両面になり、その分樹脂層が厚くな
るという問題があった。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ため、本発明は半導体素子の主面を樹脂層で樹脂封止
し、裏面に保護テープを接着するようにしたものであ
る。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施形態を示す断
面図で、図4と同じ構成要素には同じ符号を付してあ
る。
【0013】半導体素子1の主面に電極パッド2を形成
し、電極パッド2に電気的接続手段であるCuの再配線
3を接続し、更に再配線3に電気的接続手段であるCu
ポスト4を接続させて所定の高さに形成し、その主面を
樹脂層5で樹脂封止し、露出しているCuポスト4の先
端部に外部接続用端子の半田ボール6を取り付けてあ
る。
【0014】そして、半導体素子1の裏面に保護テープ
20を接着している。保護テープ20は接着機能を備え
た硬化した合成樹脂例えばポリイミドやエポキシ系の樹
脂で形成され、脆弱材料である半導体素子1の裏面を保
護している。
【0015】以上のように、本発明の実施形態によれ
ば、半導体素子1の裏面を保護テープ20で接着して保
護するので、何らかの外力が加わったり、異物が接触す
ることによるクラックを防止することができ、また半導
体素子1の主面のみを樹脂封止し、裏面に保護テープ2
0を接着しているので、樹脂注入が片面のため充填し易
く、厚さの薄いチップサイズパッケージの半導体装置を
実現することができる。
【0016】図2は本発明の半導体装置の製造方法を示
す図で、それぞれ各製造工程を断面図で示している。
【0017】(a)は複数の半導体素子1から成り、半
導体素子1の主面に電極パッド2を形成し、この電極パ
ッド2に電気的接続手段であるCuの再配線3、Cuポ
スト4を接続するように設けたウエハを準備する工程を
示している。
【0018】(b)はこのウエハの裏面にウエハとほぼ
同じサイズで保護テープ20を接着する工程を示してお
り、電極パッド2、再配線3の表示は以下の図面を含め
て省略している。
【0019】保護テープ20を接着してウエハの裏面に
貼り付ける方法は通常のダイシングテープの場合と同様
である。
【0020】(c)は樹脂封止工程を示したもので、裏
面に保護テープ20が貼り付けられたウエハを上型7と
下型8から成るモールド金型にセットし、Cuポスト4
を完全に覆うように樹脂を充填し、熱処理して樹脂層5
を形成し、半導体素子1の主面を樹脂封止する。
【0021】この時、ウエハ(半導体素子1)の裏面は
保護テープ20でカバーされているので、金型内のよご
れなどの異物がウエハの裏面に接触することがなく、半
導体素子1にクラックが発生することを防止できる。
【0022】(d)は表面研磨工程を示したもので、ウ
エハを研磨ステージ11に真空孔12からの真空引きで
固定する。
【0023】ウエハの裏面は保護テープ20が接着され
ているので、従来のようにウエハが反ることもなく、研
磨ステージ11にきちんと固定され、研磨剤10によっ
てCuポスト4の先端部が露出するまで研磨される。
【0024】ウエハの反りはウエハ(半導体素子1)と
その主面を封止している樹脂層5との膨張係数の差で生
じるものであるが、裏面に保護テープ20を貼り付けた
ことによってウエハの表裏で膨張、収縮にバランスがと
れ、反りが低減されている。このため、ウエハの研磨ス
テージ11への固定が容易になり、表面研磨が確実に行
えるようになった。
【0025】(e)は樹脂層5の表面に露出したCuポ
スト4の先端部に外部接続用端子である半田ボール6を
取り付ける工程を示している。
【0026】(f)は上記した工程を終えたウエハを切
断刃13によって切断線14でカットし、個片化する工
程を示している。
【0027】上記したように、樹脂封止が半導体素子1
の片面だけなので、半導体装置を薄くすることができる
が、更に薄くするためには、ウエハの裏面を研磨するこ
とが行われる。
【0028】この裏面研磨は(d)に示した表面研磨工
程の後に行われるが、この際、ウエハの裏面から保護テ
ープ20をUV(紫外線)照射で剥離し、その後、裏面
研磨することになる。この時点では熱処理はないので、
保護テープ20を剥がしても何ら問題はない。
【0029】なお、上記の例では、電気的接続手段とし
て再配線3、Cuポスト4で、また外部接続用端子とし
て半田ボール6で説明したが、これに限定されるもので
はない。
【0030】
【発明の効果】上記したように、本発明によれば、半導
体素子の裏面に保護テープを接着しているので、外力や
異物になるクラックの発生を防止でき、また、半導体素
子の主面のみを樹脂封止するので、樹脂の充填が容易で
厚さを薄くすることができる。
【0031】また、樹脂封止工程の前にウエハの裏面に
保護テープを接着するので、樹脂封止工程でのウエハへ
の傷の低減、ウエハの反りの防止が図れ、表面研磨工程
の容易化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を示す断面図
【図2】本発明の製造方法を示す図(その1)
【図3】本発明の製造方法を示す図(その2)
【図4】従来の構造を示す断面図
【図5】従来の樹脂封止工程を示す図
【図6】従来の表面研磨工程を示す図
【符号の説明】
1 半導体素子 2 電極パッド 3 再配線 4 Cuポスト 5 樹脂層 6 半田ボール 7 上型 8 下型 10 研磨剤 11 研磨ステージ 12 真空孔 13 切断刃 20 保護テープ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子の主面に電極パッドを形成
    し、前記主面を樹脂層で樹脂封止し、前記樹脂層を通し
    て前記電極パッドと外部接続用端子を電気的に接続した
    半導体装置において、 前記半導体素子の裏面に保護テープを接着したことを特
    徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記保護テープが接着機能を備えた硬化
    した合成樹脂で形成されたことを特徴とする請求項1記
    載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 半導体素子の主面に電極パッドを形成
    し、前記電極パッドに電気的接続手段を設けたウエハを
    準備する工程と、 前記ウエハの裏面に保護テープを接着する工程と、 金型にセットして前記半導体素子の主面を樹脂層により
    樹脂封止する工程と、 前記樹脂層の表面を研磨する工程と、 前記樹脂層の表面に露出した前記電気的接続手段に外部
    接続用端子を取り付ける工程と、 前記工程を終えたウエハを個片化する工程と、 を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、 前記樹脂層の表面を研磨する工程の後に、前記保護テー
    プを剥離し、前記ウエハの裏面を研磨する工程を備えた
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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