JP2000239610A - 反射防汚性板の製造方法 - Google Patents
反射防汚性板の製造方法Info
- Publication number
- JP2000239610A JP2000239610A JP11047619A JP4761999A JP2000239610A JP 2000239610 A JP2000239610 A JP 2000239610A JP 11047619 A JP11047619 A JP 11047619A JP 4761999 A JP4761999 A JP 4761999A JP 2000239610 A JP2000239610 A JP 2000239610A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antifouling
- film
- forming
- lower layer
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Cookers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属膜及び金属酸化物膜よりなる熱線反射膜
は反射特性を有するものの、防汚性を有するものはな
く、オーブン電子レンジ等の加熱調理器に用いた場合、
油などの汚れが焼き付き、それにより初期の反射性能を
保てない等の問題を有していた。また、フッ素ポリマー
中にアルミフレークを分散させ反射と防汚の両効果を付
与した場合においては、金属膜及び金属酸化物から成る
熱線反射膜に比べて、反射能がかなり劣る。また、塗膜
の耐久性の面でも、ピンホールの発生により劣化する等
の問題を有していた。 【解決手段】 反射特性を示す基材表面に親水性を示す
下層膜を形成する下層膜形成工程２と、さらにその下層
膜表面上に防汚性を有する薄膜を形成する工程３を有す
る高反射防汚性板の製造方法。
は反射特性を有するものの、防汚性を有するものはな
く、オーブン電子レンジ等の加熱調理器に用いた場合、
油などの汚れが焼き付き、それにより初期の反射性能を
保てない等の問題を有していた。また、フッ素ポリマー
中にアルミフレークを分散させ反射と防汚の両効果を付
与した場合においては、金属膜及び金属酸化物から成る
熱線反射膜に比べて、反射能がかなり劣る。また、塗膜
の耐久性の面でも、ピンホールの発生により劣化する等
の問題を有していた。 【解決手段】 反射特性を示す基材表面に親水性を示す
下層膜を形成する下層膜形成工程２と、さらにその下層
膜表面上に防汚性を有する薄膜を形成する工程３を有す
る高反射防汚性板の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材表面の反射特
性を損なわず防汚性を付与することを可能とする表面処
理である高反射防汚性板の製造方法に関するものであ
る。
性を損なわず防汚性を付与することを可能とする表面処
理である高反射防汚性板の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】基材表面の撥水撥油防汚性を改善する方
法として、フッ素ポリマーを塗布焼き付けたり、フロロ
カーボン系の化学吸着単分子膜を形成する方法が提案さ
れている（特開平８−１８８４４８号公報参照）。ま
た、熱線反射能を有する方法として、金属膜及び金属酸
化物膜をガラス表面に設けた熱線反射ガラスも提案され
ている（特開平７−１４９５４２号公報参照）。また、
フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散させ、塗布焼
き付ける方法で反射及び防汚効果を付与する方法も提案
されている。
法として、フッ素ポリマーを塗布焼き付けたり、フロロ
カーボン系の化学吸着単分子膜を形成する方法が提案さ
れている（特開平８−１８８４４８号公報参照）。ま
た、熱線反射能を有する方法として、金属膜及び金属酸
化物膜をガラス表面に設けた熱線反射ガラスも提案され
ている（特開平７−１４９５４２号公報参照）。また、
フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散させ、塗布焼
き付ける方法で反射及び防汚効果を付与する方法も提案
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、金属膜及び金
属酸化物膜よりなる熱線反射膜は反射特性を有するもの
の、防汚性を有するものはなく、オーブン電子レンジ等
の加熱調理器に用いた場合、油などの汚れが焼き付き、
それにより初期の反射性能を保てない等の問題を有して
いた。また、フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散
させ反射と防汚の両効果を付与した場合においては、金
属膜及び金属酸化物から成る熱線反射膜に比べて、反射
能がかなり劣る。また、塗膜の耐久性の面でも、ピンホ
ールの発生により劣化する等の問題を有していた。
属酸化物膜よりなる熱線反射膜は反射特性を有するもの
の、防汚性を有するものはなく、オーブン電子レンジ等
の加熱調理器に用いた場合、油などの汚れが焼き付き、
それにより初期の反射性能を保てない等の問題を有して
いた。また、フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散
させ反射と防汚の両効果を付与した場合においては、金
属膜及び金属酸化物から成る熱線反射膜に比べて、反射
能がかなり劣る。また、塗膜の耐久性の面でも、ピンホ
ールの発生により劣化する等の問題を有していた。
【０００４】一方、フロロカーボン系の化学吸着単分子
膜は、基材表面の活性水素との縮合反応により基材表面
に密着するが、金属基材等表面に活性水素が少ない基材
では、吸着膜の耐久性が劣る。また、その膜厚（数nm）
が非常に薄いため、基材表面に酸化によりテンパーカラ
ーが付く等の問題を有していた。
膜は、基材表面の活性水素との縮合反応により基材表面
に密着するが、金属基材等表面に活性水素が少ない基材
では、吸着膜の耐久性が劣る。また、その膜厚（数nm）
が非常に薄いため、基材表面に酸化によりテンパーカラ
ーが付く等の問題を有していた。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、反射特性に優れ、かつ防汚性、耐久性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板の製造方法を提供すること
を目的とする。
ので、反射特性に優れ、かつ防汚性、耐久性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板の製造方法を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明の反射防汚性板の製造方法は、反射特性を示す
基材表面に、親水性を示す下層膜を形成する工程と、前
記下層膜表面に、シラン系界面活性剤を吸着させること
で防汚性を有する薄膜を形成する工程とから成る高反射
防汚性板の製造方法とする。この構成により、高反射
性、防汚性、耐熱性、耐酸化性を兼ね備えた表面処理を
実現できる。
に本発明の反射防汚性板の製造方法は、反射特性を示す
基材表面に、親水性を示す下層膜を形成する工程と、前
記下層膜表面に、シラン系界面活性剤を吸着させること
で防汚性を有する薄膜を形成する工程とから成る高反射
防汚性板の製造方法とする。この構成により、高反射
性、防汚性、耐熱性、耐酸化性を兼ね備えた表面処理を
実現できる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１記載の発明は、
反射特性を示す基材表面に下層膜を形成する工程と、さ
らにその上に防汚性を有する薄膜を形成する工程からな
ることを特徴とする高反射防汚性板の製造方法であり、
これにより、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理を
実現できる。
反射特性を示す基材表面に下層膜を形成する工程と、さ
らにその上に防汚性を有する薄膜を形成する工程からな
ることを特徴とする高反射防汚性板の製造方法であり、
これにより、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理を
実現できる。
【０００８】本発明の請求項２記載の発明は、反射特性
を示す基材表面に、親水性を示す下層膜を形成する工程
と、前記下層膜表面上に化学結合により密着した防汚性
を有する薄膜を形成する工程とを有することを特徴とす
る高反射防汚性板の製造方法であり、親水性を示す下層
膜表面の活性水素を有する官能基と、防汚性を有する薄
膜の官能基が化学結合するものである。よって防汚性を
有する膜を密着させるため、アンカー効果により密着し
ている従来フッ素ポリマーの塗膜に比べ、耐久性に優れ
た塗膜を形成することができる。また、金属表面等親水
性が低く活性水素を有する官能基の少ない基材表面上に
も、親水性を示す下層膜を介することでより多くの化学
結合が形成され、防汚性を有する緻密な薄膜にできるた
め、結果として防汚性及び耐久性の優れた塗膜を形成す
ることができる。
を示す基材表面に、親水性を示す下層膜を形成する工程
と、前記下層膜表面上に化学結合により密着した防汚性
を有する薄膜を形成する工程とを有することを特徴とす
る高反射防汚性板の製造方法であり、親水性を示す下層
膜表面の活性水素を有する官能基と、防汚性を有する薄
膜の官能基が化学結合するものである。よって防汚性を
有する膜を密着させるため、アンカー効果により密着し
ている従来フッ素ポリマーの塗膜に比べ、耐久性に優れ
た塗膜を形成することができる。また、金属表面等親水
性が低く活性水素を有する官能基の少ない基材表面上に
も、親水性を示す下層膜を介することでより多くの化学
結合が形成され、防汚性を有する緻密な薄膜にできるた
め、結果として防汚性及び耐久性の優れた塗膜を形成す
ることができる。
【０００９】本発明の請求項３記載の発明は、反射特性
を示す基材表面に着色処理またはエンボス加工をするこ
とにより意匠性を付与することを特徴とする請求項１ま
たは２に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、反射
特性及び防汚性と、意匠性の向上等視覚的な効果も併せ
てもつことができる。また、エンボス加工により基材表
面に凹凸を設けると、単位面積当たりの表面積が増加
し、反射率を向上することができる。
を示す基材表面に着色処理またはエンボス加工をするこ
とにより意匠性を付与することを特徴とする請求項１ま
たは２に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、反射
特性及び防汚性と、意匠性の向上等視覚的な効果も併せ
てもつことができる。また、エンボス加工により基材表
面に凹凸を設けると、単位面積当たりの表面積が増加
し、反射率を向上することができる。
【００１０】本発明の請求項４記載の発明は、親水性を
示す下層膜を形成する工程が、金属アルコキシド、金属
アルコキシドの部分加水分解物、ポリシラザン、シラノ
ールのうち少なくとも１種と、アルコール、ケトン、エ
ステル、水、酸のうち少なくとも１種とを含む溶液を塗
布する工程と、形成した下層膜表面を親水化する工程と
を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項
に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、金属酸化物
（例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｓｂ等の酸化物）をユニットとした繰り返し
で構成されたセラミックスとなるため耐熱性が優れ、膜
も緻密であるため、酸化による基材の変色劣化を防ぐこ
とも可能となり、初期の反射特性を保持することができ
る。
示す下層膜を形成する工程が、金属アルコキシド、金属
アルコキシドの部分加水分解物、ポリシラザン、シラノ
ールのうち少なくとも１種と、アルコール、ケトン、エ
ステル、水、酸のうち少なくとも１種とを含む溶液を塗
布する工程と、形成した下層膜表面を親水化する工程と
を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項
に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、金属酸化物
（例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｓｂ等の酸化物）をユニットとした繰り返し
で構成されたセラミックスとなるため耐熱性が優れ、膜
も緻密であるため、酸化による基材の変色劣化を防ぐこ
とも可能となり、初期の反射特性を保持することができ
る。
【００１１】本発明の請求項５記載の発明は、下層膜表
面を親水化する工程が、酸処理、アルカリ処理、熱処理
のいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか１項に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、こ
れらの処理により活性水素を含む官能基を有する下層膜
表面を実現できる。
面を親水化する工程が、酸処理、アルカリ処理、熱処理
のいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか１項に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、こ
れらの処理により活性水素を含む官能基を有する下層膜
表面を実現できる。
【００１２】本発明の請求項６記載の発明は、下層膜表
面を親水化する熱処理工程での処理温度が３００℃〜４
５０℃であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか
１項に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、この温
度で熱処理することにより、下層膜表面を水酸基化する
ことができる。さらにこの温度域での焼成は、下層膜を
緻密化することにもなっている。また、熱線を遮断（吸
収）し反射率を低下させる有機分の分解除去も可能とす
ることから、基材の反射特性を損なわない。
面を親水化する熱処理工程での処理温度が３００℃〜４
５０℃であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか
１項に記載の高反射防汚性板の製造方法であり、この温
度で熱処理することにより、下層膜表面を水酸基化する
ことができる。さらにこの温度域での焼成は、下層膜を
緻密化することにもなっている。また、熱線を遮断（吸
収）し反射率を低下させる有機分の分解除去も可能とす
ることから、基材の反射特性を損なわない。
【００１３】本発明の請求項７記載の発明は、防汚性を
有する薄膜を形成する工程が、親水性を示す下層膜表面
に、一端にはＣＦ3基またはＣＨ3基を有し、他端にはシ
ラノール基、クロロシリル基またはアルコキシシリル基
を有するシラン系界面活性剤を吸着することを特徴とす
る請求項２〜６のいずれか１項に記載の高反射防汚性板
の製造方法であり、これにより、下層膜表面と化学結合
により密着した防汚性を有する薄膜を焼成過程を必要と
せず形成することができる。
有する薄膜を形成する工程が、親水性を示す下層膜表面
に、一端にはＣＦ3基またはＣＨ3基を有し、他端にはシ
ラノール基、クロロシリル基またはアルコキシシリル基
を有するシラン系界面活性剤を吸着することを特徴とす
る請求項２〜６のいずれか１項に記載の高反射防汚性板
の製造方法であり、これにより、下層膜表面と化学結合
により密着した防汚性を有する薄膜を焼成過程を必要と
せず形成することができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。図１において、本発明の高反射防
汚性板の製造方法は、反射特性を示す基材表面に前処理
を行う前処理工程１と、基材表面に親水性を示す下層膜
を形成する下層膜形成工程２と、さらにその下層膜表面
上に防汚性を有する薄膜を形成する工程３からなる。
照しながら説明する。図１において、本発明の高反射防
汚性板の製造方法は、反射特性を示す基材表面に前処理
を行う前処理工程１と、基材表面に親水性を示す下層膜
を形成する下層膜形成工程２と、さらにその下層膜表面
上に防汚性を有する薄膜を形成する工程３からなる。
【００１５】例えば、前処理工程１において脱脂及び洗
浄は、より効果的に基材表面に下層膜形成試薬塗布を行
うための工程である。エンボス加工またはディンプル加
工は意匠性の向上と表面の凹凸化による反射率向上を可
能とする。着色方法としては、熱処理によるテンパーカ
ラー着色、化成処理、蒸着等がある。
浄は、より効果的に基材表面に下層膜形成試薬塗布を行
うための工程である。エンボス加工またはディンプル加
工は意匠性の向上と表面の凹凸化による反射率向上を可
能とする。着色方法としては、熱処理によるテンパーカ
ラー着色、化成処理、蒸着等がある。
【００１６】下層膜形成工程２は、金属アルコキシド、
金属アルコキシドの部分加水分解物、ポリシラザン、シ
ラノールのうち少なくとも１種と、アルコール、ケト
ン、エステル、水、酸のうち少なくとも１種とを含む溶
液を基材に塗布する工程２−１と、その後の乾燥、焼成
等の熱処理２−２と、更にその後の酸処理、アルカリ処
理、熱処理等下層膜表面を親水性化する工程２−３とを
有する。
金属アルコキシドの部分加水分解物、ポリシラザン、シ
ラノールのうち少なくとも１種と、アルコール、ケト
ン、エステル、水、酸のうち少なくとも１種とを含む溶
液を基材に塗布する工程２−１と、その後の乾燥、焼成
等の熱処理２−２と、更にその後の酸処理、アルカリ処
理、熱処理等下層膜表面を親水性化する工程２−３とを
有する。
【００１７】塗布方法としては、薄膜塗布可能なスプレ
イ法、スピン法、ディップ法、ロールコータ法等があげ
られる。
イ法、スピン法、ディップ法、ロールコータ法等があげ
られる。
【００１８】親水性を示す下層膜表面とは、以下のよう
な活性水素を含む官能基を有することを示す。例えば、
ＣＯＯＨ基、ＯＨ基、ＮＨ2基、ＳＯ3Ｈ基、ＳＨ基等が
あげられる。本発明は、酸処理、アルカリ処理、熱処理
等によりこれらの官能基を有する下層膜表面を得られる
ものすべてを含む。
な活性水素を含む官能基を有することを示す。例えば、
ＣＯＯＨ基、ＯＨ基、ＮＨ2基、ＳＯ3Ｈ基、ＳＨ基等が
あげられる。本発明は、酸処理、アルカリ処理、熱処理
等によりこれらの官能基を有する下層膜表面を得られる
ものすべてを含む。
【００１９】上記のようにして得られた親水性を示す下
層膜表面に、防汚性を有する薄膜を形成する工程３は、
塗布工程３−１と、乾燥工程３−２とを有する。
層膜表面に、防汚性を有する薄膜を形成する工程３は、
塗布工程３−１と、乾燥工程３−２とを有する。
【００２０】一端にはＣＦ3基またはＣＨ3基を有し、他
端にはシラノール基、クロロシリル基またはアルコキシ
シリル基を有するシラン系界面活性剤を塗布する方法と
して浸漬法、スプレイ法、スピン法、ディップ法、ロー
ルコータ法等があげられる。
端にはシラノール基、クロロシリル基またはアルコキシ
シリル基を有するシラン系界面活性剤を塗布する方法と
して浸漬法、スプレイ法、スピン法、ディップ法、ロー
ルコータ法等があげられる。
【００２１】親水性を示す基材表面の活性水素との反応
に寄与できなかった過剰なシラン系界面活性剤が表面に
残存し、白色物質となり外観を損なう場合があるが、反
応が終了後、洗浄、ブローによる除去、また拭き取り等
の処理を行うことで効果的に除去可能である。
に寄与できなかった過剰なシラン系界面活性剤が表面に
残存し、白色物質となり外観を損なう場合があるが、反
応が終了後、洗浄、ブローによる除去、また拭き取り等
の処理を行うことで効果的に除去可能である。
【００２２】次に実際に本発明により作成した高反射防
汚性板を実施例１〜１４に示し詳細に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
汚性板を実施例１〜１４に示し詳細に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】基材は、フェライト系ステンレスのＳＵＳ
４３０のＢＡ仕上げを用い、防汚性を有する膜は、パー
フルオロオクチルエチルトリクロロシランをオクタメチ
ルシクロテトラシロキサンに１％（重量％）溶かした溶
液を用い、浸漬法により塗布後、室温放置して乾燥し
た。
４３０のＢＡ仕上げを用い、防汚性を有する膜は、パー
フルオロオクチルエチルトリクロロシランをオクタメチ
ルシクロテトラシロキサンに１％（重量％）溶かした溶
液を用い、浸漬法により塗布後、室温放置して乾燥し
た。
【００２４】（実施例１）東京応化工業（株）のOCD製
品P-80315-SGをディップ法により引き上げ速度2mm／sec
で塗布後、150℃で5分程度乾燥し、各温度（200、300、
450、600℃）で30分程度焼成する。
品P-80315-SGをディップ法により引き上げ速度2mm／sec
で塗布後、150℃で5分程度乾燥し、各温度（200、300、
450、600℃）で30分程度焼成する。
【００２５】（実施例２）東京応化工業（株）のOCD製
品12000-Tをディップ法により引き上げ速度2mm／secで
塗布後、150℃で5分程度乾燥し、各温度（300、450、60
0℃）で30分程度焼成する。
品12000-Tをディップ法により引き上げ速度2mm／secで
塗布後、150℃で5分程度乾燥し、各温度（300、450、60
0℃）で30分程度焼成する。
【００２６】（実施例３）三菱化学（株）のＭＳ５１Ｓ
Ｇ１をディップ法により引き上げ速度2mm／secで塗布
後、300℃で30分程度焼成し、さらに塩酸処理すること
により、薄膜表面のメトキシ基を水酸基へ変換する。
Ｇ１をディップ法により引き上げ速度2mm／secで塗布
後、300℃で30分程度焼成し、さらに塩酸処理すること
により、薄膜表面のメトキシ基を水酸基へ変換する。
【００２７】（実施例４）コルコート（株）の帯電防止
塗料コルコートＮ−１０３Ｘディッピング法により引き
上げ速度2mm／sec、4mm／sec（実施例１１）で塗布後、
150℃で5分程度乾燥した後、各温度（300、400、450
℃）で30分程度焼成する。
塗料コルコートＮ−１０３Ｘディッピング法により引き
上げ速度2mm／sec、4mm／sec（実施例１１）で塗布後、
150℃で5分程度乾燥した後、各温度（300、400、450
℃）で30分程度焼成する。
【００２８】（実施例５）東燃（株）のポリシラザンコ
ーティング液Ｎ−Ｎ１１０をディップ法により引き上げ
速度2mm／secで塗布後、150℃で5分程度乾燥し、得られ
るポリシラザン薄膜を、300℃で焼成する。
ーティング液Ｎ−Ｎ１１０をディップ法により引き上げ
速度2mm／secで塗布後、150℃で5分程度乾燥し、得られ
るポリシラザン薄膜を、300℃で焼成する。
【００２９】（実施例６）東燃（株）のポリシラザンコ
ーティング液Ｎ−Ｎ５１０をディップ法により引き上げ
速度2mm／secで塗布後、150℃で5分程度乾燥し、得られ
るポリシラザン薄膜を、450℃で焼成する。
ーティング液Ｎ−Ｎ５１０をディップ法により引き上げ
速度2mm／secで塗布後、150℃で5分程度乾燥し、得られ
るポリシラザン薄膜を、450℃で焼成する。
【００３０】上記各実施例によって得られた各サンプル
１〜１４の性能を（表１）に示す。
１〜１４の性能を（表１）に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】反射率は次式（（１−防汚膜の輻射率）／
（１−基材の輻射率（０．１３）））×１００により、
輻射率から換算し求めた。輻射率はDEVICE&SERVICE COM
PANY社製の簡易型輻射率計を用いて3〜30μmの波長範囲
で測定した。防汚性は、サラダ油を表面に塗布し、250
℃で30分焼き付けた後、水を含ませた綿布を用いて拭き
取りが可能であるかどうかで判断した。完全に拭き取れ
た場合を○、若干残った場合を△、ほとんど拭き取れな
かった場合を×とした。耐熱性は、300℃、100時間の熱
履歴を加えた後の水に対する接触角を測定し、90°以上
保っていた場合を○、80°〜90°の場合を△、80°以下
を×とした。
（１−基材の輻射率（０．１３）））×１００により、
輻射率から換算し求めた。輻射率はDEVICE&SERVICE COM
PANY社製の簡易型輻射率計を用いて3〜30μmの波長範囲
で測定した。防汚性は、サラダ油を表面に塗布し、250
℃で30分焼き付けた後、水を含ませた綿布を用いて拭き
取りが可能であるかどうかで判断した。完全に拭き取れ
た場合を○、若干残った場合を△、ほとんど拭き取れな
かった場合を×とした。耐熱性は、300℃、100時間の熱
履歴を加えた後の水に対する接触角を測定し、90°以上
保っていた場合を○、80°〜90°の場合を△、80°以下
を×とした。
【００３３】焼成温度が200℃である実施例１におい
て、防汚性及び耐熱性ともに悪いのは、緻密な膜が形成
できていないためである。反射率も２、３、４に比較し
て悪く、熱線を遮断（吸収）する有機分が完全には除去
されていないことが示唆される。また、焼成温度が600
℃である実施例４は、表面がかなりポーラスになり、防
汚性及び耐熱性が悪くなった。よって焼成温度として
は、300〜450℃程度が適していることが解る。
て、防汚性及び耐熱性ともに悪いのは、緻密な膜が形成
できていないためである。反射率も２、３、４に比較し
て悪く、熱線を遮断（吸収）する有機分が完全には除去
されていないことが示唆される。また、焼成温度が600
℃である実施例４は、表面がかなりポーラスになり、防
汚性及び耐熱性が悪くなった。よって焼成温度として
は、300〜450℃程度が適していることが解る。
【００３４】
【発明の効果】以上から明らかなように、請求項１記載
の発明によれば、反射特性に優れ、かつ防汚性を兼ね備
えた高反射防汚性板の製造方法を提供することができ
る。
の発明によれば、反射特性に優れ、かつ防汚性を兼ね備
えた高反射防汚性板の製造方法を提供することができ
る。
【００３５】請求項２記載の発明によれば、アンカー効
果により密着している従来フッ素ポリマーの塗膜に比
べ、耐久性に優れた塗膜を形成することができる。ま
た、金属表面等親水性が低く活性水素を有する官能基の
少ない基材表面上にも、防汚性を有する緻密な薄膜を形
成することができる。
果により密着している従来フッ素ポリマーの塗膜に比
べ、耐久性に優れた塗膜を形成することができる。ま
た、金属表面等親水性が低く活性水素を有する官能基の
少ない基材表面上にも、防汚性を有する緻密な薄膜を形
成することができる。
【００３６】本発明の請求項３記載の発明によれば、反
射特性及び防汚性と、意匠性の向上という視覚的な効果
も併せてもつことができる。オーブン電子レンジ庫内の
従来フッ素コート鋼板に代替した場合、庫内が明るくな
る等の効果が期待できる。また、エンボス加工により、
反射率を向上することもできる。
射特性及び防汚性と、意匠性の向上という視覚的な効果
も併せてもつことができる。オーブン電子レンジ庫内の
従来フッ素コート鋼板に代替した場合、庫内が明るくな
る等の効果が期待できる。また、エンボス加工により、
反射率を向上することもできる。
【００３７】本発明の請求項４記載の発明によれば、酸
化による基材の変色劣化を防ぐことも可能となり、初期
の反射特性を保持することができる。
化による基材の変色劣化を防ぐことも可能となり、初期
の反射特性を保持することができる。
【００３８】本発明の請求項５記載の発明によれば、効
果的に親水性を示す下層膜表面（活性水素を含む官能基
を有する下層膜表面）を実現できる。
果的に親水性を示す下層膜表面（活性水素を含む官能基
を有する下層膜表面）を実現できる。
【００３９】本発明の請求項６記載の発明によれば、下
層膜表面を水酸基化することができる。更に、下層膜の
緻密化、熱線を遮断し反射率を低下させる有機分の分解
除去、およびその結果として反射率を向上することがで
きる。
層膜表面を水酸基化することができる。更に、下層膜の
緻密化、熱線を遮断し反射率を低下させる有機分の分解
除去、およびその結果として反射率を向上することがで
きる。
【００４０】本発明の請求項７記載の発明によれば、下
層膜表面と化学結合により密着した防汚性を有する薄膜
を焼成過程を必要とせず形成することができる。なる。
層膜表面と化学結合により密着した防汚性を有する薄膜
を焼成過程を必要とせず形成することができる。なる。
【図１】本発明の実施例を示す高反射防汚板の製造方法
を示すフローチャート
を示すフローチャート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ３２Ｂ 9/04 Ｂ３２Ｂ 9/04 17/06 17/06 Ｃ０９Ｄ 5/16 Ｃ０９Ｄ 5/16 183/04 183/04 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ４７Ｊ 36/02 Ｂ // Ａ４７Ｊ 36/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 ▲徳▼▲満▼ 修三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 BB06 CC02 CC42 DD02 EE05 4B055 AA01 BA13 BA14 BA52 BA56 CA01 CA13 CB16 FA04 FA16 FB01 FB32 FB34 FB36 FC12 FD03 FE01 4D075 AA01 AB01 AC23 BB06X BB21X BB21Y BB24Y BB24Z BB28Y BB65X BB77X BB77Y CA34 CA37 CB04 DC18 4F100 AB04 AH02B AH03B AH06B AH06C AH08B AK52C AR00A AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CC00B EH461 EH462 EJ011 EJ391 EJ421 GB48 HB00A HB21A JB05B JK06C JL00 JL06C JL10A JM02C JN06A JN28 4J038 DL171 DM021 GA12 GA15 JA23 KA06 KA09 NA05 NA06 PA07
Claims (7)
- 【請求項１】 反射特性を示す基材表面に下層膜を形成
する工程と、さらにその上に防汚性を有する薄膜を形成
する工程からなることを特徴とする高反射防汚性板の製
造方法。 - 【請求項２】 反射特性を示す基材表面に、親水性を示
す下層膜を形成する工程と、前記下層膜表面上に化学結
合により密着した防汚性を有する薄膜を形成する工程と
を有することを特徴とする高反射防汚性板の製造方法。 - 【請求項３】 反射特性を示す基材表面に着色処理また
はエンボス加工をすることにより意匠性を付与すること
を特徴とする請求項１または２に記載の高反射防汚性体
の製造方法。 - 【請求項４】 親水性を示す下層膜を形成する工程が、
金属アルコキシド、金属アルコキシドの部分加水分解
物、ポリシラザン、シラノールのうち少なくとも１種
と、アルコール、ケトン、エステル、水、酸のうち少な
くとも１種とを含む溶液を塗布する工程と、形成した下
層膜表面を親水化する工程とを有することを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載の高反射防汚性板の
製造方法。 - 【請求項５】 下層膜表面を親水化する工程が、酸処
理、アルカリ処理、熱処理のいずれかであることを特徴
とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の高反射防汚
性板の製造方法。 - 【請求項６】 下層膜表面を親水化する熱処理工程での
処理温度が３００℃〜４５０℃であることを特徴とする
請求項１〜５のいずれか１項に記載の高反射防汚性板の
製造方法。 - 【請求項７】 防汚性を有する薄膜を形成する工程が、
親水性を示す下層膜表面に、一端にはＣＦ3基またはＣ
Ｈ3基を有し、他端にはシラノール基、クロロシリル基
またはアルコキシシリル基を有するシラン系界面活性剤
を吸着することを特徴とする請求項２〜６のいずれか１
項に記載の高反射防汚性板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047619A JP2000239610A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 反射防汚性板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047619A JP2000239610A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 反射防汚性板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000239610A true JP2000239610A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12780243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11047619A Withdrawn JP2000239610A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 反射防汚性板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000239610A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002282770A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-02 | Soft 99 Corp | 防汚性被膜形成具及び防汚性被膜形成方法 |
| JP2006524277A (ja) * | 2003-04-22 | 2006-10-26 | クラリアント・プロドゥクテ・（ドイチュラント）・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 疎水及び疎油変性された表面を形成するためにポリシラザンを使用する方法 |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP11047619A patent/JP2000239610A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002282770A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-02 | Soft 99 Corp | 防汚性被膜形成具及び防汚性被膜形成方法 |
| JP2006524277A (ja) * | 2003-04-22 | 2006-10-26 | クラリアント・プロドゥクテ・（ドイチュラント）・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 疎水及び疎油変性された表面を形成するためにポリシラザンを使用する方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5413865A (en) | Water-repellent metal oxide film and method of forming same on glass substrate | |
| EP0842908B1 (en) | Water repellant glass plate and method for manufacturing the same | |
| JP2007509738A (ja) | 容易に清浄可能な表面を備える構造体、及び同構造体の製造方法 | |
| JPH09309746A (ja) | 撥水性ガラス | |
| JP3454110B2 (ja) | 撥水性ガラス | |
| JP2012510358A (ja) | 特に高温用途のための部品を製造する方法、及び部品 | |
| JPH11171592A (ja) | 撥水性物品及びその製造方法 | |
| JPH11171594A (ja) | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 | |
| JP3584935B1 (ja) | 光触媒塗膜用下地塗料組成物及び光触媒塗装製品並びに光触媒塗装製品の製造方法 | |
| JP2716315B2 (ja) | 低反射ガラス | |
| JP2000239610A (ja) | 反射防汚性板の製造方法 | |
| JP2001205187A (ja) | シリカ系膜被覆物品の製造方法、およびシリカ系膜被覆物品 | |
| JP2005177697A (ja) | 氷結防止層形成用塗工材料、氷結防止層の形成方法及び氷結防止部材 | |
| JP2018111072A (ja) | 防汚塗膜の製造方法及び防汚塗膜 | |
| JPH05319867A (ja) | ガラス基板の撥水処理剤およびその撥水処理法 | |
| JPH0948639A (ja) | 撥水撥油性防汚ガラスと撥水撥油性防汚ガラスの製造法及びこの撥水撥油性防汚ガラスを用いた電化製品 | |
| JPH05319868A (ja) | ガラス基板用撥水処理剤およびその撥水処理法 | |
| JP3268012B2 (ja) | 撥水性酸化物被膜およびその形成法 | |
| JP4808916B2 (ja) | 撥水撥油性セラミックス | |
| JP3932671B2 (ja) | 高機能性表面処理膜及びその製造方法 | |
| JP7787609B2 (ja) | 防眩防汚積層処理の工程短縮および耐久性向上を実現する処理剤および塗装方法 | |
| JP2001261378A (ja) | 鏡及びその製造方法 | |
| JP3794678B2 (ja) | ガラス物品およびガラス物品の表面処理方法 | |
| KR100433203B1 (ko) | 마모저항성이 우수한 발수유리의 제조방법 | |
| JP2013075974A (ja) | 防汚性薄膜形成用塗布液と防汚性製品及び防汚性薄膜形成用塗布液の製造方法並びに防汚性製品の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050704 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050816 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070613 |