JP2000234903A - センサ電極とワークピースの間隔を測定する方法 - Google Patents
センサ電極とワークピースの間隔を測定する方法Info
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- G01B7/023—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring distance between sensor and object
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 センサ電極とワークピースの間隔を測定する
方法および装置を提供する。 【解決手段】 センサ電極（１２）とワークピース（１
５）の間隔を測定する方法において、センサ電極（１
２）はワークピース（１５）と共にそれを通じて交流
（ｉm（ｔ））が流れる測定コンデンサ（１６）を形成
し、センサ電極（１２）に存在する電圧は測定電圧（Ｕ
m（ｔ））として分岐される。測定コンデンサ（１６）
のインピーダンスに対する、センサ電極（１２）とワー
クピース（１５）の間におけるプラズマ形成による外乱
影響を除去することを可能とするため、本発明によれ
ば、測定すべき間隔（ｄ）を決定するため、測定電圧
（Ｕm（ｔ））から実数部（ＵmR）および虚数部
（ＵmI）を決定することが可能となる。
方法および装置を提供する。 【解決手段】 センサ電極（１２）とワークピース（１
５）の間隔を測定する方法において、センサ電極（１
２）はワークピース（１５）と共にそれを通じて交流
（ｉm（ｔ））が流れる測定コンデンサ（１６）を形成
し、センサ電極（１２）に存在する電圧は測定電圧（Ｕ
m（ｔ））として分岐される。測定コンデンサ（１６）
のインピーダンスに対する、センサ電極（１２）とワー
クピース（１５）の間におけるプラズマ形成による外乱
影響を除去することを可能とするため、本発明によれ
ば、測定すべき間隔（ｄ）を決定するため、測定電圧
（Ｕm（ｔ））から実数部（ＵmR）および虚数部
（ＵmI）を決定することが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、センサ電極とワー
クピースの間隔を測定する方法に関する。
クピースの間隔を測定する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】工作機械の場合、特にレーザ工作機械の
場合、ワークピースを機械加工するためワークピースと
ツールヘッドの間隔を容量性手段によって測定する必要
があることは公知である。この目的のため、ツールヘッ
ドは、通例、ワークピースと共に測定コンデンサを形成
するセンサ電極を備え、測定コンデンサのキャパシタン
スはセンサ電極とワークピースの間隔によって変わる。
次に、センサ電極は、センサ信号を提供し、この信号に
よって、工作機械を制御するため、測定コンデンサのキ
ャパシタンスを導き、その結果、センサ電極とワークピ
ースの間隔が測定されることになる。
場合、ワークピースを機械加工するためワークピースと
ツールヘッドの間隔を容量性手段によって測定する必要
があることは公知である。この目的のため、ツールヘッ
ドは、通例、ワークピースと共に測定コンデンサを形成
するセンサ電極を備え、測定コンデンサのキャパシタン
スはセンサ電極とワークピースの間隔によって変わる。
次に、センサ電極は、センサ信号を提供し、この信号に
よって、工作機械を制御するため、測定コンデンサのキ
ャパシタンスを導き、その結果、センサ電極とワークピ
ースの間隔が測定されることになる。
【０００３】したがって、センサ信号をモニタリングす
ることによって、適切な方法でワークピースを機械加工
することができるように、ツールヘッドをワークピース
に関して正確に位置決めすることができる。この場合、
位置決めは、センサ信号から決定される測定された間隔
を実際の値として受け取る制御装置によって実行され、
比較の結果の関数としてツールヘッドを制御するため、
実際の値が所定の所望の値と比較される。
ることによって、適切な方法でワークピースを機械加工
することができるように、ツールヘッドをワークピース
に関して正確に位置決めすることができる。この場合、
位置決めは、センサ信号から決定される測定された間隔
を実際の値として受け取る制御装置によって実行され、
比較の結果の関数としてツールヘッドを制御するため、
実際の値が所定の所望の値と比較される。
【０００４】しかし、工作機械、たとえばフレーム切断
機、特に、レーザ工作機械の場合、ワークピースを処理
するとき、測定コンデンサと並列に接続されるオーム抵
抗と本質上同様に作用するプラズマがセンサ電極とワー
クピースの間に形成されるという問題がある。このよう
なプラズマは、溶接または切断作業中、一定の切断速度
に到達すると、たとえば、レーザ切断ノズルの下に生成
され、間隔測定に対して結果を歪曲する影響を与える。
機、特に、レーザ工作機械の場合、ワークピースを処理
するとき、測定コンデンサと並列に接続されるオーム抵
抗と本質上同様に作用するプラズマがセンサ電極とワー
クピースの間に形成されるという問題がある。このよう
なプラズマは、溶接または切断作業中、一定の切断速度
に到達すると、たとえば、レーザ切断ノズルの下に生成
され、間隔測定に対して結果を歪曲する影響を与える。
【０００５】間隔測定時に、センサ電極とワークピース
の間のプラズマの影響を排除するため、従来の間隔測定
法においては、ＬＣ−発振器原理が使用され、この原理
によれば、測定コンデンサは並列に接続される誘導抵抗
と共に共振回路を形成し、測定すべき間隔を決定するた
め、測定キャパシタンスに応じて変わる共振回路の周波
数がモニタリングされる。この場合、プラズマは、本質
上オーム抵抗としてのみ作用し、共振回路の振動の振幅
のみに影響を与えるが、その周波数には影響を与えな
い。
の間のプラズマの影響を排除するため、従来の間隔測定
法においては、ＬＣ−発振器原理が使用され、この原理
によれば、測定コンデンサは並列に接続される誘導抵抗
と共に共振回路を形成し、測定すべき間隔を決定するた
め、測定キャパシタンスに応じて変わる共振回路の周波
数がモニタリングされる。この場合、プラズマは、本質
上オーム抵抗としてのみ作用し、共振回路の振動の振幅
のみに影響を与えるが、その周波数には影響を与えな
い。
【０００６】この方法の問題は、工作機械の信頼性のあ
る制御に必要とされる測定精度を実現するため、漂遊キ
ャパシタンスを非常に低く保持する必要があることであ
る。漂遊キャパシタンスを減少させるため、複雑な絶縁
手段が必要とされる。
る制御に必要とされる測定精度を実現するため、漂遊キ
ャパシタンスを非常に低く保持する必要があることであ
る。漂遊キャパシタンスを減少させるため、複雑な絶縁
手段が必要とされる。
【０００７】さらに、ＤＥ４０ ２０ １９６Ａ１に
は、測定コンデンサのセンサ電極において分岐される測
定電圧は測定コンデンサのインピーダンスのみに応じて
変わるように、測定コンデンサに一定の交流を印加する
容量性間隔測定法が開示されている。ワークピースの機
械加工中、センサ電極とワークピースの間にプラズマが
存在しない限り、インピーダンスは、実際上独占的に測
定コンデンサの容量性抵抗によって形成され、その結
果、測定電圧はセンサ電極とワークピースの間隔に比例
する。しかし、プラズマが発生すると、測定コンデンサ
のキャパシタンスと並列のオーム抵抗が存在し、この抵
抗は測定コンデンサのインピーダンスに影響を与える。
この場合、プラズマによって、測定コンデンサのインピ
ーダンスが減少されることがあり、その結果、センサ信
号が実際上崩壊し、制御装置によって過小な間隔が誤っ
て報告される。
は、測定コンデンサのセンサ電極において分岐される測
定電圧は測定コンデンサのインピーダンスのみに応じて
変わるように、測定コンデンサに一定の交流を印加する
容量性間隔測定法が開示されている。ワークピースの機
械加工中、センサ電極とワークピースの間にプラズマが
存在しない限り、インピーダンスは、実際上独占的に測
定コンデンサの容量性抵抗によって形成され、その結
果、測定電圧はセンサ電極とワークピースの間隔に比例
する。しかし、プラズマが発生すると、測定コンデンサ
のキャパシタンスと並列のオーム抵抗が存在し、この抵
抗は測定コンデンサのインピーダンスに影響を与える。
この場合、プラズマによって、測定コンデンサのインピ
ーダンスが減少されることがあり、その結果、センサ信
号が実際上崩壊し、制御装置によって過小な間隔が誤っ
て報告される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この公知の方法の場
合、プラズマに起因する短期間の外乱を電子的に完全に
遮蔽、またはセンサ電極を設計するときプラズマ雲の影
響を幾何形状手段によって本質上排除することができ
る。しかし、作業中、ある場合には、センサ信号が連続
的に存在するプラズマによる外乱を常に受けること、お
よびセンサ電極の設計における幾何形状手段によって測
定の空間解像度が悪化することが、明らかになった。
合、プラズマに起因する短期間の外乱を電子的に完全に
遮蔽、またはセンサ電極を設計するときプラズマ雲の影
響を幾何形状手段によって本質上排除することができ
る。しかし、作業中、ある場合には、センサ信号が連続
的に存在するプラズマによる外乱を常に受けること、お
よびセンサ電極の設計における幾何形状手段によって測
定の空間解像度が悪化することが、明らかになった。
【０００９】この問題が起点となって、本発明の目的
は、間隔測定時に、センサ電極とワークピースの間に存
在するプラズマの影響を排除した、センサ電極とワーク
ピースの間隔を測定する方法を提供することである。
は、間隔測定時に、センサ電極とワークピースの間に存
在するプラズマの影響を排除した、センサ電極とワーク
ピースの間隔を測定する方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的は、請求項１に
記載の本発明の方法によって実現される。本発明の有利
な改善および成果は、従属項に記載されている。
記載の本発明の方法によって実現される。本発明の有利
な改善および成果は、従属項に記載されている。
【００１１】したがって、本発明によれば、センサ電極
とワークピースの間隔を測定する方法において、センサ
電極はワークピースと共に交流が流れる測定コンデンサ
を形成し、センサ電極に存在する電圧が測定電圧として
分岐される。測定電圧から測定すべき間隔を決定するた
め、この測定電圧の実数部と虚数部が決定される。
とワークピースの間隔を測定する方法において、センサ
電極はワークピースと共に交流が流れる測定コンデンサ
を形成し、センサ電極に存在する電圧が測定電圧として
分岐される。測定電圧から測定すべき間隔を決定するた
め、この測定電圧の実数部と虚数部が決定される。
【００１２】この方法によって、ワークピースとセンサ
電極の間隔に対応して変わる、測定コンデンサのキャパ
シタンスまたはリアクタンス、およびこのような間隔自
体を、測定電流が変化する場合でもプラズマインピーダ
ンスと無関係に求めることができる。したがって、間隔
測定時に、センサ電極とワークピースのプラズマの影響
を排除することができるのみでなく、一定の振幅を有す
る交流電流を生成するため追加電源を設ける必要も無く
なる。したがって、本発明に従う方法によれば、プラズ
マの外乱影響を遮蔽または抑圧するため、電子手段と幾
何形状手段の少なくとも一方を必要とせず、また追加電
流源も必要としない。
電極の間隔に対応して変わる、測定コンデンサのキャパ
シタンスまたはリアクタンス、およびこのような間隔自
体を、測定電流が変化する場合でもプラズマインピーダ
ンスと無関係に求めることができる。したがって、間隔
測定時に、センサ電極とワークピースのプラズマの影響
を排除することができるのみでなく、一定の振幅を有す
る交流電流を生成するため追加電源を設ける必要も無く
なる。したがって、本発明に従う方法によれば、プラズ
マの外乱影響を遮蔽または抑圧するため、電子手段と幾
何形状手段の少なくとも一方を必要とせず、また追加電
流源も必要としない。
【００１３】したがって、本発明においては、間隔測定
を行うために全く新規な手法を採用し、さらに、測定電
流振幅と、プラズマの生成と、測定キャパシタンスのイ
ンピーダンスに対するプラズマの影響とが変更され、代
わりに、使用される周波数は、その周波数においてプラ
ズマは純粋なオーム抵抗として作用するように選択され
る。次に、これによって、適切な後続計算または較正を
用いて間隔または間隔を示す信号を得るため、測定電圧
の実数部および虚数部を用いて測定キャパシタンスを決
定することが可能となる。
を行うために全く新規な手法を採用し、さらに、測定電
流振幅と、プラズマの生成と、測定キャパシタンスのイ
ンピーダンスに対するプラズマの影響とが変更され、代
わりに、使用される周波数は、その周波数においてプラ
ズマは純粋なオーム抵抗として作用するように選択され
る。次に、これによって、適切な後続計算または較正を
用いて間隔または間隔を示す信号を得るため、測定電圧
の実数部および虚数部を用いて測定キャパシタンスを決
定することが可能となる。
【００１４】測定電極とワークピースの間のプラズマの
特性は各機械加工の電流パラメータに応じて変わるの
で、本発明の有利な成果によれば、電気特性、特にセン
サ電極とワークピースの間のプラズマの抵抗を、測定電
圧の実数部と虚数部によって決定することが可能とな
る。次に、この信号を用いて、各機械加工操作が制御さ
れ、したがって、品質が保証される。
特性は各機械加工の電流パラメータに応じて変わるの
で、本発明の有利な成果によれば、電気特性、特にセン
サ電極とワークピースの間のプラズマの抵抗を、測定電
圧の実数部と虚数部によって決定することが可能とな
る。次に、この信号を用いて、各機械加工操作が制御さ
れ、したがって、品質が保証される。
【００１５】本発明の便宜な成果によれば、測定電圧の
実数部と虚数部とを決定するため、測定電圧は、相互に
４分の１周期位相偏移される第１および第２交流電圧と
結合される。
実数部と虚数部とを決定するため、測定電圧は、相互に
４分の１周期位相偏移される第１および第２交流電圧と
結合される。
【００１６】この場合、測定電圧の実数部と虚数部を決
定するため、測定電圧は、好ましくはコシヌソイドまた
はシヌソイド交流電圧によって相互に４分の１周期位相
偏移される、第１交流電圧および第２交流電圧によっ
て、それぞれ乗算される。他の可能性のある長所は、測
定電圧の実数部と虚数部を決定するため、測定電圧は、
それぞれ第１および第２同期整流に従属することであ
る。
定するため、測定電圧は、好ましくはコシヌソイドまた
はシヌソイド交流電圧によって相互に４分の１周期位相
偏移される、第１交流電圧および第２交流電圧によっ
て、それぞれ乗算される。他の可能性のある長所は、測
定電圧の実数部と虚数部を決定するため、測定電圧は、
それぞれ第１および第２同期整流に従属することであ
る。
【００１７】本方法は、第１同期整流のため、測定電圧
を生成する機能を果たす同じ交流電圧が使用され、同時
に、第２同期整流のため、その交流電圧に関して４分の
１周期位相偏移される同じ交流電圧が使用される場合、
特に容易に実行できる。
を生成する機能を果たす同じ交流電圧が使用され、同時
に、第２同期整流のため、その交流電圧に関して４分の
１周期位相偏移される同じ交流電圧が使用される場合、
特に容易に実行できる。
【００１８】後続の計算のため、乗算または同期整流に
よって得られる測定電圧の成分は、次に、測定電圧の実
数部と虚数部に対応する電圧信号を得るため、低域フィ
ルタリングによって交流電圧成分から好都合に解放され
る。
よって得られる測定電圧の成分は、次に、測定電圧の実
数部と虚数部に対応する電圧信号を得るため、低域フィ
ルタリングによって交流電圧成分から好都合に解放され
る。
【００１９】本発明の特に便宜な成果は、測定電圧を生
成するために用いられる交流電圧の実数部と虚数部を用
いる場合、測定コンデンサの測定キャパシタンスまたは
リアクタンスは、基準抵抗と測定コンデンサとから形成
される分圧器を計算することによって、実数部と虚数部
を表す電圧信号から決定されることを特徴とする。
成するために用いられる交流電圧の実数部と虚数部を用
いる場合、測定コンデンサの測定キャパシタンスまたは
リアクタンスは、基準抵抗と測定コンデンサとから形成
される分圧器を計算することによって、実数部と虚数部
を表す電圧信号から決定されることを特徴とする。
【００２０】本発明は、プラズマ形成が発生した場合に
おいても、工作機械のツールヘッドを制御するため、高
精度で継続することができる間隔測定の長所を有するの
みでなく、さらに、測定電圧を生成するため用いられる
交流電圧の実数部と虚数部を用いる場合、機械加工操作
のモニタリングも可能となり、測定コンデンサ（１６）
のプラズマインピーダンスは、基準抵抗と測定コンデン
サによって形成される分圧器を計算することによって、
実数部と虚数部を表す電圧信号から決定される。その結
果、一方において、プラズマの存在または非存在と、セ
ンサ電極とワークピースの間に位置するプラズマの強度
とを検出し、それを用いて機械加工操作をモニタリング
することができる。
おいても、工作機械のツールヘッドを制御するため、高
精度で継続することができる間隔測定の長所を有するの
みでなく、さらに、測定電圧を生成するため用いられる
交流電圧の実数部と虚数部を用いる場合、機械加工操作
のモニタリングも可能となり、測定コンデンサ（１６）
のプラズマインピーダンスは、基準抵抗と測定コンデン
サによって形成される分圧器を計算することによって、
実数部と虚数部を表す電圧信号から決定される。その結
果、一方において、プラズマの存在または非存在と、セ
ンサ電極とワークピースの間に位置するプラズマの強度
とを検出し、それを用いて機械加工操作をモニタリング
することができる。
【００２１】たとえば、レーザ切断の満足な実行は、プ
ラズマを観察することによってモニタリングすることが
できる。正常な満足なレーザ切断中、処理中のプラズマ
形成は、切断を確実にすることによって本質上一掃さ
れ、その結果、高いオーム抵抗を有する細いプラズマの
みとなるので、センサ電極とワークピースの間には間隔
測定に対する弱い影響しか存在しない。しかし、何らか
の理由で満足な切断が破壊される場合、プラズマ密度は
センサ電極とワークピースの間で増大し、その結果、同
時に、プラズマの抵抗は急激に低下し、プラズマインピ
ーダンスを連続的に測定するとき、この状態は即座に確
立される。したがって、このようなプラズマ導電率の増
大は、レーザ切断における欠点を示す。その結果、プラ
ズマインピーダンスをモニタリングすることによって、
欠点を早期に検出し、適切な対策を講じることが可能と
なる。
ラズマを観察することによってモニタリングすることが
できる。正常な満足なレーザ切断中、処理中のプラズマ
形成は、切断を確実にすることによって本質上一掃さ
れ、その結果、高いオーム抵抗を有する細いプラズマの
みとなるので、センサ電極とワークピースの間には間隔
測定に対する弱い影響しか存在しない。しかし、何らか
の理由で満足な切断が破壊される場合、プラズマ密度は
センサ電極とワークピースの間で増大し、その結果、同
時に、プラズマの抵抗は急激に低下し、プラズマインピ
ーダンスを連続的に測定するとき、この状態は即座に確
立される。したがって、このようなプラズマ導電率の増
大は、レーザ切断における欠点を示す。その結果、プラ
ズマインピーダンスをモニタリングすることによって、
欠点を早期に検出し、適切な対策を講じることが可能と
なる。
【００２２】間隔測定の精度を向上させるため、および
適切な場合は、プラズマモニタリングを強化するため、
本発明によれば、センサ電極までの測定配線を積極的に
遮蔽し、その場合、測定配線を介して分岐される測定電
圧はインピーダンス変成器を介して測定配線の遮壁に都
合よく印加されることが前提とされる。この方法によっ
て、測定キャパシタンスに対応して発生する漂遊キャパ
シタンスは、実質上減少されるので、より簡単な技術設
計が実現されるのみでなく、分圧器およびその設計も簡
単になる。
適切な場合は、プラズマモニタリングを強化するため、
本発明によれば、センサ電極までの測定配線を積極的に
遮蔽し、その場合、測定配線を介して分岐される測定電
圧はインピーダンス変成器を介して測定配線の遮壁に都
合よく印加されることが前提とされる。この方法によっ
て、測定キャパシタンスに対応して発生する漂遊キャパ
シタンスは、実質上減少されるので、より簡単な技術設
計が実現されるのみでなく、分圧器およびその設計も簡
単になる。
【００２３】以下、図面に例示する実施形態を用いて、
本発明をより詳細に述べる。
本発明をより詳細に述べる。
【００２４】相互に対応する回路要素は、図面の種々の
図形において、同じ符号によって示す。
図形において、同じ符号によって示す。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１には、センサヘッド１１が固
定されているツールヘッド１０、たとえばレーザツール
ヘッドが示されている。センサヘッド１１にはセンサ電
極１２が設けられ、センサ電極１２は絶縁体１３によっ
て支持部材１４から絶縁されている（単に概略を示
す）。センサ電極１２は、ツールヘッドに幾何学的関係
で固定される他の手段によって、保持することもでき
る。たとえば、弓形などを用いてセンサ電極をツールヘ
ッドの隣すなわち下に保持することができる。センサ電
極１２は、対向して位置するワークピース１５と共に測
定コンデンサ１６を形成し、測定コンデンサ１６の測定
キャパシタンスＣmは、センサ１２とワークピース１５
の間隔に応じて変わる。測定キャパシタンスＣmと並列
に示されるのは、センサ電極１２とワークピース１５の
間に位置するプラズマのオーム抵抗を表す抵抗Ｒ pであ
る。
定されているツールヘッド１０、たとえばレーザツール
ヘッドが示されている。センサヘッド１１にはセンサ電
極１２が設けられ、センサ電極１２は絶縁体１３によっ
て支持部材１４から絶縁されている（単に概略を示
す）。センサ電極１２は、ツールヘッドに幾何学的関係
で固定される他の手段によって、保持することもでき
る。たとえば、弓形などを用いてセンサ電極をツールヘ
ッドの隣すなわち下に保持することができる。センサ電
極１２は、対向して位置するワークピース１５と共に測
定コンデンサ１６を形成し、測定コンデンサ１６の測定
キャパシタンスＣmは、センサ１２とワークピース１５
の間隔に応じて変わる。測定キャパシタンスＣmと並列
に示されるのは、センサ電極１２とワークピース１５の
間に位置するプラズマのオーム抵抗を表す抵抗Ｒ pであ
る。
【００２６】図２に示すように、センサ電極１２は、遮
蔽配線１７および抵抗Ｒrefを介して交流電圧生成器１
８の第１出力ｓｉｎに接続される。基準抵抗Ｒrefと遮
蔽配線１７の接合点１９は、インピーダンス変成器とし
て機能する演算増幅器２０の非変換入力に接続され、演
算増幅器２０の出力はその変換入力および遮蔽配線１７
の遮壁１７′の両者に負荷される。
蔽配線１７および抵抗Ｒrefを介して交流電圧生成器１
８の第１出力ｓｉｎに接続される。基準抵抗Ｒrefと遮
蔽配線１７の接合点１９は、インピーダンス変成器とし
て機能する演算増幅器２０の非変換入力に接続され、演
算増幅器２０の出力はその変換入力および遮蔽配線１７
の遮壁１７′の両者に負荷される。
【００２７】さらに、演算増幅器２０の出力は、以下に
述べるように好ましくは同期整流器として作用する回路
要素Ｍ１およびＭ２の第１入力に接続される。これらの
回路要素Ｍ１およびＭ２の出力は、それぞれ、低域パス
フィルタ２１および２２を介して論理演算装置２３に接
続される。
述べるように好ましくは同期整流器として作用する回路
要素Ｍ１およびＭ２の第１入力に接続される。これらの
回路要素Ｍ１およびＭ２の出力は、それぞれ、低域パス
フィルタ２１および２２を介して論理演算装置２３に接
続される。
【００２８】交流電圧生成器１８の第２出力ｃｏｓによ
って、コシヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）が第１回路要素
Ｍ１の第２入力において印加され、同時に、交流電圧生
成器１８の第１出力ｓｉｎによって、シヌソイド交流電
圧Ｕs（ｔ）が第２回路要素Ｍ２の第２入力において印
加される。相互に９０°位相偏移された同じ周波数の別
の交流電圧、たとえば、方形波電圧を、回路要素の第２
入力に印加することもできる。
って、コシヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）が第１回路要素
Ｍ１の第２入力において印加され、同時に、交流電圧生
成器１８の第１出力ｓｉｎによって、シヌソイド交流電
圧Ｕs（ｔ）が第２回路要素Ｍ２の第２入力において印
加される。相互に９０°位相偏移された同じ周波数の別
の交流電圧、たとえば、方形波電圧を、回路要素の第２
入力に印加することもできる。
【００２９】交流電圧生成器１８の第１出力ｓｉｎにお
けるシヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）は、基準抵抗Ｒrefに
おいて存在し、測定電流ｉm（ｔ）として、遮蔽配線１
７およびさらに測定コンデンサ１６を介して流れる電流
を生成する。接合点１９から演算増幅器２０の非変換入
力に流れる電流は、演算増幅器２０はインピーダンス変
成器として接続されるので、その結果、実際上ゼロであ
る。したがって、測定電流ｉm（ｔ）は、接合点１９に
おいて、測定電圧Ｕm（ｔ）を生成し、測定電圧Ｕ
m（ｔ）も演算増幅器２０の出力において存在する。
けるシヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）は、基準抵抗Ｒrefに
おいて存在し、測定電流ｉm（ｔ）として、遮蔽配線１
７およびさらに測定コンデンサ１６を介して流れる電流
を生成する。接合点１９から演算増幅器２０の非変換入
力に流れる電流は、演算増幅器２０はインピーダンス変
成器として接続されるので、その結果、実際上ゼロであ
る。したがって、測定電流ｉm（ｔ）は、接合点１９に
おいて、測定電圧Ｕm（ｔ）を生成し、測定電圧Ｕ
m（ｔ）も演算増幅器２０の出力において存在する。
【００３０】演算増幅器２０の出力と遮蔽配線１７の遮
壁１７′との接続によって、配線１７自体およびその遮
壁１７′が同じ電位Ｕm（ｔ）となるので、また遮壁１
７′はセンサヘッド１１の支持部材１４に接続（詳細に
は図示してない方式によって）されているので、配線１
７と遮壁１７′の間、およびセンサ電極１２と支持部材
１４の間のキャパシタンスの作用は除去される。測定配
線のこの積極的遮蔽のため、一方において、センサ電極
１２と配線１７の間のキャパシタンス、および他方にお
いて、支持部材１４と遮壁１７′の間のキャパシタンス
は、したがって、それによって損傷を受ける測定キャパ
シタンスＣmの正確な検出がなければ、センサ電極１２
とワークピース１５の間の測定キャパシタンスＣmの倍
数の量となる。その結果、センサ電極１２と支持部材１
４の間の絶縁体１３も、容量性遮壁に関係なく非常に薄
い設計とすることができる。
壁１７′との接続によって、配線１７自体およびその遮
壁１７′が同じ電位Ｕm（ｔ）となるので、また遮壁１
７′はセンサヘッド１１の支持部材１４に接続（詳細に
は図示してない方式によって）されているので、配線１
７と遮壁１７′の間、およびセンサ電極１２と支持部材
１４の間のキャパシタンスの作用は除去される。測定配
線のこの積極的遮蔽のため、一方において、センサ電極
１２と配線１７の間のキャパシタンス、および他方にお
いて、支持部材１４と遮壁１７′の間のキャパシタンス
は、したがって、それによって損傷を受ける測定キャパ
シタンスＣmの正確な検出がなければ、センサ電極１２
とワークピース１５の間の測定キャパシタンスＣmの倍
数の量となる。その結果、センサ電極１２と支持部材１
４の間の絶縁体１３も、容量性遮壁に関係なく非常に薄
い設計とすることができる。
【００３１】プラズマがツールヘッド１０とワークピー
ス１５の間に存在しない場合、言い換えれば、プラズマ
インピーダンスＲpがほぼ無限大である場合、測定電圧
Ｕm（ｔ）は、測定コンデンサ１６の測定キャパシタン
スＣmのみによって定められる。
ス１５の間に存在しない場合、言い換えれば、プラズマ
インピーダンスＲpがほぼ無限大である場合、測定電圧
Ｕm（ｔ）は、測定コンデンサ１６の測定キャパシタン
スＣmのみによって定められる。
【００３２】しかし、プラズマが存在する場合、プラズ
マのインピーダンスは、生成器周波数が適切に選択され
るときは、純粋抵抗と見なすことが可能であり、測定電
圧Ｕ m（ｔ）に同様に影響を及ぼす。
マのインピーダンスは、生成器周波数が適切に選択され
るときは、純粋抵抗と見なすことが可能であり、測定電
圧Ｕ m（ｔ）に同様に影響を及ぼす。
【００３３】基準抵抗Ｒrefと測定コンデンサ１６の接
合点１９からインピーダンス変成器として接続される演
算増幅器２０に電流が流れないと仮定すると、基準抵抗
Ｒre fと測定キャパシタ１６とからなる分圧器は、下記
の式を用いて通常の手法によって記述することができ
る。
合点１９からインピーダンス変成器として接続される演
算増幅器２０に電流が流れないと仮定すると、基準抵抗
Ｒre fと測定キャパシタ１６とからなる分圧器は、下記
の式を用いて通常の手法によって記述することができ
る。
【００３４】Ｕs／（Ｒref＋Ｒx）＝Ｕm／Ｒx （ここで、Ｒx＝Ｒp−１／ｊωＣm、ｊは虚数単位、ω
＝２πｆである（ｆ＝生成器周波数））。
＝２πｆである（ｆ＝生成器周波数））。
【００３５】測定コンデンサ１６のインピーダンスＲx
に関する下記の関係が、この関係から計算変換よって生
成される。すなわち、Ｒx＝Ｒref／（Ｕs／Ｕm−１）。
容量性リアクタンスＸcm＝１／ｊωＣmおよびプラズマ
インピーダンスＲpに関する下記の関係が、実数部およ
び虚数部を形成することによって、この式から生成され
る。
に関する下記の関係が、この関係から計算変換よって生
成される。すなわち、Ｒx＝Ｒref／（Ｕs／Ｕm−１）。
容量性リアクタンスＸcm＝１／ｊωＣmおよびプラズマ
インピーダンスＲpに関する下記の関係が、実数部およ
び虚数部を形成することによって、この式から生成され
る。
【数１】
【数２】
【００３６】これらの関係に従って、各場合に、測定キ
ャパシタンスＣmの絶対値およびプラズマインピーダン
スＲpの絶対値、または少なくとも、これらの変数に比
例する測定信号を、測定電圧Ｕm（ｔ）から導くことを
可能とするため、測定電圧Ｕm（ｔ）は、たとえば、乗
算によってまたは同期整流に従って、評価回路の第１回
路要素Ｍ１においてコシヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）と
混合または結合され、また第２回路要素Ｍ２においてシ
ヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）と混合または結合される。
次に、回路要素Ｍ１およびＭ２の出力信号は、各場合
に、それぞれ低域パスフィルタ２１および２２におい
て、交流電圧成分から解放され、ここで、測定電圧Ｕm
（ｔ）の実数部と虚数部が構成される。この場合、コシ
ヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）の使用による第１回路要素
Ｍ１における測定電圧Ｕm（ｔ）の乗算または同期整流
によって、測定電圧Ｕm（ｔ）の実数部ＵmRの大きさが
生成され、一方、シヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）を用い
ると共に測定電圧Ｕm（ｔ）を生成するためにも用いら
れる同期整流または乗算によって、第２回路要素Ｍ２に
おいて、測定電圧Ｕm（ｔ）の虚数部ＵmIが誘導され
る。
ャパシタンスＣmの絶対値およびプラズマインピーダン
スＲpの絶対値、または少なくとも、これらの変数に比
例する測定信号を、測定電圧Ｕm（ｔ）から導くことを
可能とするため、測定電圧Ｕm（ｔ）は、たとえば、乗
算によってまたは同期整流に従って、評価回路の第１回
路要素Ｍ１においてコシヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）と
混合または結合され、また第２回路要素Ｍ２においてシ
ヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）と混合または結合される。
次に、回路要素Ｍ１およびＭ２の出力信号は、各場合
に、それぞれ低域パスフィルタ２１および２２におい
て、交流電圧成分から解放され、ここで、測定電圧Ｕm
（ｔ）の実数部と虚数部が構成される。この場合、コシ
ヌソイド交流電圧Ｕc（ｔ）の使用による第１回路要素
Ｍ１における測定電圧Ｕm（ｔ）の乗算または同期整流
によって、測定電圧Ｕm（ｔ）の実数部ＵmRの大きさが
生成され、一方、シヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）を用い
ると共に測定電圧Ｕm（ｔ）を生成するためにも用いら
れる同期整流または乗算によって、第２回路要素Ｍ２に
おいて、測定電圧Ｕm（ｔ）の虚数部ＵmIが誘導され
る。
【００３７】交流生成器１８によって生成される交流電
圧、特にシヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）の振幅および位
相は公知であり、基準抵抗Ｒrefおよび測定コンデンサ
１６から形成される分圧器は、前述した式を用いて求め
ることができる。また、電極とワークピースの間隔に比
例する、測定コンデンサ１６のキャパシタンスＣmおよ
び、所望により、プラズマインピーダンスＲpを決定す
ることができる。この方法によって、センサ電極１２と
ワークピース１５の間隔ｄを、プラズマの存在と無関係
に、測定キャパシタンスＣmによって検出することがで
きる。
圧、特にシヌソイド交流電圧Ｕs（ｔ）の振幅および位
相は公知であり、基準抵抗Ｒrefおよび測定コンデンサ
１６から形成される分圧器は、前述した式を用いて求め
ることができる。また、電極とワークピースの間隔に比
例する、測定コンデンサ１６のキャパシタンスＣmおよ
び、所望により、プラズマインピーダンスＲpを決定す
ることができる。この方法によって、センサ電極１２と
ワークピース１５の間隔ｄを、プラズマの存在と無関係
に、測定キャパシタンスＣmによって検出することがで
きる。
【００３８】ワークピース１５とセンサ電極１２の間隔
ｄと間隔ｄに応じて変わる測定電圧Ｃmの少なくとも一
方を決定するため、または間隔ｄの容量性リアクタンス
ＸCmを計算するため、論理演算装置２３は、測定電圧Ｕ
mの実数部および虚数部を表す電圧信号ＵmR、ＵmIをア
ナログディジタル変換器（図示してない）を介してディ
ジタル形式で入力されるマイクロプロセッサを含むこと
ができる。次に、下流の制御装置による要求に応じて、
マイクロプロセッサによって、直接に間隔、または測定
コンデンサのキャパシタンスとリアクタンスの少なくと
も一方が提供され、後者の場合、間隔は、次に、後者の
値から対応する較正曲線または較正表によって得ること
ができる。
ｄと間隔ｄに応じて変わる測定電圧Ｃmの少なくとも一
方を決定するため、または間隔ｄの容量性リアクタンス
ＸCmを計算するため、論理演算装置２３は、測定電圧Ｕ
mの実数部および虚数部を表す電圧信号ＵmR、ＵmIをア
ナログディジタル変換器（図示してない）を介してディ
ジタル形式で入力されるマイクロプロセッサを含むこと
ができる。次に、下流の制御装置による要求に応じて、
マイクロプロセッサによって、直接に間隔、または測定
コンデンサのキャパシタンスとリアクタンスの少なくと
も一方が提供され、後者の場合、間隔は、次に、後者の
値から対応する較正曲線または較正表によって得ること
ができる。
【００３９】しかし、たとえば、アナログ手法によっ
て、測定電圧Ｕmの実数部および虚数部を表す電圧信号
ＵmR、ＵmIから出力電圧ＵAを形成することもできる。
出力電圧ＵAは、測定コンデンサ１６のリアクタンスＸ
Cmの関数、したがってワークピース１５とセンサ電極１
２の間隔ｄの関数を表す。図３に示すように、この目的
のため、論理演算装置２３は、２つの乗算器回路２４、
２５を含み、これらの乗算器回路によって、電圧信号Ｕ
mR、ＵmIはそれぞれ自体によって乗算され、その結果、
乗算器回路２４、２５の出力信号は、入力電圧の２乗を
表す。次に、乗算器回路２４、２５の出力信号は、この
手法によって、リアクタンスＸCmに関する式によって特
定される分数の分子を決定するため、加算器２６によっ
て一緒に加算される。
て、測定電圧Ｕmの実数部および虚数部を表す電圧信号
ＵmR、ＵmIから出力電圧ＵAを形成することもできる。
出力電圧ＵAは、測定コンデンサ１６のリアクタンスＸ
Cmの関数、したがってワークピース１５とセンサ電極１
２の間隔ｄの関数を表す。図３に示すように、この目的
のため、論理演算装置２３は、２つの乗算器回路２４、
２５を含み、これらの乗算器回路によって、電圧信号Ｕ
mR、ＵmIはそれぞれ自体によって乗算され、その結果、
乗算器回路２４、２５の出力信号は、入力電圧の２乗を
表す。次に、乗算器回路２４、２５の出力信号は、この
手法によって、リアクタンスＸCmに関する式によって特
定される分数の分子を決定するため、加算器２６によっ
て一緒に加算される。
【００４０】その上、電圧信号ＵmR、ＵmIは、さらに乗
算器回路２７、２８に入力され、乗算器回路２７、２８
において、電圧信号は、それぞれ係数ｋ１およびｋ２を
乗じられる。係数ｋ１およびｋ２は、それぞれ、交流電
圧生成器１８によって生成されるシヌソイド交流電圧Ｕ
sの虚数部および実数部に対応する。これらの第２乗算
器２７、２８の出力信号は、リアクタンスに関する式に
よって特定される分数の分母に対応する信号を得るた
め、減算器２９によって、交互に相互から減算される。
次に、測定コンデンサ１６のリアクタンスまたはその測
定キャパシタンスに応じて出力電圧ＵAを形成するた
め、加算器２６および減算器２９の出力信号は、除算器
３０において相互に結合される。
算器回路２７、２８に入力され、乗算器回路２７、２８
において、電圧信号は、それぞれ係数ｋ１およびｋ２を
乗じられる。係数ｋ１およびｋ２は、それぞれ、交流電
圧生成器１８によって生成されるシヌソイド交流電圧Ｕ
sの虚数部および実数部に対応する。これらの第２乗算
器２７、２８の出力信号は、リアクタンスに関する式に
よって特定される分数の分母に対応する信号を得るた
め、減算器２９によって、交互に相互から減算される。
次に、測定コンデンサ１６のリアクタンスまたはその測
定キャパシタンスに応じて出力電圧ＵAを形成するた
め、加算器２６および減算器２９の出力信号は、除算器
３０において相互に結合される。
【００４１】プラズマインピーダンスＲpに比例する信
号は、切断の質を制御するため、プラズマインピーダン
スをモニタリングすることが望ましいとき、デジタルま
たはアナログ様式に対応して形成することができる。
号は、切断の質を制御するため、プラズマインピーダン
スをモニタリングすることが望ましいとき、デジタルま
たはアナログ様式に対応して形成することができる。
【図１】 ツールヘッドとワークピースの間に設けられ
る測定コンデンサの等価回路を示す図である。
る測定コンデンサの等価回路を示す図である。
【図２】 センサ電極とワークピースの間隔を測定する
回路のブロック図である。
回路のブロック図である。
【図３】 図２による回路に設けられる論理演算装置の
ブロック図である。
ブロック図である。
１０ ツールヘッド、１１ センサヘッド、１２ セン
サ電極、１３ 絶縁体、１４ 支持部材、１５ ワーク
ピース、１６ 測定コンデンサ、１７ 遮蔽配線、１
７′ 遮壁、１８ 交流電圧生成器、１９ 接合点、２
０ 演算増幅器、２１，２２ 低域パスフィルタ、２３
論理演算装置、２４，２５，２７，２８乗算器回路、
２６ 加算器、２９ 減算器、３０ 除算器。
サ電極、１３ 絶縁体、１４ 支持部材、１５ ワーク
ピース、１６ 測定コンデンサ、１７ 遮蔽配線、１
７′ 遮壁、１８ 交流電圧生成器、１９ 接合点、２
０ 演算増幅器、２１，２２ 低域パスフィルタ、２３
論理演算装置、２４，２５，２７，２８乗算器回路、
２６ 加算器、２９ 減算器、３０ 除算器。
Claims (11)
- 【請求項１】 センサ電極（１２）とワークピース（１
５）の間隔（ｄ）を測定する方法であって、 前記センサ電極（１２）は、前記ワークピース（１５）
と共に測定コンデンサ（１６）を形成し、前記測定コン
デンサ（１６）を通って交流（ｉm（ｔ））が流れるス
テップと、 前記センサ電極（１２）に存在する電圧が、測定電圧
（Ｕm（ｔ））として分岐されるステップと、 測定すべき前記間隔（ｄ）をそれから決定するため、前
記測定電圧（Ｕm（ｔ））の実数部および虚数部を決定
するステップと、を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の方法において、電気特
性、特に、前記センサ電極（１２）とワークピース（１
５）の間のプラズマの抵抗（Ｒp）は、前記測定電圧
（Ｕm（ｔ））の実数部と虚数部から決定されることを
特徴とする方法。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の方法におい
て、その実数部および虚数部を決定するため、前記測定
電圧（Ｕm（ｔ））は、互いに４分の１周期位相偏移さ
れる第１交流電圧（Ｕs（ｔ））および第２交流電圧
（Ｕc（ｔ））と結合されることを特徴とする方法。 - 【請求項４】 請求項２または３に記載の方法におい
て、その実数部および虚数部を決定するため、前記測定
電圧（Ｕm（ｔ））は、好ましくは、それぞれコシヌソ
イドまたはシヌソイド交流電圧によって相互に４分の１
周期位相偏移される第１交流電圧（Ｕs（ｔ））および
第２交流電圧（Ｕc（ｔ））をそれぞれ乗算されること
を特徴とする方法。 - 【請求項５】 請求項２または３に記載の方法におい
て、その実数部および虚数部を決定するため、前記測定
電圧（Ｕm（ｔ））は、第１および第２同期整流に、そ
れぞれ従属することを特徴とする方法。 - 【請求項６】 請求項５に記載の方法において、前記第
１同期整流のため、前記測定電圧（Ｕm（ｔ））を生成
する機能を果たす同じ交流電圧（Ｕs（ｔ））が使用さ
れ、同時に、前記第２同期整流のため、交流電圧（Ｕs
（ｔ））に対して４分の１周期位相偏移された同じ交流
電圧（Ｕc（ｔ））が使用されることを特徴とする方
法。 - 【請求項７】 請求項４から６のいずれかに記載の方法
において、それぞれ前記測定電圧（Ｕm（ｔ））の実数
部および虚数部に対応する電圧信号（ＵmI）および（Ｕ
mR）を得るため、乗算または同期整流によって得られる
前記測定電圧（Ｕm（ｔ））の成分は、低域フィルタリ
ングによって交流電圧成分から解放されることを特徴と
する方法。 - 【請求項８】 請求項７に記載の方法において、前記測
定電圧（Ｕm（ｔ））を生成するために用いられる前記
交流電圧（Ｕs（ｔ））の実数部および虚数部を用いる
場合、前記測定コンデンサ（１６）の測定キャパシタン
ス（Ｃm）またはリアクタンス（ＸCm）は、前記基準抵
抗（Ｒref）と測定コンデンサ（１６）とから形成され
る前記分圧器を計算することによって、それぞれ、実数
部および虚数部を表す電圧信号（ＵmR）および（ＵmI）
から決定されることを特徴とする方法。 - 【請求項９】 請求項７または８に記載の方法におい
て、前記測定電圧（Ｕ m（ｔ））を生成するために用い
られる前記交流電圧（Ｕs（ｔ））の実数部および虚数
部を用いる場合、前記測定コンデンサ（１６）のプラズ
マインピーダンス（Ｒp）は、前記基準抵抗（Ｒref）と
測定コンデンサ（１６）とから形成される前記分圧器を
計算することによって、それぞれ、実数部および虚数部
を表す電圧信号（ＵmR）および（ＵmI）から決定される
ことを特徴とする方法。 - 【請求項１０】 請求項１から９のいずれかに記載の方
法において、前記センサ電極（１２）までの測定配線
（１７）は、積極的に遮蔽されることを特徴とする方
法。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の方法において、前
記測定配線（１７）を介して分岐される前記測定電圧
（Ｕm（ｔ））は、インピーダンス変成器（２０）を介
して前記測定配線（１７）の遮壁に印加されることを特
徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19906442.3 | 1999-02-16 | ||
| DE19906442A DE19906442C2 (de) | 1999-02-16 | 1999-02-16 | Verfahren zum Messen des Abstandes zwischen einer Sensorelektrode und einem Werkstück |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000234903A true JP2000234903A (ja) | 2000-08-29 |
Family
ID=7897673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000038619A Pending JP2000234903A (ja) | 1999-02-16 | 2000-02-16 | センサ電極とワークピースの間隔を測定する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6509744B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000234903A (ja) |
| DE (1) | DE19906442C2 (ja) |
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| JP2006343236A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | ギャップ検出装置 |
| JP2007010656A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-18 | General Electric Co <Ge> | クリアランス測定システムおよび動作方法 |
| JP2007330981A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ加工機用のギャップ検出装置及びレーザ加工システム並びにレーザ加工機用のギャップ検出方法 |
| JP2008089590A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | General Electric Co <Ge> | 間隔測定についてのシステムおよびそのシステムの操作方法 |
| JP2008304194A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Mitsubishi Electric Corp | 状態検出装置およびレーザ加工装置 |
| JP2011227094A (ja) * | 2011-08-01 | 2011-11-10 | Mitsubishi Electric Corp | 状態検出装置およびレーザ加工装置 |
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| DE10152130A1 (de) * | 2001-10-23 | 2003-05-08 | Precitec Kg | Arbeitskopf mit Abstandsmeßfunktion zur Bearbeitung eines Werkstücks |
| PL1684046T3 (pl) * | 2005-01-20 | 2008-12-31 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh Co Kg | Sposób i urządzenie do wyznaczania odstępu między elektrodą sensorową i przedmiotem obrabianym |
| DE102005039455B4 (de) * | 2005-08-18 | 2007-06-06 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Implantat zum Einführen in Hohlkörper, Cochleaimplantat, Anordnung aus einem Implantat und Verfahren zur Herstellung |
| EP1977193B1 (de) | 2005-12-16 | 2015-09-02 | TRUMPF Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG | Isolator für eine sensoranordnung einer laserbearbeitungsmaschine |
| US7454974B2 (en) * | 2006-09-29 | 2008-11-25 | General Electric Company | Probe system, ultrasound system and method of generating ultrasound |
| US8373425B2 (en) * | 2007-04-06 | 2013-02-12 | Hypertherm, Inc. | Plasma insensitive height sensing |
| US8244494B2 (en) * | 2007-04-06 | 2012-08-14 | Hypertherm, Inc. | Plasma insensitive height sensing |
| US9267975B2 (en) * | 2009-09-22 | 2016-02-23 | Laser Mechanisms, Inc. | Fast response capacitive gauging system featuring steep slope filter discrimination circuit |
| DE102016115415B4 (de) | 2016-08-19 | 2018-04-12 | Precitec Gmbh & Co. Kg | Isolationsteil zur isolierten Halterung einer elektrisch leitenden Düse und Laserbearbeitungskopf mit einem Sensor zur Erkennung eines derartigen Isolationsteils |
| RU178434U1 (ru) * | 2017-05-25 | 2018-04-04 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ" | Устройство для управления положением лазерной головки относительно обрабатываемой поверхности |
| RU2714596C2 (ru) * | 2017-05-25 | 2020-02-18 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ" | Устройство для управления положением лазерной головки относительно обрабатываемой поверхности |
| US11014194B2 (en) * | 2017-11-02 | 2021-05-25 | Coherent, Inc. | Laser material processing distance gauge |
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|---|---|---|---|---|
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| DE4020196A1 (de) | 1990-06-25 | 1992-01-09 | Weidmueller C A Gmbh Co | Messeinrichtung und verfahren zu ihrer betriebseinstellung |
| DE4311064A1 (de) * | 1993-04-03 | 1994-10-06 | Lang Apparatebau Gmbh | Verfahren zur Messung der Schmutzbefrachtung einer Waschflotte |
| DE4340395C1 (de) * | 1993-11-26 | 1994-12-15 | Weidmueller Interface | Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstücks mittels eines Laserstrahls |
| GB9620053D0 (en) * | 1996-09-26 | 1996-11-13 | Rolls Royce Plc | Method and apparatus for measurement |
-
1999
- 1999-02-16 DE DE19906442A patent/DE19906442C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-02-16 US US09/504,714 patent/US6509744B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-16 JP JP2000038619A patent/JP2000234903A/ja active Pending
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