JP2000243746A - 処理液体送出ラインから処理液体を除去する方法及び装置 - Google Patents
処理液体送出ラインから処理液体を除去する方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理液体送出ラインから処理液体を脱離する
方法及び装置を提供する。 【解決手段】 非熱的エネルギ（例えば超音波エネルギ
又は電磁エネルギ）が処理液体送出ラインに加えられ
る。非熱的エネルギが直接処理液体送出ラインに加えら
れ、又は、処理液体送出ラインに沿ってエネルギを分散
する伝導性媒体を通して間接的に加えられるだろう。電
磁エネルギの形の非熱的エネルギが使用されるとき、電
磁エネルギの周波数は処理液体の吸収された分子の振動
の周波数に整合させるために調整される。
方法及び装置を提供する。 【解決手段】 非熱的エネルギ（例えば超音波エネルギ
又は電磁エネルギ）が処理液体送出ラインに加えられ
る。非熱的エネルギが直接処理液体送出ラインに加えら
れ、又は、処理液体送出ラインに沿ってエネルギを分散
する伝導性媒体を通して間接的に加えられるだろう。電
磁エネルギの形の非熱的エネルギが使用されるとき、電
磁エネルギの周波数は処理液体の吸収された分子の振動
の周波数に整合させるために調整される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理チャンバの処
理液体送出システムに関し、特に、処理液体送出システ
ムの処理液体送出ラインからの処理液体の除去に関す
る。
理液体送出システムに関し、特に、処理液体送出システ
ムの処理液体送出ラインからの処理液体の除去に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】化学的気相堆積法（ＣＶＤ）等の多くの
半導体プロセスが、気化された処理液体を使用する。こ
れらの気化された処理液体が発生されると、パイプの相
互接続、バルブ、流量調整バルブ及び気化メカニズムを
含む処理液体送出システムを経て処理チャンバに供給さ
れる。一般的に、別個の気化メカニズムが、各処理液体
を気化するために提供され、処理液体源及びキャリヤガ
ス源に結合されている。多数の気化メカニズム（例えば
バブラ、噴射バルブ、その他）が存在するが、大部分の
従来の処理液体送出システムは、複数の噴射バルブを使
用して処理チャンバに送出される処理液体を気化する。
半導体プロセスが、気化された処理液体を使用する。こ
れらの気化された処理液体が発生されると、パイプの相
互接続、バルブ、流量調整バルブ及び気化メカニズムを
含む処理液体送出システムを経て処理チャンバに供給さ
れる。一般的に、別個の気化メカニズムが、各処理液体
を気化するために提供され、処理液体源及びキャリヤガ
ス源に結合されている。多数の気化メカニズム（例えば
バブラ、噴射バルブ、その他）が存在するが、大部分の
従来の処理液体送出システムは、複数の噴射バルブを使
用して処理チャンバに送出される処理液体を気化する。
【０００３】通常の噴射バルブは、加圧された処理液体
を受け取る処理液体インレットと、加圧された不活性の
キャリヤガスを受け取るキャリヤガスインレットと、気
化された処理液体/キャリヤガス混合物を送出するアウ
トレットとを含む。噴射バルブは、処理液体がキャリヤ
ガスに注射されるとき、噴射バルブの２つの側面間の熱
及び圧力差が、処理液体の気化を引き起こすように加熱
される。
を受け取る処理液体インレットと、加圧された不活性の
キャリヤガスを受け取るキャリヤガスインレットと、気
化された処理液体/キャリヤガス混合物を送出するアウ
トレットとを含む。噴射バルブは、処理液体がキャリヤ
ガスに注射されるとき、噴射バルブの２つの側面間の熱
及び圧力差が、処理液体の気化を引き起こすように加熱
される。
【０００４】長時間使用した噴射バルブは、（例えば、
処理液体の他の処理化学物質との又は噴射バルブ自身と
の相互作用からの噴射バルブ内の形成物の堆積によっ
て）詰まり又は故障して取り替えられなければならな
い。しかし、噴射バルブ交換プロセスは、噴射バルブに
よって気化された処理液体が、大気（例えば、湿気、酸
素、その他と）と有害に反応し、処理液体送出システム
又は処理チャンバを損傷し、その後処理される半導体の
ウェーハを汚染し、又は人間又は環境（例えば、有毒だ
った）を害する可能性のある副産物（例えば酸化物のよ
うな固形物膜）を形成する場合複雑になる。
処理液体の他の処理化学物質との又は噴射バルブ自身と
の相互作用からの噴射バルブ内の形成物の堆積によっ
て）詰まり又は故障して取り替えられなければならな
い。しかし、噴射バルブ交換プロセスは、噴射バルブに
よって気化された処理液体が、大気（例えば、湿気、酸
素、その他と）と有害に反応し、処理液体送出システム
又は処理チャンバを損傷し、その後処理される半導体の
ウェーハを汚染し、又は人間又は環境（例えば、有毒だ
った）を害する可能性のある副産物（例えば酸化物のよ
うな固形物膜）を形成する場合複雑になる。
【０００５】噴射バルブ交換中の有害な処理液体形成を
防ぐために、可能な場合は、詰まった噴射バルブが除去
されるとき、雰囲気にさらされる全ての処理液体送出ラ
インから処理液体はパージされる。しかし、図１に関し
て説明するように、特に金属有機物（例えばテトラキス
（ジメチルアミノ）チタニウム（tetrakis (dimethylam
ino) titanium)（ＴＤＭＡＴ））のような強い付着性を
有する処理液体が、処理液体送出ラインからパージされ
なければならないとき、従来の処理液体送出システム内
でのパージプロセスは困難である。
防ぐために、可能な場合は、詰まった噴射バルブが除去
されるとき、雰囲気にさらされる全ての処理液体送出ラ
インから処理液体はパージされる。しかし、図１に関し
て説明するように、特に金属有機物（例えばテトラキス
（ジメチルアミノ）チタニウム（tetrakis (dimethylam
ino) titanium)（ＴＤＭＡＴ））のような強い付着性を
有する処理液体が、処理液体送出ラインからパージされ
なければならないとき、従来の処理液体送出システム内
でのパージプロセスは困難である。
【０００６】図１は、処理チャンバ１２に気化した処理
液体を送出するための、従来の処理液体送出システム１
１（「従来システム１１」）の概略図である。従来シス
テム１１は、処理液体送出ライン１７を通して、噴射バ
ルブ１５に有効に結合した（即ち、動作するために直接
に又は間接的に結合した）処理液体源１３を含む。処理
液体送出ライン１７は切れて示されており、処理液体源
１３が噴射バルブ１５から相当な間隔（例えば、約１０
〜１５フィート）であろうことを示すことに注意すべき
である。
液体を送出するための、従来の処理液体送出システム１
１（「従来システム１１」）の概略図である。従来シス
テム１１は、処理液体送出ライン１７を通して、噴射バ
ルブ１５に有効に結合した（即ち、動作するために直接
に又は間接的に結合した）処理液体源１３を含む。処理
液体送出ライン１７は切れて示されており、処理液体源
１３が噴射バルブ１５から相当な間隔（例えば、約１０
〜１５フィート）であろうことを示すことに注意すべき
である。
【０００７】第一のアイソレーションバルブ１９、第二
のアイソレーションバルブ２１、液流量メータ２３、及
び第三のアイソレーションバルブ２５が処理液体送出ラ
イン１７に沿ってその一部分を形成して配置されてい
る。図示するように、第一のアイソレーションバルブ１
９は処理液体源１３の近くで配置され、第三のアイソレ
ーションバルブ２５は噴射バルブ１５の近くで配置さ
れ、液流量メータ２３は第三のアイソレーションバルブ
２５の近くに配置され、第二のアイソレーションバルブ
２１は液流量メータ２３の近くに配置されている。多数
の他のアイソレーションバルブが一般的に処理液体送出
ライン１７に沿って存在するが、明確にするために省略
した。
のアイソレーションバルブ２１、液流量メータ２３、及
び第三のアイソレーションバルブ２５が処理液体送出ラ
イン１７に沿ってその一部分を形成して配置されてい
る。図示するように、第一のアイソレーションバルブ１
９は処理液体源１３の近くで配置され、第三のアイソレ
ーションバルブ２５は噴射バルブ１５の近くで配置さ
れ、液流量メータ２３は第三のアイソレーションバルブ
２５の近くに配置され、第二のアイソレーションバルブ
２１は液流量メータ２３の近くに配置されている。多数
の他のアイソレーションバルブが一般的に処理液体送出
ライン１７に沿って存在するが、明確にするために省略
した。
【０００８】従来システム１１も、パージングガス（例
えば窒素、アルゴン又は処理液体と反応しない他の幾つ
かのガス）源２７を含み、該パージングガスは、パージ
ングガスライン２９を通して、処理液体送出ライン１７
に有効に結合され、ポンプライン３３を通して処理液体
送出ライン１７に有効に結合されたポンプ３１（例えば
機械的なポンプ）を備える。パージバルブ３５が、パー
ジングガスライン２９に沿って配置されその一部を形成
しており、ポンプバルブ３７が、ポンプライン３３に沿
って配置されその一部を形成して配置されている。
えば窒素、アルゴン又は処理液体と反応しない他の幾つ
かのガス）源２７を含み、該パージングガスは、パージ
ングガスライン２９を通して、処理液体送出ライン１７
に有効に結合され、ポンプライン３３を通して処理液体
送出ライン１７に有効に結合されたポンプ３１（例えば
機械的なポンプ）を備える。パージバルブ３５が、パー
ジングガスライン２９に沿って配置されその一部を形成
しており、ポンプバルブ３７が、ポンプライン３３に沿
って配置されその一部を形成して配置されている。
【０００９】従来システム１１の正常動作中に、第一の
アイソレーションバルブ１９、第二のアイソレーション
バルブ２１及び第三のアイソレーションバルブ２５は、
処理液体が液流量メータ２３によって制御される速度で
噴射バルブ１５に処理液体源１３から流れるように開か
れる。パージバルブ３５及びポンプバルブ３７は閉じら
れて、処理液体がパージガス源２７によってパージされ
ること、及びポンプ３１によってポンピングされること
が防止される。
アイソレーションバルブ１９、第二のアイソレーション
バルブ２１及び第三のアイソレーションバルブ２５は、
処理液体が液流量メータ２３によって制御される速度で
噴射バルブ１５に処理液体源１３から流れるように開か
れる。パージバルブ３５及びポンプバルブ３７は閉じら
れて、処理液体がパージガス源２７によってパージされ
ること、及びポンプ３１によってポンピングされること
が防止される。
【００１０】噴射バルブ１５が連続して詰まって取り替
えられなければならない場合、噴射バルブ１５は第一の
アイソレーションバルブ１９を閉じることによって処理
液体源１３から隔離される。処理液体が、ＴＤＭＡＴの
ような金属有機物であると仮定すると、噴射バルブ１５
は、噴射バルブ１５を除去する技術者にかなりの健康的
な危険を提起することなく且つ従来システム１１に相当
な損傷危険を提起することなく、従来システム１１から
直接に分離されることができない。例えばＴＤＭＡＴ
は、空気中の湿気と反応して、人間に有害である副産物
（例えばアミン）及び従来システム１１全体を汚染する
固体膜（例えば酸化物）を形成する。故に、処理液体
は、噴射バルブ１５を除去する前に処理液体送出ライン
１７からパージされなければならない。
えられなければならない場合、噴射バルブ１５は第一の
アイソレーションバルブ１９を閉じることによって処理
液体源１３から隔離される。処理液体が、ＴＤＭＡＴの
ような金属有機物であると仮定すると、噴射バルブ１５
は、噴射バルブ１５を除去する技術者にかなりの健康的
な危険を提起することなく且つ従来システム１１に相当
な損傷危険を提起することなく、従来システム１１から
直接に分離されることができない。例えばＴＤＭＡＴ
は、空気中の湿気と反応して、人間に有害である副産物
（例えばアミン）及び従来システム１１全体を汚染する
固体膜（例えば酸化物）を形成する。故に、処理液体
は、噴射バルブ１５を除去する前に処理液体送出ライン
１７からパージされなければならない。
【００１１】処理液体送出ライン１７から処理液体をパ
ージするために、第一のアイソレーションバルブ１９が
閉じられ、第二のアイソレーションバルブ２１及び第三
のアイソレーションバルブ２５が開かれ、パージバルブ
３５及びポンプバルブ３７が開かれる。それによってパ
ージガスは、パージガス源２７から流れて、パージング
ガスライン２９を通り処理液体送出ライン１７を通り、
ポンプライン３３を通り、ポンプ３１に流れる。パージ
ングガスは、処理液体送出ライン１７の表面から処理液
体粒子を除去し、除去された粒子はポンプ３１を通して
処理液体送出ライン１７からポンピングされる。ポンプ
/パージサイクル（パージバルブ３５は、ポンプ３１
が、送出ライン１７からのパージングガス及び処理液体
を排気し続ける間閉じて、その後、パージバルブ３５は
開けられ、処理液体送出ライン１７により多くのパージ
ングガスが導入される）が、処理液体送出ライン１７か
ら、処理液体除去を促進するために実行されるだろう。
ージするために、第一のアイソレーションバルブ１９が
閉じられ、第二のアイソレーションバルブ２１及び第三
のアイソレーションバルブ２５が開かれ、パージバルブ
３５及びポンプバルブ３７が開かれる。それによってパ
ージガスは、パージガス源２７から流れて、パージング
ガスライン２９を通り処理液体送出ライン１７を通り、
ポンプライン３３を通り、ポンプ３１に流れる。パージ
ングガスは、処理液体送出ライン１７の表面から処理液
体粒子を除去し、除去された粒子はポンプ３１を通して
処理液体送出ライン１７からポンピングされる。ポンプ
/パージサイクル（パージバルブ３５は、ポンプ３１
が、送出ライン１７からのパージングガス及び処理液体
を排気し続ける間閉じて、その後、パージバルブ３５は
開けられ、処理液体送出ライン１７により多くのパージ
ングガスが導入される）が、処理液体送出ライン１７か
ら、処理液体除去を促進するために実行されるだろう。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】強い付着性を有する処
理液体（例えば金属有機物）の場合、上で説明したポン
プ/パージプロセスは、噴射バルブ１５が従来システム
１１から切り離されたときに、有害な副産物を防ぐのに
十分なレベルまで処理液体を処理液体送出ライン１７か
ら効果的に除去しない。これは特にＴＤＭＡＴにあては
まる。
理液体（例えば金属有機物）の場合、上で説明したポン
プ/パージプロセスは、噴射バルブ１５が従来システム
１１から切り離されたときに、有害な副産物を防ぐのに
十分なレベルまで処理液体を処理液体送出ライン１７か
ら効果的に除去しない。これは特にＴＤＭＡＴにあては
まる。
【００１３】従来システム１１のパージ有効性を改良す
る一つのアプローチは、処理液体を脱離するために、関
連処理液体パスを加熱する熱的方法を使用することであ
る。しかし熱的方法はゴム部分（例えば弁座）を損傷す
る可能性があり、処理液体の変質を導き、粒子を発生
し、関連問題を発生させる可能性がある。ゴム部分は、
費用が加算され、熱脱離温度に耐えるように設計される
ことができる。他方、処理液体脱離及び処理液体変質は
同じ温度領域で生じるので変質は避けられない。例えば
多くの半導体処理液体（ＴＤＭＡＴ、ジメチル アルミ
ニウム水素化物（ＤＭＡＨ）、（トリメチルビニルシリ
ル）ヘキサフルオロ アセチルアセトナート カッパー
１（クプラセレクト（商標）(CupraSelect)その他）
は、それらが分解すると、金属成分を堆積する。堆積金
属は、処理液体送出ラインを詰まらせ、又は、下流のバ
ルブを詰まらせて、従って更に中断時間コストを増加さ
せるだろう。たとえ詰まることは生じないとしても、処
理液体送出ラインで堆積する金属はそこからはげる可能
性があり、処理チャンバを汚染し、そこで処理されるい
かなるウェーハをも潜在的に破壊する。
る一つのアプローチは、処理液体を脱離するために、関
連処理液体パスを加熱する熱的方法を使用することであ
る。しかし熱的方法はゴム部分（例えば弁座）を損傷す
る可能性があり、処理液体の変質を導き、粒子を発生
し、関連問題を発生させる可能性がある。ゴム部分は、
費用が加算され、熱脱離温度に耐えるように設計される
ことができる。他方、処理液体脱離及び処理液体変質は
同じ温度領域で生じるので変質は避けられない。例えば
多くの半導体処理液体（ＴＤＭＡＴ、ジメチル アルミ
ニウム水素化物（ＤＭＡＨ）、（トリメチルビニルシリ
ル）ヘキサフルオロ アセチルアセトナート カッパー
１（クプラセレクト（商標）(CupraSelect)その他）
は、それらが分解すると、金属成分を堆積する。堆積金
属は、処理液体送出ラインを詰まらせ、又は、下流のバ
ルブを詰まらせて、従って更に中断時間コストを増加さ
せるだろう。たとえ詰まることは生じないとしても、処
理液体送出ラインで堆積する金属はそこからはげる可能
性があり、処理チャンバを汚染し、そこで処理されるい
かなるウェーハをも潜在的に破壊する。
【００１４】従って、処理液体変質及びその付随する問
題を引き起こすことなく処理液体送出システムから、処
理液体をより効果的にパージする処理液体パージ法及び
装置の必要性が存在する。
題を引き起こすことなく処理液体送出システムから、処
理液体をより効果的にパージする処理液体パージ法及び
装置の必要性が存在する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、有効に非熱的
エネルギ(non-thermal energy）（例えば、超音波エネ
ルギ、電磁エネルギ、その他）源を、処理液体が離脱さ
れなければならない処理液体送出ラインに結合するもの
である。非熱的エネルギ源は、処理液体送出ラインから
液体分子を脱離するために必要なエネルギを提供する。
この非熱的エネルギは、エネルギ源から処理液体送出ラ
インまで伝送され、非熱的エネルギが処理液体を分解す
ることなく且つゴム部材を害することなく、処理液体の
脱離に作用される。
エネルギ(non-thermal energy）（例えば、超音波エネ
ルギ、電磁エネルギ、その他）源を、処理液体が離脱さ
れなければならない処理液体送出ラインに結合するもの
である。非熱的エネルギ源は、処理液体送出ラインから
液体分子を脱離するために必要なエネルギを提供する。
この非熱的エネルギは、エネルギ源から処理液体送出ラ
インまで伝送され、非熱的エネルギが処理液体を分解す
ることなく且つゴム部材を害することなく、処理液体の
脱離に作用される。
【００１６】非熱的エネルギは、直接に処理液体送出ラ
インに結合されるか、又は処理液体送出ラインを囲む伝
導性媒体に結合され、処理液体送出ラインに沿って非熱
的エネルギは分散され、均一/非局所化された脱離が促
進される。好ましい実施形態で、超音波エネルギが使用
されるとき、シース（sheath）が処理液体送出ラインを
囲んで、伝導性媒体（例えば液体又はゲル）が、処理液
体送出ラインとシースとの間のスペースを充てんする。
インに結合されるか、又は処理液体送出ラインを囲む伝
導性媒体に結合され、処理液体送出ラインに沿って非熱
的エネルギは分散され、均一/非局所化された脱離が促
進される。好ましい実施形態で、超音波エネルギが使用
されるとき、シース（sheath）が処理液体送出ラインを
囲んで、伝導性媒体（例えば液体又はゲル）が、処理液
体送出ラインとシースとの間のスペースを充てんする。
【００１７】非熱的エネルギとして電磁エネルギが使用
されるとき、電磁エネルギ源には、好ましくは周波数調
整装置が供給され、電磁エネルギの周波数が調整され、
吸収された処理液体分子の振動の周波数に一致される。
されるとき、電磁エネルギ源には、好ましくは周波数調
整装置が供給され、電磁エネルギの周波数が調整され、
吸収された処理液体分子の振動の周波数に一致される。
【００１８】本発明は、このように効果的且つ安価な方
法及び装置を提供し、処理液体送出ラインから処理液体
を脱離する。非熱的エネルギが使用されるので、処理液
体の加熱は最小にされ、処理液体が分解しないようにな
っており、ゴム部材は高温露出に対して特別に設計され
る必要性がない。更に、本発明は、従来技術方法と比較
して処理液体脱離時間を低減すると信じられている。
法及び装置を提供し、処理液体送出ラインから処理液体
を脱離する。非熱的エネルギが使用されるので、処理液
体の加熱は最小にされ、処理液体が分解しないようにな
っており、ゴム部材は高温露出に対して特別に設計され
る必要性がない。更に、本発明は、従来技術方法と比較
して処理液体脱離時間を低減すると信じられている。
【００１９】本発明の他の目的、特徴及び利点は、好ま
しい実施形態の以下の詳細な説明、添付の請求項及び添
付の図面から完全に明らかになるであろう。
しい実施形態の以下の詳細な説明、添付の請求項及び添
付の図面から完全に明らかになるであろう。
【００２０】
【発明の実施の形態】図２は、本発明の処理液体送出シ
ステム４１の前面の断面図である。処理液体送出システ
ム４１は、処理液体送出ライン４３を含み、処理液体送
出ライン４３に、非熱的エネルギ源４５を有効（operat
ivey）に結合する。非熱的エネルギ源４５は、処理液体
送出ライン４３の壁から、処理液体の脱離に作用する、
例えば超音波エネルギ又は電磁エネルギ等の非熱的エネ
ルギのいかなるタイプも発生させるだろう。
ステム４１の前面の断面図である。処理液体送出システ
ム４１は、処理液体送出ライン４３を含み、処理液体送
出ライン４３に、非熱的エネルギ源４５を有効（operat
ivey）に結合する。非熱的エネルギ源４５は、処理液体
送出ライン４３の壁から、処理液体の脱離に作用する、
例えば超音波エネルギ又は電磁エネルギ等の非熱的エネ
ルギのいかなるタイプも発生させるだろう。
【００２１】周波数調整装置４７は、その周波数を調整
するために任意に非熱的エネルギ源４５に結合されるだ
ろう（例えば非熱的エネルギ源が電磁エネルギ源である
場合）。特に、任意の周波数調整装置４７は、非熱的エ
ネルギ源４５による電磁周波数出力が、処理液体の吸収
された分子が振動する周波数に一致するように調整され
ることを可能にする。共鳴効果のために、電磁エネルギ
は処理液体にかなり効率的に伝達される。
するために任意に非熱的エネルギ源４５に結合されるだ
ろう（例えば非熱的エネルギ源が電磁エネルギ源である
場合）。特に、任意の周波数調整装置４７は、非熱的エ
ネルギ源４５による電磁周波数出力が、処理液体の吸収
された分子が振動する周波数に一致するように調整され
ることを可能にする。共鳴効果のために、電磁エネルギ
は処理液体にかなり効率的に伝達される。
【００２２】非熱的エネルギ源４５は、処理液体送出ラ
イン４３（例えば一つ以上のリード４９）に伝導性媒体
５１を通して直接又は間接的に有効に結合する。好まし
くは、非熱的エネルギ源４５が超音波エネルギ源である
場合、処理液体送出ライン４３はシース５３を更に含
み、それは処理液体送出ライン４３の外面を離間関係で
囲んでいる。伝導性媒体５１は、処理液体送出ライン４
３とシース５３との間のスペースを充てんしており、容
易に非熱的エネルギを伝える材料（例えばゲル又は液
体）を含み、伝導性媒体５１に沿って非熱的エネルギを
分散する。このように、非熱的エネルギも、処理液体送
出ライン４３に沿って分散されて局所化した脱離が防止
される 非熱的エネルギ源４５が超音波発生器であるとき、伝導
性媒体５１は、音伝導性媒体である。非熱的エネルギ源
４５が電磁エネルギ源（例えば、ＲＦ源、マイクロ波源
等）である場合、電磁エネルギ源は、希望する場合は、
（例えばライン４３が一般的に金属であるために）処理
液体送出ライン４３がそれ自身伝導性媒体として役立つ
ように直接に処理液体送出ライン４３に結合されるだろ
う。本発明の処理液体送出ライン４３の操作を、図３に
関して下で説明する。
イン４３（例えば一つ以上のリード４９）に伝導性媒体
５１を通して直接又は間接的に有効に結合する。好まし
くは、非熱的エネルギ源４５が超音波エネルギ源である
場合、処理液体送出ライン４３はシース５３を更に含
み、それは処理液体送出ライン４３の外面を離間関係で
囲んでいる。伝導性媒体５１は、処理液体送出ライン４
３とシース５３との間のスペースを充てんしており、容
易に非熱的エネルギを伝える材料（例えばゲル又は液
体）を含み、伝導性媒体５１に沿って非熱的エネルギを
分散する。このように、非熱的エネルギも、処理液体送
出ライン４３に沿って分散されて局所化した脱離が防止
される 非熱的エネルギ源４５が超音波発生器であるとき、伝導
性媒体５１は、音伝導性媒体である。非熱的エネルギ源
４５が電磁エネルギ源（例えば、ＲＦ源、マイクロ波源
等）である場合、電磁エネルギ源は、希望する場合は、
（例えばライン４３が一般的に金属であるために）処理
液体送出ライン４３がそれ自身伝導性媒体として役立つ
ように直接に処理液体送出ライン４３に結合されるだろ
う。本発明の処理液体送出ライン４３の操作を、図３に
関して下で説明する。
【００２３】図３は、図２の処理液体送出ライン４３を
使用すること以外は図１と同様の処理液体送出システム
４９の概略側面立面図である。図１の従来の処理液体送
出システム１１と異なるそれらの見地のみを説明する。
特に、図３に示すように、正しく作動しなくなった液流
量メータ２３の交換中、又は正しく作動しなくなった射
出バルブ１５の交換中に露出する処理ラインの部分（即
ち、外部の環境からシールされていない部分）は、図２
の本発明の処理液体送出ライン４３を含む。
使用すること以外は図１と同様の処理液体送出システム
４９の概略側面立面図である。図１の従来の処理液体送
出システム１１と異なるそれらの見地のみを説明する。
特に、図３に示すように、正しく作動しなくなった液流
量メータ２３の交換中、又は正しく作動しなくなった射
出バルブ１５の交換中に露出する処理ラインの部分（即
ち、外部の環境からシールされていない部分）は、図２
の本発明の処理液体送出ライン４３を含む。
【００２４】液流量メータ２３又は噴射バルブ１５を修
理又は取り替えるための操作中に、第一のアイソレーシ
ョンバルブ１９は閉じられ、第二のアイソレーションバ
ルブ２１及び第三のアイソレーションバルブ２５は開い
たままで、パージバルブ３５及びポンプバルブ３７は開
けられる。パージングガスは、それによってパージング
ガス源２７から、パージングガスライン２９を通り、処
理液体送出ライン１７を通り、ポンプライン３３を通っ
てポンプ３１に流れる。パージングガスは、処理液体送
出ライン１７の表面から処理液体粒子を除去し、除去さ
れた粒子及び処理液体送出ライン４３の壁によって吸収
されない処理液体部分は、処理液体送出ラインの従来の
部分１７及び処理液体送出ラインの本発明の部分４３の
両方からポンピングされる。その後、非熱的エネルギ源
４５が結合されて、非熱的エネルギ（例えば超音波電磁
波、電磁波、その他）が非熱的エネルギ源４５から処理
液体送出ライン４３まで伝送される。
理又は取り替えるための操作中に、第一のアイソレーシ
ョンバルブ１９は閉じられ、第二のアイソレーションバ
ルブ２１及び第三のアイソレーションバルブ２５は開い
たままで、パージバルブ３５及びポンプバルブ３７は開
けられる。パージングガスは、それによってパージング
ガス源２７から、パージングガスライン２９を通り、処
理液体送出ライン１７を通り、ポンプライン３３を通っ
てポンプ３１に流れる。パージングガスは、処理液体送
出ライン１７の表面から処理液体粒子を除去し、除去さ
れた粒子及び処理液体送出ライン４３の壁によって吸収
されない処理液体部分は、処理液体送出ラインの従来の
部分１７及び処理液体送出ラインの本発明の部分４３の
両方からポンピングされる。その後、非熱的エネルギ源
４５が結合されて、非熱的エネルギ（例えば超音波電磁
波、電磁波、その他）が非熱的エネルギ源４５から処理
液体送出ライン４３まで伝送される。
【００２５】超音波エネルギが使用される場合、非熱的
エネルギはリード４９を通してエネルギ源４５からシー
ス５３まで好ましくは伝送される。伝導性媒体５１は、
処理液体送出ライン４３の外面の全体に沿って非熱的エ
ネルギを分散する。非熱的エネルギは、処理液体送出ラ
イン４３の壁を振動させて、処理液体送出ライン４３の
壁によって吸収された処理液体は、非熱的エネルギによ
ってエネルギが与えられ、処理液体送出ライン４３から
脱離される。電磁エネルギが使用される場合、非熱的エ
ネルギは、好ましくはエネルギ源４５から処理液体送出
ライン４３まで直接に伝送される。処理液体送出ライン
４３は伝導性媒体５１として役立ち、処理液体送出ライ
ン４３の外面全体に沿って非熱的な電磁エネルギを分散
する。電磁エネルギの周波数は処理液体の振動の周波数
に調整され、処理液体送出ライン４３の壁によって吸収
される処理液体は電磁エネルギによってエネルギが与え
られて処理液体送出ライン４３から脱離される。
エネルギはリード４９を通してエネルギ源４５からシー
ス５３まで好ましくは伝送される。伝導性媒体５１は、
処理液体送出ライン４３の外面の全体に沿って非熱的エ
ネルギを分散する。非熱的エネルギは、処理液体送出ラ
イン４３の壁を振動させて、処理液体送出ライン４３の
壁によって吸収された処理液体は、非熱的エネルギによ
ってエネルギが与えられ、処理液体送出ライン４３から
脱離される。電磁エネルギが使用される場合、非熱的エ
ネルギは、好ましくはエネルギ源４５から処理液体送出
ライン４３まで直接に伝送される。処理液体送出ライン
４３は伝導性媒体５１として役立ち、処理液体送出ライ
ン４３の外面全体に沿って非熱的な電磁エネルギを分散
する。電磁エネルギの周波数は処理液体の振動の周波数
に調整され、処理液体送出ライン４３の壁によって吸収
される処理液体は電磁エネルギによってエネルギが与え
られて処理液体送出ライン４３から脱離される。
【００２６】好ましくは、非熱的エネルギ源４５が結合
される一方、図１に関して説明したポンピング及びパー
ジングプロセスが、処理液体送出ライン１７の壁から脱
離する処理液体を除去するために実行される。ポンプ/
パージサイクルの数及び長さは、処理液体が脱離されな
ければならない処理液体送出ライン４３の長さとポンプ
への間隔に依存する。
される一方、図１に関して説明したポンピング及びパー
ジングプロセスが、処理液体送出ライン１７の壁から脱
離する処理液体を除去するために実行される。ポンプ/
パージサイクルの数及び長さは、処理液体が脱離されな
ければならない処理液体送出ライン４３の長さとポンプ
への間隔に依存する。
【００２７】前述の説明は、本発明の好ましい実施形態
を単に開示したもので、本発明の範囲に入る、上記開示
した装置及び方法の変更は、当業者にとって容易に明ら
かである。例えば、図３の処理液体送出システムの構成
は単に典型的なだけである。本発明の処理液体送出ライ
ンはいかなる処理液体送出システムでも使用されるだろ
う。同様に、図３に関して説明されるパージプロセスは
単に典型的なだけである。非熱的エネルギは、ポンピン
グ及びパージングサイクル中又はその間に使用されるだ
ろう。更に、非熱的エネルギの他のエネルギ源（例え
ば、メガソニック）が使用されうる。
を単に開示したもので、本発明の範囲に入る、上記開示
した装置及び方法の変更は、当業者にとって容易に明ら
かである。例えば、図３の処理液体送出システムの構成
は単に典型的なだけである。本発明の処理液体送出ライ
ンはいかなる処理液体送出システムでも使用されるだろ
う。同様に、図３に関して説明されるパージプロセスは
単に典型的なだけである。非熱的エネルギは、ポンピン
グ及びパージングサイクル中又はその間に使用されるだ
ろう。更に、非熱的エネルギの他のエネルギ源（例え
ば、メガソニック）が使用されうる。
【００２８】従って、本発明は好ましい実施形態と関連
して開示したが、他の実施形態も、請求項によって定義
されるように、本発明の精神及び発明の範囲に入りうる
ことが理解されなくてはならない。
して開示したが、他の実施形態も、請求項によって定義
されるように、本発明の精神及び発明の範囲に入りうる
ことが理解されなくてはならない。
【図１】前に説明した従来の処理液体送出システムの概
略側面立面図である。
略側面立面図である。
【図２】本発明の処理液体送出ラインの前面の断面図で
ある。
ある。
【図３】図２の本発明の処理液体送出ラインを使用した
以外図１と同様である処理液体送出システムの概略側面
立面図である。
以外図１と同様である処理液体送出システムの概略側面
立面図である。
１１…従来の液体送出システム、４３…処理液体送出ラ
イン、４５…非熱的エネルギ源、４７…周波数調整装
置、４９…処理液体送出システム、５１…導電性媒体、
５３…シース。
イン、４５…非熱的エネルギ源、４７…周波数調整装
置、４９…処理液体送出システム、５１…導電性媒体、
５３…シース。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トゥシャー マンドレカー アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サンタ クララ， リリック ドライヴ 3700， ナンバー335 (72)発明者 マイケル ジャクソン アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サニーヴェイル， エヌ． マティルダ 450， ナンバーエス104
Claims (19)
- 【請求項１】 処理チャンバに処理液体を送出する処理
液体送出装置であって、 処理液体送出ラインと、 処理液体の脱離に作用するように、エネルギ源からの非
熱的エネルギを処理液体送出ラインに伝送する、処理液
体送出ラインに有効に結合する非熱的エネルギ源と、を
含む装置。 - 【請求項２】 前記非熱的エネルギ源が、超音波エネル
ギ源である請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記非熱的エネルギ源が、電磁エネルギ
源である請求項１記載の装置。 - 【請求項４】 前記処理液体送出ラインによって吸収さ
れる処理液体の振動の周波数にエネルギ源から伝送され
る電磁エネルギの周波数を調整する、前記電磁エネルギ
源に結合された周波数調整装置を更に含んでいる請求項
３記載の装置。 - 【請求項５】 前記処理液体送出ラインと前記非熱的エ
ネルギ源との間を結合する伝導性媒体を更に含む請求項
１記載の装置。 - 【請求項６】 前記伝導性媒体が前記処理液体送出ライ
ンの外面のまわりに広がる請求項５記載の装置。 - 【請求項７】 前記処理液体送出ラインの外面を囲むシ
ースと、前記処理液体送出ラインの外面に非熱的エネル
ギを結合するために前記処理液体送出ラインの外面とシ
ースとの間の領域を充てんする伝導性媒体と、を更に含
む請求項１記載の装置。 - 【請求項８】 前記非熱的エネルギ源が、超音波エネル
ギ源である請求項７記載の装置。 - 【請求項９】 前記非熱的エネルギ源が、電磁エネルギ
源である請求項５記載の装置。 - 【請求項１０】 前記処理液体送出ラインによって吸収
される処理液体の振動の周波数に、前記エネルギ源から
伝送される電磁エネルギの周波数を調整する、前記電磁
エネルギ源に結合された周波数調整装置を更に含む請求
項９の装置。 - 【請求項１１】 処理チャンバと、請求項１記載の処理
液体送出ラインを含む処理液体送出システムと、を含む
処理システム。 - 【請求項１２】 処理チャンバと、 請求項７記載の処理液体送出ラインを含む処理液体送出
システムと、を含む処理チャンバ。 - 【請求項１３】 前記処理液体送出ラインから処理液体
を除去し、 前記処理液体送出ラインから処理液体の容積量をポンピ
ングし、 非熱的エネルギを前記処理液体送出ラインに加えて処理
液体送出ラインから処理液体を脱離する方法。 - 【請求項１４】 非熱的エネルギを前記処理液体送出ラ
インに加えることが、前記処理液体送出ラインに超音波
エネルギを供給することを含む請求項１３記載の方法。 - 【請求項１５】 非熱的エネルギを前記処理液体送出ラ
インに加えることが、前記処理液体送出ラインに沿っ
て、前記処理液体送出ラインを囲む伝導性媒体に非熱的
エネルギを加えることによって非熱的エネルギを分散す
ることを含む請求項１３記載の方法。 - 【請求項１６】 非熱的エネルギを処理液体送出ライン
に加えることは、伝導性媒体に超音波エネルギを供給す
ることを含む請求項１５記載の方法。 - 【請求項１７】 非熱的エネルギを前記処理液体送出ラ
インに加えることが、前記処理液体送出ラインに電磁エ
ネルギを供給することを含む請求項１３記載の方法。 - 【請求項１８】 吸収された処理液体の振動の周波数に
整合さるために、電磁エネルギの周波数を調整すること
を更に含む請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】 前記処理液体送出ラインを囲む、伝導
性媒体に非熱的エネルギを加えることによって前記処理
液体送出ラインに沿った非熱的エネルギを分散すること
を含む前記処理液体送出ラインに電磁エネルギを供給す
る請求項１８記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/252,717 US6305392B1 (en) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | Method and apparatus for removing processing liquid from a processing liquid delivery line |
| US09/252717 | 1999-02-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000243746A true JP2000243746A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=22957224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000043153A Withdrawn JP2000243746A (ja) | 1999-02-19 | 2000-02-21 | 処理液体送出ラインから処理液体を除去する方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6305392B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000243746A (ja) |
| KR (1) | KR20010006658A (ja) |
| TW (1) | TW514957B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2350412A (en) * | 1999-05-22 | 2000-11-29 | Robert Peter Enston | Freeing of seized valves |
| US7192486B2 (en) * | 2002-08-15 | 2007-03-20 | Applied Materials, Inc. | Clog-resistant gas delivery system |
| US20040163590A1 (en) * | 2003-02-24 | 2004-08-26 | Applied Materials, Inc. | In-situ health check of liquid injection vaporizer |
| US20070128878A1 (en) * | 2003-03-03 | 2007-06-07 | Manabu Izumi | Substrate processing apparatus and method for producing a semiconductor device |
| US7608300B2 (en) * | 2003-08-27 | 2009-10-27 | Applied Materials, Inc. | Methods and devices to reduce defects in dielectric stack structures |
| WO2014015324A2 (en) | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Scientific Industrial Nano Engineering, LLC | Self cleaning piezoelectric chemical apparatus and method of use |
| US9018108B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-04-28 | Applied Materials, Inc. | Low shrinkage dielectric films |
| US20150153003A1 (en) * | 2013-09-17 | 2015-06-04 | J. W. Randolph Miller | Nitric oxide cylinder filling apparatus and method |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3175567A (en) * | 1962-08-10 | 1965-03-30 | Elliott Brothers London Ltd | Apparatus for effecting ultrasonic cleaning of the interior of vessels |
| US3409031A (en) * | 1966-11-18 | 1968-11-05 | Fletcher A. Benbow | Sonic cleaning apparatus for pipes |
| FR2330284A7 (fr) * | 1975-11-03 | 1977-05-27 | Auffret Jean | Appareillage permettant d'eviter la formation des depots dans les canalisations contenant des liquides au repos |
| US4762668A (en) * | 1986-04-24 | 1988-08-09 | Westinghouse Electric Corp. | Venturi flow nozzle ultrasonic cleaning device |
| DE3714578A1 (de) * | 1986-05-09 | 1987-11-12 | Walter Mooser | Verfahren und vorrichtung zur aufloesung von rohrverstopfungen |
| US4893361A (en) * | 1987-12-22 | 1990-01-16 | Burns Paul H | Drain trap ultrasonic vibration cleaning apparatus |
| US5123433A (en) * | 1989-05-24 | 1992-06-23 | Westinghouse Electric Corp. | Ultrasonic flow nozzle cleaning apparatus |
| US5085244A (en) * | 1991-03-14 | 1992-02-04 | Funk Douglas H | Assembly for cleaning a drain conduit |
| US5395592A (en) * | 1993-10-04 | 1995-03-07 | Bolleman; Brent | Acoustic liquid processing device |
| US5749389A (en) * | 1993-12-22 | 1998-05-12 | Liquid Air Corporation | Purgeable connection for gas supply cabinet |
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- 1999-02-19 US US09/252,717 patent/US6305392B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-02-14 TW TW089102449A patent/TW514957B/zh active
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-
2001
- 2001-07-18 US US09/908,132 patent/US6375753B1/en not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070501 |