JP2000234060A - 接着性シリコーンエラストマーフィルム - Google Patents
接着性シリコーンエラストマーフィルムInfo
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 取扱いが簡単で、均一な形状のクリーンなフ
ィルムとして短時間に製造でき、使用時の工程を合理化
でき、しかも低弾性で十分な耐熱性、接着性及び加工性
を有する接着性シリコーンエラストマーフィルム、それ
を用いたシリコーンエラストマーフィルム被覆体及び構
造体を提供する。 【解決手段】 （Ａ）例えば式： 【化1】 で示されるオイル状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）光
増感剤、及び（Ｃ）アルコキシシラン及び／又はその部
分加水分解縮合物を含有する光硬化性シリコーンゴム組
成物をフィルム状に成形し、得られたフィルムを光硬化
させることにより得られる接着性シリコーンエラストマ
ーフィルム。
ィルムとして短時間に製造でき、使用時の工程を合理化
でき、しかも低弾性で十分な耐熱性、接着性及び加工性
を有する接着性シリコーンエラストマーフィルム、それ
を用いたシリコーンエラストマーフィルム被覆体及び構
造体を提供する。 【解決手段】 （Ａ）例えば式： 【化1】 で示されるオイル状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）光
増感剤、及び（Ｃ）アルコキシシラン及び／又はその部
分加水分解縮合物を含有する光硬化性シリコーンゴム組
成物をフィルム状に成形し、得られたフィルムを光硬化
させることにより得られる接着性シリコーンエラストマ
ーフィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品の接着性
フィルムとして有用な接着性シリコーンエラストマーフ
ィルム、それを用いたシリコーンエラストマーフィルム
被覆体及び構造体に関する。
フィルムとして有用な接着性シリコーンエラストマーフ
ィルム、それを用いたシリコーンエラストマーフィルム
被覆体及び構造体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体デバイスのダイボンディン
グ用やＴＡＢテープの接着用途にエポキシ系の接着性フ
ィルムが使用されている。しかし、これらの接着性フィ
ルムは、耐熱性が不十分であり、また低弾性化が不可能
であるという問題を有する（高弾性体では、例えば２つ
の異種の基板間に接着層として貼り合わせて使用した場
合、熱的及び機械的応力を緩和し難く、製品の信頼性を
低下させる）。一方、シリコーン系の接着性フィルムは
一般に高耐熱性で低弾性であるが、十分な接着性と作業
性を有し、容易に製造できるものは知られていない。
グ用やＴＡＢテープの接着用途にエポキシ系の接着性フ
ィルムが使用されている。しかし、これらの接着性フィ
ルムは、耐熱性が不十分であり、また低弾性化が不可能
であるという問題を有する（高弾性体では、例えば２つ
の異種の基板間に接着層として貼り合わせて使用した場
合、熱的及び機械的応力を緩和し難く、製品の信頼性を
低下させる）。一方、シリコーン系の接着性フィルムは
一般に高耐熱性で低弾性であるが、十分な接着性と作業
性を有し、容易に製造できるものは知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、取扱
いが簡単で、均一な形状のクリーンなフィルムとして短
時間に製造でき、使用時の工程を合理化でき、しかも低
弾性で十分な耐熱性、接着性及び加工性を有する接着性
シリコーンエラストマーフィルム、それを用いたシリコ
ーンエラストマーフィルム被覆体及び構造体を提供する
ことである。
いが簡単で、均一な形状のクリーンなフィルムとして短
時間に製造でき、使用時の工程を合理化でき、しかも低
弾性で十分な耐熱性、接着性及び加工性を有する接着性
シリコーンエラストマーフィルム、それを用いたシリコ
ーンエラストマーフィルム被覆体及び構造体を提供する
ことである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）一般式
(I)：
(I)：
【０００５】
【化２】 で示されるオルガノポリシロキサン、（Ｂ）放射線増感
剤、及び（Ｃ）一般式(III)： Si(OR6)4 (III) （式中、R6 は非置換又は置換の低級アルキル基であ
る。）で示されるアルコキシシラン及びその部分加水分
解縮合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物、を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物をフ
ィルム状に成形し、得られたフィルムを放射線硬化させ
ることにより得られる接着性シリコーンエラストマーフ
ィルムを提供する。
剤、及び（Ｃ）一般式(III)： Si(OR6)4 (III) （式中、R6 は非置換又は置換の低級アルキル基であ
る。）で示されるアルコキシシラン及びその部分加水分
解縮合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物、を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物をフ
ィルム状に成形し、得られたフィルムを放射線硬化させ
ることにより得られる接着性シリコーンエラストマーフ
ィルムを提供する。
【０００６】また本発明は、上記シリコーンエラストマ
ーフィルムで基体の一部又は全部を覆い、次いで加熱し
て該フィルムを硬化させることにより得られるシリコー
ンエラストマーフィルム被覆体を提供する。更に本発明
は、上記シリコーンエラストマーフィルムを二つの基体
間に挟み、次いで加熱して該フィルムを硬化させて両基
体を相互に結合させることにより得られる構造体を提供
する。更に本発明は、上記接着性シリコーンエラストマ
ーフィルムをダイと該ダイを装着すべき基体の所定箇所
との間に挟んで配置し、該フィルムを該ダイと基体との
間で加熱して硬化させる、ことを特徴とするダイボンデ
ィング方法を提供する。
ーフィルムで基体の一部又は全部を覆い、次いで加熱し
て該フィルムを硬化させることにより得られるシリコー
ンエラストマーフィルム被覆体を提供する。更に本発明
は、上記シリコーンエラストマーフィルムを二つの基体
間に挟み、次いで加熱して該フィルムを硬化させて両基
体を相互に結合させることにより得られる構造体を提供
する。更に本発明は、上記接着性シリコーンエラストマ
ーフィルムをダイと該ダイを装着すべき基体の所定箇所
との間に挟んで配置し、該フィルムを該ダイと基体との
間で加熱して硬化させる、ことを特徴とするダイボンデ
ィング方法を提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】＜接着性シリコーンエラストマー
フィルム＞本発明の接着性シリコーンエラストマーフィ
ルムに使用される放射線硬化性シリコーンゴム組成物
は、下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有してなる。なお、本
発明で云う接着性シリコーンエラストマーフィルムは、
シートを含むものである。 （Ａ）オルガノポリシロキサン：（Ａ）成分のオルガノ
ポリシロキサンはベースポリマーとして使用される成分
であって、上記一般式(I)で表される。
フィルム＞本発明の接着性シリコーンエラストマーフィ
ルムに使用される放射線硬化性シリコーンゴム組成物
は、下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有してなる。なお、本
発明で云う接着性シリコーンエラストマーフィルムは、
シートを含むものである。 （Ａ）オルガノポリシロキサン：（Ａ）成分のオルガノ
ポリシロキサンはベースポリマーとして使用される成分
であって、上記一般式(I)で表される。
【０００８】一般式(I)において、Ｒ1は同一でも異なっ
てもよく、炭素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１
〜６の非置換又は置換の１価炭化水素基である。この１
価炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル
基等のアルキル基；シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペ
ニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基
等のアルケニル基；フェニル基、トリル基等のアリール
基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル
基等のアラルキル基；又はこれらの基の炭素原子に結合
した水素原子の少なくとも一部をハロゲン原子、シアノ
基等の置換基で置換した、クロロメチル基、シアノエチ
ル基、トリフルオロプロピル基などの基等が挙げられる
が、Ｒ1の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル
％以下がフェニル基であるものが好ましい。
てもよく、炭素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１
〜６の非置換又は置換の１価炭化水素基である。この１
価炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル
基等のアルキル基；シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペ
ニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基
等のアルケニル基；フェニル基、トリル基等のアリール
基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル
基等のアラルキル基；又はこれらの基の炭素原子に結合
した水素原子の少なくとも一部をハロゲン原子、シアノ
基等の置換基で置換した、クロロメチル基、シアノエチ
ル基、トリフルオロプロピル基などの基等が挙げられる
が、Ｒ1の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル
％以下がフェニル基であるものが好ましい。
【０００９】一般式(I)において、Ｘは上記一般式(II)
で表される基である。一般式(II)におけるＲ2は炭素原
子数２〜４の２価炭化水素基又は酸素原子であるが、耐
水性の点から好ましくは２価炭化水素基である。この２
価炭化水素基の具体例としては、エチレン基、プロピレ
ン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基等の炭素原
子数２〜４のアルキレン基が挙げられるが、好ましくは
エチレン基である。
で表される基である。一般式(II)におけるＲ2は炭素原
子数２〜４の２価炭化水素基又は酸素原子であるが、耐
水性の点から好ましくは２価炭化水素基である。この２
価炭化水素基の具体例としては、エチレン基、プロピレ
ン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基等の炭素原
子数２〜４のアルキレン基が挙げられるが、好ましくは
エチレン基である。
【００１０】一般式(II)におけるＲ3は１〜３個、好ま
しくは２〜３個、更に好ましくは３個の（メタ）アクリ
ロイル基〔特に（メタ）アクリロイロキシ基〕を有する
炭素原子数４〜２５の１価有機基である。Ｒ3における
（メタ）アクリロイル基の具体例としてはCH2＝CHCOO
−、CH2＝C(CH3)COO−、CH2＝CHCO−、CH2＝C(CH3)CO−
等のアクリル官能性基、メタクリル官能性基などが挙げ
られる。このような（メタ）アクリロイル基を含むＲ3
の１価有機基の具体例としては、CH2＝CHCOOCH2CH 2−、
[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)3C−C
H2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2−等の、１〜３個の
アクリロイロキシ基又はメタクリロイロキシ基で置換さ
れた炭素原子数１〜１０、好ましくは炭素原子数２〜６
のアルキル基などが挙げられるが、好ましくはCH2＝CHC
OOCH2CH2−、[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(CH2＝CH
COOCH2)3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2−、CH
2＝C(CH3)COOCH2CH2−、[CH2＝C(CH3)COOCH2]2C(C2H5)
−CH2−)及び(CH2＝CHCOOCH2)[CH2＝C(CH3)COOCH2]CH
−、更に好ましくは[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(C
H 2＝CHCOOCH2)3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2
−、(CH2＝CHCOOCH2)[CH2＝C(CH3)COOCH2]CH−である。
一般式(II)におけるＲ4は同一でも異なってもよく、炭
素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の非置換
又は置換の１価炭化水素基である。Ｒ4の１価炭化水素
基の具体例としては、一般式(I)におけるＲ1として例示
したものと同じものが挙げられるが、 Ｒ1の場合と同様
に、Ｒ4の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル
％以下がフェニル基であるものが好ましい。一般式(II)
におけるＲ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは炭素原
子数１〜８の１価炭化水素基である。Ｒ5の１価炭化水
素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキ
ル基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニ
ル基等のアリール基；アリル基、プロペニル基、ブテニ
ル基等のアルケニル基等が挙げられるが、好ましくはア
ルケニル基等の脂肪族不飽和基を除くものが使用され
る。また一般式(II)において、ｎは１〜３の整数、ｍは
０〜２の整数で、且つｎ及びｍは１≦ｎ＋ｍ≦３を満足
するが、ｎ＝１の時Ｒ3は複数個（即ち、２個又は３
個）の（メタ）アクリロイル基を有する。
しくは２〜３個、更に好ましくは３個の（メタ）アクリ
ロイル基〔特に（メタ）アクリロイロキシ基〕を有する
炭素原子数４〜２５の１価有機基である。Ｒ3における
（メタ）アクリロイル基の具体例としてはCH2＝CHCOO
−、CH2＝C(CH3)COO−、CH2＝CHCO−、CH2＝C(CH3)CO−
等のアクリル官能性基、メタクリル官能性基などが挙げ
られる。このような（メタ）アクリロイル基を含むＲ3
の１価有機基の具体例としては、CH2＝CHCOOCH2CH 2−、
[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)3C−C
H2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2−等の、１〜３個の
アクリロイロキシ基又はメタクリロイロキシ基で置換さ
れた炭素原子数１〜１０、好ましくは炭素原子数２〜６
のアルキル基などが挙げられるが、好ましくはCH2＝CHC
OOCH2CH2−、[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(CH2＝CH
COOCH2)3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2−、CH
2＝C(CH3)COOCH2CH2−、[CH2＝C(CH3)COOCH2]2C(C2H5)
−CH2−)及び(CH2＝CHCOOCH2)[CH2＝C(CH3)COOCH2]CH
−、更に好ましくは[CH2＝C(CH3)COOCH2]3C−CH2−、(C
H 2＝CHCOOCH2)3C−CH2−、(CH2＝CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2
−、(CH2＝CHCOOCH2)[CH2＝C(CH3)COOCH2]CH−である。
一般式(II)におけるＲ4は同一でも異なってもよく、炭
素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の非置換
又は置換の１価炭化水素基である。Ｒ4の１価炭化水素
基の具体例としては、一般式(I)におけるＲ1として例示
したものと同じものが挙げられるが、 Ｒ1の場合と同様
に、Ｒ4の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル
％以下がフェニル基であるものが好ましい。一般式(II)
におけるＲ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは炭素原
子数１〜８の１価炭化水素基である。Ｒ5の１価炭化水
素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキ
ル基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニ
ル基等のアリール基；アリル基、プロペニル基、ブテニ
ル基等のアルケニル基等が挙げられるが、好ましくはア
ルケニル基等の脂肪族不飽和基を除くものが使用され
る。また一般式(II)において、ｎは１〜３の整数、ｍは
０〜２の整数で、且つｎ及びｍは１≦ｎ＋ｍ≦３を満足
するが、ｎ＝１の時Ｒ3は複数個（即ち、２個又は３
個）の（メタ）アクリロイル基を有する。
【００１１】一般式(I)において、Ｌは８〜１０，００
０、好ましくは４８〜１，０００の整数である。一般式
（Ｉ）で示されるオルガノポリシロキサンとしては、具
体的に下記のものを例示することができる。
０、好ましくは４８〜１，０００の整数である。一般式
（Ｉ）で示されるオルガノポリシロキサンとしては、具
体的に下記のものを例示することができる。
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】
【化１５】
【００２５】
【化１６】
【００２６】
【化１７】
【００２７】
【化１８】
【００２８】
【化１９】
【００２９】
【化２０】
【００３０】
【化２１】
【００３１】
【化２２】
【００３２】
【化２３】
【００３３】
【化２４】 及び
【００３４】
【化２５】 〔上記式（１−１）〜（１−２３）において、Ｒ’はメ
チル基、フェニル基又は３，３，３−トリフルオロプロ
ピル基を示し、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８
〜１，０００の整数を示す。〕
チル基、フェニル基又は３，３，３−トリフルオロプロ
ピル基を示し、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８
〜１，０００の整数を示す。〕
【００３５】（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは感
放射線性基として−ＯＲ3基を有している〔即ち、分子
鎖両末端の各々に複数個（即ち、２〜９個）の（メタ）
アクリロイル基を有している〕ので、紫外線等の放射線
照射により容易に硬化するという特徴を持っている。こ
のオルガノポリシロキサンは単独で、又は２種以上組み
合わせて使用することができる。
放射線性基として−ＯＲ3基を有している〔即ち、分子
鎖両末端の各々に複数個（即ち、２〜９個）の（メタ）
アクリロイル基を有している〕ので、紫外線等の放射線
照射により容易に硬化するという特徴を持っている。こ
のオルガノポリシロキサンは単独で、又は２種以上組み
合わせて使用することができる。
【００３６】上記一般式(I)のオルガノポリシロキサン
は、例えば、対応するクロロシロキサンと活性水酸基を
有する（メタ）アクリロイル官能性化合物との脱塩化水
素反応等により製造することができる。ここでクロロシ
ロキサンとしては下記式で表されるものが例示される。
は、例えば、対応するクロロシロキサンと活性水酸基を
有する（メタ）アクリロイル官能性化合物との脱塩化水
素反応等により製造することができる。ここでクロロシ
ロキサンとしては下記式で表されるものが例示される。
【００３７】
【化２６】
【００３８】活性水酸基を有する（メタ）アクリロイル
官能性化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、メチロールプロパンジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリ
ロキシプロパン等が例示されるが、目的とするオルガノ
ポリシロキサンが１つのケイ素原子に複数個（２〜９
個）の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい
ことから、メチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及
び２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロ
キシプロパンが好ましく、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレートが更に好ましい。
官能性化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、メチロールプロパンジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリ
ロキシプロパン等が例示されるが、目的とするオルガノ
ポリシロキサンが１つのケイ素原子に複数個（２〜９
個）の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい
ことから、メチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及
び２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロ
キシプロパンが好ましく、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレートが更に好ましい。
【００３９】（Ｂ）放射線増感剤：（Ｂ）成分の放射線
増感剤としては、特に限定されないが、好ましくはベン
ゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル
ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなど
のベンゾイル化合物（又はフェニルケトン化合物）、好
ましくはカルボニル基のα−位の炭素原子上にヒドロキ
シ基を有するベンゾイル化合物（又はフェニルケトン化
合物）；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
フォスフィンオキサイド、ビスアシルモノオルガノフォ
スフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾ
イル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィン
オキサイド等のオルガノホスフィンオキサイド化合物；
更にイソブチルベンゾインエーテル等のベンゾインエー
テル化合物；アセトフェノンジエチルケタール等のケタ
ール化合物；チオキサントン系化合物；アセトフェノン
系化合物等が例示される。これらは単独で又は２種以上
組み合わせて使用することができる。（Ｂ）成分の配合
量は、（Ａ）成分１００重量部に対して、通常０．５〜
１０重量部、好ましくは１．０〜５．０重量部である。
増感剤としては、特に限定されないが、好ましくはベン
ゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル
ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなど
のベンゾイル化合物（又はフェニルケトン化合物）、好
ましくはカルボニル基のα−位の炭素原子上にヒドロキ
シ基を有するベンゾイル化合物（又はフェニルケトン化
合物）；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
フォスフィンオキサイド、ビスアシルモノオルガノフォ
スフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾ
イル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィン
オキサイド等のオルガノホスフィンオキサイド化合物；
更にイソブチルベンゾインエーテル等のベンゾインエー
テル化合物；アセトフェノンジエチルケタール等のケタ
ール化合物；チオキサントン系化合物；アセトフェノン
系化合物等が例示される。これらは単独で又は２種以上
組み合わせて使用することができる。（Ｂ）成分の配合
量は、（Ａ）成分１００重量部に対して、通常０．５〜
１０重量部、好ましくは１．０〜５．０重量部である。
【００４０】（Ｃ）アルコキシシラン及び／又はその部
分加水分解縮合物：（Ｃ）成分のアルコキシシランは前
記一般式(III)で表され、接着助剤として各種基体に対
し良好な接着性を付与する成分である。一般式(III)に
おいて、Ｒ6は炭素原子数１〜６程度の、好ましくは１
〜４の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜３個のアル
コキシ基で置換された炭素原子数１〜３個の低級アルキ
ル基である。該低級アルキル基の具体例としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、
また上記アルコキシ置換低級アルキル基としては、メト
キシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、
エトキシエチル基等が挙げられる。
分加水分解縮合物：（Ｃ）成分のアルコキシシランは前
記一般式(III)で表され、接着助剤として各種基体に対
し良好な接着性を付与する成分である。一般式(III)に
おいて、Ｒ6は炭素原子数１〜６程度の、好ましくは１
〜４の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜３個のアル
コキシ基で置換された炭素原子数１〜３個の低級アルキ
ル基である。該低級アルキル基の具体例としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、
また上記アルコキシ置換低級アルキル基としては、メト
キシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、
エトキシエチル基等が挙げられる。
【００４１】なお、アルコキシシランの部分加水分解縮
合物とは、該アルコキシ基の加水分解縮合反応によって
生成する、分子中に少なくとも１個、好ましくは２個以
上のアルコキシ基が残存するシロキサン化合物（特に、
ケイ素原子数が２〜１００個、好ましくは２〜３０個程
度のシロキサンオリゴマー）を意味する。一般式(III)
のアルコキシシランもその部分加水分解縮合物も各々単
独で又は２種以上組み合わせて使用することができ、ま
た一般式(III)のアルコキシシランとその部分加水分解
縮合物とを混合して使用することもできる。（Ｃ）成分
の配合量は、（Ｂ）成分の場合と同様、（Ａ）成分１０
０重量部に対して、通常０．５〜１０重量部、好ましく
は１．０〜５．０重量部である。
合物とは、該アルコキシ基の加水分解縮合反応によって
生成する、分子中に少なくとも１個、好ましくは２個以
上のアルコキシ基が残存するシロキサン化合物（特に、
ケイ素原子数が２〜１００個、好ましくは２〜３０個程
度のシロキサンオリゴマー）を意味する。一般式(III)
のアルコキシシランもその部分加水分解縮合物も各々単
独で又は２種以上組み合わせて使用することができ、ま
た一般式(III)のアルコキシシランとその部分加水分解
縮合物とを混合して使用することもできる。（Ｃ）成分
の配合量は、（Ｂ）成分の場合と同様、（Ａ）成分１０
０重量部に対して、通常０．５〜１０重量部、好ましく
は１．０〜５．０重量部である。
【００４２】その他の任意成分：本発明で使用される放
射線硬化性シリコーンゴム組成物には、硬化時の収縮
率、得られる硬化物の熱膨張係数、機械的強度、耐熱
性、耐薬品性、難燃性、熱膨張係数、ガス透過率等を適
宜調整するために、必要に応じて各種添加剤を配合する
ことができる。添加剤としては、例えば、煙霧質シリ
カ、沈降性シリカ、溶融シリカ、粉砕シリカ、結晶シリ
カ、シリカエアロゲル、石英粉末、ガラス繊維、酸化
鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等
の無機質充填剤；ヒドロキノン、メトキシヒドロキノン
等の重合禁止剤（ポットライフ延長剤）等が挙げられ
る。また、各種基材に対する接着性をより速やかに発現
させるために、チタン酸エステル、チタンキレート化合
物等の有機チタン化合物を配合することもできる。
射線硬化性シリコーンゴム組成物には、硬化時の収縮
率、得られる硬化物の熱膨張係数、機械的強度、耐熱
性、耐薬品性、難燃性、熱膨張係数、ガス透過率等を適
宜調整するために、必要に応じて各種添加剤を配合する
ことができる。添加剤としては、例えば、煙霧質シリ
カ、沈降性シリカ、溶融シリカ、粉砕シリカ、結晶シリ
カ、シリカエアロゲル、石英粉末、ガラス繊維、酸化
鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等
の無機質充填剤；ヒドロキノン、メトキシヒドロキノン
等の重合禁止剤（ポットライフ延長剤）等が挙げられ
る。また、各種基材に対する接着性をより速やかに発現
させるために、チタン酸エステル、チタンキレート化合
物等の有機チタン化合物を配合することもできる。
【００４３】組成物の調製：本発明で使用される放射線
硬化性シリコーンゴム組成物は上記（Ａ）〜（Ｃ）成分
及び必要に応じてその他の添加剤を混合することにより
調製される。こうして得られる放射線硬化性シリコーン
ゴム組成物は、用途に応じ低粘度（液状）からペースト
状又はコンパンド状が可能で、フィルム等の成形物への
加工が容易であり、また紫外線等の放射線により短時間
で硬化し、接着性のあるシリコーンエラストマー成型品
（硬化物）を与えるという特徴を持っている。
硬化性シリコーンゴム組成物は上記（Ａ）〜（Ｃ）成分
及び必要に応じてその他の添加剤を混合することにより
調製される。こうして得られる放射線硬化性シリコーン
ゴム組成物は、用途に応じ低粘度（液状）からペースト
状又はコンパンド状が可能で、フィルム等の成形物への
加工が容易であり、また紫外線等の放射線により短時間
で硬化し、接着性のあるシリコーンエラストマー成型品
（硬化物）を与えるという特徴を持っている。
【００４４】接着性シリコーンエラストマーフィルムの
製造：接着性シリコーンエラストマーフィルムは、上記
で得られたシリコーンゴム組成物が低粘度ならば、例え
ばフィルム又はシート状の金型へ流し込む等の方法でフ
ィルム又はシートに成形し、またシリコーンゴム組成物
が高粘度やコンパウンド状であれば、カレンダーロール
やインジェクション成形機等でフィルム又はシート状に
成形し、得られたフィルム状成型品に紫外線等の放射線
を短時間照射することにより製造される。なお、本発明
では上記組成物はフィルム状又はシート状に成形する
が、組成物自体は他のいかなる形状に成形することも可
能である。こうして得られる本発明の接着性シリコーン
エラストマーフィルムは、通常、必要に応じて、０．０
１〜２．００ｍｍの範囲の厚さにされる。
製造：接着性シリコーンエラストマーフィルムは、上記
で得られたシリコーンゴム組成物が低粘度ならば、例え
ばフィルム又はシート状の金型へ流し込む等の方法でフ
ィルム又はシートに成形し、またシリコーンゴム組成物
が高粘度やコンパウンド状であれば、カレンダーロール
やインジェクション成形機等でフィルム又はシート状に
成形し、得られたフィルム状成型品に紫外線等の放射線
を短時間照射することにより製造される。なお、本発明
では上記組成物はフィルム状又はシート状に成形する
が、組成物自体は他のいかなる形状に成形することも可
能である。こうして得られる本発明の接着性シリコーン
エラストマーフィルムは、通常、必要に応じて、０．０
１〜２．００ｍｍの範囲の厚さにされる。
【００４５】放射線としては、紫外線、遠赤外線、電子
線、Ｘ線、γ線などが挙げられるが、装置の手軽さ、扱
いの容易性などから、紫外線を使用することが好まし
い。紫外線を発する光源としては、例えば高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク
ランプ及びキセノンランプ等が挙げられる。放射線の照
射量は、組成物の厚さによって異なり、例えば厚み２ｍ
ｍに対して紫外線（ピーク：320〜390nm）を200〜2,400
mJ/cm2、好ましくは400〜1,600 mJ/cm2である。
線、Ｘ線、γ線などが挙げられるが、装置の手軽さ、扱
いの容易性などから、紫外線を使用することが好まし
い。紫外線を発する光源としては、例えば高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク
ランプ及びキセノンランプ等が挙げられる。放射線の照
射量は、組成物の厚さによって異なり、例えば厚み２ｍ
ｍに対して紫外線（ピーク：320〜390nm）を200〜2,400
mJ/cm2、好ましくは400〜1,600 mJ/cm2である。
【００４６】用途：本発明の接着性シリコーンエラスト
マーフィルムは、各種電子部品の被覆剤、接着剤等、特
に接着剤、例えば半導体素子のダイボンディング剤とし
て有用である。
マーフィルムは、各種電子部品の被覆剤、接着剤等、特
に接着剤、例えば半導体素子のダイボンディング剤とし
て有用である。
【００４７】＜シリコーンエラストマー被覆体及び構造
体＞本発明のシリコーンエラストマー被覆体は、以上の
ようにして得られるシリコーンエラストマーフィルムで
基体の一部又は全部を覆い、次いで加熱して該フィルム
を硬化させることにより製造される。また本発明の構造
体は、シリコーンエラストマーフィルムを二つの基体
（例えば、物品の二つの部分）間に挟み、次いで通常圧
着下で、加熱して該フィルムを硬化させて両部分を相互
に結合させることにより製造される。シリコーンエラス
トマーフィルムは接着性を有するので、上記被覆体又は
構造体の接着層として有効に働く。ダイボンディングの
場合を例に説明すると、本発明の接着性シリコーンエラ
ストマーフィルムをダイと該ダイを装着すべき基体（リ
ードフレームやパッケージ）の所定箇所との間に挟んで
配置し、該フィルムを該ダイと基体との間で加熱して硬
化させる。こうしてダイボンディングが完了する。
体＞本発明のシリコーンエラストマー被覆体は、以上の
ようにして得られるシリコーンエラストマーフィルムで
基体の一部又は全部を覆い、次いで加熱して該フィルム
を硬化させることにより製造される。また本発明の構造
体は、シリコーンエラストマーフィルムを二つの基体
（例えば、物品の二つの部分）間に挟み、次いで通常圧
着下で、加熱して該フィルムを硬化させて両部分を相互
に結合させることにより製造される。シリコーンエラス
トマーフィルムは接着性を有するので、上記被覆体又は
構造体の接着層として有効に働く。ダイボンディングの
場合を例に説明すると、本発明の接着性シリコーンエラ
ストマーフィルムをダイと該ダイを装着すべき基体（リ
ードフレームやパッケージ）の所定箇所との間に挟んで
配置し、該フィルムを該ダイと基体との間で加熱して硬
化させる。こうしてダイボンディングが完了する。
【００４８】これらの被覆体及び構造体の製造に使用さ
れる基体としては、特に限定されないが、シリコン、ガ
ラス、アルミニウム、ポリカーボネート、ポリイミド、
ガラスエポキシ等が例示できる。加熱温度は、通常６０
〜２００℃、好ましくは１００〜１８０℃である。加熱
時間は通常１分〜２時間である。
れる基体としては、特に限定されないが、シリコン、ガ
ラス、アルミニウム、ポリカーボネート、ポリイミド、
ガラスエポキシ等が例示できる。加熱温度は、通常６０
〜２００℃、好ましくは１００〜１８０℃である。加熱
時間は通常１分〜２時間である。
【００４９】
【実施例】以下に本発明を実施例によって説明する。な
お、例中、部は重量部、式中のＭｅはメチル基、Ｐｈは
フェニル基、Ｅｔはエチル基を表す。
お、例中、部は重量部、式中のＭｅはメチル基、Ｐｈは
フェニル基、Ｅｔはエチル基を表す。
【００５０】〔実施例１〕攪拌装置、還流冷却器、滴下
ロート、乾燥空気導入器を取り付けた１，０００ｍｌの
反応装置に、下記平均式：
ロート、乾燥空気導入器を取り付けた１，０００ｍｌの
反応装置に、下記平均式：
【００５１】
【化２７】 で示されるクロロオルガノポリシロキサン５７１ｇ、２
−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロキシ
プロパン（商品名：ＮＫエステル７０１−Ａ、新中村化
学工業（株）製）４７ｇ、トルエン２００ｍｌ、トリエ
チルアミン２６ｇ、及び重合禁止剤としてジブチルヒド
ロキシトルエン２０００ｐｐｍを入れ、攪拌しながら、
７０℃に昇温して７時間加熱、反応させた。反応液を放
冷後、濾過し、プロピレンオキサイド４ｇを添加し、室
温で１時間攪拌し、次いで１００℃／３０ｍｍＨｇでス
トリップを行って下記式で示される透明なオイル状のオ
ルガノポリシロキサンを得た。
−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロキシ
プロパン（商品名：ＮＫエステル７０１−Ａ、新中村化
学工業（株）製）４７ｇ、トルエン２００ｍｌ、トリエ
チルアミン２６ｇ、及び重合禁止剤としてジブチルヒド
ロキシトルエン２０００ｐｐｍを入れ、攪拌しながら、
７０℃に昇温して７時間加熱、反応させた。反応液を放
冷後、濾過し、プロピレンオキサイド４ｇを添加し、室
温で１時間攪拌し、次いで１００℃／３０ｍｍＨｇでス
トリップを行って下記式で示される透明なオイル状のオ
ルガノポリシロキサンを得た。
【００５２】
【化２８】
【００５３】次にこのオルガノポリシロキサン１００部
に２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン
−１−オン２部、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルフォスフィンオキサイド１部、テトラメトキシ
シラン３部を混合し、放射線硬化性オルガノポリシロキ
サン組成物を得た。
に２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン
−１−オン２部、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルフォスフィンオキサイド１部、テトラメトキシ
シラン３部を混合し、放射線硬化性オルガノポリシロキ
サン組成物を得た。
【００５４】この組成物をＮｉメッキ金型（縦１００ｍ
ｍ×横１００ｍｍ、深さ１ｍｍ）に流し込み、８０Ｗ／
ｃｍ2のメタルハライド水銀灯２灯を備えたコンベア炉
内で２秒間、紫外線を照射し（照射量８００ｍＪ／ｃｍ
2）、放射線硬化させた。得られた接着性シリコーンエ
ラストマーフィルムの硬さをＪＩＳ Ｋ６３０１に従っ
て測定した。なお、硬さはスプリング式Ａ型試験機で測
定した。その結果を表１に示す。
ｍ×横１００ｍｍ、深さ１ｍｍ）に流し込み、８０Ｗ／
ｃｍ2のメタルハライド水銀灯２灯を備えたコンベア炉
内で２秒間、紫外線を照射し（照射量８００ｍＪ／ｃｍ
2）、放射線硬化させた。得られた接着性シリコーンエ
ラストマーフィルムの硬さをＪＩＳ Ｋ６３０１に従っ
て測定した。なお、硬さはスプリング式Ａ型試験機で測
定した。その結果を表１に示す。
【００５５】次に、上記シリコーンエラストマーフィル
ムを縦２５ｍｍ×横１０ｍｍに切り、基体（基板）とし
てアルミニウム、シリコンウエハ、ポリイミドフィル
ム、ガラス又はポリカーボネートの各２枚のテストピー
ス間に挟み、これを１００ｇｆ／ｃｍ2で圧着し、１５
０℃で６０分間加熱硬化させて構造体を製造し、せん断
接着力を測定した。その結果を表２に示す。
ムを縦２５ｍｍ×横１０ｍｍに切り、基体（基板）とし
てアルミニウム、シリコンウエハ、ポリイミドフィル
ム、ガラス又はポリカーボネートの各２枚のテストピー
ス間に挟み、これを１００ｇｆ／ｃｍ2で圧着し、１５
０℃で６０分間加熱硬化させて構造体を製造し、せん断
接着力を測定した。その結果を表２に示す。
【００５６】〔実施例２〕テトラメトキシシランの代わ
りに下記式：
りに下記式：
【００５７】
【化２９】 で示されるテトラメトキシシランの部分加水分解縮合物
（メトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例
１と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接
着性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。
（メトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例
１と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接
着性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。
【００５８】〔実施例３〕テトラメトキシシランの代わ
りに下記式：
りに下記式：
【００５９】
【化３０】 で示されるテトラエトキシシランの部分加水分解縮合物
（エトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例
１と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接
着性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。
（エトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例
１と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接
着性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。
【００６０】〔比較例１〕テトラメトキシシランを添加
しなかった他は実施例１と同様にして組成物を調製し、
この組成物を用いて接着性シリコーンエラストマーフィ
ルム及び構造体を製造し、実施例１と同様の試験を行っ
た。その結果を表１及び表２に示す。 〔比較例２〕テトラメトキシシランの代わりにアクリロ
キシプロピルトリメトキシシランを用いた他は実施例１
と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接着
性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。 〔比較例３〕テトラメトキシシランの代わりに下記式：
しなかった他は実施例１と同様にして組成物を調製し、
この組成物を用いて接着性シリコーンエラストマーフィ
ルム及び構造体を製造し、実施例１と同様の試験を行っ
た。その結果を表１及び表２に示す。 〔比較例２〕テトラメトキシシランの代わりにアクリロ
キシプロピルトリメトキシシランを用いた他は実施例１
と同様にして組成物を調製し、この組成物を用いて接着
性シリコーンエラストマーフィルム及び構造体を製造
し、実施例１と同様の試験を行った。その結果を表１及
び表２に示す。 〔比較例３〕テトラメトキシシランの代わりに下記式：
【００６１】
【化３１】 で示されるメチルトリメトキシシランの加水分解縮合物
（メチル基含有メトキシシロキサンオリゴマー）を用い
た他は実施例１と同様にして組成物を調製し、この組成
物を用いて接着性シリコーンエラストマーフィルム及び
構造体を製造し、実施例１と同様の試験を行った。その
結果を表１及び表２に示す。
（メチル基含有メトキシシロキサンオリゴマー）を用い
た他は実施例１と同様にして組成物を調製し、この組成
物を用いて接着性シリコーンエラストマーフィルム及び
構造体を製造し、実施例１と同様の試験を行った。その
結果を表１及び表２に示す。
【００６２】
【表１】 （注）ＪＩＳ Ｋ６３０１に規定されるスプリング式Ａ
型試験機で測定
型試験機で測定
【００６３】
【表２】 （注）単位：ｋｇ／ｃｍ2
【００６４】
【発明の効果】本発明の接着性シリコーンエラストマー
フィルムは、下記のような利点を有する。 （１）短時間で放射線硬化して得られるので、製造時間
が短縮できる上、均一な形状で得られるので、接着した
製品の品質を安定化でき、しかもクリーンなフィルムと
して得られる。 （２）加工性が良いので、カットにより定型の接着層を
形成することができる。 （３）低弾性であるため、２つの異なる基板の貼り合わ
せにおける熱的及び機械的応力を緩和し、接着した製品
の信頼性を向上できる。 （４）硬化物であるため、取扱いが簡単である。 （５）フィルム状成形品として供給されるため、使用時
の工程（接着した製品を製造する工程）が合理化でき
る。
フィルムは、下記のような利点を有する。 （１）短時間で放射線硬化して得られるので、製造時間
が短縮できる上、均一な形状で得られるので、接着した
製品の品質を安定化でき、しかもクリーンなフィルムと
して得られる。 （２）加工性が良いので、カットにより定型の接着層を
形成することができる。 （３）低弾性であるため、２つの異なる基板の貼り合わ
せにおける熱的及び機械的応力を緩和し、接着した製品
の信頼性を向上できる。 （４）硬化物であるため、取扱いが簡単である。 （５）フィルム状成形品として供給されるため、使用時
の工程（接着した製品を製造する工程）が合理化でき
る。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｊ 183/05 Ｃ０９Ｊ 183/05
Claims (4)
- 【請求項１】（Ａ）一般式(I)： 【化１】 で示されるオルガノポリシロキサン、（Ｂ）放射線増感
剤、及び（Ｃ）一般式(III)： Si(OR6)4 (III) （式中、R6 は非置換又は置換の低級アルキル基であ
る。）で示されるアルコキシシラン及びその部分加水分
解縮合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物、を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物をフ
ィルム状に成形し、得られたフィルムを放射線硬化させ
ることにより得られる接着性シリコーンエラストマーフ
ィルム。 - 【請求項２】 請求項１に記載の接着性シリコーンエラ
ストマーフィルムで基体の一部又は全部を覆い、次いで
加熱して該フィルムを硬化させることにより得られるシ
リコーンエラストマーフィルム被覆体。 - 【請求項３】 請求項１に記載の接着性シリコーンエラ
ストマーフィルムを二つの基体間に挟み、次いで加熱し
て該フィルムを硬化させて両基体を相互に結合させるこ
とにより得られる構造体。 - 【請求項４】 請求項１に記載の接着性シリコーンエラ
ストマーフィルムをダイと該ダイを装着すべき基体の所
定箇所との間に挟んで配置し、該フィルムを該ダイと基
体との間で加熱して硬化させる、ことを特徴とするダイ
ボンディング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35931199A JP3609971B2 (ja) | 1998-12-18 | 1999-12-17 | 接着性シリコーンエラストマーフィルム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-360938 | 1998-12-18 | ||
| JP36093898 | 1998-12-18 | ||
| JP35931199A JP3609971B2 (ja) | 1998-12-18 | 1999-12-17 | 接着性シリコーンエラストマーフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000234060A true JP2000234060A (ja) | 2000-08-29 |
| JP3609971B2 JP3609971B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=26580947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35931199A Expired - Fee Related JP3609971B2 (ja) | 1998-12-18 | 1999-12-17 | 接着性シリコーンエラストマーフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3609971B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003238809A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および接着性シリコーンエラストマーフィルム |
| JP2003238808A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および接着性シリコーンエラストマーフィルム |
| JP2005023291A (ja) * | 2002-12-11 | 2005-01-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物、該組成物からなる接着性シリコーンエラストマーフィルム、並びに該組成物を用いる構造体およびその製造方法 |
| JP2008024944A (ja) * | 2007-08-27 | 2008-02-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性シリコーンゴム組成物で封止又はコーティングされた電子部品 |
| JP2021147439A (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-27 | 東洋紡株式会社 | ポリイミドフィルム積層体の製造方法 |
| KR20210125426A (ko) | 2020-04-08 | 2021-10-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 다이 본딩용 실리콘 조성물, 그의 경화물, 및 광반도체 장치 |
-
1999
- 1999-12-17 JP JP35931199A patent/JP3609971B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2021147439A (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-27 | 東洋紡株式会社 | ポリイミドフィルム積層体の製造方法 |
| JP7452135B2 (ja) | 2020-03-17 | 2024-03-19 | 東洋紡株式会社 | ポリイミドフィルム積層体の製造方法 |
| KR20210125426A (ko) | 2020-04-08 | 2021-10-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 다이 본딩용 실리콘 조성물, 그의 경화물, 및 광반도체 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JP3609971B2 (ja) | 2005-01-12 |
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