JP2000243816A - Substrate chuck device - Google Patents

Substrate chuck device

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JP2000243816A
JP2000243816A JP4282399A JP4282399A JP2000243816A JP 2000243816 A JP2000243816 A JP 2000243816A JP 4282399 A JP4282399 A JP 4282399A JP 4282399 A JP4282399 A JP 4282399A JP 2000243816 A JP2000243816 A JP 2000243816A
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JP
Japan
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substrate
chuck
push
pin
pins
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Application number
JP4282399A
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Japanese (ja)
Inventor
Junichi Mori
順一 森
Katsuaki Matsuyama
勝章 松山
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チャックに設けられた突き上げピン用の貫通
穴によって生じる基板とチャックとの間の非接触部分を
極力少なくする。 【解決手段】 チャック手段は、基板を吸着保持する。
突き上げピン手段はチャック手段の貫通穴を自在に移動
して基板を上下方向に移動させるように設けられた複数
のピンで構成され、基板がチャック手段に吸着保持され
ている状態で複数のピンに貫通穴から基板に向かうよう
な所定の応力を与えて、複数のピンのそれぞれが基板の
下面に接触するように構成される。突き上げピンに所定
の応力を与える手段としては、圧縮バネを用いて突き上
げピンを持ち上げる。ピン駆動手段はこの突き上げピン
手段の各ピンを上下方向に移動させる。また、突き上げ
ピン手段の複数のピンが、貫通穴の形状に沿った形状を
した部分を有し、この部分がチャック手段に吸着保持さ
れた基板に対して密着するように構成される。
(57) Abstract: A non-contact portion between a substrate and a chuck, which is caused by a through hole for a push-up pin provided in the chuck, is reduced as much as possible. SOLUTION: A chuck means sucks and holds a substrate.
The push-up pin means is composed of a plurality of pins provided to freely move through the through hole of the chuck means to move the substrate in the up-down direction, and to a plurality of pins while the substrate is being sucked and held by the chuck means. A predetermined stress is applied from the through hole toward the substrate, so that each of the plurality of pins contacts the lower surface of the substrate. As means for applying a predetermined stress to the push-up pin, the push-up pin is lifted using a compression spring. The pin driving means moves each pin of the push-up pin means in the vertical direction. Further, the plurality of pins of the push-up pin means have a portion having a shape following the shape of the through hole, and this portion is configured to be in close contact with the substrate sucked and held by the chuck means.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、IC,LSI等
の半導体デバイス、液晶ディスプレイ装置などを製造す
る工程でこれらの基板を保持する基板チャック装置に係
り、特に基板の搬入搬送時に基板をチャック表面から持
ち上げる突き上げピンの構成に改良を加えた基板チャッ
ク装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate chuck device for holding semiconductor devices such as ICs and LSIs and a liquid crystal display device in a process of manufacturing such devices, and more particularly to a substrate chucking device for loading and unloading a substrate when the substrate is loaded and transferred. 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate chuck device in which the configuration of a push-up pin that lifts a substrate is improved.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイスや液晶ディスプレイデバ
イスなどの製造工程で行われる露光処理などでは、基板
チャック装置を用いて基板を吸着保持した状態で各種の
処理を施していた。従来は先端がコの字形や櫛形をした
搬送アームを用いて基板チャックに基板を搬入したり搬
送したりしていた。基板チャック装置にはアーム先端部
を案内するガイド溝を有するものや、ガイド溝の代わり
に基板そのものをチャック表面から持ち上げる突き上げ
ピンを有するものがあった。ガイド溝を有する基板チャ
ック装置の場合、ガイド溝の部分でチャック表面と基板
が非接触となるために、露光ムラが発生するという問題
があった。従って、突き上げピンを用いた基板チャック
装置の方がチャック表面と基板との非接触部分の面積が
少ないという理由から好ましい。
2. Description of the Related Art In an exposure process or the like performed in a manufacturing process of a semiconductor device, a liquid crystal display device, or the like, various processes are performed while a substrate is held by suction using a substrate chuck device. Conventionally, a substrate is carried into or out of the substrate chuck using a transfer arm having a U-shaped or comb-shaped tip. Some substrate chuck devices have a guide groove for guiding the arm tip, and some have a push-up pin for lifting the substrate itself from the chuck surface instead of the guide groove. In the case of a substrate chuck device having a guide groove, the chuck surface and the substrate do not come into contact with each other at the guide groove portion, so that there is a problem that uneven exposure occurs. Therefore, the substrate chuck device using the push-up pins is preferable because the area of the non-contact portion between the chuck surface and the substrate is small.

【0003】図4は突き上げピンを用いた従来の基板チ
ャック装置の概略構成を示す図であり、図4(A)は基
板30が突き上げピンによって持ち上げられた状態を示
し、図4(B)は基板30がチャック60表面に配置さ
れた状態を示す。チャック60には突き上げピン1〜6
を貫通させる穴が設けられている。図4は側面図なの
で、突き上げピンは6本だけ示されているが、チャック
60には全部で36個のピン穴が設けられる。なお、こ
の突き上げピンの本数は一例であり、実際はこれよりも
少なく、全部で4〜9本の場合が多い。各突き上げピン
1〜6はテーブル70に結合されており、このテーブル
70がピン昇降駆動軸40によって上下方向に駆動され
ることによって、突き上げピン1〜6も上下方向に移動
する。なお、チャック60もチャック昇降駆動軸50に
よって上下方向に駆動されるようになっている。
FIG. 4 is a view showing a schematic structure of a conventional substrate chuck apparatus using a push-up pin, FIG. 4 (A) shows a state where the substrate 30 is lifted by the push-up pin, and FIG. The state where the substrate 30 is arranged on the surface of the chuck 60 is shown. Push-up pins 1 to 6 are attached to chuck 60
Is provided. Since FIG. 4 is a side view, only six push-up pins are shown, but the chuck 60 is provided with a total of 36 pin holes. The number of the push-up pins is an example, and is actually smaller than this, and in many cases, the total is 4 to 9 pins. Each of the push-up pins 1 to 6 is connected to a table 70, and the push-up pins 1 to 6 move in the vertical direction by driving the table 70 in the vertical direction by the pin lifting drive shaft 40. The chuck 60 is also driven in the vertical direction by the chuck lifting drive shaft 50.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような突き上げピ
ン1〜6を用いた基板チャック装置の場合、突き上げピ
ン1〜6はチャック60の貫通穴に埋没するような構成
になっているため、この貫通穴によって基板30とチャ
ック60との間が非接触状態になり、この貫通穴の部分
で露光ムラが発生するという問題があった。
In the case of the substrate chuck apparatus using such push-up pins 1 to 6, the push-up pins 1 to 6 are configured to be buried in the through holes of the chuck 60. Due to the through-hole, the substrate 30 and the chuck 60 are brought into a non-contact state, and there is a problem that exposure unevenness occurs in the portion of the through-hole.

【0005】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
あり、チャックに設けられた突き上げピン用の貫通穴に
よって生じる基板とチャックとの間の非接触部分が極力
少なくなるように構成された基板チャック装置を提供す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and is configured so that a non-contact portion between a substrate and a chuck caused by a through hole for a push-up pin provided in the chuck is reduced as much as possible. It is an object to provide a substrate chuck device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載された本
発明に係る基板チャック装置は、基板を吸着保持するチ
ャック手段と、前記チャック手段の貫通穴を自在に移動
して前記基板を上下方向に移動させるように設けられた
複数のピンで構成され、前記基板が前記チャック手段に
吸着保持されている状態で前記複数のピンに前記貫通穴
から前記基板に向かうような所定の応力を与えて、前記
複数のピンのそれぞれが前記基板の下面に接触するよう
に構成された突き上げピン手段と、この突き上げピン手
段の各ピンを上下方向に移動させるピン駆動手段とを含
んで構成されたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate chuck apparatus for chucking and holding a substrate, and vertically moving the substrate by freely moving a through hole of the chuck unit. A plurality of pins provided so as to move in the direction, and apply a predetermined stress to the plurality of pins from the through hole toward the substrate in a state where the substrate is suction-held by the chuck means. And a push-up pin means configured such that each of the plurality of pins is in contact with the lower surface of the substrate, and a pin drive means for moving each pin of the push-up pin means in a vertical direction. It is.

【0007】従来、突き上げピンは貫通穴を介して突出
したピンによって基板をチャック表面から持ち上げた
り、チャック表面に配置したりしていた。チャック表面
に基板を配置する場合、突き上げピンは貫通穴内に埋没
して、基板と接触することはなかった。ところがこの発
明では、基板がチャック手段に吸着保持された状態でも
突き上げピンが所定の応力で基板に接触するように構成
することによって、基板と貫通穴との間で非接触部分が
発生しないようにした。ここで、突き上げピンに所定の
応力を与える手段としては、圧縮バネを用いて突き上げ
ピンを持ち上げる方法などがある。
Conventionally, the push-up pin lifts the substrate from the chuck surface or arranges the substrate on the chuck surface by a pin projecting through a through hole. When the substrate was placed on the chuck surface, the push-up pins were buried in the through holes and did not come into contact with the substrate. However, in the present invention, the push-up pin is configured to contact the substrate with a predetermined stress even in a state where the substrate is sucked and held by the chuck means, so that a non-contact portion does not occur between the substrate and the through hole. did. Here, as a means for applying a predetermined stress to the push-up pin, there is a method of lifting the push-up pin using a compression spring.

【0008】請求項2に記載された本発明に係る基板チ
ャック装置は、前記請求項1に記載の基板チャック装置
の一実施態様として、前記突き上げピン手段の複数のピ
ンが、前記貫通穴の形状に沿った形状をした部分を有
し、この部分が前記チャック手段に吸着保持された前記
基板に対して密着するように構成されたものである。チ
ャック手段に吸着保持されている基板に接触する突き上
げピンの形状を貫通穴の形状に沿ったものとすることに
よって基板と貫通穴との間の非接触部分は少なくなる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate chuck apparatus according to the first aspect, wherein the plurality of pins of the push-up pin means are formed in a shape of the through hole. , And this portion is configured to be in close contact with the substrate sucked and held by the chuck means. The non-contact portion between the substrate and the through-hole is reduced by making the shape of the push-up pin in contact with the substrate held by the chuck means conform to the shape of the through-hole.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面に従って説明する。図2は本発明に係る基板チャ
ック装置の概略構成を示す図であり、図2(A)は図2
(B)のA−A面の断面図であり、図2(B)は基板3
0を省略して示した上面図である。図2(A)において
図4と同じ構成のものには同一の符号が付してあるの
で、その説明を省略する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate chuck device according to the present invention, and FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
It is the top view which omitted and showed 0. In FIG. 2A, the same components as those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0010】この実施の形態に係る基板チャック装置が
図4の従来のものと異なる点は、図から明白なように、
チャック1の中心付近の突き上げピン33,34,4
3,44の長さが最も短く、チャック1の外側付近の突
き上げピン11〜16,21,26,31,36,4
1,46,51,56,61〜66の長さが最も長く、
これらの間に位置する突き上げピン22〜25,32,
35,42,45,52〜55がその中間位の長さで構
成されている点である。最も長い突き上げピンと最も短
い突き上げピンの長さの差はだいたい1mm程度であ
る。このように突き上げピンの長さを徐々に変化させる
ことによって、突き上げピン11〜66上の基板30を
球面上に湾曲させる。また、各突き上げピン11〜66
は、テーブル20とは分離されており、チャック10の
ピン穴を自在に直線移動するように設けられている。な
お、突き上げピンの長さの差は基板の大きさや厚さなど
に応じて適宜変更することが望ましい。
The point that the substrate chuck apparatus according to this embodiment is different from the conventional apparatus shown in FIG. 4 is apparent from FIG.
Push-up pins 33, 34, 4 near the center of chuck 1
3, 44 are the shortest, and push-up pins 11 to 16, 21, 26, 31, 36, 4 near the outside of the chuck 1.
1,46,51,56,61-66 are the longest,
The push-up pins 22 to 25, 32,
35, 42, 45, and 52 to 55 are constituted by intermediate lengths. The difference between the length of the longest push pin and the shortest push pin is about 1 mm. By gradually changing the length of the push-up pins, the substrate 30 on the push-up pins 11 to 66 is curved into a spherical surface. In addition, each push-up pin 11-66
Is separated from the table 20, and is provided so that the pin hole of the chuck 10 can be freely linearly moved. It is desirable that the difference between the lengths of the push-up pins is appropriately changed according to the size and thickness of the substrate.

【0011】図3(A)は基板30とチャック10の表
面がそれぞれの中央付近で接触した状態を示し、図3
(B)は基板30がチャック10の表面に完全に密着し
た状態を示す。図から明らかなように、この実施の形態
に係る基板チャック装置によれば、基板30は突き上げ
ピンの下降の途中で、突き上げピン33,34,43,
44付近の基板30の中央部分が先にチャック10の表
面に接触し、接触したその中央部分から徐々に全体がチ
ャック10に接触するようになっている。突き上げピン
11〜66とテーブル20は分離されており、図3
(B)に示すように各突き上げピン11〜66はテーブ
ルから非接触状態になっている。これによって基板30
とチャック10の表面が全体的に同時に接触しようとす
る際に発生する従来のような空気の浮揚現象は発生しな
くなり、この浮揚現象によって基板30がチャック10
の表面で横ズレするというようなことも生じない。逆
に、基板30をチャック10の表面から持ち上げる場合
には、基板30の外側付近の突き上げピン11〜16、
21,26,31,36,41,46,51,56,6
1〜66が先に基板30を持ち上げ、それから徐々に基
板30の中央付近がチャック表面から持ち上げられるよ
うになる。
FIG. 3A shows a state where the surface of the substrate 30 and the surface of the chuck 10 are in contact with each other near the center thereof.
(B) shows a state where the substrate 30 is completely adhered to the surface of the chuck 10. As is apparent from the figure, according to the substrate chucking apparatus of this embodiment, the substrate 30 is pushed down by the push-up pins 33, 34, 43,
A central portion of the substrate 30 near 44 contacts the surface of the chuck 10 first, and the entire central portion of the substrate 30 gradually contacts the chuck 10 from the contacted central portion. The push-up pins 11 to 66 and the table 20 are separated, and FIG.
As shown in (B), the push-up pins 11 to 66 are out of contact with the table. Thereby, the substrate 30
The floating phenomenon of air which occurs when the entire surface of the chuck 10 and the chuck 10 try to come into contact at the same time does not occur.
Also, there is no occurrence of lateral displacement on the surface. Conversely, when lifting the substrate 30 from the surface of the chuck 10, push-up pins 11 to 16 near the outside of the substrate 30
21, 26, 31, 36, 41, 46, 51, 56, 6
1 to 66 lift the substrate 30 first, and then gradually the vicinity of the center of the substrate 30 can be lifted from the chuck surface.

【0012】図1は本発明に係る基板チャック装置の突
き上げピンの詳細構成を示す図である。図1(A)は突
き上げピン11に負荷(基板30の重量)がかかってい
ない状態(基板30がチャック10に吸着保持されてい
ない状態)を示し、図1(B)は突き上げピン11に負
荷がかかっている状態(基板30がチャック10に吸着
保持されている状態)を示す。図から明らかなように突
き上げピン11は負荷がかかっていない状態では圧縮バ
ネ11Aによってチャック10の表面から突出してい
る。図1(B)に示すように基板30がチャック10上
に配置されると、基板30の重量によって圧縮バネ11
Aが圧縮し、突き上げピン11の上面と基板30の下面
が密着接触する。このとき、突き上げピン11は圧縮バ
ネ11Aによって所定の圧縮応力で基板30の下面部分
に密着することになるが、チャック10に吸着保持され
た基板30の方がこの圧縮バネ11Aの圧縮応力よりも
十分に大きいので、基板30は変形することなく、平ら
な面を保持することになる。これによって、基板30と
チャック10の貫通穴との間の非接触部分を最小限にす
ることができ、露光ムラを減少することができる。この
場合、突き上げピンの上面の皿部分をピン軸に対して回
転自在とし、基板を持ち上げた状態で基板の湾曲面に沿
ってその皿部分が屈曲するような構成にしてもよい。
FIG. 1 is a view showing a detailed configuration of a push-up pin of a substrate chuck device according to the present invention. 1A shows a state in which no load (weight of the substrate 30) is applied to the push-up pins 11 (a state in which the substrate 30 is not suction-held by the chuck 10), and FIG. (A state in which the substrate 30 is suction-held by the chuck 10). As is clear from the figure, the push-up pin 11 projects from the surface of the chuck 10 by the compression spring 11A when no load is applied. When the substrate 30 is placed on the chuck 10 as shown in FIG.
A is compressed, and the upper surface of the push-up pin 11 and the lower surface of the substrate 30 come into close contact with each other. At this time, the push-up pin 11 comes into close contact with the lower surface of the substrate 30 with a predetermined compressive stress by the compression spring 11A. Being large enough, the substrate 30 will maintain a flat surface without deformation. Thereby, the non-contact portion between the substrate 30 and the through-hole of the chuck 10 can be minimized, and the exposure unevenness can be reduced. In this case, the plate portion on the upper surface of the push-up pin may be rotatable with respect to the pin axis, and the plate portion may be bent along the curved surface of the substrate when the substrate is lifted.

【0013】なお、図2(B)のチャック10には、突
き上げピン11〜66の貫通穴の他にも多数の開口を有
する。この開口を図では点で表示しているが、これはチ
ャック10に設けられる真空吸着用の溝の代わりに設け
られた直径1mm程度の真空吸着用穴である。このよう
に真空吸着用の溝を小さな多数の穴で構成することによ
って、露光ムラの発生を低減することが可能となる。
The chuck 10 shown in FIG. 2B has a large number of openings in addition to the through holes of the push-up pins 11 to 66. Although this opening is indicated by a dot in the figure, this is a vacuum suction hole having a diameter of about 1 mm provided in place of the vacuum suction groove provided in the chuck 10. By forming the vacuum suction groove with a large number of small holes in this way, it is possible to reduce the occurrence of exposure unevenness.

【0014】なお、突き上げピン13,14,23,2
4,33,34,43,44,53,54,63,64
の12本を最も短く、突き上げピン12,15,22,
25,32,35,42,45,52,55,62,6
5の12本をその次に長く、突き上げピン11,16,
21,26,31,36,41,46,51,56,6
1,66の12本を最も長くしてもよい。この場合、基
板30は円柱体の側面のように湾曲することになる。
The push-up pins 13, 14, 23, 2
4,33,34,43,44,53,54,63,64
Are the shortest, push-up pins 12, 15, 22,
25, 32, 35, 42, 45, 52, 55, 62, 6
5 are the next longest, push-up pins 11,16,
21, 26, 31, 36, 41, 46, 51, 56, 6
1,66 may be the longest. In this case, the substrate 30 is curved like a side surface of a columnar body.

【0015】また、上述の実施の形態では、突き上げピ
ン11〜66がテーブル20から分離された場合につい
て説明したが、テーブル20に固定されていてもよいこ
とはいうまでもない。この実施の形態では、突き上げピ
ン11〜66の長さがそれぞれ異なる場合について説明
したが、突き上げピン11〜66の長さを一定とし、テ
ーブル20の形状を球面状や円柱状に湾曲させてもよい
ことは言うまでもない。また、基板30の中央付近が最
初にチャック10の表面に接触する場合について説明し
たが、これに限らず、基板30の一部分が先にチャック
10の表面に接触し、その後に徐々に基板30全体がチ
ャック10に接触するような構成になっていればよい。
図2の実施の形態では突き上げピンの数が36個の場合
について説明したが、これは一例であり、これ以外の個
数でよいことはいうまでもない。ただし、最低3本は突
き上げピンが必要であり、この場合、いずれか1本又は
2本の突き上げピンの長さが短ければ、それによって基
板の一部分が最初にチャック表面に接触するようにな
る。
In the above-described embodiment, the case where the push-up pins 11 to 66 are separated from the table 20 has been described, but it goes without saying that the push-up pins 11 to 66 may be fixed to the table 20. In this embodiment, the case where the lengths of the push-up pins 11 to 66 are different has been described. However, the length of the push-up pins 11 to 66 may be fixed, and the shape of the table 20 may be spherical or cylindrical. It goes without saying that it is good. Also, the case where the vicinity of the center of the substrate 30 first contacts the surface of the chuck 10 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a part of the substrate 30 contacts the surface of the chuck 10 first, and then gradually the entire substrate 30 It is only necessary that the contact member be configured to contact the chuck 10.
Although the embodiment of FIG. 2 has described the case where the number of push-up pins is 36, this is merely an example, and it goes without saying that other numbers may be used. However, at least three push-up pins are required, in which case if one or two push-up pins are short, a portion of the substrate will first contact the chuck surface.

【0016】上述の実施の形態では、突き上げピンの長
さがそれぞれ異なる場合について説明したが、突き上げ
ピンの長さは同じでもよいことはいうまでもない。ま
た、上述の実施の形態では、圧縮バネを用いて突き上げ
ピンに所定の応力を付加する場合について説明したが、
チャック10の下面側に収縮バネを設け、それによって
突き上げピンに所定の応力を加えるようにしてもよい。
また、上述の実施の形態では、突き上げピンとテーブル
が分離された場合について説明したが、図4のように突
き上げピンとテーブルが固定されている場合に、テーブ
ル自体にバネ等を用いて所定の応力を付加するようにし
てもよい。
In the above-described embodiment, the case where the lengths of the push-up pins are different from each other has been described, but it goes without saying that the lengths of the push-up pins may be the same. Further, in the above-described embodiment, the case where a predetermined stress is applied to the push-up pin using the compression spring has been described.
A contraction spring may be provided on the lower surface side of the chuck 10 to apply a predetermined stress to the push-up pin.
Further, in the above-described embodiment, the case where the push-up pin and the table are separated has been described. However, when the push-up pin and the table are fixed as shown in FIG. It may be added.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明の基板チャック装置によれば、チ
ャックに設けられた突き上げピン用の貫通穴によって生
じる基板とチャックとの間の非接触部分を極力少なくす
ることができるという効果がある。
According to the substrate chuck apparatus of the present invention, there is an effect that the non-contact portion between the substrate and the chuck caused by the through-hole for the push-up pin provided in the chuck can be minimized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る基板チャック装置の突き上げピ
ンの詳細構成を示す図である。
FIG. 1 is a view showing a detailed configuration of a push-up pin of a substrate chuck device according to the present invention.

【図2】 本発明に係る基板チャック装置の概略構成を
示す図である。
FIG. 2 is a view showing a schematic configuration of a substrate chuck device according to the present invention.

【図3】 基板とチャックの表面がそれぞれ中央付近で
接触した状態及び基板がチャックの表面に完全に密着し
た状態をそれぞれ示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which the substrate and the surface of the chuck are in contact with each other near the center, and a state in which the substrate is completely in contact with the surface of the chuck.

【図4】 突き上げピンを用いた従来の基板チャック装
置の概略構成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional substrate chuck device using a push-up pin.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11〜66…突き上げピン、10,60…チャック、2
0,70…テーブル、30…基板、40…ピン昇降駆動
軸、50…チャック昇降駆動軸、11A…圧縮バネ
11 to 66: push-up pin, 10, 60: chuck, 2
0, 70: table, 30: substrate, 40: pin lifting drive shaft, 50: chuck lifting drive shaft, 11A: compression spring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を吸着保持するチャック手段と、 前記チャック手段の貫通穴を自在に移動して前記基板を
上下方向に移動させるように設けられた複数のピンで構
成され、前記基板が前記チャック手段に吸着保持されて
いる状態で前記複数のピンに前記貫通穴から前記基板に
向かうような所定の応力を与えて、前記複数のピンのそ
れぞれが前記基板の下面に接触するように構成された突
き上げピン手段と、 この突き上げピン手段の各ピンを上下方向に移動させる
ピン駆動手段とを含んで構成されたことを特徴とする基
板チャック装置。
1. A chuck means for sucking and holding a substrate, and a plurality of pins provided so as to freely move a through hole of the chuck means to move the substrate in a vertical direction. A predetermined stress is applied to the plurality of pins from the through hole toward the substrate in a state where the plurality of pins are sucked and held by the chuck means, and each of the plurality of pins is configured to contact a lower surface of the substrate. A substrate chuck device comprising: a push-up pin means; and a pin drive means for moving each pin of the push-up pin means in a vertical direction.
【請求項2】 前記突き上げピン手段の複数のピンは前
記貫通穴の形状に沿った形状をした部分を有し、この部
分が前記チャック手段に吸着保持された前記基板に対し
て密着するように構成されていることを特徴とする請求
項1に記載の基板チャック装置。
2. A method according to claim 1, wherein the plurality of pins of the push-up pin has a portion having a shape conforming to the shape of the through-hole, and this portion is brought into close contact with the substrate sucked and held by the chuck. The substrate chuck device according to claim 1, wherein the substrate chuck device is configured.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422199B1 (en) * 2001-05-04 2004-03-12 주성엔지니어링(주) Manufacture apparatus for semiconductor device
KR101089096B1 (en) * 2004-12-28 2011-12-06 엘지디스플레이 주식회사 Chuck for Exposure Device
KR101206243B1 (en) * 2011-03-17 2012-11-29 엘아이지에이디피 주식회사 Adhesive chuck of device for manufacturing OLED
JP2013254884A (en) * 2012-06-08 2013-12-19 Ns:Kk Method for holding and peeling substrate and device thereof
CN103552739A (en) * 2013-11-11 2014-02-05 京东方科技集团股份有限公司 Supporting part and supporter
KR20190078432A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 캐논 톡키 가부시키가이샤 Film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of organic el display apparatus using the same
CN110571183A (en) * 2019-09-12 2019-12-13 长江存储科技有限责任公司 A kind of electrostatic chuck and fabrication method of semiconductor structure
WO2020222771A1 (en) * 2019-04-29 2020-11-05 Applied Materials, Inc. Support pin apparatus for substrate processing chambers
CN117878047A (en) * 2024-03-11 2024-04-12 四川遂芯微电子股份有限公司 Positioning fixtures, clamping and transfer devices for photovoltaic rectifier substrates

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422199B1 (en) * 2001-05-04 2004-03-12 주성엔지니어링(주) Manufacture apparatus for semiconductor device
KR101089096B1 (en) * 2004-12-28 2011-12-06 엘지디스플레이 주식회사 Chuck for Exposure Device
KR101206243B1 (en) * 2011-03-17 2012-11-29 엘아이지에이디피 주식회사 Adhesive chuck of device for manufacturing OLED
JP2013254884A (en) * 2012-06-08 2013-12-19 Ns:Kk Method for holding and peeling substrate and device thereof
CN103552739A (en) * 2013-11-11 2014-02-05 京东方科技集团股份有限公司 Supporting part and supporter
KR20190078432A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 캐논 톡키 가부시키가이샤 Film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of organic el display apparatus using the same
KR102010158B1 (en) * 2017-12-26 2019-08-12 캐논 톡키 가부시키가이샤 Film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of organic el display apparatus using the same
WO2020222771A1 (en) * 2019-04-29 2020-11-05 Applied Materials, Inc. Support pin apparatus for substrate processing chambers
CN110571183A (en) * 2019-09-12 2019-12-13 长江存储科技有限责任公司 A kind of electrostatic chuck and fabrication method of semiconductor structure
CN110571183B (en) * 2019-09-12 2022-08-05 长江存储科技有限责任公司 Electrostatic chuck and manufacturing method of semiconductor structure
CN117878047A (en) * 2024-03-11 2024-04-12 四川遂芯微电子股份有限公司 Positioning fixtures, clamping and transfer devices for photovoltaic rectifier substrates

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